JPH03147072A - 半導体製造用マスクデータ作成システム - Google Patents
半導体製造用マスクデータ作成システムInfo
- Publication number
- JPH03147072A JPH03147072A JP1285639A JP28563989A JPH03147072A JP H03147072 A JPH03147072 A JP H03147072A JP 1285639 A JP1285639 A JP 1285639A JP 28563989 A JP28563989 A JP 28563989A JP H03147072 A JPH03147072 A JP H03147072A
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- JP
- Japan
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- mask
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Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 17
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野１
本発明は、ＬＳＩの製造に必要なマスクを作成する為の
半導体製造用マスクデータ作成システムに関する。
半導体製造用マスクデータ作成システムに関する。
［発明の概要１
本発明は半導体製造用マスクデータ作成システムにおい
て、セルライブラリィ記憶手段を設けること、およびそ
のセルライブラリィと他のＣＡＤデータとをシステム内
にて合成する手段を設けることにより、ＬＳＩの製造に
必要なマスクを作成する為のデータを容易に素早く演算
処理することを可能としたものである。
て、セルライブラリィ記憶手段を設けること、およびそ
のセルライブラリィと他のＣＡＤデータとをシステム内
にて合成する手段を設けることにより、ＬＳＩの製造に
必要なマスクを作成する為のデータを容易に素早く演算
処理することを可能としたものである。
［従来の技術］
従来の半導体製造用マスクデータ作成システムは、半導
体製造用マスクを作成する為のデータを全て読み込むべ
きＣＡＤデ〜り上に持っておく必要があった。
体製造用マスクを作成する為のデータを全て読み込むべ
きＣＡＤデ〜り上に持っておく必要があった。
［発明が解決しようとする課題〕
しかし、前述の従来技術では、読み込むべきＣＡ Ｄデ
ータを準備するのに他のシステムおよび他の手段を用い
ることになり、他のシステム上のセルライブラリィとの
データ合成が必要でありそのデータを作成するのに時間
を要することになる問題点を有する。また同一セルを何
度も使用する場合においてＣＡＤデータ加工処理をその
セルの使用回数分向−作業を繰り返す必要があるという
問題点を有する。そこで本発明はこのような問題点を解
決するものであり、その目的とするところはＬＳＩの製
造に必要なマスクを作成する為のデー令を高速かつ正確
な作成に対応できる半導体製造用マスクデータ作成シス
テムを提供するところにある。
ータを準備するのに他のシステムおよび他の手段を用い
ることになり、他のシステム上のセルライブラリィとの
データ合成が必要でありそのデータを作成するのに時間
を要することになる問題点を有する。また同一セルを何
度も使用する場合においてＣＡＤデータ加工処理をその
セルの使用回数分向−作業を繰り返す必要があるという
問題点を有する。そこで本発明はこのような問題点を解
決するものであり、その目的とするところはＬＳＩの製
造に必要なマスクを作成する為のデー令を高速かつ正確
な作成に対応できる半導体製造用マスクデータ作成シス
テムを提供するところにある。
１課題を解決するための手段１
本発明の半導体製造用マスクデータ作成システムは、セ
ルライブラリィ登録手段およびセルライブラリィ記憶手
段を有し、データ合成手段を設けたことを特徴とする。
ルライブラリィ登録手段およびセルライブラリィ記憶手
段を有し、データ合成手段を設けたことを特徴とする。
［作 用］
本発明の上記の構成によれば、あらかじめ使用すること
のわかっているセルがある場合、事前にセルライブラリ
ィ記憶手段へ、もとのＣＡＤデタから加工されたデータ
を登録しておくことにより、最終的に半導体製造用マス
クデータ作成しようとするＬＳＩチップデータのセルラ
イブラリィに登録されてないデータのみを入力データと
して準備することにより、少量の入力データで正確かつ
高速に半導体製造用マスクデータが出力される。
のわかっているセルがある場合、事前にセルライブラリ
ィ記憶手段へ、もとのＣＡＤデタから加工されたデータ
を登録しておくことにより、最終的に半導体製造用マス
クデータ作成しようとするＬＳＩチップデータのセルラ
イブラリィに登録されてないデータのみを入力データと
して準備することにより、少量の入力データで正確かつ
高速に半導体製造用マスクデータが出力される。
〔実 施 例１
第１図は本発明の実施例のシステム構成を示す図で、１
は命令入力手段でありキーボードまたはマウスまたはタ
ブレットベンなどを使うことができ演算処理全てを制御
する。２は演算手段であり計算機ＣＰＵおよびレジスタ
ー等が含まれる。３は記憶手段でＲＡＭまたは磁気ディ
スクまたは光記憶装置を用いることができる。４はＣＡ
Ｄデタ読み込み手段であり磁気テープドライブ装置また
はフロッピィディスクドライブ装置またはコンピュータ
ネットワークシステムなどを用いることができる。５は
マスク作成用データ書き出し手段であり磁気テープドラ
イブ装置またはフロッピィディスクドライブ装置または
コンピュータネットワークシステムなどを用いることが
できる。６は表示手段でありＣＲＴまたは液晶デイスプ
レィなどを用いることができる。第２図は、本発明の実
施例の機能システム構成を示す図で７はＣＡＤデータを
本システムに適用できるデータ形式に変換するＣＡＤデ
ータ変換手段、８は７にて加工されたデータをセルライ
ブラリィに登録するかあるいはセルライブラリィと合成
し半導体製造用マスクデータを作成するのかを判定する
処理判定手段。
は命令入力手段でありキーボードまたはマウスまたはタ
ブレットベンなどを使うことができ演算処理全てを制御
する。２は演算手段であり計算機ＣＰＵおよびレジスタ
ー等が含まれる。３は記憶手段でＲＡＭまたは磁気ディ
スクまたは光記憶装置を用いることができる。４はＣＡ
Ｄデタ読み込み手段であり磁気テープドライブ装置また
はフロッピィディスクドライブ装置またはコンピュータ
ネットワークシステムなどを用いることができる。５は
マスク作成用データ書き出し手段であり磁気テープドラ
イブ装置またはフロッピィディスクドライブ装置または
コンピュータネットワークシステムなどを用いることが
できる。６は表示手段でありＣＲＴまたは液晶デイスプ
レィなどを用いることができる。第２図は、本発明の実
施例の機能システム構成を示す図で７はＣＡＤデータを
本システムに適用できるデータ形式に変換するＣＡＤデ
ータ変換手段、８は７にて加工されたデータをセルライ
ブラリィに登録するかあるいはセルライブラリィと合成
し半導体製造用マスクデータを作成するのかを判定する
処理判定手段。
９は加工されたデータをセルライブラリィに登録するセ
ルライブラリィ登録手段、１０は加工されたデータとセ
ルライブラリィに登録されたデータとを合成し完成され
たＬＳＩのチップデータを作成するデータ合成手段２１
１は最終的な半導体製造用マスクデータのフォーマット
にデータを変換するマスク作成用データ作成手段である
。
ルライブラリィ登録手段、１０は加工されたデータとセ
ルライブラリィに登録されたデータとを合成し完成され
たＬＳＩのチップデータを作成するデータ合成手段２１
１は最終的な半導体製造用マスクデータのフォーマット
にデータを変換するマスク作成用データ作成手段である
。
第３図は本発明の実施例のセルライブラリィ作成フロー
および表示例を示す図で、６８で既に登録されているセ
ルライブラリィの名称が表示され、新規にライブラリィ
な作成するのかあるいはライブラリィな更新するのかを
表示する画面であり６０ａはその既存登録セルライブラ
リィ表示および選択画面表示の一例である。６０ａにお
いて新しくセルライブラリィなセルライブラリィ記憶手
段に登録するには１を選択し、既に登録されているセル
ライブラリィを更新する場合は２を選択することを示し
ている。１ａで該当選択番号を入力する。１ｂでは対象
とするセルライブラリィの名称を入力する。１２におい
ては１ａの入力番号に応じてセルライブラリィな新規に
作成するのか更新するのかを判定制御する。新規作成に
制御が移ると３８でセルライブラリィ記憶手段にｌｂで
名称指定されたセルライブラリィが作成される。
および表示例を示す図で、６８で既に登録されているセ
ルライブラリィの名称が表示され、新規にライブラリィ
な作成するのかあるいはライブラリィな更新するのかを
表示する画面であり６０ａはその既存登録セルライブラ
リィ表示および選択画面表示の一例である。６０ａにお
いて新しくセルライブラリィなセルライブラリィ記憶手
段に登録するには１を選択し、既に登録されているセル
ライブラリィを更新する場合は２を選択することを示し
ている。１ａで該当選択番号を入力する。１ｂでは対象
とするセルライブラリィの名称を入力する。１２におい
ては１ａの入力番号に応じてセルライブラリィな新規に
作成するのか更新するのかを判定制御する。新規作成に
制御が移ると３８でセルライブラリィ記憶手段にｌｂで
名称指定されたセルライブラリィが作成される。
一方更新に制御が移ると１ｂで名称指定されたセルライ
ブラリィがセルライブラリィ記・邑手段上で更新される
。
ブラリィがセルライブラリィ記・邑手段上で更新される
。
第４図は、本発明の実施例のデータ合成手段のフローの
概略図である。６ｂは登録されているセルライブラリィ
の名称を表示する画面であり、６０ｂはその表示例を示
したものである。その画面を参照し、そこまでに加工さ
れるデータと合成すべきセルライブラリィの名称を指定
するのがｌｃのセルライブラリィ名人力である。その後
その指示に従い１３でデータの合成が実施されマスクを
作成する為のデータが準備される。
概略図である。６ｂは登録されているセルライブラリィ
の名称を表示する画面であり、６０ｂはその表示例を示
したものである。その画面を参照し、そこまでに加工さ
れるデータと合成すべきセルライブラリィの名称を指定
するのがｌｃのセルライブラリィ名人力である。その後
その指示に従い１３でデータの合成が実施されマスクを
作成する為のデータが準備される。
［発明の効果］
以上述べたように本発明によれば、セルライブラリィ登
録手段、セルライブラリィ記憶手段およびデータ合成手
段を設けることにより、最終的な１つのＬＳＩチップ上
で繰り返し用いられたりあるいは複数のＬＳＩチップ上
で共通して用いられるセルをあらかじめセルライブラリ
ィ登録手段およびセルライブラリィ記憶手段を用いて常
に本システム内に記憶しておき、後に記憶されてないセ
ルデータを配したデータとをデータ合成手段により合成
し、高速かつ正確に半導体製造用マスクブタの作成でき
るという効果を有する０本発明は特にゲートアレイおよ
びスタンダードセル設計手法を用いた半導体製造用マス
クデータの作成において、あらかじめセルライブラリィ
記憶手段に準備されたデータと自動配置配線システム等
で作成されたデータとを合成し、短時間にて目的のブタ
を作成する効果を有するものである。
録手段、セルライブラリィ記憶手段およびデータ合成手
段を設けることにより、最終的な１つのＬＳＩチップ上
で繰り返し用いられたりあるいは複数のＬＳＩチップ上
で共通して用いられるセルをあらかじめセルライブラリ
ィ登録手段およびセルライブラリィ記憶手段を用いて常
に本システム内に記憶しておき、後に記憶されてないセ
ルデータを配したデータとをデータ合成手段により合成
し、高速かつ正確に半導体製造用マスクブタの作成でき
るという効果を有する０本発明は特にゲートアレイおよ
びスタンダードセル設計手法を用いた半導体製造用マス
クデータの作成において、あらかじめセルライブラリィ
記憶手段に準備されたデータと自動配置配線システム等
で作成されたデータとを合成し、短時間にて目的のブタ
を作成する効果を有するものである。
第１図は本発明の実施例の部分システム構成図。
第２図は本発明の実施例の機能システム構成図。
第３図は本発明の実施例のセルライブラリィ作成フロー
および表示例を示す図。 第４図は本発明の実施例のデータ合成手段のフローの概
略図。 ■・・・命令入力手段 ２・・・演算手段 ３・・・セルライブラリィ記憶手段 ４ ・ ・ ５ ・ ６ ・ ・ ７ ・ ・ ８ ・ ９ ・ ・ １０ ・ １１ ・ ・ ＣＡＤデータ読込手段 マスク作成用データ書出手段 表示手段 ＣＡＤデータ加工手段 処理判定手段 セルライブラリィ登録手段 データ合成手段 マスク作成用データ作成手段 以上
および表示例を示す図。 第４図は本発明の実施例のデータ合成手段のフローの概
略図。 ■・・・命令入力手段 ２・・・演算手段 ３・・・セルライブラリィ記憶手段 ４ ・ ・ ５ ・ ６ ・ ・ ７ ・ ・ ８ ・ ９ ・ ・ １０ ・ １１ ・ ・ ＣＡＤデータ読込手段 マスク作成用データ書出手段 表示手段 ＣＡＤデータ加工手段 処理判定手段 セルライブラリィ登録手段 データ合成手段 マスク作成用データ作成手段 以上
Claims (2)
- （１）ＣＡＤデータを加工したセルパターンを記憶する
セルライブラリィ記憶手段を設けたことを特徴とする半
導体製造用マスクデータ作成システム。 - （２）命令入力手段、演算手段、セルライブラリィ記憶
手段、ＣＡＤデータ読込手段、マスク作成用データ書出
手段、表示手段を有するシステムにおいて、ＣＡＤデー
タ加工手段、セルライブラリィ作成かマスクデータ作成
かを判定する処理判定手段、セルライブラリィ登録手段
、データ合成手段、マスク作成用データ作成手段を設け
たことを特徴とする半導体製造用マスクデータ作成シス
テム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285639A JPH03147072A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 半導体製造用マスクデータ作成システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1285639A JPH03147072A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 半導体製造用マスクデータ作成システム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03147072A true JPH03147072A (ja) | 1991-06-24 |
Family
ID=17694137
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1285639A Pending JPH03147072A (ja) | 1989-11-01 | 1989-11-01 | 半導体製造用マスクデータ作成システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03147072A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003084420A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクデータの表示装置 |
-
1989
- 1989-11-01 JP JP1285639A patent/JPH03147072A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003084420A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-19 | Dainippon Printing Co Ltd | フォトマスクデータの表示装置 |
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