JPH0314901B2 - - Google Patents

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JPH0314901B2
JPH0314901B2 JP61070364A JP7036486A JPH0314901B2 JP H0314901 B2 JPH0314901 B2 JP H0314901B2 JP 61070364 A JP61070364 A JP 61070364A JP 7036486 A JP7036486 A JP 7036486A JP H0314901 B2 JPH0314901 B2 JP H0314901B2
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Japan
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hot
copper
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cold
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Akira Sugawara
Naoyuki Kanehara
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Dowa Holdings Co Ltd
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Dowa Mining Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は、ばね性、強度、導電率および加工性
が共に優れた端子・コネクター用の銅基合金の製
造法に関する。 〔従来の技術〕 プラグ側およびソケツト側の導電端子を構成す
る端子・コネクター用材料は、その形状や大きさ
を問わず、弾性、強度、応力緩和特性、耐食性等
の様々の諸特性を兼備したうえ加工が容易で且つ
安価な材料であることが要求される。かような端
子・コネクター用材料として、従来より最も普通
に使用されているものに黄銅およびりん青銅があ
る。 特開昭58−113334号公報は、かようなりん青銅
の熱間加工性を改善するためにP含有量を低下さ
せたうえFeを適量含有させた合金を開示してい
る。 特開昭60−245754号公報は、Sn、P、Ni、Fe
を銅中に適量含有させたうえ、Al、Hf、Be、
Mo、Te、Pb、Co、Zr、Nb、B、Mg、Mn、
Si、Sb、Ti、In、As、Znの1種以上を添加する
ことによつて強度を改善した銅合金を開示してい
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 黄銅は成形加工性が非常に良好で且つ安価であ
るという長所を持つが、耐食性、耐応力腐食割れ
性が極端に悪いので、急激な進歩を遂げている最
近の電気または電子工業における端子・コネクタ
ー材料としては信頼性に欠ける場合がある。りん
青銅は強度、ばね性、耐食性および耐応力腐食割
れ性は良好であるが、Snを3.0%以上含有するの
で高価であり、また応力緩和性が悪いという問題
がある。特開昭58−113334号公報に記載のりん青
銅は熱間加工性が優れるとはいえ、同様の問題が
ある。 特開昭60−245754号公報に提案された高力高導
電銅合金は、Al、Hf、Be、Mo、Te、Pb、Co、
Zr、Nb、B、Mg、Mn、Si、Sb、Ti、In、As、
Zn等の添加によつて強度とバネ性が改善される
とされているが、強度が高いものは導電率が十分
ではなく導電率が高いものは強度が十分ではない
という問題があり、強度と導電率をバランスさせ
ることが困難である。 〔問題点を解決する手段〕 本発明は上記のような問題点を解決した端子・
コネクター用材料として、重量%において、
Sn;1.0〜3.0%未満、Ni;0.05〜0.40%、Fe;
0.16〜0.40%、P;0.05〜0.10%、残部がCuおよ
び不可避的不純物からなり、Snを固溶した銅マ
トリツクス中にFe−Ni−P系化合物が微細に分
散析出した銅基合金を提供するものであり、 この銅基合金の有利な製造法として、Sn;1.0
〜3.0%未満、Ni;0.05〜0.40%、Fe;0.16〜0.40
%、P;0.05〜0.10%、残部がCuおよび不可避的
不純物からなる銅基合金の鋳片を製造する工程、 この鋳片を圧下率60%以上、熱延仕上温度700
℃以上のもとで熱間圧延したうえ、該熱延仕上温
度から300℃以下の温度にまで30℃/分以上の冷
却速度で冷却して前記合金元素の実質的に全てが
銅中に固溶した熱延板を得る工程、 得られた熱延板を圧下率50%以上のもとで第一
回目の冷間圧延を行い、この第一回目の冷間圧延
のあとで400〜600℃の温度で5〜720分間の焼鈍
を行つてSnを固溶した銅マトリツクス中にFe−
Ni−P系化合物を分散析出させる工程、 この焼鈍材を、所望板厚にまで冷間圧延によつ
て板厚減少を行う工程、そして、 最終冷間圧延後に300〜750℃の温度で5〜180
秒のテンシヨンアニールを行う工程、 を経る端子・コネクター用銅基合金の製造法を提
供するものである。 本発明による銅基合金は、Snの適量の添加に
よつてばね性を発現させると共に強度を高め、且
つFe−P系、Fe−Ni−P系化合物による析出硬
化によつて高い導電率を維持しながら端子・コネ
クターにとつて好ましい諸特性(強度、ばね限界
値、耐軟化性、加工性、応力緩和性等)を発現し
た点に基本的な特徴がある。 本発明の銅基合金の添加元素の含有量(重量
%)について、その範囲を定めた理由の概要を説
明すると次の如くである。 Snは、銅マトリツクス中に固溶して強度とば
ね限界値を向上させる。この効果はSn含有量が
1.0%未満では十分ではなく、他方、Sn含有量が
3.0%以上では導電性および熱間加工性が悪くな
り、また経済的にも不利となる。この理由から本
発明銅基合金のSn含有量は1.0〜3.0%未満の範囲
とする。 Niは、銅マトリツクス中に固溶して強度、耐
軟化性および耐食性を向上させるが、さらに、本
発明合金の特徴であるFe−Ni−P系化合物の形
成に寄与する元素であり、このためには少なくと
も0.05%以上の添加が必要である。しかし、0.40
%を越えて含有させると、導電率の低下が顕著と
なり、また経済的にも不利となる。したがつて
Ni含有量は0.05〜0.40%とする。 Feは、銅マトリツクス中に過飽和に固溶させ
ると時効によりPあるいはNi及びPと化合物を
形成して銅マトリツクス中に析出し、強度、ばね
限界値および耐軟化性を向上させる。Fe含有量
が0.16%未満では強度、ばね限界値および耐軟化
性が低く、0.40%を越えると導電率および成形加
工性が低下する。したがつて、Fe含有量は0.16〜
0.40%の範囲とする。 Pは、本発明合金の溶製時において脱酸剤とし
て機能し、SnおよびFeの酸化防止作用も供して、
健全なインゴツトを得るうえで重要な役割を果た
す。そして、銅マトリツクス中に過飽和に固溶し
たPは、FeあるいはFe及びNiと共にFe−P系化
合物、Fe−Ni−P系化合物を形成する。P含有
量が0.05%未満ではこのような効果が十分ではな
く、また0.10%を越えて添加すると導電性および
加工性が悪くなる。したがつて、P含有量は0.05
〜0.10%の範囲とする。 このような成分組成をもつ本発明に従う銅基合
金は、主としてSnおよびNiによる固溶強化とFe
−P系化合物、Fe−Ni−P系化合物の析出硬化
との相乗的な効果によつて、端子・コネクターに
必要な強度とばね限界値を兼備し且つ十分な導電
率を具備することができる。このような諸特性は
鋳片から熱間圧延工程と冷間圧延工程を経て所望
の板厚にまで加工するさいの製造条件を適切にコ
ントロールすることによつて有利に発揮させるこ
とができる。以下にその製造法の詳細を説明す
る。 熱間圧延工程 本発明に従う成分組成の鋳片を溶解鋳造によつ
て製造し、この鋳片(鋳塊)を熱間圧延に供する
のであるが、この熱間圧延は鋳片を850℃以上に
加熱し、熱延圧下率を60%以上、好ましくは90%
以上とし熱延仕上温度を700℃以上として実施す
るのがよい。これによつて、鋳造組織を完全につ
ぶすことができ、且つ鋳塊に生じている偏析の影
響をなくすことができる。 そして、熱延仕上温度から300℃以下にまでの
温度域を30℃/分以上の冷却速度で冷却する。こ
の冷却は熱延したあとただちに急水冷を実施する
ことによつて行うのがよい。これによつてFe、
NiおよびPが完全に固溶した熱延材を得ること
ができる。この熱延後の冷却を30℃/分より遅い
冷却速度で行うとその冷却過程においてこれらの
元素が析出して粗大なFe−P系、Fe−Ni−P系
化合物が生じてしまう。この温度域を前記のよう
に急冷したとしてもその急冷開始温度が700℃よ
り低いと、また急冷開始温度か700℃以上であつ
ても冷却速度が30℃/分より遅いと、この間に粗
大な析出物が析出する。この段階で析出した析出
物は母相と不整合であり、これによるばね限界値
並びに応力緩和特性の向上は期待できない。した
がつて本発明においてはFe、Ni、Pが完全に固
溶した状態の熱延板が得られるような熱延条件を
採用する点に一つの特徴がある。なおこの急冷の
さいの冷却終点温度については300℃以下であれ
ばよい。300℃以下の温度においてはFe−P系化
合物およびFe−Ni−P系化合物の析出は実質上
起こらないからである。 冷間圧延および焼鈍工程 前工程で得られた熱延板は次いで必要に応じて
表面研削あるいは酸洗を行つたあと、焼鈍を挟ん
だ冷間圧延を必要回数行つて所望板厚にまで冷延
するのであるが、最初の冷間圧延と焼鈍の条件を
適切にして、この段階で微細なFe−P系、Fe−
Ni−P系化合物を均一に析出させる。 まず、第一回目の冷間圧延は圧下率50%以上、
好ましくは80%以上で行ない、この第一回目の冷
間圧延後の焼鈍を400〜600℃の温度で5〜720分
の条件で実施する。この最初の冷間圧延および焼
鈍の条件は本発明において極めて重要である。第
一回目の冷間圧延の圧下率が50%未満では圧延組
織が均質化せず、引続く焼鈍においてFe−P系、
Fe−Ni−P系化合物が均一微細に析出できなく
なる。この最初の焼鈍を600℃を越える温度で実
施すると、析出物が凝集粗大化し、ばね限界値並
びに成形加工性の一層の向上が期待できなくなる
し、400℃未満の温度では析出させるに要する時
間が長くなりすぎるので、最初の焼鈍は400〜600
℃の温度で行い、焼鈍時間は5〜720分の範囲で
行えばよい。焼鈍時間が5分未満では析出物の形
成が不十分であり、またこの焼鈍による伸びの回
復も十分ではない。しかし、720分を越えるよう
な長時間では微細に析出した析出物の成長が進行
するようになるので好ましくなく、経済的にも負
担となる。 このようにして第一回目の冷間圧延と焼鈍を適
切に行うことによつて、Fe−P系、Fe−Ni−P
系化合物が微細且つ均一に析出した材料となる
が、以後は所望厚さにまで、冷間圧延を必要に応
じて必要回数実施すればよい。そのさい数回の冷
間圧延を行う場合には中間焼鈍を挟んでもよい。 そして、所望板厚にまで冷間圧延したあとの冷
延材に、300〜750℃の温度で5〜180秒のテンシ
ヨンアニール処理を実施する。このテンシヨンア
ニールによつてばね限界値の向上と伸びの回復が
実現でき、均質且つ平坦度の良好な製品を得るこ
とができる。このテンシヨンアニール処理を実施
するにさいし、300℃未満の温度では局部残留応
力除去の効果が少なく、他方、750℃を越える温
度では短時間でも材料が軟化してしまうので、テ
ンシヨンアニールの処理温度は300〜750℃の範囲
で行うのがよい。また、その処理時間については
5秒未満では均質な材料が得られず、180秒を越
えても効果には差が現れないので、5〜180秒の
範囲とするのがよい。 以下に本発明の実施例を挙げる。 実施例 第1表にその化学成分値(重量%)を示すNo.1
〜7の銅基合金を高周波真空溶解炉を用いて溶製
し、40mm×40mm×140mmの鋳塊に鋳造した。この
鋳塊を40mm×40mm×20mmの大きさに切断し、この
鋳片を850℃で均熱したあと、厚さ5mmまで熱間
圧延を行い、750℃の温度から水中に冷却した。
得られた熱延板を第一回目の冷間圧延によつて厚
さ1.0mmまで冷延し、次いで550℃×60分間の焼鈍
を行つた。そして、圧下率50%で冷間圧延し、厚
さ0.5mmの冷延板を得た。得られた冷延板を10Kg
f/mm2の張力を付加しながら、400℃×20秒間の
テンシヨンアニール処理を施した。この処理を終
えた材料を試験材とした。なお表中のNo.8は前記
の製造工程を経たものではなく、市販のりん青銅
を低温焼鈍したものである。 各試験材の引張強さ、伸び、導電率、ばね限界
値、軟化温度を測定し、また90゜W曲げ加工試験
に供した。これらの測定結果を第1表に併記し
た。引張強さと伸びの測定はJIS−Z−2241に、
導電率の測定はJIS−H−0505に、そしてばね限
界値の測定はJIS−H−3130に従つた。軟化温度
は、試料をその温度で30分加熱したときに加熱後
の硬度が初期硬度の80%となつたときの温度であ
る。90゜W曲げ加工試験はCES−M0002−6の規
定に従つた。すなわち、R=0.2mmの治具で90゜W
曲げ加工したときの中央部山表面の状況を調べ、
割れが発生したものを×、ややシワが発生したも
のを△、良好なものを〇と評価した。 また、第1表の本発明合金No.3と比較合金No.8
について、応力緩和特性の測定を行い、その結果
を第2表に示した。試験は試験片の中央部の応力
が耐力の80%となるようにU字曲げを行い、150
℃の温度で1000時間保持後の曲げぐせを応力緩和
率として次式により算出した。 応力緩和率(%) ={(L1−L2)/(L1−L0)}×100 ただし、 L0;治具の長さ(mm) L1;開始時の試料長さ(mm) L2;処理後の試料端間の水平距離(mm) である。
【表】
【表】 第1表の結果から次のことが明らかである。 本発明によるNo.1〜No.4の合金は、いずれも引
張強さ50Kgf/mm2以上、ばね限界値45Kgf/mm2
上を示し、導電率、曲げ加工性に優れ且つ軟化温
度も高い。したがつて、端子・コネクター用銅基
合金として非常に優れた合金であることがわか
る。 これに対し、Snが本発明で規定するより少な
いNo.5の比較合金は強度およびばね限界値が低
い。また、Feが本発明で規定するより多いNo.6
の比較合金は曲げ加工性が劣つており、Feを含
まない比較合金No.7は耐熱性が劣つている。 第2表の結果からは、本発明合金は従来の代表
的な端子・コネクター用材料であるりん青銅に比
べて応力緩和特性が優れていることがわかる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 重量%において、Sn;1.0〜3.0未満、Ni;
    0.05〜0.40%、Fe;0.16〜0.40%、P;0.05〜0.10
    %、残部がCuおよび不可避的不純物からなる銅
    基合金の鋳片を製造する工程、 この鋳片を圧下率60%以上、熱延仕上温度700
    ℃以上のもとで熱間圧延したうえ、該熱延仕上温
    度から300℃以下の温度にまで30℃/分以上の冷
    却速度で冷却して前記合金元素の実質的に全てが
    銅中に固溶した熱延板を得る工程、 該熱延板を圧下率50%以上のもとで第一回目の
    冷間圧延を行い、この第一回目の冷間圧延のあと
    で400〜600℃の温度で5〜720分間の焼鈍を行つ
    てSnを固溶した銅マトリツクス中にFe−Ni−P
    系化合物を分散析出させる工程、 この焼鈍材を、所望板厚にまで冷間圧延によつ
    て板厚減少を行う工程、そして、 最終冷間圧延後に300〜750℃の温度で5〜180
    秒のテンシヨンアニールを行う工程、 からなる端子・コネクター用銅基合金の製造法。
JP7036486A 1986-03-28 1986-03-28 端子・コネクター用銅基合金の製造法 Granted JPS62227052A (ja)

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