JPH03139657A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、電子写真感光体に関し、より詳しくは、感
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。
〈従来の技術〉
いわゆる、カールソンプロセスを利用した複写機等の画
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
電子写真感光体、とくに有機感光体においては、画像形
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
かかる表面保護層としては、物理的安定性と硬度の高さ
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、従来から使用されているシリコーン樹脂
は、硬度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は耐
衝撃性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題が
あった。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結着
性が低いという問題があった。
は、硬度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は耐
衝撃性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題が
あった。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結着
性が低いという問題があった。
この発明はこれらの問題に鑑みてなされたものであって
、感光層との結着性か高く、且つ機械的強度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
、感光層との結着性か高く、且つ機械的強度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
く課題を解決するための手段および作用〉上記問題を解
決するためのこの発明にかかる電子写真感光体は、一般
式〔I〕: および一般式(■): (各式中、R1は炭素数6以下のアルキレン基、R2は
炭素数が4以下のアルキル基、R3は一〇R2て表され
る基または炭素数が4以下のアルキル基を示す)で表さ
れるアルコキシシラン化合物のうち少なくとも一方から
なるオリゴマーの100重量部と、 一般弐〇IO: (式中、R4はメチル基または水素原子、R5は炭素数
6以下のアルキレン基を示す)で表される化合物のオリ
ゴマーの10〜50重量部との混合物を含む塗布液を塗
布し、硬化させてなる表面保護層を感光層上に有するこ
とを特徴とする。
決するためのこの発明にかかる電子写真感光体は、一般
式〔I〕: および一般式(■): (各式中、R1は炭素数6以下のアルキレン基、R2は
炭素数が4以下のアルキル基、R3は一〇R2て表され
る基または炭素数が4以下のアルキル基を示す)で表さ
れるアルコキシシラン化合物のうち少なくとも一方から
なるオリゴマーの100重量部と、 一般弐〇IO: (式中、R4はメチル基または水素原子、R5は炭素数
6以下のアルキレン基を示す)で表される化合物のオリ
ゴマーの10〜50重量部との混合物を含む塗布液を塗
布し、硬化させてなる表面保護層を感光層上に有するこ
とを特徴とする。
炭素数6以下のアルキレン基としては、例えばメチレン
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2.2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直鎖または分
岐アルキレン基があげられる。
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2.2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直鎖または分
岐アルキレン基があげられる。
炭素数4以下のアルキル基としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチル等の直鎖または分岐アルキル基があげら
れる。
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチル等の直鎖または分岐アルキル基があげら
れる。
前記一般式(1)または(I[)で表される化合物は、
端にエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物であり
、これを単独または両者を混合してオリゴマー化する。
端にエポキシ基を有するアルコキシシラン化合物であり
、これを単独または両者を混合してオリゴマー化する。
上記オリゴマー化は、モノマーであるアルコキシシラン
化合物を含有した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒および加水分解用の水の存在下で行う。
化合物を含有した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒および加水分解用の水の存在下で行う。
触媒としては、過塩素酸、硫酸、塩酸、p−トルエンス
ルホン酸などの酸触媒があげられる。触媒の配合量は、
アルコキシシラン化合物100重量部に対して0.1〜
3重量部であるのが適当である。また、上記加水分解用
の水は、アルコキシシラン化合物100重量部に対して
5〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを得る上で
好ましい。
ルホン酸などの酸触媒があげられる。触媒の配合量は、
アルコキシシラン化合物100重量部に対して0.1〜
3重量部であるのが適当である。また、上記加水分解用
の水は、アルコキシシラン化合物100重量部に対して
5〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを得る上で
好ましい。
オリゴマー化反応に使用する溶媒としては、例えばメチ
ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、プロピルアルコールなどのアルコール;n−へキ
サン、オクタン、ンクロヘキサン等の脂肪族炭化水素:
ベンセン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テI・ラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチル
エーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン!IJi;ジメチルホ
ルムアミド;ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これ
らは単独でまたは2種以上を混合して使用される。
ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、プロピルアルコールなどのアルコール;n−へキ
サン、オクタン、ンクロヘキサン等の脂肪族炭化水素:
ベンセン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テI・ラヒドロフラン、エチレングリ
コールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチル
エーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン!IJi;ジメチルホ
ルムアミド;ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これ
らは単独でまたは2種以上を混合して使用される。
また、得られるオリゴマーは重合度が5〜10程度のも
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
粘度低下により塗布作業が困難になり、かつ成膜性に劣
ったものになり、逆に重合度がこの範囲よりも大なると
きは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣ったも
のになり、いずれも好ましくない。
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
粘度低下により塗布作業が困難になり、かつ成膜性に劣
ったものになり、逆に重合度がこの範囲よりも大なると
きは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣ったも
のになり、いずれも好ましくない。
コノオリゴマーは、前記両アルコキシシラン化合物がい
ずれも少なくとも三官能性基(すなわち、1つのエポキ
シ基と少なくとも2つのアルコキシ基)を有するため、
三次元的に広がった構造を有する。すなわち、アルコキ
シシラン化合物のうち、アルコキシ基が加水分解されて
シラノール(StOH)が形成され、これが縮合しシロ
キサン結合(Si−0−3i)か形成され、さらにエポ
キシ基の一部も開環、重合する。
ずれも少なくとも三官能性基(すなわち、1つのエポキ
シ基と少なくとも2つのアルコキシ基)を有するため、
三次元的に広がった構造を有する。すなわち、アルコキ
シシラン化合物のうち、アルコキシ基が加水分解されて
シラノール(StOH)が形成され、これが縮合しシロ
キサン結合(Si−0−3i)か形成され、さらにエポ
キシ基の一部も開環、重合する。
これにより、シリコーンオリゴマーは粘度(分子量)が
増大するため、これを溶媒で適度に希釈して塗布液を調
製する。
増大するため、これを溶媒で適度に希釈して塗布液を調
製する。
一方、前記一般式口で表される化合物(以下、グリシジ
ルアクリレート系化合物という)はグリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレートなどが代表例としてあ
げられる。この化合物をビニル重合させてオリゴマーを
つくり、前記アルコキシシラン化合物のオリゴマーと混
合する。グリシジルアクリレート系化合物のオリゴマー
の重合度は5〜10程度であるのが適当であり、重合度
がこの範囲より小なるときは前記と同様に塗布が困難に
なり、逆にこの範囲より大なるときは溶媒に溶解させる
のが困難となるため好ましくない。
ルアクリレート系化合物という)はグリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレートなどが代表例としてあ
げられる。この化合物をビニル重合させてオリゴマーを
つくり、前記アルコキシシラン化合物のオリゴマーと混
合する。グリシジルアクリレート系化合物のオリゴマー
の重合度は5〜10程度であるのが適当であり、重合度
がこの範囲より小なるときは前記と同様に塗布が困難に
なり、逆にこの範囲より大なるときは溶媒に溶解させる
のが困難となるため好ましくない。
グリシジルアクリレート系化合物の重合度の調整方法と
しては、通常のビニル重合にお、ける重合抑制方法、例
えば重合抑制剤の添加などを適宜採用することができる
。
しては、通常のビニル重合にお、ける重合抑制方法、例
えば重合抑制剤の添加などを適宜採用することができる
。
これらの両オリゴマーを混合して得られる塗布液を感光
層上に塗布し、加熱すると、アルコキシシランオリゴマ
ー同士で重縮合してシロキサン結合が形成されると共に
、アルコキシシランオリゴマーとグリシジルアクリレー
ト系化合物のオリゴマーとがそれぞれ有するエポキシ基
同士が反応してエーテル結合を形成し、さらに両孔合物
の有するエポキシ基の開環によって形成された水酸基が
感光層表面に存在するアミノ基、水酸基等の極性基と結
合または水素結合する。その結果、このオリゴマーを含
有する塗布液を塗布して加熱硬化させた表面保護層は、
接着性および機械的強度(耐磨耗性など)にすぐれたも
のになる。
層上に塗布し、加熱すると、アルコキシシランオリゴマ
ー同士で重縮合してシロキサン結合が形成されると共に
、アルコキシシランオリゴマーとグリシジルアクリレー
ト系化合物のオリゴマーとがそれぞれ有するエポキシ基
同士が反応してエーテル結合を形成し、さらに両孔合物
の有するエポキシ基の開環によって形成された水酸基が
感光層表面に存在するアミノ基、水酸基等の極性基と結
合または水素結合する。その結果、このオリゴマーを含
有する塗布液を塗布して加熱硬化させた表面保護層は、
接着性および機械的強度(耐磨耗性など)にすぐれたも
のになる。
両オリゴマーの混合割合は、アルコキシシラン化合物の
オリゴマー100重量部に対してグリシジルアクリレ−
1・系化合物のオリゴマーか10〜50重量部であるの
が好ましい。グリシジルアクリレート系化合物のオリゴ
マーの配合量が前記範囲よりも大なるときは、後述の比
較例3および5に示されるように、成膜時の内部歪みが
大きいためにクラックが発生しやすく、半減露光量およ
び繰り返し特性も劣ったものになる。逆に、グリシジル
アクリレ−1・系化合物のオリゴマーの配合量が前記範
囲よりも小なるときは、塗膜の耐摩耗性が不充分である
。
オリゴマー100重量部に対してグリシジルアクリレ−
1・系化合物のオリゴマーか10〜50重量部であるの
が好ましい。グリシジルアクリレート系化合物のオリゴ
マーの配合量が前記範囲よりも大なるときは、後述の比
較例3および5に示されるように、成膜時の内部歪みが
大きいためにクラックが発生しやすく、半減露光量およ
び繰り返し特性も劣ったものになる。逆に、グリシジル
アクリレ−1・系化合物のオリゴマーの配合量が前記範
囲よりも小なるときは、塗膜の耐摩耗性が不充分である
。
上記アルコキシシラン化合物のオリゴマーの重縮合には
、通常の重縮合触媒(例えば1.8−ジアザビシクロ(
5,4,0)ウンデセン−7(DBU)など)を使用す
ることかできる。
、通常の重縮合触媒(例えば1.8−ジアザビシクロ(
5,4,0)ウンデセン−7(DBU)など)を使用す
ることかできる。
0
上記表面保護層の膜厚は、0.1〜10μm1なかんづ
く2〜5μ0の範囲であるのが好ましい。
く2〜5μ0の範囲であるのが好ましい。
上記表面保護層には、画像形成プロセスにおける感光層
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シシラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子の
コロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し
、硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が
導電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設け
るのが好ましい。
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シシラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子の
コロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し
、硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が
導電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設け
るのが好ましい。
上記導電性付与剤としては、酸化スズ、酸化チタン、酸
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化によって表面保護層中に分散されるが、微粒子
の状態では凝集し易く、塗布液中に均一に分散させるた
めに長時間の攪拌が必要となるため、前述したよ1 うに、コロイド溶液の状態で、塗布液中に混和させるこ
とが好ましい。上記コロイド溶液においては、導電性金
属酸化物の微粒子は、それぞれの持つ表面電荷によって
互いに反発して、塗布液中における凝集が防止されるの
で、短時間の攪拌、混合により、塗布液中に均一に分散
させることができる。
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化によって表面保護層中に分散されるが、微粒子
の状態では凝集し易く、塗布液中に均一に分散させるた
めに長時間の攪拌が必要となるため、前述したよ1 うに、コロイド溶液の状態で、塗布液中に混和させるこ
とが好ましい。上記コロイド溶液においては、導電性金
属酸化物の微粒子は、それぞれの持つ表面電荷によって
互いに反発して、塗布液中における凝集が防止されるの
で、短時間の攪拌、混合により、塗布液中に均一に分散
させることができる。
導電性金属酸化物粒子のコロイド溶液の製造方法は、導
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の有機溶媒とを
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のハロゲン化水素に、エチレングリコールに
代表される1価或いは2価以上のアルコール、DMF等
の親水性有機溶媒およびα−ヒドロキシカルボン酸を加
え、そこへ三酸化アンチモンを分散させた状態で、過酸
化2 水素水によって酸化させる方法(特開昭52−3849
5号公報、特開昭52−38496号公報参照)等によ
り調製することができる。
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のハロゲン化水素に、エチレングリコールに
代表される1価或いは2価以上のアルコール、DMF等
の親水性有機溶媒およびα−ヒドロキシカルボン酸を加
え、そこへ三酸化アンチモンを分散させた状態で、過酸
化2 水素水によって酸化させる方法(特開昭52−3849
5号公報、特開昭52−38496号公報参照)等によ
り調製することができる。
上記五酸化アンチモンコロイド溶液を調製するための分
散媒としては、下層の感光層を侵すことかないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
散媒としては、下層の感光層を侵すことかないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
また、酸化スズ(SnOs SnO等)と酸化アンチモ
ン(sb o 、sb o 等)との固溶体の
コ2 5 2 3 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子10表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触によりOH基を生じて負に帯電
することで、固溶体粒子の表面に電荷を持たせるように
なっている。
ン(sb o 、sb o 等)との固溶体の
コ2 5 2 3 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子10表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触によりOH基を生じて負に帯電
することで、固溶体粒子の表面に電荷を持たせるように
なっている。
3
上記酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子は、通常
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドープして形成され
るもので、特に限定されないが、固溶体粒子中における
アンチモンの含有割合が0.001〜30重量%である
ことが好ましく、5〜20重量%であることがより好ま
しい。固溶体粒子中におけるアンチモンの含有割合が0
.001重量%未満の場合や、30重量%を超えた場合
には、十分な導電性が得られなくなる虞がある。
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドープして形成され
るもので、特に限定されないが、固溶体粒子中における
アンチモンの含有割合が0.001〜30重量%である
ことが好ましく、5〜20重量%であることがより好ま
しい。固溶体粒子中におけるアンチモンの含有割合が0
.001重量%未満の場合や、30重量%を超えた場合
には、十分な導電性が得られなくなる虞がある。
また、上記固溶体粒子の粒径は特に限定されないが、1
0〜20nmであることが好ましい。固溶体粒子の粒径
が10nm未満では、保護層の電気抵抗が大きくなり、
20nmを超えると、光透過率が悪くなる。
0〜20nmであることが好ましい。固溶体粒子の粒径
が10nm未満では、保護層の電気抵抗が大きくなり、
20nmを超えると、光透過率が悪くなる。
固溶体粒子に対する酸化ケイ素の割合も特に限定されな
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶体粒子100重量部に対する
酸化ケイ素の割合が10重量部を超えた場合には、十分
な導電性が得られ4 なくなる虞がある。
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶体粒子100重量部に対する
酸化ケイ素の割合が10重量部を超えた場合には、十分
な導電性が得られ4 なくなる虞がある。
上記コロイド溶液を構成する分散媒としては、前述した
ように、酸化ケイ素を負に帯電させるために極性溶媒が
使用され、特に、保護層用塗布液との相溶性に優れ、且
つ下地層としての感光層を侵す虞のないメチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール
類が好適に使用される。
ように、酸化ケイ素を負に帯電させるために極性溶媒が
使用され、特に、保護層用塗布液との相溶性に優れ、且
つ下地層としての感光層を侵す虞のないメチルアルコー
ル、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソ
プロピルアルコール、ブチルアルコール等のアルコール
類が好適に使用される。
上記表面保護層を構成する結着樹脂には、膜の特性を損
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
前記以外の他の結着樹脂としては、例えば硬化性アクリ
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体ニアクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、5 アイオノマー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル
;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;
飽和ポリエステル;ポリアミド;熱可塑性ポリウレタン
樹脂;ポリカーボネート;ボリアリレート;ポリスルホ
ン:ケトン樹脂;ポリビニルブチラール樹脂;ポリエー
テル樹脂が例示される。
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体ニアクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、5 アイオノマー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル
;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;
飽和ポリエステル;ポリアミド;熱可塑性ポリウレタン
樹脂;ポリカーボネート;ボリアリレート;ポリスルホ
ン:ケトン樹脂;ポリビニルブチラール樹脂;ポリエー
テル樹脂が例示される。
上記表面保護層には、ターフェニル、ハロナフトキノン
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができる。
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができる。
なお、この発明感光体は、表面保護層以外の構成につい
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
まず、導電性基材について述べる。
導電性基材は、電子写真感光体が組み込まれる6
画像形成装置の機構、構造に対応してシート状あるいは
ドラム状など、適宜の形状に形成される。
ドラム状など、適宜の形状に形成される。
また、上記導電性基材は、全体を金属などの導電性材料
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
なお、前者の構造を有する導電性基材において使用され
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
一方、後者の構造としては、合成樹脂製基材またはガラ
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネート7 された構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面に
、導電性を付与する物質が注入された構造が例示される
。
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネート7 された構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面に
、導電性を付与する物質が注入された構造が例示される
。
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
次に、導電性基村上に形成される感光層について述べる
。
。
感光層は、半導体材料や有機材料、またはこれらの複合
材料からなる下記構成のものが使用できる。
材料からなる下記構成のものが使用できる。
■ 半導体材料からなる単層型の感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有
する単層型の有機感光層。
する単層型の有機感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料を含有する電荷発生層と
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有機感光層。
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有機感光層。
■ 半導体材料からなる電荷発生層と、上記有機の電荷
輸送層とが積層された複合型の感光層。
輸送層とが積層された複合型の感光層。
8
複合型感光層において電荷発生層として用いられると共
に、単独でも感光層を形成できる半導体材料としては、
前述したa−8eの他に、例えばa−AS2 Seg
、a−SeAsTe等のアモルファスカルコゲン化物や
アモルファスシリコン(a St)が例示される。上
記半導体材料からなる感光層または電荷発生層は、真空
蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方法によ
って形成することができる。
に、単独でも感光層を形成できる半導体材料としては、
前述したa−8eの他に、例えばa−AS2 Seg
、a−SeAsTe等のアモルファスカルコゲン化物や
アモルファスシリコン(a St)が例示される。上
記半導体材料からなる感光層または電荷発生層は、真空
蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方法によ
って形成することができる。
単層型または積層型の有機感光層における電荷発生層に
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末; Zn O% C
d S等のII−Vll機微結晶ピリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物;トリフェニルメタン系化合物;スレン系化合
物;トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が例示される
。そして、上記例示の化合物の中でも、フタロシアニ
9 ン系化合物に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶
型を有するアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシア
ニン、メタルフリーフタロシアニン、オキソチタニルフ
タロシアニン等が好ましく用いられ、特に上記メタルフ
リーフタロシアニンおよび/またはオキソチタニルフタ
ロンアニンがより好ましく用いられる。なお、上記電荷
発生材料は、それぞれ単独で用いられる他、複数種を併
用しても良い。 また、上記単層型または積層型の有機
感光層や、複合型の感光層における電荷輸送層中に含ま
れる電荷輸送材料としては、例えばテトラシアノエチレ
ン、2,4.74リニトロ−9−フルオレノン等のフル
オレノン系化合物;ジニトロアントラセン等のニトロ化
化合物;無水コハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水
マレイン酸;トリフェニルメタン系化合物;2,5−ジ
(4−ジメチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;9−(4−
ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のスチリル系
化合物;ポリ−N−ビニルカルバブ0 −ル等のカルバゾール系化合物;1−フェニル3−(p
−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン
系化合物、4.4’ 、4’−)リス(N、N−ジフェ
ニルアミノ)トリフェニルアミン等のアミン誘導体;1
.1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−4,4−
ジフェニル−1゜3−ブタジェン等の共役不飽和化合物
、4−、(N。
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末; Zn O% C
d S等のII−Vll機微結晶ピリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物;トリフェニルメタン系化合物;スレン系化合
物;トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が例示される
。そして、上記例示の化合物の中でも、フタロシアニ
9 ン系化合物に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶
型を有するアルミニウムフタロシアニン、銅フタロシア
ニン、メタルフリーフタロシアニン、オキソチタニルフ
タロシアニン等が好ましく用いられ、特に上記メタルフ
リーフタロシアニンおよび/またはオキソチタニルフタ
ロンアニンがより好ましく用いられる。なお、上記電荷
発生材料は、それぞれ単独で用いられる他、複数種を併
用しても良い。 また、上記単層型または積層型の有機
感光層や、複合型の感光層における電荷輸送層中に含ま
れる電荷輸送材料としては、例えばテトラシアノエチレ
ン、2,4.74リニトロ−9−フルオレノン等のフル
オレノン系化合物;ジニトロアントラセン等のニトロ化
化合物;無水コハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水
マレイン酸;トリフェニルメタン系化合物;2,5−ジ
(4−ジメチルアミノフェニル)−1,3,4−オキサ
ジアゾール等のオキサジアゾール系化合物;9−(4−
ジエチルアミノスチリル)アントラセン等のスチリル系
化合物;ポリ−N−ビニルカルバブ0 −ル等のカルバゾール系化合物;1−フェニル3−(p
−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン
系化合物、4.4’ 、4’−)リス(N、N−ジフェ
ニルアミノ)トリフェニルアミン等のアミン誘導体;1
.1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−4,4−
ジフェニル−1゜3−ブタジェン等の共役不飽和化合物
、4−、(N。
N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−N、 Nジ
フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン系化合物;インドー
ル系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール
系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合
物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピラ
ゾリン系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式
化合物;縮合多環族化合物が例示される。上記電荷輸送
材料も単独で、あるいは、複数種併用して用いることが
できる。なお、上記電荷輸送材料の中でも、前記ボリル
N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有する高分子材
料は、感光層の結着樹脂としても使用することができる
。
フェニルヒドラゾン等のヒドラゾン系化合物;インドー
ル系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール
系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合
物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピラ
ゾリン系化合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式
化合物;縮合多環族化合物が例示される。上記電荷輸送
材料も単独で、あるいは、複数種併用して用いることが
できる。なお、上記電荷輸送材料の中でも、前記ボリル
N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有する高分子材
料は、感光層の結着樹脂としても使用することができる
。
1
また、前記単層型または積層型の有機感光層、複合型感
光層における電荷輸送層などの層には、前記増感剤、フ
ルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の劣化
防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させることができる
。
光層における電荷輸送層などの層には、前記増感剤、フ
ルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の劣化
防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させることができる
。
単層型の有機感光層における、結着樹脂100重量部に
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、°特に3〜15重量部の範囲内であることが好ま
しく、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材
料の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に5
0〜100重量部の範囲内であることか好ましい。電荷
発生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40
重量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留
電位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が
20重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量
部を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られなくな
るからである。
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、°特に3〜15重量部の範囲内であることが好ま
しく、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材
料の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に5
0〜100重量部の範囲内であることか好ましい。電荷
発生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40
重量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留
電位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が
20重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量
部を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られなくな
るからである。
上記単層型感光層は、適宜の厚みに形成できるが、通常
は、10〜50μm、特に15〜25μlの2 範囲内に形成されることが好ましい。
は、10〜50μm、特に15〜25μlの2 範囲内に形成されることが好ましい。
一方、積層型の有機感光層を構成する層のうち、電荷発
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料か5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
が低下するからである。
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料か5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
が低下するからである。
上記電荷発生層の膜厚は、0.01〜3μn1特に0.
1〜2μmの範囲内であることが好ましい。
1〜2μmの範囲内であることが好ましい。
また、積層型の有機感光層および複合型感光層を構成す
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満ては電
荷輸送能が十分てなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するからである。
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満ては電
荷輸送能が十分てなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するからである。
上記電荷輸送層の膜厚は、2〜100μm1特に3
5〜30μmの範囲内であることが好ましい。
以上に説明した、単層型や積層型の有機感光層、複合型
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各履用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各履用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着樹
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素ニジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒト4 0フラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステ
ル類;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド等
、種々の溶剤が例示され、これらが一種または二種以上
混合して用いられる。また、上記塗布液を調製する際、
分散性、塗工性等を向上させるため、界面活性剤やレベ
リング剤等を併用しても良い。
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素ニジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒト4 0フラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエステ
ル類;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド等
、種々の溶剤が例示され、これらが一種または二種以上
混合して用いられる。また、上記塗布液を調製する際、
分散性、塗工性等を向上させるため、界面活性剤やレベ
リング剤等を併用しても良い。
また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
〈実施例〉
実施例1
感光層の形成
導電性基材としてアルミニウムドラム上に、積層型感光
層を形成した。すなわち、結着樹脂とし5 てのボリアリレート(ユニチカ社製、rU−100J)
100重量部および電荷輸送材料としてのジエチルアミ
ノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン100重量部
をジクロロメタン900重量部に攪拌混合して、電荷輸
送塗布液を調製し、アルミニウムドラム(径78mm、
長さ340 mm)に塗布し、90℃の温度で、30分
間熱風乾燥して硬化させることにより、膜厚20μmの
電荷輸送層を形成した。
層を形成した。すなわち、結着樹脂とし5 てのボリアリレート(ユニチカ社製、rU−100J)
100重量部および電荷輸送材料としてのジエチルアミ
ノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン100重量部
をジクロロメタン900重量部に攪拌混合して、電荷輸
送塗布液を調製し、アルミニウムドラム(径78mm、
長さ340 mm)に塗布し、90℃の温度で、30分
間熱風乾燥して硬化させることにより、膜厚20μmの
電荷輸送層を形成した。
次いで、結着樹脂としてポリ酢酸ビニル(日本合成化学
社製、丁Y5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、24時間攪拌混合して電荷発生塗布液
を調製した。
社製、丁Y5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、24時間攪拌混合して電荷発生塗布液
を調製した。
この電荷発生塗布液を、前記電荷輸送層上に浸漬法によ
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0.5μmの電荷発生層を形成した。
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0.5μmの電荷発生層を形成した。
6
表面保護層の形成
エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物として3−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ社製
の商品名rS−510J)100重量部、オリゴマー化
触媒としての過塩素酸0.3重量部、希釈剤としてのイ
ソプロピルアルコール67重量部および加水分解用の水
11重量部を混合し、室温(約20℃)で3日間静置し
、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのオリ
ゴマー化を行った。
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ社製
の商品名rS−510J)100重量部、オリゴマー化
触媒としての過塩素酸0.3重量部、希釈剤としてのイ
ソプロピルアルコール67重量部および加水分解用の水
11重量部を混合し、室温(約20℃)で3日間静置し
、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシランのオリ
ゴマー化を行った。
次いで、これに重縮合触媒として1.8−ジアザビシク
ロ[5,4,0] ウンデセン−7(DBU)2.2重
量部およびグリシジルメタクリレートのオリゴマー10
重量部を加えて2時間攪拌した後、その樹脂固形分10
0重量部に対して、導電性付与剤としてのアンチモンド
ープ酸化スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部
の割合で加えて150時間混合して、表面保護層用塗布
液を作成した。
ロ[5,4,0] ウンデセン−7(DBU)2.2重
量部およびグリシジルメタクリレートのオリゴマー10
重量部を加えて2時間攪拌した後、その樹脂固形分10
0重量部に対して、導電性付与剤としてのアンチモンド
ープ酸化スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部
の割合で加えて150時間混合して、表面保護層用塗布
液を作成した。
この表面保護層用塗布液を前記電荷発生層上に 7
塗布し、110℃で2時間加熱硬化させて、膜厚2.5
μmの表面保護層を形成し、積層型感光層を有するドラ
ム型の電子写真感光体を作成した。
μmの表面保護層を形成し、積層型感光層を有するドラ
ム型の電子写真感光体を作成した。
実施例2〜10および比較例1〜7
第1表に示すアルコキシシラン化合物およびグリシジル
アクリレート系化合物のオリゴマーをそれぞれ用いた以
外は実施例1と同様にして電子写真感光体を得た。なお
、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランお
よびβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシランとしてはそれぞれチッソ社製の商品名
rS520」およびrS 530Jを使用した。
アクリレート系化合物のオリゴマーをそれぞれ用いた以
外は実施例1と同様にして電子写真感光体を得た。なお
、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシランお
よびβ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシランとしてはそれぞれチッソ社製の商品名
rS520」およびrS 530Jを使用した。
実施例11〜14
導電性付与剤として、アンチモンドープ酸化スズ微粉末
に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピルア
ルコール中に分散されたコロイド溶液(口広化学社製、
商品名「サンコロイド」、固形分含量20重量%)を使
用し、これを、樹脂固形分100重量部に対するコロイ
ド溶液中の5b20.ゾル固形分が第1表に示す量にな
るよ 8 うに添加し、ボールミルで1時間混合した以外は、実施
例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピルア
ルコール中に分散されたコロイド溶液(口広化学社製、
商品名「サンコロイド」、固形分含量20重量%)を使
用し、これを、樹脂固形分100重量部に対するコロイ
ド溶液中の5b20.ゾル固形分が第1表に示す量にな
るよ 8 うに添加し、ボールミルで1時間混合した以外は、実施
例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例8〜11
導電性付与剤として、アンチモンドープ酸化スズ微粉末
に代えて、酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子(
アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20 n m
)が、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量部の
酸化ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒とし
てのイソプロピルアルコール中に分散されたコロイド溶
液(口広化学社製)を使用し、これを、樹脂固形分10
0重量部に対するコロイド溶液中の固形分が第1表に示
す量になるように添加し、ボールミルで1時間混合した
以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成し
た。
に代えて、酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子(
アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20 n m
)が、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量部の
酸化ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒とし
てのイソプロピルアルコール中に分散されたコロイド溶
液(口広化学社製)を使用し、これを、樹脂固形分10
0重量部に対するコロイド溶液中の固形分が第1表に示
す量になるように添加し、ボールミルで1時間混合した
以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成し
た。
表面電位測定
上記各電子写真感光体を、静電複写試験装置(ジエンチ
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s、p、
(V)を測定した。
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s、p、
(V)を測定した。
9
半減露光量
上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験
装置の露光々源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/ ca、露光時間fliOm秒の条件
で露光し、前記表面電位V 、s、p、が1/2となる
までの時間を求め、半減露光量E 1/2 (1ux
see )を算出した。
装置の露光々源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/ ca、露光時間fliOm秒の条件
で露光し、前記表面電位V 、s、p、が1/2となる
までの時間を求め、半減露光量E 1/2 (1ux
see )を算出した。
繰返し露光後の表面電位変化測定
上記各電子写真感光体を複写機(三田工業社製。
DC−111型機)に装填して500枚の複写処理を行
った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位v2s、
p、mとして測定した。
った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位v2s、
p、mとして測定した。
また、前記V 、s、p、値とV2s、p、値との差を
、表面電位変化値ΔV(■)として算出した。
、表面電位変化値ΔV(■)として算出した。
耐摩耗試験
各電子写真感光体をドラム研磨試験機(三田工業社製)
に装填する。と共に、このドラム研磨試験機に設けられ
た感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験
紙装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製、商品
名インペリアルラッピング0 フィルム、粒径12μmの酸化アルミニウム粉末を表面
に付着させたもの)を装填し、この研磨試験紙を感光体
表面に線圧10g/mmて押圧しながら、感光体を40
0回々転させた時の摩耗量(μm)を測定した。
に装填する。と共に、このドラム研磨試験機に設けられ
た感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験
紙装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製、商品
名インペリアルラッピング0 フィルム、粒径12μmの酸化アルミニウム粉末を表面
に付着させたもの)を装填し、この研磨試験紙を感光体
表面に線圧10g/mmて押圧しながら、感光体を40
0回々転させた時の摩耗量(μm)を測定した。
接着性試験
各感光体に対して、カッターナイフにより1mm間隔で
10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの切
れ目を入れて、lmmX1mmの基盤目を100個つく
り、この基盤目の上に粘着テープにチバン社製)を貼り
付けた後、上方へ90゜の角度で強く引き剥がして、表
面保護層の剥離を観察した。そして、上記1 mmX
1 m+nの基盤目のうち、感光体から剥離しなかった
枚数を記録した。
10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの切
れ目を入れて、lmmX1mmの基盤目を100個つく
り、この基盤目の上に粘着テープにチバン社製)を貼り
付けた後、上方へ90゜の角度で強く引き剥がして、表
面保護層の剥離を観察した。そして、上記1 mmX
1 m+nの基盤目のうち、感光体から剥離しなかった
枚数を記録した。
クラック発生の有無
得られたそれぞれの感光体表面にクラックが発生してい
るか否かを目視により確認した。
るか否かを目視により確認した。
以上の試験結果を第1表に示す。
1
第1表から明らかなように、実施例1〜18で得られた
電子写真感光体は、耐摩耗性、接着性、クラックの有無
において、比較例のものよりもすぐれていた。また、半
減露光量および繰り返し露光後の表面電位変化量におい
ても、実施例1〜18は比較例のものよりもすぐれてい
ることから、感光特性も向上していることがわかる。な
お、比較例3および5はクラックが発生したため、諸物
性を測定できなかった。
電子写真感光体は、耐摩耗性、接着性、クラックの有無
において、比較例のものよりもすぐれていた。また、半
減露光量および繰り返し露光後の表面電位変化量におい
ても、実施例1〜18は比較例のものよりもすぐれてい
ることから、感光特性も向上していることがわかる。な
お、比較例3および5はクラックが発生したため、諸物
性を測定できなかった。
〈発明の効果〉
以上のように、この発明の電子写真感光体においては、
エポキシ基を有する特定のアルコキシシラン化合物のオ
リゴマーとグリシジルアクリレート系化合物のオリゴマ
ーとを混合した塗布液から表面保護層を形成するもので
あるため、得られる表面保護層は感光層との結着性にす
ぐれ、かつ機械的強度も向上するという効果がある。
エポキシ基を有する特定のアルコキシシラン化合物のオ
リゴマーとグリシジルアクリレート系化合物のオリゴマ
ーとを混合した塗布液から表面保護層を形成するもので
あるため、得られる表面保護層は感光層との結着性にす
ぐれ、かつ機械的強度も向上するという効果がある。
第1図は酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子の表
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることに3 より、固溶体粒子を帯電させた状態を示す模式図である
。 ・・・固溶体粒子、 2 ・・ 酸化ケイ素粒子
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることに3 より、固溶体粒子を帯電させた状態を示す模式図である
。 ・・・固溶体粒子、 2 ・・ 酸化ケイ素粒子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 および一般式〔II〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (各式中、R^1は炭素数6以下のアルキレン基、R^
2は炭素数が4以下のアルキル基、R^3は−OR^2
で表される基または炭素数が4以下のアルキル基を示す
) で表されるアルコキシシラン化合物のうち少なくとも一
方からなるオリゴマーの100重量部と、 一般式〔III〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔III〕 (式中、R^4はメチル基または水素原子、R^5は炭
素数6以下のアルキレン基を示す)で表される化合物の
オリゴマーの10〜50重量部との混合物を含む塗布液
を塗布し、硬化させてなる表面保護層を感光層上に有す
ることを特徴とする電子写真感光体。 2、請求項1記載の混合物と導電性金属酸化物粒子のコ
ロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し、
硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が導
電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設ける
ことを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906489A JPH03139657A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906489A JPH03139657A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03139657A true JPH03139657A (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=17605906
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27906489A Pending JPH03139657A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03139657A (ja) |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP27906489A patent/JPH03139657A/ja active Pending
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