JPH03139656A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
この発明は、電子写真感光体に関し、より詳しくは、感
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。〈従来の技術〉 いわゆる、カールソンプロセスを利用した複写機等の画
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
光層との結着性がよく、且つ機械的強度の高い表面保護
層を有する電子写真感光体に関する。〈従来の技術〉 いわゆる、カールソンプロセスを利用した複写機等の画
像形成装置においては、導電性を有する基材上に感光層
を形成した電子写真感光体が用いられている。
電子写真感光体、とくに有機感光体においては、画像形
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
成時に電気的、光学的、機械的な衝撃を繰り返しうける
ために機械的強度の向上を目的とし、さらに帯電能や耐
汚染性の向上、感光体に有害な光の遮蔽等を目的として
、感光層上に表面保護層を設けることが行われている。
かかる表面保護層としては、物理的安定性と硬度の高さ
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
からシリコーン樹脂が主として用いられている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし、従来から使用されているシリコーン樹脂は、硬
度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は、耐衝撃
性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題があっ
た。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結着性が
低いという問題があった。
度が高すぎるため、これを用いた表面保護層は、耐衝撃
性に乏しく、クラックが発生しやすいという問題があっ
た。また、上記シリコーン樹脂は、感光層との結着性が
低いという問題があった。
この発明はこれらの問題に鑑みてなされたものであって
、感光層との結着性が高く、且つ機械的硬度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
、感光層との結着性が高く、且つ機械的硬度に優れた表
面保護層を有する電子写真感光体を提供することを目的
とする。
く課題を解決するための手段および作用〉上記問題を解
決するためのこの発明にががる電で表されるアルコキシ
シラン化合物および一般式(式中、R1は炭素数6以下
のアルキレン基、R2は炭素数が4以下のアルキル基、
R3は一〇R2で表される基または炭素数が4以下のア
ルキル基を示す)で表されるアルコキシシラン化合物の
うち少なくとも一方を過塩素酸でオリゴマー化したオリ
ゴマーを含有する塗布液を塗布し、硬化させてなる表面
保護層を感光層上に有することを特徴とする。
決するためのこの発明にががる電で表されるアルコキシ
シラン化合物および一般式(式中、R1は炭素数6以下
のアルキレン基、R2は炭素数が4以下のアルキル基、
R3は一〇R2で表される基または炭素数が4以下のア
ルキル基を示す)で表されるアルコキシシラン化合物の
うち少なくとも一方を過塩素酸でオリゴマー化したオリ
ゴマーを含有する塗布液を塗布し、硬化させてなる表面
保護層を感光層上に有することを特徴とする。
炭素数6以下のアルキレン基としては、例えばメチレン
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2.2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等があげられる。
、メチルメチレン、ジメチルメチレン、エチレン、トリ
メチレン、1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメ
チレン、2.2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン等があげられる。
炭素数4以下のアルキル基としては、例えばメチル、エ
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチルが例示される。
チル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピル
、第三級ブチルが例示される。
前記一般式(1)または(I[)で表される化合物は、
エポキシ基を有するアルコキシラン化合物であり、これ
を単独または混合し、過塩素酸によってオリゴマー化し
てつくった塗布液を感光層の表面に塗布し、重縮合させ
ることにより、表面保護層が得られる。
エポキシ基を有するアルコキシラン化合物であり、これ
を単独または混合し、過塩素酸によってオリゴマー化し
てつくった塗布液を感光層の表面に塗布し、重縮合させ
ることにより、表面保護層が得られる。
上記オリゴマー化は、モノマーであるアルコキシシラン
化合物を使用した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒である過塩素酸(MCI 04)および加水
分解用の水の存在下で行う。
化合物を使用した塗布液では粘度が低く、塗布できない
ため、粘度を上げる目的で行われるものであって、溶剤
中にて触媒である過塩素酸(MCI 04)および加水
分解用の水の存在下で行う。
得られるオリゴマーは、前記一般式(1)または(I[
lで表されるアルコキシシラン化合物が少なくとも三官
能性基(すなわち、1つのエポキシ基と少なくとも2つ
のアルコキシ基)を有するため、三次元的に広がった構
造を有する。このとき、触媒として過塩素酸を使用する
ため、エポキシ基の開環、重合反応が効果的に起こり、
かつアルコキシ基が加水分解されてシラノール基(S
1−0R)が形成され、これが縮合しシロキサン結合(
Sj−0−31)が形成される。
lで表されるアルコキシシラン化合物が少なくとも三官
能性基(すなわち、1つのエポキシ基と少なくとも2つ
のアルコキシ基)を有するため、三次元的に広がった構
造を有する。このとき、触媒として過塩素酸を使用する
ため、エポキシ基の開環、重合反応が効果的に起こり、
かつアルコキシ基が加水分解されてシラノール基(S
1−0R)が形成され、これが縮合しシロキサン結合(
Sj−0−31)が形成される。
その結果、得られるシリコーンオリゴマーの粘度(分子
量)が増大する。従って、このものを溶媒で希釈して塗
布液を調製する場合に、所定量のモノマーからより多く
の塗布液を得る。ことができ、低コスト化が可能になる
。しかも、この塗布液は成膜性にすぐれ、容易に成膜で
きると共に、得られる表面保護層は接着性および機械的
強度(耐磨純性など)にすぐれたものになるという利点
が利点がある。塗膜の接着性向上は、エポキシ基の開環
によって形成された水酸基が感光層表面に存在するアミ
ノ基、水酸基等の極性基と結合または水素結合するため
と考えられる。
量)が増大する。従って、このものを溶媒で希釈して塗
布液を調製する場合に、所定量のモノマーからより多く
の塗布液を得る。ことができ、低コスト化が可能になる
。しかも、この塗布液は成膜性にすぐれ、容易に成膜で
きると共に、得られる表面保護層は接着性および機械的
強度(耐磨純性など)にすぐれたものになるという利点
が利点がある。塗膜の接着性向上は、エポキシ基の開環
によって形成された水酸基が感光層表面に存在するアミ
ノ基、水酸基等の極性基と結合または水素結合するため
と考えられる。
このような表面保護層の接着性および機械的強度の向上
は、硫酸等の他の酸触媒を使用した場合にも期待できる
が、過塩素酸の使用により三次元化したオリゴマーをよ
り効率よく得ることができ、得られる表面保護層の物性
もより向上したものになる。
は、硫酸等の他の酸触媒を使用した場合にも期待できる
が、過塩素酸の使用により三次元化したオリゴマーをよ
り効率よく得ることができ、得られる表面保護層の物性
もより向上したものになる。
オリゴマー〇重縮合には、通常の重縮合触媒(例えば1
.8−ジアザビシクロ(5,4,0:1ウンデセン−7
(DBU)など)を使用することができる。
.8−ジアザビシクロ(5,4,0:1ウンデセン−7
(DBU)など)を使用することができる。
上記過塩素酸は上記アルコキシシラン化合物100重量
部に対して0.1〜3重量部の割合で配合するのがオリ
ゴマーの塗布物性の調節のうえで適当である。また、加
水分解用の水は、アルコキシシラン化合物100重量部
に対して5〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを
得る上で好ましい。オリゴマー化反応に使用する溶媒と
しては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコール、プロピルアルコールなどのア
ルコール;n−へキサン、オクタン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素;ジクロロメタン、ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル等のエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド等が挙げ
られ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用さ
れる。
部に対して0.1〜3重量部の割合で配合するのがオリ
ゴマーの塗布物性の調節のうえで適当である。また、加
水分解用の水は、アルコキシシラン化合物100重量部
に対して5〜20重量部であるのが適度なオリゴマーを
得る上で好ましい。オリゴマー化反応に使用する溶媒と
しては、例えばメチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコール、プロピルアルコールなどのア
ルコール;n−へキサン、オクタン、シクロヘキサン等
の脂肪族炭化水素;ベンゼン、トルエン、キシレン等の
芳香族炭化水素;ジクロロメタン、ジクロロエタン、四
塩化炭素、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素;ジ
メチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレング
リコールジエチルエーテル等のエーテル類;アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;
ジメチルホルムアミド;ジメチルスルホキシド等が挙げ
られ、これらは単独でまたは2種以上を混合して使用さ
れる。
また、得られるオリゴマーは重合度が5〜10程度のも
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
上記した粘度向上によるコストの削減が図れず、かつ成
膜性に劣ったものなり、逆に重合度かこの範囲よりも大
なるときは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣
ったものになり、いずれも好ましくない。
のが適当であり、重合度がこの範囲よりも小なるときは
上記した粘度向上によるコストの削減が図れず、かつ成
膜性に劣ったものなり、逆に重合度かこの範囲よりも大
なるときは塗膜の物性(接着性、機械的強度など)に劣
ったものになり、いずれも好ましくない。
上記表面保護層の膜厚は、0.1〜10μm、特に2〜
5μmの範囲であることが好ましい。
5μmの範囲であることが好ましい。
上記表面保護層には、画像形成プロセスにおける感光層
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子のコ
ロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し、
硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が導
電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設ける
のが好ましい。
への電荷の注入を容易にする目的で、導電性付与剤を分
散させることができる。とくに、本発明では、アルコキ
シラン化合物のオリゴマーと導電性金属酸化物粒子のコ
ロイド溶液とが混和された塗布液を感光層上に塗布し、
硬化させることにより、上記導電性金属酸化物粒子が導
電性付与剤として均一に分散された表面保護層を設ける
のが好ましい。
上記導電性付与剤としては、酸化スズ、酸化チタン、酸
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化により って表面保護層中に分散されるか、微粒子の状態では凝
集し易く、塗布液中に均一に分散させるために長時間の
攪拌が必要となるため、前述したように、コロイド溶液
の状態で、塗布液中に混和させることが好ましい。上記
コロイド溶液においては、導電性金属酸化物の微粒子は
、それぞれの持つ表面電荷によって互いに反発して、塗
布液中における凝集が防止されるので、短時間の攪拌、
混合により、塗布液中に均一に分散させることができる
。
化インジウム、酸化アンチモン等の単体金属酸化物や、
酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体等の導電性金属酸
化物が挙げられる。上記導電性金属酸化物は、一般に、
微粒子状態で、硬化前の塗布液中に攪拌、混合され、塗
膜の硬化により って表面保護層中に分散されるか、微粒子の状態では凝
集し易く、塗布液中に均一に分散させるために長時間の
攪拌が必要となるため、前述したように、コロイド溶液
の状態で、塗布液中に混和させることが好ましい。上記
コロイド溶液においては、導電性金属酸化物の微粒子は
、それぞれの持つ表面電荷によって互いに反発して、塗
布液中における凝集が防止されるので、短時間の攪拌、
混合により、塗布液中に均一に分散させることができる
。
導電性金属酸化物粒子のコロイド溶液の製造方法は、導
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
電性金属酸化物の種類によって異なり、例えば、五酸化
アンチモン(Sb205)のコロイド溶液は、無水三酸
化アンチモンと硝酸とを混合し、加熱後、α−ヒドロキ
シカルボン酸と、N。
N−ジメチルホルムアミド(DMF)等の有機溶媒とを
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のハロゲン化水素に、エチレングリコールに
代表される1価或いは0 2価以上のアルコール、DMF等の親水性有機溶媒およ
びα−ヒドロキシカルボン酸を加え、そこへ三酸化アン
チモンを分散させた状態で、過酸化水素水によって酸化
させる方法(特開昭5238495号公報、特開昭52
−38496号公報参照)等により調製することができ
る。
この順に添加し、副生成物としての水を蒸留によって除
去する方法(特開昭47−11382号公報参照)や、
塩化水素等のハロゲン化水素に、エチレングリコールに
代表される1価或いは0 2価以上のアルコール、DMF等の親水性有機溶媒およ
びα−ヒドロキシカルボン酸を加え、そこへ三酸化アン
チモンを分散させた状態で、過酸化水素水によって酸化
させる方法(特開昭5238495号公報、特開昭52
−38496号公報参照)等により調製することができ
る。
上記五酸化アンチモンコロイド溶液を調製するための分
散媒としては、下層の感光層を侵すことがないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
散媒としては、下層の感光層を侵すことがないように、
有機性の小さいメチルアルコール、エチルアルコール、
n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブ
チルアルコール等のアルコール類を用いることが好まし
い。
また、酸化スズ(SnO、SnO等)と酸化アンチモン
(Sb O、Sb O等)との固溶体のコ25 2
3 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子1の表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触に1 よりOH基を生じて負に帯電することで、固溶体粒子の
表面に電荷を持たせるようになっている。
(Sb O、Sb O等)との固溶体のコ25 2
3 0イド溶液の場合には、例えば、上記固溶体粒子を、第
1図に示すように、固溶体粒子1の表面に、粒径5nm
以下程度の酸化ケイ素粒子2・・・を吸着させる方法等
により調製することができる。第1図の構造においては
、固溶体粒子1の表面に吸着された酸化ケイ素粒子2・
・・が、分散媒との接触に1 よりOH基を生じて負に帯電することで、固溶体粒子の
表面に電荷を持たせるようになっている。
上記酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子は、通常
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドープして形成され
るもので、特に限定されないが、固溶体粒子中における
アンチモンの含有割合が1〜30重量%であることが好
ましく、5〜2o・重量%であることがより好ましい。
、酸化スズの微粒子にアンチモンをドープして形成され
るもので、特に限定されないが、固溶体粒子中における
アンチモンの含有割合が1〜30重量%であることが好
ましく、5〜2o・重量%であることがより好ましい。
固溶体粒子中におけるアンチモンの含有割合が1重量%
未満の場合や、30重量%を超えた場合には、十分な導
電性が得られなくなる虞がある。
未満の場合や、30重量%を超えた場合には、十分な導
電性が得られなくなる虞がある。
また、上記固溶体粒子の粒径は特に限定されないが、1
0〜20nm程度であることが好ましい。
0〜20nm程度であることが好ましい。
固溶体粒子の粒径が10nm未満では保護層の電気抵抗
が大となり、20nmを超えると光透過率が悪くなる。
が大となり、20nmを超えると光透過率が悪くなる。
固溶体粒子に対する酸化ケイ素の割合も特に限定されな
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶休校 2 子100重量部に対する酸化ケイ素の割合が10重量部
を超えた場合には、十分な導電性が得られなくなる虞が
ある。
いが、固溶体粒子100重量部に対し10重量部以下で
あることが好ましい。固溶休校 2 子100重量部に対する酸化ケイ素の割合が10重量部
を超えた場合には、十分な導電性が得られなくなる虞が
ある。
上記化合物のオリゴマーと共にコロイド溶液を構成する
分散媒としては、前述したように、酸化ケイ素を負に帯
電させるために極性溶媒が使用され、特に、保護層用塗
布液との相溶性に優れ、且つ下地層としての感光層を侵
す虞のないメチルアルコール、エチルアルコール、n−
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等のアルコール類が好適に使用される。
分散媒としては、前述したように、酸化ケイ素を負に帯
電させるために極性溶媒が使用され、特に、保護層用塗
布液との相溶性に優れ、且つ下地層としての感光層を侵
す虞のないメチルアルコール、エチルアルコール、n−
プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチル
アルコール等のアルコール類が好適に使用される。
上記表面保護層を構成する結着樹脂には、膜の特性を損
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
なわない範囲で、前記以外の熱硬化性樹脂または熱可塑
性樹脂を含有させることができる。
前記以外の他の結着樹脂としては、例えば硬化性アクリ
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体;アクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系3 共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマ
ー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル;塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;飽和ポリエ
ステル;ポリアミド;熱可塑性ポリウレタン樹脂;ポリ
カーボネート;ボリアリレート;ポリスルホン;ケトン
樹脂;ポリビニルブチラール樹脂;ポリエーテル樹脂が
例示される。
ル樹脂;アルキッド樹脂;不飽和ポリエステル樹脂;ジ
アリルフタレート樹脂;フェノール樹脂;尿素樹脂;ベ
ンゾグアナミン樹脂;メチルエーテル化系以外のメラミ
ン樹脂;スチレン系重合体;アクリル系重合体;スチレ
ン−アクリル系3 共重合体;ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合
体、塩素化ポリエチレン、ポリプロピレン、アイオノマ
ー等のオレフィン系重合体;ポリ塩化ビニル;塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体;ポリ酢酸ビニル;飽和ポリエ
ステル;ポリアミド;熱可塑性ポリウレタン樹脂;ポリ
カーボネート;ボリアリレート;ポリスルホン;ケトン
樹脂;ポリビニルブチラール樹脂;ポリエーテル樹脂が
例示される。
上記表面保護層には、ターフェニル、ハロナフトキノン
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができる。
類、アセナフチレン等従来公知の増感剤;9− (N、
N−ジフェニルヒドラジノ)フルオレン、9−カルバゾ
リルイミノフルオレン等のフルオレン系化合物;導電性
付与剤;アミン系、フェノール系等の酸化防止剤、ベン
ゾフェノン系等の紫外線吸収剤などの劣化防止剤;可塑
剤など、種々の添加剤を含有させることができる。
なお、この発明感光体は、表面保護層以外の構成につい
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
ては、従来と同様の材料を用い、従来同様の構成とする
ことができる。
4
まず、導電性基材について述べる。
導電性基材は、電子写真感光体が組み込まれる画像形成
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
装置の機構、構造に対応してシート状あるいはドラム状
など、適宜の形状に形成される。
また、上記導電性基材は、全体を金属などの導電性材料
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
で構成しても良く、基材自体は導電性を有しない構造材
料で形成し、その表面に導電性を付与しても良い。
なお、前者の構造を有する導電性基材において使用され
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
る導電性材料としては、表面がアルマイト処理された、
または未処理のアルミニウム、銅、スズ、白金、金、銀
、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタ
ン、ニッケル、パラジウム、インジウム、ステンレス鋼
、真鍮等の金属材料が好ましい。
一方、後者の構造としては、合成樹脂製基材またはガラ
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積5 層された構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面
に上記金属材料等のフィルムがラミネートされた構造、
上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面に、導電性をイ
」与する物質が注入された構造が例示される。
ス基材の表面に、上記例示の金属や、ヨウ化アルミニウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム等の導電性材料からなる
薄膜が、真空蒸着法または湿式めっき法などの公知の膜
形成方法によって積5 層された構造、上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面
に上記金属材料等のフィルムがラミネートされた構造、
上記合成樹脂成形品やガラス基材の表面に、導電性をイ
」与する物質が注入された構造が例示される。
なお、導電性基材は、必要に応じて、シランカップリン
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
グ剤やチタンカップリング剤などの表面処理剤で表面処
理を施し、感光層との密着性を高めても良い。
次に、導電性暴利上に形成される感光層について述べる
。
。
感光層は、半導体材料や有機材料、またはこれらの複合
材料からなる下記構成のものが使用できる。
材料からなる下記構成のものが使用できる。
■ 半導体材料からなる単層型の感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料と電荷輸送材料とを含有
する単層型の有機感光層。
する単層型の有機感光層。
■ 結着樹脂中に電荷発生材料を含有する電荷発生層と
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有6 機態光層。
、結着樹脂中に電荷輸送材料を含有する電荷輸送層とか
らなる積層型の有6 機態光層。
■ 半導体材料からなる電荷発生層と、上記有機の電荷
輸送層とが積層された複合型の感光層。
輸送層とが積層された複合型の感光層。
複合型感光層において電荷発生層として用(1られると
共に、単独でも感光層を形成できる半導体材料としては
、前述したa−9eの他に、例えばa−AS2 Se3
、a−8eAsTe等のアモルファスカルコゲン化物や
アモルファスシリコン(a−8L)力く例示される。上
記半導体材料からなる感光層またCヨ電荷発生層は、真
空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方法に
よって形成すること力(できる。
共に、単独でも感光層を形成できる半導体材料としては
、前述したa−9eの他に、例えばa−AS2 Se3
、a−8eAsTe等のアモルファスカルコゲン化物や
アモルファスシリコン(a−8L)力く例示される。上
記半導体材料からなる感光層またCヨ電荷発生層は、真
空蒸着法、グロー放電分解法等の公知の薄膜形成方法に
よって形成すること力(できる。
単層型または積層型の有機感光層における電荷発生層に
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末;ZTIOlCdS
等のn−vt族機微結晶ピリリウム塩;アゾ系化合物;
ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;アンサン
スロン系化合物;ぺIJレン系化合物;インジゴ系化合
物;トリフェニル7 メタン系化合物;スレン系化合物:トルイジン系化合物
;ピラゾリン系化合物;キナクリドン系化化合物;ピラ
ゾリン系化合物;キナクリドン系化合物;ピロロピロー
ル系化合物か例示される。そして、上記例示の化合物の
中でも、フタロシアニン系化合物に属する、α型、β型
、γ型なと種々の結晶型を有するアルミニウムフタロシ
アニン、銅フタロシアニン、メタルフリーフタロシアニ
ン、オキソチタニルフタロシアニン等が好ましく用(A
られ、特に上記メタルフリーフタロシアニンおよび/ま
t;はオキソチタニルフタロシアニンがより好ましく用
いられる。なお、上記電荷発生材料(i、それぞれ単独
で用いられる他、複数種を併用しても良い。
使用される、有機または無機の電荷発生材料としては、
例えば前記例示の半導体材料の粉末;ZTIOlCdS
等のn−vt族機微結晶ピリリウム塩;アゾ系化合物;
ビスアゾ系化合物;フタロシアニン系化合物;アンサン
スロン系化合物;ぺIJレン系化合物;インジゴ系化合
物;トリフェニル7 メタン系化合物;スレン系化合物:トルイジン系化合物
;ピラゾリン系化合物;キナクリドン系化化合物;ピラ
ゾリン系化合物;キナクリドン系化合物;ピロロピロー
ル系化合物か例示される。そして、上記例示の化合物の
中でも、フタロシアニン系化合物に属する、α型、β型
、γ型なと種々の結晶型を有するアルミニウムフタロシ
アニン、銅フタロシアニン、メタルフリーフタロシアニ
ン、オキソチタニルフタロシアニン等が好ましく用(A
られ、特に上記メタルフリーフタロシアニンおよび/ま
t;はオキソチタニルフタロシアニンがより好ましく用
いられる。なお、上記電荷発生材料(i、それぞれ単独
で用いられる他、複数種を併用しても良い。
また、上記単層型または積層型の有機感光層や、複合型
の感光層における電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン;2,4.7−
ドリニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合
物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水コ
/1り酸;無水マ] 8 レイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;トリフェニルメタ
ン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾ−チルアミノスチリル)
アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ−N−ビニル
カルバゾール等のカルバソール系化合物;1−フェニル
−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等の
ピラゾリン系化合物、4.4’ 4’−1−リス(N
、N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のアミ
ン誘導体;1,1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル
)−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジェン等の共役
不飽和化合物;4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズ
アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラ
ゾン系化合物;インドール系化合物、オキサゾール系化
合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物
、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピ
ラゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール
系化合物等の含窒素環式化合物;縮合多環族化合物が例
示される。上記電荷輸送材料も単独で、9 あるいは、複数種併用して用いることができる。
の感光層における電荷輸送層中に含まれる電荷輸送材料
としては、例えばテトラシアノエチレン;2,4.7−
ドリニトロー9−フルオレノン等のフルオレノン系化合
物;ジニトロアントラセン等のニトロ化化合物;無水コ
/1り酸;無水マ] 8 レイン酸;ジブロモ無水マレイン酸;トリフェニルメタ
ン系化合物;2,5−ジ(4−ジメチルアミノフェニル
)−1,3,4−オキサジアゾ−チルアミノスチリル)
アントラセン等のスチリル系化合物;ポリ−N−ビニル
カルバゾール等のカルバソール系化合物;1−フェニル
−3−(p−ジメチルアミノフェニル)ピラゾリン等の
ピラゾリン系化合物、4.4’ 4’−1−リス(N
、N−ジフェニルアミノ)トリフェニルアミン等のアミ
ン誘導体;1,1−ビス(4−ジエチルアミノフェニル
)−4,4−ジフェニル−1,3−ブタジェン等の共役
不飽和化合物;4−(N、N−ジエチルアミノ)ベンズ
アルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラ
ゾン系化合物;インドール系化合物、オキサゾール系化
合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物
、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピ
ラゾール系化合物、ピラゾリン系化合物、トリアゾール
系化合物等の含窒素環式化合物;縮合多環族化合物が例
示される。上記電荷輸送材料も単独で、9 あるいは、複数種併用して用いることができる。
なお、上記電荷輸送材料の中でも、前記ポリ−N−ビニ
ルカルバゾール等の光導電性を有する高分子材料は、感
光層の結着樹脂としても使用することができる。
ルカルバゾール等の光導電性を有する高分子材料は、感
光層の結着樹脂としても使用することができる。
また、前記単層型または積層型の有機感光層、複合型感
光層における電荷輸送層などの層には、前記増感剤、フ
ルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の劣化
防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させることができる
。
光層における電荷輸送層などの層には、前記増感剤、フ
ルオレン系化合物、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の劣化
防止剤、可塑剤などの添加剤を含有させることができる
。
単層型の有機感光層における、結着樹脂100重量部に
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重量部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満ては、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷0 発生材料が20重量部を超え、または、電荷輸送材料が
200重量部を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得
られなくなるからである。
対する電荷発生材料の含有割合は、2〜20重量部の範
囲内、特に3〜15重量部の範囲内であることが好まし
く、一方、結着樹脂100重量部に対する電荷輸送材料
の含有割合は、40〜200重量部の範囲内、特に50
〜100重量部の範囲内であることが好ましい。電荷発
生材料が2重量部未満、または、電荷輸送材料が40重
量部未満ては、感光体の感度が不充分になったり残留電
位が大きくなったりするからであり、電荷0 発生材料が20重量部を超え、または、電荷輸送材料が
200重量部を超えると、感光体の耐摩耗性が十分に得
られなくなるからである。
上記単層型感光層は、適宜の厚みに形成できるが、通常
は、10〜50μm1特に15〜25μmの範囲内に形
成されることが好ましい。
は、10〜50μm1特に15〜25μmの範囲内に形
成されることが好ましい。
一方、積層型の有機感光層を構成する層のうち、電荷発
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
が低下するからである。
生層における、結着樹脂100重量部に対する電荷発生
材料の含有割合は、5〜500重量部の範囲内、特に1
0〜250重量部の範囲内であることが好ましい。電荷
発生材料が5重量部未満では電荷発生能が小さ過ぎ、5
00重量部を超えると隣接する他の層や基材との密着性
が低下するからである。
上記電荷発生層の膜厚は、0.01〜3μ11特に0.
1〜2μmの範囲内であることが好まし′い。
1〜2μmの範囲内であることが好まし′い。
また、積層型の有機感光層および複合型感光層を構成す
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜1 200重量部の範囲内であることが好ましい。電荷輸送
材料が10重量部未満では電荷輸送能が十分でなく、5
00重量部を超えると電荷輸送層の機械的強度が低下す
るからである。
る層のうち、電荷輸送層における、結着樹脂100重量
部に対する電荷輸送材料の含有割合は、10〜500重
量部の範囲内、特に25〜1 200重量部の範囲内であることが好ましい。電荷輸送
材料が10重量部未満では電荷輸送能が十分でなく、5
00重量部を超えると電荷輸送層の機械的強度が低下す
るからである。
上記電荷輸送層の膜厚は、2〜100μm、特に5〜3
0μmの範囲内であることが好ましい。
0μmの範囲内であることが好ましい。
以上に説明した、単層型や積層型の有機感光層、複合型
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基村上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
感光層のうちの電荷輸送層、および表面保護層などの有
機の層は、前述した各成分を含有する各雇用の塗布液を
調製し、これら塗布液を、前述した層構成を形成し得る
ように、各層毎に順次導電性基村上に塗布し、乾燥また
は硬化させることで積層形成することができる。
なお、上記塗布液の調製に際しては、使用される結着樹
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチ2 ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、アリルアルコール、シクロペンタノール、ベンジ
ルアルコール、フルフリルアルコール、ジアセトンアル
コール等のアルコール類;ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、
酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホルムアミド;ジ
メチルスルホキシド等、種々の溶剤が例示され、これら
が一種または二種以上混合して用いられる。また、上記
塗布液を調製する際、分散性、塗工性等を向上させるた
め、界面活性剤やレベリング剤等を併用しても良い。
脂等の種類に応じて種々の溶剤を使用することができる
。上記溶剤としては、n−へキサン、オクタン、シクロ
ヘキサン等の脂肪族炭化水素;ベンゼン、キシレン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素;ジクロロメタン、四塩化炭
素、クロロベンゼン、塩化メチレン等のハロゲン化炭化
水素;メチ2 ルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、アリルアルコール、シクロペンタノール、ベンジ
ルアルコール、フルフリルアルコール、ジアセトンアル
コール等のアルコール類;ジメチルエーテル、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル
類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、
酢酸メチル等のエステル類;ジメチルホルムアミド;ジ
メチルスルホキシド等、種々の溶剤が例示され、これら
が一種または二種以上混合して用いられる。また、上記
塗布液を調製する際、分散性、塗工性等を向上させるた
め、界面活性剤やレベリング剤等を併用しても良い。
また、上記塗布液は従来慣用の方法、例えばミキサー、
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
ボールミル、ペイントシェーカー、サンドミル、アトラ
イター、超音波分散機等を用いて調製することができる
。
3
〈実施例〉
実施例1
感光層の形成
導電性基材としてアルミニウムドラム上に、積層型感光
層を形成した。すなわち、結着樹脂としてのボリアリレ
ート(ユニチカ社製、rU−100J)100重量部お
よび電荷輸送材料としてのジエチルアミノベンズアルデ
ヒドジフェニルヒドラゾン100重量部をジクロロメタ
ン900重量部に攪拌混合して、電荷輸送塗布液を調製
し、アルミニウムドラム(径78ml111長さ340
II1m)に塗布し、90℃の温度で、30分間熱風乾
燥して硬化させることにより、膜厚20μmの電荷輸送
層を形成した。
層を形成した。すなわち、結着樹脂としてのボリアリレ
ート(ユニチカ社製、rU−100J)100重量部お
よび電荷輸送材料としてのジエチルアミノベンズアルデ
ヒドジフェニルヒドラゾン100重量部をジクロロメタ
ン900重量部に攪拌混合して、電荷輸送塗布液を調製
し、アルミニウムドラム(径78ml111長さ340
II1m)に塗布し、90℃の温度で、30分間熱風乾
燥して硬化させることにより、膜厚20μmの電荷輸送
層を形成した。
次いで、結着樹脂としてポリ酢酸ビニル(日本合成化学
社製、rY5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、4 24時間攪拌混合して電荷発生塗布液を調製した。
社製、rY5−NJ )50重量部、電荷発生材料とし
てのジブロモアンサンスロン(IC1社製)80重量部
およびメタルフリーフタロシアニン(BASF社製)2
0重量部、ジアセトンアルコール2000重量部をボー
ルミルに仕込み、4 24時間攪拌混合して電荷発生塗布液を調製した。
この電荷発生塗布液を、前記電荷輸送層上に浸漬法によ
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0,5μmの電荷発生層を形成した。
り塗布し、110℃で30分間熱風乾燥して硬化させる
ことにより、膜厚0,5μmの電荷発生層を形成した。
表面保護層の形成
エポキシ基を有するアルコキシラン化合物として3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ社製、
rS−510J)100重量部、オリゴマー化触媒とし
ての過塩素酸0.1重量部、イソプロピルアルコール6
7重量部、水11重量部を混合し、室温(約20℃)で
3日間静置し、3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランのオリゴマー化を行った。
リシドキシプロピルトリメトキシシラン(チッソ社製、
rS−510J)100重量部、オリゴマー化触媒とし
ての過塩素酸0.1重量部、イソプロピルアルコール6
7重量部、水11重量部を混合し、室温(約20℃)で
3日間静置し、3−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シランのオリゴマー化を行った。
次いで、これに重縮合触媒として1.8−ジアザビシク
ロ[5,4,0]ウンデセン−7(DBU)2.2重量
部を加えて2時間攪拌した後、樹脂固形分100重量部
に対して、導電性付与剤としてのアンチモンドープ酸化
スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部の割合で
加えて1505 時間混合して、表面保護層用塗布液を作成した。
ロ[5,4,0]ウンデセン−7(DBU)2.2重量
部を加えて2時間攪拌した後、樹脂固形分100重量部
に対して、導電性付与剤としてのアンチモンドープ酸化
スズ微粉末(住友セメント社製)を60重量部の割合で
加えて1505 時間混合して、表面保護層用塗布液を作成した。
この表面保護層用塗布液を前記電荷発生層上に塗布し、
110℃で2時間加熱硬化させて、膜厚2.5μmの表
面保護層を形成し、積層型感光層を有するドラム型の電
子写真感光体を作成した。
110℃で2時間加熱硬化させて、膜厚2.5μmの表
面保護層を形成し、積層型感光層を有するドラム型の電
子写真感光体を作成した。
実施例2〜5および比較例1〜5
第1表に示すアルコキシシランおよびオリゴマー化触媒
をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様にして電子写真
感光体を得た。
をそれぞれ用いた以外は実施例1と同様にして電子写真
感光体を得た。
実施例6〜9
導電性付与剤として、アンチモンドープ酸化スズ微粉末
に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピルア
ルコール中に分散されたコロイド溶液(8産化学社製、
商品明細書サンコロイド、固形分含量20重量%)を使
用し、これを、樹脂固形分100重量部に対してコロイ
ド溶液中のS b 205ゾル固形分が第1表に示す量
になるように添加し、ボールミルで1時間混合した以外
は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
に代えて、五酸化アンチモンの微粒子がイソプロピルア
ルコール中に分散されたコロイド溶液(8産化学社製、
商品明細書サンコロイド、固形分含量20重量%)を使
用し、これを、樹脂固形分100重量部に対してコロイ
ド溶液中のS b 205ゾル固形分が第1表に示す量
になるように添加し、ボールミルで1時間混合した以外
は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
実施例10〜13
6
導電性付与剤として、アンチモンドープ酸化スズ微粉末
に代えて、酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子(
アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20nm)が
、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量部の酸化
ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒としての
イソプロピルアルコール中に分散されたコロイド溶液(
口広化学社製)を使用し、これを、樹脂固形分100重
量部に対してコロイド溶液中の固形分が第1表に示す量
になるように添加し、ボールミルで1時間混合した以外
は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
に代えて、酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子(
アンチモンを10重量%含有、粒径10〜20nm)が
、当該固溶体粒子100重量部に対して9重量部の酸化
ケイ素粒子により負に帯電した状態で、分散媒としての
イソプロピルアルコール中に分散されたコロイド溶液(
口広化学社製)を使用し、これを、樹脂固形分100重
量部に対してコロイド溶液中の固形分が第1表に示す量
になるように添加し、ボールミルで1時間混合した以外
は、実施例1と同様にして電子写真感光体を作成した。
表面電位測定
上記各電子写真感光体を、静電複写試験装置(ジエンチ
ック社製、ジエンチックシフ2フ30型機)に装填し、
その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s.p.(
V)を測定した。
ック社製、ジエンチックシフ2フ30型機)に装填し、
その表面を正に帯電させて、表面電位V 、s.p.(
V)を測定した。
半減露光量
上記帯電状態の各電子写真感光体を、上記静電複写試験
装置の露光々源であるハロゲンランプを7 用いて、露光強度0.92mW/cm,露光時間[10
m5ec。
装置の露光々源であるハロゲンランプを7 用いて、露光強度0.92mW/cm,露光時間[10
m5ec。
の条件で露光し、前記表面電位V 、s.p.がl/2
となるまでの時間を求め、半減露光量E l/2 (
lux・see )を算出した。
となるまでの時間を求め、半減露光量E l/2 (
lux・see )を算出した。
繰返し露光後の表面電位変化測定
上記各電子写真感光体を複写機(三田工業社製。
DC−1 1 1型機)に装填して500枚の複写処理
を行った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位v2
S.I)、 mとして測定した。
を行った後、表面電位を、繰返し露光後の表面電位v2
S.I)、 mとして測定した。
また、前記v 、s.p.値とV2 S.I)、値との
差を、表面電位変化値Δv(v)として算出した。
差を、表面電位変化値Δv(v)として算出した。
耐摩耗試験
各電子写真感光体をドラム研磨試験機(三田工業社製)
に装填すると共に、このドラム研磨試験機に設けられた
感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験紙
装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製,商品名
インペリアルラッピングフィルム、粒径12μmの酸化
アルミニウム粉末を表面に付着させたもの)を装填し、
この研磨試験紙を感光体表面に線圧LOg/milて押
圧しながら、感8 光体を40(1回々転させた時の摩耗量(μm)を測定
した。
に装填すると共に、このドラム研磨試験機に設けられた
感光体が1000回転する間に1回転転する研磨試験紙
装着リングに研磨試験紙(住友スリーエム社製,商品名
インペリアルラッピングフィルム、粒径12μmの酸化
アルミニウム粉末を表面に付着させたもの)を装填し、
この研磨試験紙を感光体表面に線圧LOg/milて押
圧しながら、感8 光体を40(1回々転させた時の摩耗量(μm)を測定
した。
接着性試験
各感光体に対して、カッターナイフにより1−mm間隔
で10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの
切れ目を入れて、1111mX1+nmの基盤目を10
0個つくり、この基盤目の上に粘着テープにチバン社製
)を貼り付けた後、上方へ90。
で10本ずつの、互いに直交する、基材に達する深さの
切れ目を入れて、1111mX1+nmの基盤目を10
0個つくり、この基盤目の上に粘着テープにチバン社製
)を貼り付けた後、上方へ90。
の角度で強く引き剥がして、表面保護層の剥離を観察し
た。そして、上記1mmXlIn11の基盤目のうち、
感光体から剥離しなかった枚数を記録した。
た。そして、上記1mmXlIn11の基盤目のうち、
感光体から剥離しなかった枚数を記録した。
クラック発生の有無
得られたそれぞれの感光体表面にクラックが発生してい
るか否かを目視により確認した。
るか否かを目視により確認した。
以上の試験結果を第1表に示す。
(以下、余白)
9
第1表より、実施例1〜13で得られた電子写真感光体
は、耐摩耗性および接着性の点において、比較例のもの
よりもすぐれていることがわかる。
は、耐摩耗性および接着性の点において、比較例のもの
よりもすぐれていることがわかる。
比較例4で得られた電子写真感光体は、接着性および耐
摩耗性は良好であるが、繰り返し特性が劣っている。な
お、比較例2はクラックが発生したため、諸物性を測定
できなかった。
摩耗性は良好であるが、繰り返し特性が劣っている。な
お、比較例2はクラックが発生したため、諸物性を測定
できなかった。
また、実施例1〜13で得られた電子写真感光体は、半
減露光量、帯電特性も良好であり、クラックの発生もな
かった。
減露光量、帯電特性も良好であり、クラックの発生もな
かった。
〈発明の効果〉
以上のように、この発明の電子写真感光体においては、
特定のアルコキシラン化合物を過塩素酸でオリゴマー化
したものの重縮合生成物で表面保護層を構成しているた
め、表面保護層と感光層との結着性にすぐれ、かつ機械
的強度も向上すると共に、上記オリゴマー化は三次元的
に広がるものであるので、粘度が高くなり、従って使用
する原料のシラン化合物の一定量からより多くの塗布液
を作成することができ、コストダウンを図ること1 ができるという効果がある。
特定のアルコキシラン化合物を過塩素酸でオリゴマー化
したものの重縮合生成物で表面保護層を構成しているた
め、表面保護層と感光層との結着性にすぐれ、かつ機械
的強度も向上すると共に、上記オリゴマー化は三次元的
に広がるものであるので、粘度が高くなり、従って使用
する原料のシラン化合物の一定量からより多くの塗布液
を作成することができ、コストダウンを図ること1 ができるという効果がある。
第1図は酸化スズと酸化アンチモンとの固溶体粒子の表
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることにより、固溶体粒
子を帯電させた状態を示す模式図である。
面に酸化ケイ素粒子を吸着させることにより、固溶体粒
子を帯電させた状態を示す模式図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式〔 I 〕: ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 で表されるアルコキシシラン化合物および一般式〔II〕
: ▲数式、化学式、表等があります▼〔II〕 (式中、R^1は炭素数6以下のアルキレン基、R^2
は炭素数が4以下のアルキル基、R^3は−OR^2で
表される基または炭素数が4以下のアルキル基を示す)
で表されるアルコキシシラン化合物のうち少なくとも一
方を過塩素酸でオリゴマー化したオリゴマーを含有する
塗布液を塗布し、硬化させてなる表面保護層を感光層上
に有することを特徴とする電子写真感光体。 2、表面保護層用塗布液が、一般式〔 I 〕または〔II
〕で表されるアルコキシシラン化合物100重量部に対
して0.1〜3重量部の割合で過塩素酸を加え、上記化
合物をオリゴマー化したものである請求項1記載の電子
写真感光体。 3、請求項1記載のアルコキシシラン化合物のオリゴマ
ーと導電性金属酸化物粒子のコロイド溶液とが混和され
た塗布液を感光層上に塗布し、硬化させることにより、
上記導電性金属酸化物粒子が導電性付与剤として均一に
分散された表面保護層を設けることを特徴とする電子写
真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906389A JPH03139656A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27906389A JPH03139656A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03139656A true JPH03139656A (ja) | 1991-06-13 |
Family
ID=17605892
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27906389A Pending JPH03139656A (ja) | 1989-10-26 | 1989-10-26 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03139656A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455135A (en) * | 1992-12-18 | 1995-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member with overlayer and electrophotographic apparatus employing same |
US6030736A (en) * | 1997-03-28 | 2000-02-29 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor with polysiloxane mixture |
JP2012150164A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
-
1989
- 1989-10-26 JP JP27906389A patent/JPH03139656A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5455135A (en) * | 1992-12-18 | 1995-10-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member with overlayer and electrophotographic apparatus employing same |
US6030736A (en) * | 1997-03-28 | 2000-02-29 | Ricoh Company, Ltd. | Electrophotographic photoconductor with polysiloxane mixture |
JP2012150164A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体、それを用いた画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
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