JPH03141134A - 半導体微粒子を分散させた石英ガラスの製造方法 - Google Patents

半導体微粒子を分散させた石英ガラスの製造方法

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JPH03141134A
JPH03141134A JP27721489A JP27721489A JPH03141134A JP H03141134 A JPH03141134 A JP H03141134A JP 27721489 A JP27721489 A JP 27721489A JP 27721489 A JP27721489 A JP 27721489A JP H03141134 A JPH03141134 A JP H03141134A
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JP
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gel
sol
semiconductor
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Application number
JP27721489A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Suganuma
寛 菅沼
Masumi Ito
真澄 伊藤
Tatsuhiko Saito
斉藤 達彦
Toshio Danzuka
彈塚 俊雄
Hiroshi Yokota
弘 横田
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Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/12Other methods of shaping glass by liquid-phase reaction processes

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光学素子等に用いられる、大きな非線形光学
定数を存する半導体微粒子を分散させてなる石英ガラス
の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
半導体微粒子を分散させた石英ガラスは、波長フィルタ
ー等の光学素子に用いられており、さらに大きな非線形
光学定数を存するため、光スィッチ等への利用が期待さ
れている。
従来、この種のガラス原料と半導体を高温で溶融・混合
させ、その後急冷する方法により得られていた。
〔発明が解決しようとする課題〕
半導体微粒子含有体の非線形光学効果を大きくするには
、半導体の粒径を約10人位に小さく且つ均一なものと
し、また高密度で均一に116導体を分散させることが
望ましい。
従来の高温溶融による製造方法では、粒径の揃った小径
の半導体微粒子をガラス内に高密度で均一に分散させる
ことは困難であり、粒径は100Å以上、また密度も数
%以下(体積比)がせいぜいであった。
また、ガラス原料と半導体以外の不純物が少ないことも
非線形光学定数を大きくするために必要な事項であるが
、従来の製法では、溶融・混合する段階で容器等から不
純物が混入しやすかった。
本発明はこのような現状に鑑みて、従来よりも小径且つ
粒径の均一な!46導体微粒子を、ガラス中に均一に高
密度で分散できて、非線形、光学定数を向上した半導体
微粒子分散石英ガラスを製造できる方法を提供すること
を課題とするものである。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、原料アルコキシドを加水分解したゾルlαを
ゲル化するゾルゲル法において、原料の少なくとも1つ
をアルキルシリケートとし、且つ金属イオンを1つ以上
含む溶液を加水分解してゾル液を得、該ゾル液をゲル化
し、得られたゲルに周期律表の第6族または第7族の原
子のマイナスイオンを1つ以上含む溶液を含浸させた後
、該含浸ゲルを乾燥および焼結することにより、前記金
属イオンと第6族または第7族原子のマイナスイオンの
化合物である半導体の微粒子が分散した石英ガラスを得
ることを特徴とする半導体微粒子を分散させた石英ガラ
スの製造方法により、上記課題を解決できたものである
本発明における半導体としては、例えば〜■、II g
 l 2、 QIS、QISe、 QITe、  Pb
 S  、  Pb5e、 PbTe、  ZnS、Z
nSeおよび/またはZnTe等を好ましいものとして
挙げることができる。
〔作用〕
本発明においてはゾルゲル法を利用し、アルキルシリケ
ートを加水分解したゾル液が縮重合して100人未満の
細孔を有するゲルになった段階で、該ゲルに周期律表第
6族または第7族原子のマイナスイオンを含有する反応
液を含浸させる。このとき、原料溶液(加水分解用溶液
)調整時に添加しておいたゲル中の金属イオンはゲルよ
り溶出し、反応液中のマイナスイオンと反応し結晶を形
成する。金属イオンとマイナスイオンに、Ag’と11
1g21とI のように半導体を生成するイオンを採用
することにより、石英ゲル中に半導体結晶を析出させる
ことが可能となる。半導体は2種以上であってもよい。
このときの結晶の大きさはゲルの孔径で制限されるため
に、100人未満の均一径の結晶を得ることが容易に可
能となる。更に、結晶成長の温度と時間をコントロール
することにより、JL flより小さな径を得ることも
可能である。
更に、本発明は低温プロセスであるため、容器等からの
不純物の混入も小さく、純度の高い半導体分散石英ガラ
スを得ることが可能となる。
本発明において、加水分解してゾル液を得るための溶液
は、原料の少なくとも1つをアルキルシノケ−1・とじ
、且つ金属イオンを1つ以上含むものである。
本発明に用いるアルキルンリケードとしては、例えばエ
チルシリケート、エチルシリケート、プロピルシリケー
ト、ブチルシリケート等を挙げることができる。
上記金属イオンの金属としては、例えば〜、l1g、0
、九、Zn等を挙げることができる。これらは塩化物や
硝酸塩等の塩として上記加水分解用溶液に添加すればよ
く、具体的にはQI Ce、、I)+JCI!1、Zn
Ch、 Ag(NOx) 、fig(NOs)z、Cd
 (No、)、等を粉末で、あるいは水またはアルコー
ル等を溶媒とした溶液の形で添加する。従って上記の塩
化物や塩は水またはアルコールへの溶解度が高いものが
望ましい。
加水分解用溶液は少なくともアルキルシリケート、水及
びアルコールを含有してなり、例えばアルキルシリケー
ト1モルに対して、水、6〜20モル、アルコール1〜
2モル程度の割合を一般的な例として挙げることができ
る。
該アルコールとしては、例えばメタノール、エタノール
、プロパツール、ブタノール等を挙げることができる。
加水分解の条件としてはこの種のゾルゲル法での通常の
条件でよく、例えば室温で撹拌する程度でも充分である
上記のように調整した溶液を、加水分解反応させて得ら
れたゾル液をゲル化するが、徐々にゲル化することが好
ましく、例えば40’C〜80”C程度の温度に〜1週
間保持して、さらにl 00 ’C〜500°C程度に
まで徐々に加熱してゆくような方法を採用できる。
以」二で得られたゲルに、周期率表第6族または第7族
の原子のマイナスイオンを含有する反応溶液を含浸せし
める。該第6族または第7族原子としては、例えばS、
 Se、  I 、Te等を挙げることができ、これら
は例えばNa!S水溶液、NazTe水溶液等の溶液と
して上記のゲルを含浸する。含浸ゲルは、次いで加熱焼
結してガラス体とし、半導体微粒子が分散した石英ガラ
スを得ることができる。
〔実施例〕
実施例1 メチルシリケート10−1水low/、n−プロパツー
ル15m/、0. I Nのアンモニア水2−1九Ct
’t(粉末) 0.01 gを混合撹拌し、均質なゾル
液を調整した。これを、40’Cに保持してゲル化した
後、60℃から150℃へと2週間かけて温度を上昇さ
せ、乾燥ゲルを得た。この乾燥ゲルを更に200℃で4
時間、500℃で2時間熱処理した後、室温でNal5
水溶液に2時間浸した。その後、このゲル体を1100
℃で焼結し、pbs微粒子分散ガラスを得た。添加され
た半導体PbS濃度は5重量%であり、従来法では1重
量%以下程度であることと比べ、本発明の方法が添加量
を増大できることが確認された。
以上で得られたガラスをTEM (透過電子顕微鏡)で
観察したところ、約30人の大きさのPbS結晶がガラ
ス内に均一に分散していることを確認できた。第1図は
該PbS分散ガラスの透過特性図であり、この図から1
)bSに起因する吸収端が700nm(バンドギャップ
1.7eV)にあり、バルクPbSではバンドギャップ
が0.4 e Vであることから、本発明品では高エネ
ルギー側の吸収端がシ・フトしていることが分かる。す
なわち、微粒子化による量子効果が確認できた。
実施例2 メチルシリケートl0rn!、水IO−、エタノール7
m/、n−ペンタノール1O−1O,l Nのアンモニ
ア水2 m/ 、 ZnCl*(粉末) 0.01 g
を混合撹拌し、均質なゾル液を調整した。該ゾル液を実
施例1と同条件で乾燥および熱処理した後、NazTe
水溶液に2時間浸した後、1300°Cで焼結し、1n
Te微粒子分散ガラスを得た。このガラス中の半導体濃
度は5重量9ごと高いものであった。
〔発明の効果〕
本発明によれば、大きな非線形光学定数を有する半導体
微粒子分散ガラスを得ることが可能となり、光スィッチ
等への応用が期待できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は実施例!で得られた本発明によるPbS微粒子
分散石英ガラスの透過特性図であり、縦軸は透過率(%
)、横軸は波長(nm)及びフォトンエネルギー([!
V)を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)原料アルコキシドを加水分解したゾル液をゲル化
    するゾルゲル法において、原料の少なくとも1つをアル
    キルシリケートとし、且つ金属イオンを1つ以上含む溶
    液を加水分解してゾル液を得、該ゾル液をゲル化し、得
    られたゲルに周期律表の第6族または第7族の原子のマ
    イナスイオンを1つ以上含む溶液を含浸させた後、該含
    浸ゲルを乾燥および焼結することにより、前記金属イオ
    ンと第6族または第7族原子のマイナスイオンの化合物
    である半導体の微粒子が分散した石英ガラスを得ること
    を特徴とする半導体微粒子を分散させた石英ガラスの製
    造方法。
  2. (2)上記半導体がAgI、Hgf_2、CdS、Cd
    Se、CdTe、PbS、PbSe、PbTe、ZnS
    、ZnSeおよび/またはZnTeであることを特徴と
    する請求項(1)記載の製造方法。
JP27721489A 1989-10-26 1989-10-26 半導体微粒子を分散させた石英ガラスの製造方法 Pending JPH03141134A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03187951A (ja) * 1989-12-15 1991-08-15 Hoya Corp 半導体含有ガラス

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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