JPH02144544A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
- G03G5/0503—Inert supplements
- G03G5/051—Organic non-macromolecular compounds
- G03G5/0521—Organic non-macromolecular compounds comprising one or more heterocyclic groups
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は電子写真感光体に関し、より詳細には、感光
層、表面保護層等を積層して構成された電子写真感光体
に関するものである。
層、表面保護層等を積層して構成された電子写真感光体
に関するものである。
〈従来の技術〉
いわゆるカールソンプロセスを利用した、複写機などの
画像形成装置においては、導電性を有する基材上に、単
層または複層の感光層、表面保護層等を積層した電子写
真感光体が用いられる。また、上記感光層、表面保護層
としては、材料の選択幅が広く、生産性に優れ、機能設
計の自由度が大きい、結着樹脂を含有する有機の層が好
ましく使用される。
画像形成装置においては、導電性を有する基材上に、単
層または複層の感光層、表面保護層等を積層した電子写
真感光体が用いられる。また、上記感光層、表面保護層
としては、材料の選択幅が広く、生産性に優れ、機能設
計の自由度が大きい、結着樹脂を含有する有機の層が好
ましく使用される。
電子写真感光体は、画像形成プロセス時に電気的、光学
的、熱的な衝撃を繰返し受けるので、各層中に含まれる
結着樹脂、電荷発生材料、電荷輸送材料等が酸化される
のを防止するため、酸化防止剤を、前記各層の何れかに
添加することが行われている。
的、熱的な衝撃を繰返し受けるので、各層中に含まれる
結着樹脂、電荷発生材料、電荷輸送材料等が酸化される
のを防止するため、酸化防止剤を、前記各層の何れかに
添加することが行われている。
結着樹脂等の酸化は、遊離基の発生、ラジカル連鎖、過
酸化物生成、過酸化物分解による遊離基の再発生等、種
々の反応の組み合わせにより進行することが知られてい
る。このため、酸化防止剤としては、上記各種の反応の
何れかに対応する、−炭酸化防止剤、二次酸化防止剤等
の種々のものが提供されている。なお、−炭酸化防止剤
は、直接酸化により発生する遊離基を捕捉して酸化反応
の連鎖を停止するものであり、二次酸化防止剤は、酸化
により発生した過酸化物を、遊離基を発生させずに分解
するものである。
酸化物生成、過酸化物分解による遊離基の再発生等、種
々の反応の組み合わせにより進行することが知られてい
る。このため、酸化防止剤としては、上記各種の反応の
何れかに対応する、−炭酸化防止剤、二次酸化防止剤等
の種々のものが提供されている。なお、−炭酸化防止剤
は、直接酸化により発生する遊離基を捕捉して酸化反応
の連鎖を停止するものであり、二次酸化防止剤は、酸化
により発生した過酸化物を、遊離基を発生させずに分解
するものである。
また。電子写真感光体用の酸化防止剤としては、上記酸
化防止剤固有の機能に優れているだけでなく、電子写真
感光体の感光特性等に悪影響を与えないことなどの性能
が要求され、これらの性能をある程度具備する酸化防止
剤が種々提案されている。
化防止剤固有の機能に優れているだけでなく、電子写真
感光体の感光特性等に悪影響を与えないことなどの性能
が要求され、これらの性能をある程度具備する酸化防止
剤が種々提案されている。
例えば−炭酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール
類、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類(特
開昭83−18354号公報参照)、特定構造を有する
ヒンダードフェノール類(特開昭63−44862号公
報参照)等が好ましいものとして挙げられる。また、二
次酸化防止剤としては、有機硫黄化合物類、有機燐化合
物類等が、電子写真感光体に好ましいものとして知られ
ている。
類、パラフェニレンジアミン類、ハイドロキノン類(特
開昭83−18354号公報参照)、特定構造を有する
ヒンダードフェノール類(特開昭63−44862号公
報参照)等が好ましいものとして挙げられる。また、二
次酸化防止剤としては、有機硫黄化合物類、有機燐化合
物類等が、電子写真感光体に好ましいものとして知られ
ている。
〈発明が解決しようとする課題〉
前記のように、−炭酸化防止剤、二次酸化防止剤等の酸
化防止剤は、それぞれ、複雑な酸化反応の一部に対応し
ているに過ぎないので、各種酸化防止剤を各々単独で使
用したのでは、複雑な酸化反応の進行を完全に防止する
ことが出来ない。したがって、異なった種類の酸化防止
剤を複数種併用することが必要となる。
化防止剤は、それぞれ、複雑な酸化反応の一部に対応し
ているに過ぎないので、各種酸化防止剤を各々単独で使
用したのでは、複雑な酸化反応の進行を完全に防止する
ことが出来ない。したがって、異なった種類の酸化防止
剤を複数種併用することが必要となる。
ところが、−炭酸化防止剤と二次酸化防止剤との併用系
においては、その組み合わせ如何によっては、−炭酸化
防止剤の作用が強すぎて、二次酸化防止剤の作用が十分
に発揮されなくなるなど、両酸化防止剤の機能が相殺さ
れてしまい、併用することによって却って酸化防止機能
が低下する場合があった。
においては、その組み合わせ如何によっては、−炭酸化
防止剤の作用が強すぎて、二次酸化防止剤の作用が十分
に発揮されなくなるなど、両酸化防止剤の機能が相殺さ
れてしまい、併用することによって却って酸化防止機能
が低下する場合があった。
この発明は、以上の事情に鑑みてなされたものであって
、その目的とするところは、感光特性に悪影響を与える
ことなく、しかも、−吹酸化劣化防止機能、二次酸化劣
化防止機能の両方に優れた電子写真感光体を提供するこ
とにある。
、その目的とするところは、感光特性に悪影響を与える
ことなく、しかも、−吹酸化劣化防止機能、二次酸化劣
化防止機能の両方に優れた電子写真感光体を提供するこ
とにある。
く課題を解決するための手段および作用〉上記課題を解
決するための、本発明に係る電子写真感光体(以下「本
発明感光体」という)は、結着樹脂を含有する層のうち
の少なくとも一層に、下記一般式(I)、 (II)の
各式で表わされる化合物からなる群より選ばれた少なく
とも一種の化合物を含有することを特徴としている。
決するための、本発明に係る電子写真感光体(以下「本
発明感光体」という)は、結着樹脂を含有する層のうち
の少なくとも一層に、下記一般式(I)、 (II)の
各式で表わされる化合物からなる群より選ばれた少なく
とも一種の化合物を含有することを特徴としている。
上記構成からなる、本発明感光体においては、一般式m
で表わされる化合物(以下「特定化合物(I)」という
)、および、一般式(I)で表わされる化合物(以下「
特定化合物(If) Jという)が、何れも、ヒンダー
ドフェノールに相当する部分と、有機燐化合物に相当す
る部分とを一分子中に備えているので、結着樹脂を含む
層中に含有させた際に、画部分が相殺される虞がない。
で表わされる化合物(以下「特定化合物(I)」という
)、および、一般式(I)で表わされる化合物(以下「
特定化合物(If) Jという)が、何れも、ヒンダー
ドフェノールに相当する部分と、有機燐化合物に相当す
る部分とを一分子中に備えているので、結着樹脂を含む
層中に含有させた際に、画部分が相殺される虞がない。
また、層中に含有された上記特定化合物(肌(1)にお
いては、ヒンダードフェノールに相当する部分が、直接
酸化により発生する遊離基を捕捉して、酸化反応の連鎖
を停止し、有機燐化合物に相当する部分が、発生した過
酸化物を分解するので、これら特定化合物(1)および
/または特定化合物(II)が含有された層を有する本
発明感光体は、−吹酸化劣化防止機能、二次酸化劣化防
止機能の両方に優れたものとなる。また、特定化合物m
、 (I)は感光体の感光特性に悪影響を与えることが
ない。
いては、ヒンダードフェノールに相当する部分が、直接
酸化により発生する遊離基を捕捉して、酸化反応の連鎖
を停止し、有機燐化合物に相当する部分が、発生した過
酸化物を分解するので、これら特定化合物(1)および
/または特定化合物(II)が含有された層を有する本
発明感光体は、−吹酸化劣化防止機能、二次酸化劣化防
止機能の両方に優れたものとなる。また、特定化合物m
、 (I)は感光体の感光特性に悪影響を与えることが
ない。
α下、本発明の詳細な説明する。
本発明感光体に含有される特定化合物のうち、特定化合
物(I)は、例えば、下式(2)で表わされる3、4,
5.6−ジベンゾ1.2−オキサフォスフアン−2−オ
キサイド(以下[DBOPOJという)と、一般式■で
表わされるヒンダードフェノール類とを反応させること
で製造される。
物(I)は、例えば、下式(2)で表わされる3、4,
5.6−ジベンゾ1.2−オキサフォスフアン−2−オ
キサイド(以下[DBOPOJという)と、一般式■で
表わされるヒンダードフェノール類とを反応させること
で製造される。
なお、両者の反応は、DBOPO中のP−H結合と、式
■の化合物中のメチル基側のOH基との脱水縮合反応で
ある。
■の化合物中のメチル基側のOH基との脱水縮合反応で
ある。
また、特定化合物(If)は、例えば、上記DROPO
と、下記一般弐Mで表わされるヒンダードフェノール類
とを反応させることで製造される。
と、下記一般弐Mで表わされるヒンダードフェノール類
とを反応させることで製造される。
なお、両者の反応は、DBOPO中のP−H結合と、式
Mの化合物中のCH=CHzとの付加反応である。
Mの化合物中のCH=CHzとの付加反応である。
上記特定化合物(1)、 [I[)の、結着樹脂を含む
層への含有量は、層中の結着樹脂の固形分100重量部
に対して0.1〜50flf m部の範囲内であること
が好ましく、1〜20重量部の範囲内であることがより
好ましい。結着樹脂の固形分100重量部に対する特定
化合物の含有量が0.1重量部未満では、電子写真感光
体の一次酸化防止機能および二次酸化防11−機能が共
に十分でなく、50重量部を超えると、残留電位、半減
露光量等の感光特性、耐摩耗性等の物性などに悪影響を
及ぼすからである。
層への含有量は、層中の結着樹脂の固形分100重量部
に対して0.1〜50flf m部の範囲内であること
が好ましく、1〜20重量部の範囲内であることがより
好ましい。結着樹脂の固形分100重量部に対する特定
化合物の含有量が0.1重量部未満では、電子写真感光
体の一次酸化防止機能および二次酸化防11−機能が共
に十分でなく、50重量部を超えると、残留電位、半減
露光量等の感光特性、耐摩耗性等の物性などに悪影響を
及ぼすからである。
本発明感光体は、従来公知の種々の層構成の積層型感光
体に適用することができ、特定化合物(I)。
体に適用することができ、特定化合物(I)。
(I)が含有される、粘性樹脂を含む層とは、例えば次
のごとき、電子写真感光体の層を意味する。
のごとき、電子写真感光体の層を意味する。
■ 半導体材料からなる感光層上、または有機感光層、
Lに形成された表面保護層。
Lに形成された表面保護層。
■ 電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有する単層型の
有機感光層。
有機感光層。
■ 電荷発生層と電荷輸送層とからなる積層型の有機感
光層の何れかの層。
光層の何れかの層。
■ 半導体材料からなる電荷発生層と有機の電荷輸送層
とが積層された複合型の感光層における該電荷輸送層。
とが積層された複合型の感光層における該電荷輸送層。
前記各層に含まれる結着樹脂としては、熱硬化性シリコ
ーン樹脂;エポキシ樹脂;ポリウレタン樹脂;硬化性ア
クリル樹脂;アルキッド樹脂:不飽和ポリエステル樹脂
;ジアリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂
;ベンゾグアナミン樹脂;メラミン樹脂;スチレン系重
合体ニアクリル系重合体;スチレン−アクリル系共重合
体;ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩
素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー等の
オレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル;塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;飽和ポリエステル
;ポリアミド:熱可塑性ポリウレタン樹脂;ポリカーボ
ネート;ボリアリレート;ポリスルホン:ケトン樹脂;
ポリビニルブチラール樹脂;ポリエーテル樹脂が例示さ
れ、特に、オルガノポリシロキサンの縮合物を主成分と
する、熱硬化性シリコーン樹脂が好ましく使用される。
ーン樹脂;エポキシ樹脂;ポリウレタン樹脂;硬化性ア
クリル樹脂;アルキッド樹脂:不飽和ポリエステル樹脂
;ジアリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂
;ベンゾグアナミン樹脂;メラミン樹脂;スチレン系重
合体ニアクリル系重合体;スチレン−アクリル系共重合
体;ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩
素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマー等の
オレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル;塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;飽和ポリエステル
;ポリアミド:熱可塑性ポリウレタン樹脂;ポリカーボ
ネート;ボリアリレート;ポリスルホン:ケトン樹脂;
ポリビニルブチラール樹脂;ポリエーテル樹脂が例示さ
れ、特に、オルガノポリシロキサンの縮合物を主成分と
する、熱硬化性シリコーン樹脂が好ましく使用される。
また、上記各層中には、ターフェニル、ハロナフトキノ
ン類、アセナフチレン等従来公知の増感剤; 9− (
N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カル
バゾリルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;光
安定剤、紫外線吸収剤等の劣化防止剤;可塑剤など、特
定化合物以外の種々の添加剤を含有させることができる
。
ン類、アセナフチレン等従来公知の増感剤; 9− (
N、N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カル
バゾリルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;光
安定剤、紫外線吸収剤等の劣化防止剤;可塑剤など、特
定化合物以外の種々の添加剤を含有させることができる
。
なお、本発明感光体は、添加剤以外の構成については、
従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とすることが
できる。
従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とすることが
できる。
まず、導電性基材について述べる。
導電性基材は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
また、上記導7u性基材は、全体を金属などの導電性材
料で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造
材料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
料で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造
材料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
なお、前者の構造を有する導電性基材において使用され
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
一方、後者の構造としては、合成樹脂成形品またはガラ
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネートされた構造、」二記合成樹脂成形品やガラス基材
の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造が例
示される。
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネートされた構造、」二記合成樹脂成形品やガラス基材
の表面に、導電性を付与する物質が注入された構造が例
示される。
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカシブリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
次に、導電性基村上に形成される感光層について述べる
。
。
感光層は、前述したように、半導体材料や有機材料、ま
たはこれらの複合材料からなる構成のものが使用できる
。
たはこれらの複合材料からなる構成のものが使用できる
。
複合型感光層において電荷発生層として用いられると共
に、単独でも感光層を形成し得る半導体材料としては、
例えばα−5、a Asz 5113 、a%AsT
e等のアモルファスカルコゲン化物やアモルファスシリ
コン(α−5t)が挙げられる。上記半導体材料からな
る感光層または電荷発生層は、真空蒸着法、グロー放電
分解法等の公知の薄膜形成方法によって形成することが
できる。
に、単独でも感光層を形成し得る半導体材料としては、
例えばα−5、a Asz 5113 、a%AsT
e等のアモルファスカルコゲン化物やアモルファスシリ
コン(α−5t)が挙げられる。上記半導体材料からな
る感光層または電荷発生層は、真空蒸着法、グロー放電
分解法等の公知の薄膜形成方法によって形成することが
できる。
積層型の有機感光層における電荷発生層および単層型の
有機感光層に使用される、有機または無機の電荷発生材
料としては、例えば前記半導体材料の粉末;Zr+0.
CdS等のII−Vll機微結晶ビリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物:フタ口シアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物ニトリフェニルメタン系化合物:スレン系化合
物:トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が挙げられる
。
有機感光層に使用される、有機または無機の電荷発生材
料としては、例えば前記半導体材料の粉末;Zr+0.
CdS等のII−Vll機微結晶ビリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物:フタ口シアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物ニトリフェニルメタン系化合物:スレン系化合
物:トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が挙げられる
。
そして、上記化合物の中でも、フタロシアニン系化合物
に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶型を有する
アルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、メタ
ルフリーフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等が
好ましく用いられ、特に、上記メタルフリーフタロシア
ニンおよび/またはチタニルフタロシアニンがより好ま
しく用いられる。なお、上記電荷発生材料は、それぞれ
単独で用いられる他、複数種を併用することもできる。
に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶型を有する
アルミニウムフタロシアニン、銅フタロシアニン、メタ
ルフリーフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等が
好ましく用いられ、特に、上記メタルフリーフタロシア
ニンおよび/またはチタニルフタロシアニンがより好ま
しく用いられる。なお、上記電荷発生材料は、それぞれ
単独で用いられる他、複数種を併用することもできる。
積層型の有機感光層または複合型の感光層における電荷
輸送層、単層型の有機感光層に使用される電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン、 2.4.7
−ドリニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化
合物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水
コハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;
トリフェニルメタン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等
のオキサジアゾール系化合物;9−(4−ジエチルアミ
ノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ
−N−ビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物;
1−フ工ニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン等のピラゾリン系化合物;4,4°、4“−ト
リス(N、N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン
等のアミン誘導体、 1.1−ビス(4−ジエチルアミ
ノフェニル’)−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジ
ェン等のJ(役不飽和化合物; 4− (N、N−ジエ
チルアミノ)ベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒ
ドラゾン等のヒドラゾン系化合物;インドール系化合物
、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、
チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダ
ゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピラゾリン系化
合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化合物;縮
合多環族化合物が挙げられる。
輸送層、単層型の有機感光層に使用される電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン、 2.4.7
−ドリニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化
合物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水
コハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;
トリフェニルメタン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチ
ルアミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等
のオキサジアゾール系化合物;9−(4−ジエチルアミ
ノスチリル)アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ
−N−ビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物;
1−フ工ニル−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピ
ラゾリン等のピラゾリン系化合物;4,4°、4“−ト
リス(N、N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン
等のアミン誘導体、 1.1−ビス(4−ジエチルアミ
ノフェニル’)−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジ
ェン等のJ(役不飽和化合物; 4− (N、N−ジエ
チルアミノ)ベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒ
ドラゾン等のヒドラゾン系化合物;インドール系化合物
、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、
チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダ
ゾール系化合物、ピラゾール系化合物、ピラゾリン系化
合物、トリアゾール系化合物等の含窒素環式化合物;縮
合多環族化合物が挙げられる。
上記電荷輸送材料も単独で、あるいは、複数種併用して
用いることができる。なお、上記電荷輸送材料の中でも
、前記ポリ−N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有
する高分子材料は、感光層の結着樹脂としても使用する
ことができる。
用いることができる。なお、上記電荷輸送材料の中でも
、前記ポリ−N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有
する高分子材料は、感光層の結着樹脂としても使用する
ことができる。
単層型の有機感光層における、結着樹脂100重量部に
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重口部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が2
0重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量部
を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られな(なる
からである。
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重口部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が2
0重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量部
を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られな(なる
からである。
上記単層型感光層は、適宜の厚みに形成できるが、通常
は、1O−50Ill、特ニ15〜25/l/lの範囲
内に形成されることが好ましい。
は、1O−50Ill、特ニ15〜25/l/lの範囲
内に形成されることが好ましい。
一方、積層型の有機感光層を構成する層のうち、電荷発
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
か低下するからである。
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
か低下するからである。
上記電荷発生層の膜厚は、0.01〜・3μm1特に0
.1〜2μ層の範囲内であることが好ましい。
.1〜2μ層の範囲内であることが好ましい。
また、積層型の有機感光層および複合型感光層を構成す
る層のうち、電荷輸送層における、結芒樹脂100屯量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、lO〜500蚤
足部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満では電
荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するからである。
る層のうち、電荷輸送層における、結芒樹脂100屯量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、lO〜500蚤
足部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満では電
荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するからである。
上記電荷輸送層の膜厚は、2〜IOθμ■、特に5〜3
0pの範囲内であることが好ましい。
0pの範囲内であることが好ましい。
次に、表面保護層について述べる。
表面保護層は、前記例示の結着樹脂を主成分とし、その
他必要に応じて、導電性付与剤;ベンゾフェノン系紫外
線吸収剤等の添加剤を適宜m含有させることができる。
他必要に応じて、導電性付与剤;ベンゾフェノン系紫外
線吸収剤等の添加剤を適宜m含有させることができる。
上記表面保護層の膜厚は、0゜1〜lO声、特に2〜5
μ■の範囲内であることが好ましい。
μ■の範囲内であることが好ましい。
以上に説明した、単層型や積層型の有機感光層、複合型
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
1凋整し、これら塗布液を、前述1.た層構成を形成し
得るように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、乾燥
または硬化させることで積層形成することができる。
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
1凋整し、これら塗布液を、前述1.た層構成を形成し
得るように、各層毎に順次導電性基材上に塗布し、乾燥
または硬化させることで積層形成することができる。
なお、上記塗布液の1凋製に際しては、使用される結着
樹脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができ
る。上記溶剤としては、n−ヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、
トルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化
炭素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭
化水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノ
ール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジ
アセトンアルコール等のアルコール類ニジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホル
ムアミド;ジメチルスルホキシド等、種々の溶剤が挙げ
られ、これらが一種または二種以上混合して用いられる
。また、上記塗布液を調整する際、分散性、塗工性等を
向」ニさせるため、界面活性剤やレベリング剤等を併用
してし良い。
樹脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができ
る。上記溶剤としては、n−ヘキサン、オクタン、シク
ロヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、
トルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化
炭素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭
化水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノ
ール、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジ
アセトンアルコール等のアルコール類ニジメチルエーテ
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレン
グリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル
等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチ
ルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
酢酸エチル、酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホル
ムアミド;ジメチルスルホキシド等、種々の溶剤が挙げ
られ、これらが一種または二種以上混合して用いられる
。また、上記塗布液を調整する際、分散性、塗工性等を
向」ニさせるため、界面活性剤やレベリング剤等を併用
してし良い。
また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
塗布液の塗布方法としては、デイツプコーティング法(
浸漬法)、スプレーコーティング法、スピンコーティン
グ法、ローラーコーティング法、ブレードコーティング
法、カーテンコーティング法、バーコーティング法等、
従来慣用されている種々のコーティング法を挙げること
ができる。
浸漬法)、スプレーコーティング法、スピンコーティン
グ法、ローラーコーティング法、ブレードコーティング
法、カーテンコーティング法、バーコーティング法等、
従来慣用されている種々のコーティング法を挙げること
ができる。
〈実施例〉
以下に、実施例に基づき、本発明をより詳細に説明する
。
。
特定化合物の作製
・特定化合物(1)の作製
不活性溶媒中に、弐圓で表わされるDBOPO(三元化
学社製、商品名HCA )を加えたのち、液温を50〜
80℃に保ちつつ攪拌して溶液を作製した。
学社製、商品名HCA )を加えたのち、液温を50〜
80℃に保ちつつ攪拌して溶液を作製した。
次にこの溶液に、一般弐Nにおいて、R,、R2が共に
t−ブチル基であるヒンダードフェノール類(シェル化
学社製、商品名1nox 100)を徐々に添加しく添
加量はDBOPO1モルに対しヒンダードフェノール類
1モル)、添加終了後、液温を100〜130℃に保ち
つつ1.5〜3時間反応させた。
t−ブチル基であるヒンダードフェノール類(シェル化
学社製、商品名1nox 100)を徐々に添加しく添
加量はDBOPO1モルに対しヒンダードフェノール類
1モル)、添加終了後、液温を100〜130℃に保ち
つつ1.5〜3時間反応させた。
そして、反応終了後、反応液を冷却して反応生成物を析
出させ、濾別、洗浄、乾燥の工程を経て、特定化合物(
IJを得た。
出させ、濾別、洗浄、乾燥の工程を経て、特定化合物(
IJを得た。
・特定化合物(It)の作製
DBOPOと反応させる化合物として、一般式ヘクにお
いて、RIがt−ブチル基であるヒンダードフェノール
類(住友化学社製、商品名SusillzerCM)を
用いたこと以外は、上記と同様にして、特定化合物(I
f)を得た。
いて、RIがt−ブチル基であるヒンダードフェノール
類(住友化学社製、商品名SusillzerCM)を
用いたこと以外は、上記と同様にして、特定化合物(I
f)を得た。
実施例1
ボリアリレート(ユニチカ社製、商品名U−100)1
00重量部、4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズア
ルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン100重量部
および塩化メチレン(CR2C22) 900重量部か
らなる電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗布液を、浸
漬法によって外径78mmx長さ340mmのアルミニ
ウム管上に塗布した後、100℃で30分間加熱乾燥さ
せて、膜厚20声の電荷輸送層を形成した。
00重量部、4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズア
ルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン100重量部
および塩化メチレン(CR2C22) 900重量部か
らなる電荷輸送層用塗布液を調製し、この塗布液を、浸
漬法によって外径78mmx長さ340mmのアルミニ
ウム管上に塗布した後、100℃で30分間加熱乾燥さ
せて、膜厚20声の電荷輸送層を形成した。
次に、」L記電荷輸送層上に、2.7−ジブロモアンサ
ンスロン(IC1社製) 80重量部、メタルフリーフ
タロシアニン(BASF社り20重量部、ポリ酢酸ビニ
ル(日本合成化学社製、商品名YS−N)50重量部お
よびジアセトンアルコール2000重量部からなる電荷
発生層用塗布液を浸漬法によって塗布し、上記と同様の
条件で乾燥させて、膜厚0.5μ■の電荷発生層を形成
した。
ンスロン(IC1社製) 80重量部、メタルフリーフ
タロシアニン(BASF社り20重量部、ポリ酢酸ビニ
ル(日本合成化学社製、商品名YS−N)50重量部お
よびジアセトンアルコール2000重量部からなる電荷
発生層用塗布液を浸漬法によって塗布し、上記と同様の
条件で乾燥させて、膜厚0.5μ■の電荷発生層を形成
した。
そして、メチルトリメトキシシラン80重量%とグリシ
ドキシメチルトリメトキシシラン20重量%との混合物
(東芝シリコーン社製、商品名トスガード510 )
100重量部、導電性付与剤としてのアンチモンドープ
酸化スズ微粉末(住友セメント社製)50重量部、硬化
剤としてのトリエチルアミン1重量部、溶剤としてのイ
ソプロピルアルコール300重量部、および、前記特定
化合物[10重量部からなる表面保護層用塗布液を、浸
漬法によって上記電荷発生層上に塗布し、110℃で1
時間加熱硬化させて、膜厚2,5声のシリコーン樹脂製
表面保護層を形成し、複層型感光層を有するドラム型の
電子写真感光体を作製した。
ドキシメチルトリメトキシシラン20重量%との混合物
(東芝シリコーン社製、商品名トスガード510 )
100重量部、導電性付与剤としてのアンチモンドープ
酸化スズ微粉末(住友セメント社製)50重量部、硬化
剤としてのトリエチルアミン1重量部、溶剤としてのイ
ソプロピルアルコール300重量部、および、前記特定
化合物[10重量部からなる表面保護層用塗布液を、浸
漬法によって上記電荷発生層上に塗布し、110℃で1
時間加熱硬化させて、膜厚2,5声のシリコーン樹脂製
表面保護層を形成し、複層型感光層を有するドラム型の
電子写真感光体を作製した。
実施例2
特定化合物(1)10重量部に代えて、前記特定化合物
(Illto重量部を用いたこと以外は、前記実施例1
と同様にして、電子写真感光体を作製した。
(Illto重量部を用いたこと以外は、前記実施例1
と同様にして、電子写真感光体を作製した。
比較例1
特定化合物(1)to!Ti瓜部に代えて、前記一般弐
湖において、R,、R2が共にt−ブチル話であるヒン
ダードフェノール類(シェル化学社製、商品名Inox
100) 10重量部を用いたこと以外は、前記実施
例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
湖において、R,、R2が共にt−ブチル話であるヒン
ダードフェノール類(シェル化学社製、商品名Inox
100) 10重量部を用いたこと以外は、前記実施
例1と同様にして、電子写真感光体を作製した。
比較例2
特定化合物(1)10重量部に代えて、前記一般弐Mに
おいて、RIがt−ブチル基であるヒンダードフェノー
ル類(住友化学社製、商品名5u11izer GM)
10匝量部を用いたこと以外は、前記実施例1と同様に
して、電子写真感光体を作製した。
おいて、RIがt−ブチル基であるヒンダードフェノー
ル類(住友化学社製、商品名5u11izer GM)
10匝量部を用いたこと以外は、前記実施例1と同様に
して、電子写真感光体を作製した。
比較例3
特定化合物(1310重量部を配合しなかったこと以外
は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製
した。
は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製
した。
比較例4
特定化合物[1)10重皿部に代えて、前記式圓で表わ
されるDBOPO(三元化学社製1商品名+1cA )
10重量部を用いたこと以外は、前記実施例1と同様に
して、電子写真感光体を作製した。
されるDBOPO(三元化学社製1商品名+1cA )
10重量部を用いたこと以外は、前記実施例1と同様に
して、電子写真感光体を作製した。
実施例3
特定化合物(11の配合量を0.1重量部としたこと以
外は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作
製した。
外は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作
製した。
実施例4
特定化合物(I)の配合量を50重量部としたこと以外
は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製
した。
は、前記実施例1と同様にして、電子写真感光体を作製
した。
上記各実施例および各比較例で作製した電子写真感光体
について、下記の各試験を行った。
について、下記の各試験を行った。
表面電位測定
上記各電子写真感光体を、静電複写試験装置(ジエンチ
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V + s、p
、(V)を測定した。
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V + s、p
、(V)を測定した。
半減露光量、残留電位測定
上記帯電状態の各電子写真感光体を、静電複写試験装置
の露光光源であるハロゲンランプを用いて、露光強度0
゜92mW/cjの条件で露光し、前記表面電位VIS
、p、がL/2となるまでの時間を求め、半減露光量E
l/2(μJ/−)を算出した。
の露光光源であるハロゲンランプを用いて、露光強度0
゜92mW/cjの条件で露光し、前記表面電位VIS
、p、がL/2となるまでの時間を求め、半減露光量E
l/2(μJ/−)を算出した。
また、上記露光強度での、露光時間60m5ee、の露
光後、露光開始時より0.4秒経過時の表面電位を、残
留電位V r、p、(V)として測定した。
光後、露光開始時より0.4秒経過時の表面電位を、残
留電位V r、p、(V)として測定した。
繰返し露光後の表面電位変化A―j定
上記各電子写真感光体を複写機(三田工業社製。
1)C−111型va)に装填して5QO枚の複写処理
を行った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位■2
s、p、mとして測定した。
を行った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位■2
s、p、mとして測定した。
また、前記V13.p、値とV2S、p、値との差を、
表面電位変化値Δv(v)として算出した。
表面電位変化値Δv(v)として算出した。
光照射後の表面電位変化測定
上記各電子写真感光体を、白色蛍光灯を用いて1.0Q
QLux 、 10分間の条件で光照射し、30秒間静
置した後、各電子写真感光体の表面電位を、光照射後の
表面電位vPとしてハ1定した。また、前記V1s、p
、値とVP値との差を、光照射後の表面電位変化値ΔV
P mとして算出した。
QLux 、 10分間の条件で光照射し、30秒間静
置した後、各電子写真感光体の表面電位を、光照射後の
表面電位vPとしてハ1定した。また、前記V1s、p
、値とVP値との差を、光照射後の表面電位変化値ΔV
P mとして算出した。
以上の結果を表に示す。
(以下余白)
手続補正書(自発)
平成2年 2月 L日
昭和63年特許願第299218号
2、 発明の名称
電子写真感光体
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住所 〒540大阪市中央区玉造1丁目2番28号(行
政区画変更に伴う住所変更) 4、補正命令の日付 自発 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 行に 「2〜5」 とあるのを、 r1〜5j と訂正する。
政区画変更に伴う住所変更) 4、補正命令の日付 自発 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄 6、補正の内容 行に 「2〜5」 とあるのを、 r1〜5j と訂正する。
(2)明細書の第21頁第17行に
rYs−N。
とあるのを、
Y5−NJ
と訂正する。
(3)明細書の第22頁第2行乃至4行に「メチルトリ
メトキシシラン80重量%とグリシドキシメチルトリメ
トキシシラン20重量%との混合物」 とあるのを、 「熱硬化性シリコーン樹脂A と訂正する。
メトキシシラン80重量%とグリシドキシメチルトリメ
トキシシラン20重量%との混合物」 とあるのを、 「熱硬化性シリコーン樹脂A と訂正する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、結着樹脂を含有する層のうちの少なく とも一層に、下記一般式( I )、(II)の各式で表わ
される化合物からなる群より選ばれ た少なくとも一種の化合物を含有するこ とを特徴とする電子写真感光体。 ▲数式、化学式、表等があります▼…( I ) 但し、上記式( I )、(II)中、R_1、R_2は、
各独立してメチル基またはを−ブチ ル基を表わす。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29921888A JP2690761B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29921888A JP2690761B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02144544A true JPH02144544A (ja) | 1990-06-04 |
JP2690761B2 JP2690761B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=17869683
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29921888A Expired - Lifetime JP2690761B2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2690761B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109306044A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 郑州大学 | 一种低极性本征阻燃树脂及其制备方法和应用 |
CN109306040A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种热固性树脂组合物、由其制作的半固化片、覆金属箔层压板及高频电路板 |
CN109306039A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种热固性树脂组合物、由其制作的半固化片、覆金属箔层压板及高频电路板 |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP29921888A patent/JP2690761B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109306044A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 郑州大学 | 一种低极性本征阻燃树脂及其制备方法和应用 |
CN109306040A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种热固性树脂组合物、由其制作的半固化片、覆金属箔层压板及高频电路板 |
CN109306039A (zh) * | 2017-07-26 | 2019-02-05 | 广东生益科技股份有限公司 | 一种热固性树脂组合物、由其制作的半固化片、覆金属箔层压板及高频电路板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2690761B2 (ja) | 1997-12-17 |
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