JPH03139655A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、電子写真感光体に関し、より詳しくは、感
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。
〈従来の技術〉
いわゆる、カールソンプロセスを利用した複写機等の画
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
電子写真感光体、とくに有機感光体においては、画像形
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
かかる表面保護層としては、物理的安定性と硬度の高さ
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、従来から使用されているシリコーン樹脂
は、硬度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は、
耐衝撃性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題
があった。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結
着性が低いという問題があった。
は、硬度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は、
耐衝撃性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題
があった。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結
着性が低いという問題があった。
この発明はこれらの問題に鑑みてなされたものであって
、感光層との結着性が高く、月つ機械的強度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
、感光層との結着性が高く、月つ機械的強度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
く課題を解決するための手段および作用〉上記問題を解
決するためのこの発明にかかる電(式中、R1は炭素数
6以下のアルキレン基、R2は炭素数が4以下のアルキ
ル基、R3は一0R2で表される基または炭素数が4以
下のアルキル基を示す)で表されるアルコキンシラン化
合物のオリゴマーの塗布液を感光層上に塗布し、硬化さ
せてなる表面保護層を感光層上に有することを特徴とす
る 炭素数6以下のアルキレン基としては、例えばメチレン
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2,2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直鎖または分
岐アルキレン基があげられる。
決するためのこの発明にかかる電(式中、R1は炭素数
6以下のアルキレン基、R2は炭素数が4以下のアルキ
ル基、R3は一0R2で表される基または炭素数が4以
下のアルキル基を示す)で表されるアルコキンシラン化
合物のオリゴマーの塗布液を感光層上に塗布し、硬化さ
せてなる表面保護層を感光層上に有することを特徴とす
る 炭素数6以下のアルキレン基としては、例えばメチレン
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2,2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等の直鎖または分
岐アルキレン基があげられる。
炭素数4以下のアルキル基としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチル等の直鎖または分岐アルキル基があげら
れる。
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチル等の直鎖または分岐アルキル基があげら
れる。
前記一般式(Ilで表される化合物は、一端にエポキシ
基を有するアルコキシシラン化合物であり、これをオリ
ゴマー化してつくった塗布液を感光層の表面に塗布し、
重縮合させることにより、表面保護層が得られる。
基を有するアルコキシシラン化合物であり、これをオリ
ゴマー化してつくった塗布液を感光層の表面に塗布し、
重縮合させることにより、表面保護層が得られる。
上記オリゴマー化は、モノマーであるアルコキシシラン
化合物を使用した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒および加水分解用の水の存在下で行う。
化合物を使用した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒および加水分解用の水の存在下で行う。
触媒としては、硫酸、塩酸、p−)ルエンスルホン酸な
どの酸触媒があげられる。触媒の配合量は、アルコキシ
シラン化合物100重量部に対して0.1〜3重量部で
あるのが適当である。また、上記加水分解用の水の配合
量は、アルコキシシラン化合物100重量部に対して5
〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを得る上で好
ましい。
どの酸触媒があげられる。触媒の配合量は、アルコキシ
シラン化合物100重量部に対して0.1〜3重量部で
あるのが適当である。また、上記加水分解用の水の配合
量は、アルコキシシラン化合物100重量部に対して5
〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを得る上で好
ましい。
オリゴマー化反応に使用する溶媒としては、例えばメチ
ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、プロピルアルコールなどのアルコール;n−へキ
サン、オクタン、シクロへキサン等の脂肪族炭化水素;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエ
ーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノン等のケトン類;ジメチルホルムアミ
ド;ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これらは単独
でまたは2種以上を混合して使用される。
ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、プロピルアルコールなどのアルコール;n−へキ
サン、オクタン、シクロへキサン等の脂肪族炭化水素;
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素;ジ
クロロメタン、ジクロロエタン、四塩化炭素、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジメチルエーテル、ジ
エチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコ
ールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエ
ーテル等のエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン
、シクロヘキサノン等のケトン類;ジメチルホルムアミ
ド;ジメチルスルホキシド等が挙げられ、これらは単独
でまたは2種以上を混合して使用される。
また、得られるオリゴマーは重合度が5〜10程度のも
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
粘度低下により塗布作業が困難になり、かつ成膜性に劣
ったものになり、逆に重合度がこの範囲よりも大なると
きは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣ったも
のになり、いずれも好ましくない。
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
粘度低下により塗布作業が困難になり、かつ成膜性に劣
ったものになり、逆に重合度がこの範囲よりも大なると
きは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣ったも
のになり、いずれも好ましくない。
このオリゴマーは、前記一般式(I)で表されるアルコ
キシシラン化合物が少なくとも三官能性基(すなわち、
1つのエポキシ基と少なくとも2つのアルコキシ基)を
有するため、三次元的に広がった構造を有する。すなわ
ち、アルコキシシラン化合物のうち、アルコキシ基が加
水分解されてシラノール(S 1−0H)が形成され、
これが縮合しシロキサン結合(Si−0−5t)が形成
され、さらにエポキシ基の一部も開環、重合する。
キシシラン化合物が少なくとも三官能性基(すなわち、
1つのエポキシ基と少なくとも2つのアルコキシ基)を
有するため、三次元的に広がった構造を有する。すなわ
ち、アルコキシシラン化合物のうち、アルコキシ基が加
水分解されてシラノール(S 1−0H)が形成され、
これが縮合しシロキサン結合(Si−0−5t)が形成
され、さらにエポキシ基の一部も開環、重合する。
これにより、シリコーンオリゴマーは粘度(分子量)が
増大するため、これを溶媒で適度に希釈して塗布液を調
製する。
増大するため、これを溶媒で適度に希釈して塗布液を調
製する。
このオリゴマーを含有する塗布液を塗布して加熱硬化さ
せた表面保護層は、接着性および機械的強度(耐磨耗性
など)にすぐれているという利点がある。塗膜の接着性
向上は、エポキシ基の開環によって形成された水酸基が
感光層表面に存在するアミノ基、水酸基等の極性基と結
合または水素結合するためと考えられる。機械的強度の
向上は、上記シロキサン結合に基づくものである。
せた表面保護層は、接着性および機械的強度(耐磨耗性
など)にすぐれているという利点がある。塗膜の接着性
向上は、エポキシ基の開環によって形成された水酸基が
感光層表面に存在するアミノ基、水酸基等の極性基と結
合または水素結合するためと考えられる。機械的強度の
向上は、上記シロキサン結合に基づくものである。
上記オリゴマーの重縮合には、通常の重縮合触媒(例え
ば1.8−ジアザビシクロ[5,4,O)ウンデセン−
7(DBU)など)を使用することができる。
ば1.8−ジアザビシクロ[5,4,O)ウンデセン−
7(DBU)など)を使用することができる。
上記表面保護層の膜厚は、0.1〜10μの、なかんづ
く2〜5μmの範囲であるのが好ましい。
く2〜5μmの範囲であるのが好ましい。
上記表面保護層には、画像形成プロセスにおける感光層
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シシラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子の
コロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し
、硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が
導電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設け
るのが好ましい。
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シシラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子の
コロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し
、硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が
導電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設け
るのが好ましい。
上記導電性付与剤としては、酸化スズ、酸化チタン、酸
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化によって表面保護層中に分散されるが、微粒子
の状態では凝集し易く、塗布液中に均一に分散させるた
めに長時間の攪拌が必要となるため、前述したように、
コロイド溶液の状態で、塗布液中に混和させることが好
ましい。上記コロイド溶液においては、導電性金属酸化
物の微粒子は、それぞれの持つ表面電荷によって互いに
反発して、塗布液中における凝集が防止゛されるので、
短時間の攪拌、混合により、塗布液中に均一に分散きせ
ることかできる。
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化によって表面保護層中に分散されるが、微粒子
の状態では凝集し易く、塗布液中に均一に分散させるた
めに長時間の攪拌が必要となるため、前述したように、
コロイド溶液の状態で、塗布液中に混和させることが好
ましい。上記コロイド溶液においては、導電性金属酸化
物の微粒子は、それぞれの持つ表面電荷によって互いに
反発して、塗布液中における凝集が防止゛されるので、
短時間の攪拌、混合により、塗布液中に均一に分散きせ
ることかできる。
導電性金属酸化物粒子のコロイド溶液の製造方法は、導
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の有機溶媒とを
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のノ\ロゲン化水素に、エチレングリコール
に代表される1価或いは2価以上のアルコール、DMF
等の親水性有機溶媒および=−ヒドロキシカルボン酸を
加え、そこへ二酸化アンチモンを分散させた状態で、過
酸化水素水によって酸化させる方法(特開昭52−38
495号公報、特開昭52−38496号公報参照)等
により調製することができる。
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のノ\ロゲン化水素に、エチレングリコール
に代表される1価或いは2価以上のアルコール、DMF
等の親水性有機溶媒および=−ヒドロキシカルボン酸を
加え、そこへ二酸化アンチモンを分散させた状態で、過
酸化水素水によって酸化させる方法(特開昭52−38
495号公報、特開昭52−38496号公報参照)等
により調製することができる。
上記五酸化アンチモンコロイド溶液を調製するための分
散媒としては、下層の感光層を侵すことがないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
散媒としては、下層の感光層を侵すことがないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
また、酸化スズ(SnO5SnO等)と酸化アンチモン
(Sb O1Sb203等)との固溶体のコ5 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子1の表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触によりOH基を生じて負に帯電
することで、固溶体粒子の表面に電荷を持たせるように
なっている。
(Sb O1Sb203等)との固溶体のコ5 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子1の表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触によりOH基を生じて負に帯電
することで、固溶体粒子の表面に電荷を持たせるように
なっている。
上記酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子は、通常
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドー 0 プして形成されるもので、特に限定されないが、固溶体
粒子中におけるアンチモンの含有割合が0.001〜3
0重量%であることが好ましく、5〜20重量%である
ことがより好ましい。固溶体粒子中におけるアンチモン
の含有割合が0.001重量%未満の場合や、30重量
%を超えた場合には、十分な導電性が得られなくなる虞
がある。
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドー 0 プして形成されるもので、特に限定されないが、固溶体
粒子中におけるアンチモンの含有割合が0.001〜3
0重量%であることが好ましく、5〜20重量%である
ことがより好ましい。固溶体粒子中におけるアンチモン
の含有割合が0.001重量%未満の場合や、30重量
%を超えた場合には、十分な導電性が得られなくなる虞
がある。
また、上記固溶体粒子の粒径は特に限定されないが、1
0〜20nm程度であることが好ましい。
0〜20nm程度であることが好ましい。
固溶体粒子の粒径が10nm未満では、保護層の電気抵
抗が大となり、20nmを超えると、光透過率が悪くな
る。
抗が大となり、20nmを超えると、光透過率が悪くな
る。
固溶体粒子に対する酸化ケイ素の割合も特に限定されな
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶体粒子100重量部に対する
酸化ケイ素の割合が10重量部を超えた場合には、十分
な導電性が得られなくなる虞がある。
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶体粒子100重量部に対する
酸化ケイ素の割合が10重量部を超えた場合には、十分
な導電性が得られなくなる虞がある。
上記コロイド溶液を構成する分散媒としては、1
前述したように、酸化ケイ素を負に帯電させるために極
性溶媒が使用され、特に、保護層用塗布液との相溶性に
優れ、且つ下地層としての感光層を侵す虞のないメチル
アルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のア
ルコール類が好適に使用される。
性溶媒が使用され、特に、保護層用塗布液との相溶性に
優れ、且つ下地層としての感光層を侵す虞のないメチル
アルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等のア
ルコール類が好適に使用される。
上記表面保護層を構成する結着樹脂には、膜の特性を損
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
前記以外の他の結着樹脂としては、例えば硬化性アクリ
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体;アクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アイオノマー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビ
ニル;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリ2 酢酸ビニル;飽和ポリエステル;ポリアミド;熱可塑性
ポリウレタン樹脂;ポリカーボネート;ボリアリレート
;ポリスルホン;ケトン樹脂;ポリビニルブチラール樹
脂:ポリエーテル樹脂が例示される。
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体;アクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、アイオノマー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビ
ニル;塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体;ポリ2 酢酸ビニル;飽和ポリエステル;ポリアミド;熱可塑性
ポリウレタン樹脂;ポリカーボネート;ボリアリレート
;ポリスルホン;ケトン樹脂;ポリビニルブチラール樹
脂:ポリエーテル樹脂が例示される。
上記表面保護層には、ターフェニル、ハロナフトキノン
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができ′る。
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができ′る。
なお、この発明感光体は、表面保護層以外の構成につい
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
まず、導電性基材について述べる。
導電性基材は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
3
また、上記導電性基材は、全体を金属などの導電性材料
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
なお、前者の構造を有する導電性基材において使用され
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
一方、後者の構造としては、合成樹脂製基材またはガラ
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネートされた構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の
表面(と、導電性を付与する物質が注入された構造4 が例示される。
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積層された構造、上記合成樹脂成形品
やガラス基材の表面に上記金属材料等のフィルムがラミ
ネートされた構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の
表面(と、導電性を付与する物質が注入された構造4 が例示される。
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
次に、導電性基材上に形成される感光層について述べる
。
。
感光層は、半導体材料や有機材料、またはこれらの複合
材料からなる下記構成のものが使用できる。
材料からなる下記構成のものが使用できる。
■ 半導体材料からなる単層型の感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有
する単層型の有機感光層。
する単層型の有機感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料を含有する電荷発生層と
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有機感光層。
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有機感光層。
■ 半導体材料からなる電荷発生層と、上記有機の電荷
輸送層とが積層された複合型の感光層。
輸送層とが積層された複合型の感光層。
複合型感光層において電荷発生層として用(洩られると
共に、単独でも感光層を形成できる半 5 導体材料としては、a−9eの他に、例えばaAS2
Ses 、a−3eAsTe等のアモルファスカルコゲ
ン化物やアモルファスシリコン(a−3L)が例示され
る。上記半導体材料からなる感光層または電荷発生層は
、真空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方
法によって形成することができる。
共に、単独でも感光層を形成できる半 5 導体材料としては、a−9eの他に、例えばaAS2
Ses 、a−3eAsTe等のアモルファスカルコゲ
ン化物やアモルファスシリコン(a−3L)が例示され
る。上記半導体材料からなる感光層または電荷発生層は
、真空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方
法によって形成することができる。
単層型または積層型の有機感光層における電荷発生層に
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末+ Zn O−、C
d S等のII−VI族機微結晶ピリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物;トリフェニルメタン系化合物;スレン系化合
物;トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が例示される
。そして、上記例示の化合物の中でも、フタロシアニン
系化合物に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶型
を有するアルミニウムフタロシアニン、6 銅フタロシアニン、メタルフリーフタロシアニン、オキ
ソチタニルフタロシアニン等が好ましく用いられ、特に
、上記メタルフリーフタロシアニンおよび/またはオキ
ソチタニルフタロシアニンがより好ましく用いられる。
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末+ Zn O−、C
d S等のII−VI族機微結晶ピリリウム塩;アゾ系
化合物;ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;
アンサンスロン系化合物;ペリレン系化合物;インジゴ
系化合物;トリフェニルメタン系化合物;スレン系化合
物;トルイジン系化合物;ピラゾリン系化合物;キナク
リドン系化合物;ピロロピロール系化合物が例示される
。そして、上記例示の化合物の中でも、フタロシアニン
系化合物に属する、α型、β型、γ型など種々の結晶型
を有するアルミニウムフタロシアニン、6 銅フタロシアニン、メタルフリーフタロシアニン、オキ
ソチタニルフタロシアニン等が好ましく用いられ、特に
、上記メタルフリーフタロシアニンおよび/またはオキ
ソチタニルフタロシアニンがより好ましく用いられる。
なお、上記電荷発生材料は、それぞれ単独で用いられる
他、複数種を併用しても良い。
他、複数種を併用しても良い。
また、上記単層型または積層型の有機感光層や、複合型
の感光層における電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン、2,4.7−
)リニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合
物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水コ
ハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;ト
リフェニルメタン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチル
アミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等の
オキサジアゾール系化合物;9−(4−ジチルアミノス
チリル)アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ−N
−ビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物;1−
フェニル−3−(p7 ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系
化合物、4.4’ 、4’−)リス(N、 Nジフェニ
ルアミノ)トリフェニルアミン等のアミン誘導体;1,
1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−4,4−ジ
フェニル−1,3−ブタジェン等の共役不飽和化合物;
4− (N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン系化合物
;インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオ
キサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾ
ール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化
合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系化合物等の
含窒素環式化合物;縮合多環族化合物が例示される。上
記電荷輸送材料も単独で、あるいは、複数種併用して用
いることができる。なお、上記電荷輸送材料の中でも、
前記ポリ−N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有す
る高分子材料は、感光層の結着樹脂としても使用するこ
とができる。
の感光層における電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン、2,4.7−
)リニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合
物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水コ
ハク酸;無水マレイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;ト
リフェニルメタン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチル
アミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール等の
オキサジアゾール系化合物;9−(4−ジチルアミノス
チリル)アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ−N
−ビニルカルバゾール等のカルバゾール系化合物;1−
フェニル−3−(p7 ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等のピラゾリン系
化合物、4.4’ 、4’−)リス(N、 Nジフェニ
ルアミノ)トリフェニルアミン等のアミン誘導体;1,
1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−4,4−ジ
フェニル−1,3−ブタジェン等の共役不飽和化合物;
4− (N、N−ジエチルアミノ)ベンズアルデヒド−
N、N−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン系化合物
;インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオ
キサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾ
ール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化
合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール系化合物等の
含窒素環式化合物;縮合多環族化合物が例示される。上
記電荷輸送材料も単独で、あるいは、複数種併用して用
いることができる。なお、上記電荷輸送材料の中でも、
前記ポリ−N−ビニルカルバゾール等の光導電性を有す
る高分子材料は、感光層の結着樹脂としても使用するこ
とができる。
また、前記単層型または積層型の有機感光層、8
複合型感光層における電荷輸送層などの層には、前記増
感剤、フルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤
等の劣化防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させること
ができる。
感剤、フルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤
等の劣化防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させること
ができる。
単層型の有機感光層における、結着樹脂100重量部に
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重量部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が2
0重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量部
を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られなくなる
からである。
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重量部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満では、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷発生材料が2
0重量部を超え、または、電荷輸送材料が200重量部
を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得られなくなる
からである。
上記単層型感光層は、適宜の厚みに形成できるが、通常
は、10〜50卯、特に15〜25μ山の範囲内に形成
されることが好ましい。
は、10〜50卯、特に15〜25μ山の範囲内に形成
されることが好ましい。
9
一方、積層型の有機感光層を構成する層のうち、電荷発
生層における、結着樹脂1. O0重量部に対する電荷
発生材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内1.
特に10〜250重量部の範囲内であることが好ましい
。電荷発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過
ぎ、500重量部を超えると隣接する他の層や基材との
密着性が低下するからである。
生層における、結着樹脂1. O0重量部に対する電荷
発生材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内1.
特に10〜250重量部の範囲内であることが好ましい
。電荷発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過
ぎ、500重量部を超えると隣接する他の層や基材との
密着性が低下するからである。
上記電荷発生層の膜厚は、0.01〜3μ山1特に0.
1〜2μDの範囲内であることが好ましい。
1〜2μDの範囲内であることが好ましい。
また、積層型の有機感光層および複合型感光層を構成す
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満では電
荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するがらである。
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜200重量部の範囲内である
ことが好ましい。電荷輸送材料が10重量部未満では電
荷輸送能が十分でなく、500重量部を超えると電荷輸
送層の機械的強度が低下するがらである。
上記電荷輸送層の膜厚は、2〜100μm1特に5〜3
011mの範囲内であることが好ましい。
011mの範囲内であることが好ましい。
0
以上に説明した、単層型や積層型の有機感光層、複合型
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基村上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基村上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着樹
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、1 エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエ
ステル類;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシ
ド等、種々の溶剤が例示され、これらが一種または二種
以上混合して用いられる。また、上記塗布液を調製する
際、分散性、塗工性等を向上させるため、界面活性剤や
レベリング剤等を併用しても良い。
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロ
ピルアルコール、アリルアルコール、シクロペンタノー
ル、ベンジルアルコール、フルフリルアルコール、ジア
セトンアルコール等のアルコール類;ジメチルエーテル
、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、1 エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル等のエーテル類;アセトン、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸メチル等のエ
ステル類;ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシ
ド等、種々の溶剤が例示され、これらが一種または二種
以上混合して用いられる。また、上記塗布液を調製する
際、分散性、塗工性等を向上させるため、界面活性剤や
レベリング剤等を併用しても良い。
また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
〈実施例〉
実施例1
感光層の形成
導電性基材としてアルミニウムドラム上に、積層型感光
層を形成した。すなわち、結着樹脂としてのボリアリレ
ート(ユニチカ社製、rU−102 0J)100重量部および電荷輸送材料としてのジエチ
ルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン100
重量部をジクロロメタン900重量部に攪拌混合して、
電荷輸送塗布液を調製し、アルミニウムドラム(径78
mm、長さ340 IIlm)に塗布し、90℃の温度
で、30分間熱風乾燥して硬化させることにより、膜厚
20μlの電荷輸送層を形成した。
層を形成した。すなわち、結着樹脂としてのボリアリレ
ート(ユニチカ社製、rU−102 0J)100重量部および電荷輸送材料としてのジエチ
ルアミノベンズアルデヒドジフェニルヒドラゾン100
重量部をジクロロメタン900重量部に攪拌混合して、
電荷輸送塗布液を調製し、アルミニウムドラム(径78
mm、長さ340 IIlm)に塗布し、90℃の温度
で、30分間熱風乾燥して硬化させることにより、膜厚
20μlの電荷輸送層を形成した。
次いで、結着樹脂としてポリ酢酸ビニル(日本合成化学
社製、rY5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、24時間攪拌混合して電荷発生塗布液
を調製した。
社製、rY5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、24時間攪拌混合して電荷発生塗布液
を調製した。
この電荷発生塗布液を、前記電荷輸送層上に浸漬法によ
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0.5μ山の電荷発生層を形成した。
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0.5μ山の電荷発生層を形成した。
表面保護層の形成
3
エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物として3−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ側製
の商品名rS−510J)100重量部、オリゴマー化
触媒としての硫酸0.3重量部、希釈剤としてのイソプ
ロピルアルコール67重量部、加水分解用の水11重量
部を混合し、室温(約20℃)で3日間静置し、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランのオリゴマー化
を行った。
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ側製
の商品名rS−510J)100重量部、オリゴマー化
触媒としての硫酸0.3重量部、希釈剤としてのイソプ
ロピルアルコール67重量部、加水分解用の水11重量
部を混合し、室温(約20℃)で3日間静置し、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシランのオリゴマー化
を行った。
次いで、これにに重縮合触媒として1,8−ジアザビシ
クロ[5,4,0]ウンデセン−7(DBU)2.2重
量部を加えて2時間攪拌した後、その樹脂固形分100
重量部に対して、導電性付与剤としてのアンチモンドー
プ酸化スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部の
割合で加えて150時間混合して、表面保護層用塗布液
を作成した。
クロ[5,4,0]ウンデセン−7(DBU)2.2重
量部を加えて2時間攪拌した後、その樹脂固形分100
重量部に対して、導電性付与剤としてのアンチモンドー
プ酸化スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部の
割合で加えて150時間混合して、表面保護層用塗布液
を作成した。
この表面保護層用塗布液を前記電荷発生層上に塗布し、
110℃で2時間加熱硬化させて、膜厚2.5μmの表
面保護層を形成し、積層型感光層4 を有するドラム型の電子写真感光体を作成した。
110℃で2時間加熱硬化させて、膜厚2.5μmの表
面保護層を形成し、積層型感光層4 を有するドラム型の電子写真感光体を作成した。
実施例2〜3および比較例1〜4
第1表に示すアルコキシシラン化合物および硫酸触媒を
それぞれ用いた以外は実施例1と同様にして電子写真感
光体を得た。なお、実施例3で使用した3−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシシランにはチッソ側製の商
品名rs520Δを使用した。
それぞれ用いた以外は実施例1と同様にして電子写真感
光体を得た。なお、実施例3で使用した3−グリシドキ
シプロピルメチルジメトキシシランにはチッソ側製の商
品名rs520Δを使用した。
実施例4〜7
導電性付与・剤として、アンチモンドープ酸化スズ微粉
末に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピル
アルコール中に分散されたコロイド溶液(口広化学社製
、商品名「サンコロイド」、固形分含量20重量%)を
使用し、これを樹脂固形分100重量部に対するコロイ
ド溶液中の5b205ゾル固形分が第1表に示す量にな
るように添加し、ボールミルで1時間混合した以外は、
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
末に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピル
アルコール中に分散されたコロイド溶液(口広化学社製
、商品名「サンコロイド」、固形分含量20重量%)を
使用し、これを樹脂固形分100重量部に対するコロイ
ド溶液中の5b205ゾル固形分が第1表に示す量にな
るように添加し、ボールミルで1時間混合した以外は、
実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例8〜11
導電性付与剤として、アンチモンドープ酸化ス5
ズ微粉末に代えて、酸化スズと酸化アンチモンとの固溶
体粒子(アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20
nm)か、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量
部の酸化ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒
としてのイソプロピルアルコール中に分散されたコロイ
ド溶液(口広化学社製)を使用し、これを樹脂固形分1
00重量部に対するコロイド溶液中の固形分が第1表に
示す量になるように添加し、ボールミルで1時間混合し
た以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成
した。
体粒子(アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20
nm)か、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量
部の酸化ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒
としてのイソプロピルアルコール中に分散されたコロイ
ド溶液(口広化学社製)を使用し、これを樹脂固形分1
00重量部に対するコロイド溶液中の固形分が第1表に
示す量になるように添加し、ボールミルで1時間混合し
た以外は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成
した。
表面電位測定
上記各電子写真感光体を、静電複写試験装置(ジエンチ
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s、p、
mを測定した。
ック社製、ジエンチックシンシア30M型機)に装填し
、その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s、p、
mを測定した。
半減露光量
上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験
装置の露光々源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/c+J、露光時間80m5ec。
装置の露光々源であるハロゲンランプを用いて、露光強
度0.92mW/c+J、露光時間80m5ec。
6
の条件で露光し、前記表面電位V 、s、p、が1/2
となるまでの時間を求め、半減露光量E 1/2 (
lux・see )を算出した。
となるまでの時間を求め、半減露光量E 1/2 (
lux・see )を算出した。
繰返し露光後の表面電位変化測定
上記各電子写真感光体を複写機(三田工業社製。
DC−111型機)に装填して500枚の複写処理を行
った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位V2S、
I)、 mとして測定した。
った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位V2S、
I)、 mとして測定した。
また、前記V 、s、p、値とv2 s、p、値との差
を、表面電位変化値ΔV (V)として算出した。
を、表面電位変化値ΔV (V)として算出した。
耐摩耗試験
各電子写真感光体をドラム研磨試験機(三田工業社製)
に装填すると共に、このドラム研磨試験機に設けられた
感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験紙
装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製、商品名
インペリアルラッピングフィルム、粒径12μ■の酸化
アルミニウム粉末を表面に付着させたもの)を装填し、
この研磨試験紙を感光体表面に線圧10g/mmで押圧
しながら、感光体を400回々転させた時の摩耗量(μ
山)を測定7 した。
に装填すると共に、このドラム研磨試験機に設けられた
感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験紙
装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製、商品名
インペリアルラッピングフィルム、粒径12μ■の酸化
アルミニウム粉末を表面に付着させたもの)を装填し、
この研磨試験紙を感光体表面に線圧10g/mmで押圧
しながら、感光体を400回々転させた時の摩耗量(μ
山)を測定7 した。
接着性試験
各感光体に対して、カッターナイフにより1mm間隔で
10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの切
れ目を入れて、IIIIIIl×llll11の基盤目
を100個つくり、この基盤目の上に粘着テープにチバ
ン社製)を貼り付けた後、上方へ90゜の角度で強く引
き剥がして、表面保護層の剥離を観察した。そして、上
記1 mmX 1 mmの基盤目のうち、感光体から剥
離しなかった枚数を記録した。
10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの切
れ目を入れて、IIIIIIl×llll11の基盤目
を100個つくり、この基盤目の上に粘着テープにチバ
ン社製)を貼り付けた後、上方へ90゜の角度で強く引
き剥がして、表面保護層の剥離を観察した。そして、上
記1 mmX 1 mmの基盤目のうち、感光体から剥
離しなかった枚数を記録した。
クラック発生の有無
得られたそれぞれの感光体表面にクラックが発生してい
るか否かを目視により確認した。
るか否かを目視により確認した。
以上の試験結果を第1表に示す。
(以下、余白)
8
第1表より、実施例1〜11で得られた電子写真感光体
は、耐摩耗性、接着性にすぐれ、クラックの発生もない
ことがわかる。また、実施例1〜11は半減露光量およ
び繰り返し露光後の表面電位変化量においてもすぐれて
いることから、感光特性が向上していることがわかる。
は、耐摩耗性、接着性にすぐれ、クラックの発生もない
ことがわかる。また、実施例1〜11は半減露光量およ
び繰り返し露光後の表面電位変化量においてもすぐれて
いることから、感光特性が向上していることがわかる。
これに対して、比較例1〜4はいずれもクラックが発生
していたため、諸物性の測定ができなかった。
していたため、諸物性の測定ができなかった。
〈発明の効果〉
以上のように、この発明の電子写真感光体においては、
特定のアルコキシシラン化合物のオリゴマーの重縮合生
成物で表面保護層を構成しているため、表面保護層と感
光層との結着性にすぐれ、かつ機械的強度も向上すると
いう効果がある。
特定のアルコキシシラン化合物のオリゴマーの重縮合生
成物で表面保護層を構成しているため、表面保護層と感
光層との結着性にすぐれ、かつ機械的強度も向上すると
いう効果がある。
第1図は酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子の表
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることにより、固溶体粒
子を帯電させた状態を示す模式図である。 1・・・固溶体粒子、2・・・酸化ケイ素粒子0 118.固溶体粒子 230.酸化ケイ素粒子
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることにより、固溶体粒
子を帯電させた状態を示す模式図である。 1・・・固溶体粒子、2・・・酸化ケイ素粒子0 118.固溶体粒子 230.酸化ケイ素粒子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R^1は炭素数6以下のアルキレン基、R^2
は炭素数が4以下のアルキル基、R^3は−OR^2で
表される基または炭素数が4以下のアルキル基を示す)
で表されるアルコキシシラン化合物のオリゴマーの塗布
液を感光層上に塗布し、硬化させてなる表面保護層を感
光層上に有することを特徴とする電子写真感光体。 2、請求項1記載のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子
のコロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布
し、硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子
が導電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設
けることを特徴とする電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906289A JPH03139655A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906289A JPH03139655A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03139655A true JPH03139655A (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=17605876
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27906289A Pending JPH03139655A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03139655A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05142846A (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-11 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真法及びそれに用いる感光体 |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP27906289A patent/JPH03139655A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05142846A (ja) * | 1991-11-22 | 1993-06-11 | Mita Ind Co Ltd | 電子写真法及びそれに用いる感光体 |
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