JPH0312100A - Method of writing test data to recording element and recording-element testing circuit - Google Patents

Method of writing test data to recording element and recording-element testing circuit

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JPH0312100A
JPH0312100A JP2022322A JP2232290A JPH0312100A JP H0312100 A JPH0312100 A JP H0312100A JP 2022322 A JP2022322 A JP 2022322A JP 2232290 A JP2232290 A JP 2232290A JP H0312100 A JPH0312100 A JP H0312100A
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Abstract

PURPOSE: To improve data writing speed by conducting a MOS transistor without going through an input/output line and imparting a load directly to one bit line only. CONSTITUTION: A circuit for testing a recording element is controlled by a control circuit 1. One MOS transistor is selected from plural MOS transistors M1-M4 connecting to a pair of bit lines 2, 3 on which data consisting of binary codes propagate. A load for data is directly imparted to one bit line through the MOS transistor thus selected. The data is stored by being transferred directly to a capacitor inside a memory cell 5 connecting to the bit line to which the load is imparted. Thus, the load for data is directly transferred to the capacitor inside the memory cell and stored, therefore, time for a RAM test can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は記録素子に係わり、特に高密度に集積された記
録素子、例えばRAMに対するRAMテストの所要時間
を大幅に短縮することのできる記録素子へのテストデー
タ書込方法及びこの方法を実施するための記録素子テス
ト回路に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Object of the Invention] (Industrial Application Field) The present invention relates to a recording element, and in particular, to significantly reduce the time required for a RAM test on a highly densely integrated recording element, such as a RAM. The present invention relates to a method for writing test data to a recording element that can be used to write test data to a recording element, and a recording element test circuit for implementing this method.

(従来の技術) 従来から、記録素子の製造において記録素子の集積度の
増加に対応して各種の厳密な製造管理が要求されてきた
(Prior Art) Conventionally, in the manufacture of recording elements, various strict manufacturing controls have been required in response to an increase in the degree of integration of recording elements.

例えば、記録素子の製造工程時において埃及び汚染物質
などが記録素子に付着しないようにしなければならない
For example, during the manufacturing process of the recording element, it is necessary to prevent dust and contaminants from adhering to the recording element.

しかしながら、記録素子の集積度が増加するにつれて挨
及び汚染物質などが付着することが多くなるので、記録
素子の不良率の増加は避は難いことである。
However, as the degree of integration of recording elements increases, dust and contaminants tend to adhere to the recording elements, so it is inevitable that the defective rate of recording elements will increase.

そこで、記録素子の内部に記録素子の品質テスト、即ち
RAMテストを行うことのできる回路を設け、製造され
た記録素子に対しRAMテストを行っていた。
Therefore, a circuit capable of performing a quality test of the recording element, that is, a RAM test, is provided inside the recording element, and the RAM test is performed on the manufactured recording element.

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、上記の如く記録素子内の回路を用いて記
録素子のRAMテストを行うテスト方法にあっては、記
録素子の集積度が高くなるほどRAMテストに要する時
間が長くなるという欠点があった。
(Problem to be Solved by the Invention) However, in the above-mentioned test method of performing a RAM test of a recording element using a circuit within the recording element, the higher the degree of integration of the recording element, the longer the RAM test takes. It had the disadvantage of being long.

その理由は、従来のRAMテストは所定のビット群、例
えば4ビツト、8ビツト、あるいは16ビツトを一括し
た単位で行い、テストデータをRAMテスト対象である
RAMに内蔵された入出カラインを介して上記RAMに
書き込み、次いで上記RAMから読み出し、書き込み及
び読み出しデータを比較して相違点の有無を調べ、上記
RAMの品質検査を行うものであるからである。
The reason for this is that in conventional RAM tests, a predetermined group of bits, for example 4 bits, 8 bits, or 16 bits, is performed in batches, and the test data is passed through the input/output line built into the RAM to be tested. This is because the data is written to the RAM, then read from the RAM, and the written and read data are compared to check for differences, thereby inspecting the quality of the RAM.

この場合、RAMテストに要する時間はRAMの集積度
を上記のビット群単位で除算した値、即ち集積度/ビッ
ト群単位に比例して増加していた。
In this case, the time required for the RAM test increases in proportion to the value obtained by dividing the RAM integration degree by the bit group unit, that is, the integration degree/bit group unit.

そこで、本発明は上記従来技術の問題点を解消するもの
で、その目的とするところは、大幅にRAMテストの所
要時間を短縮できる記録素子へのテストデータ書込方法
を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims to solve the above-mentioned problems of the prior art, and its purpose is to provide a method of writing test data to a recording element that can significantly shorten the time required for a RAM test.

また、上述の記録素子へのテストデータ書込方法を実施
するに役立つ記録素子テスト回路を提供することである
Another object of the present invention is to provide a recording element test circuit useful for carrying out the above-described method of writing test data to a recording element.

[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 上記課題を解決するため本発明の請求項(1)の記録素
子へのテストデータ書込方法は、2進符号からなるデー
タが伝播する一対のビットラインに接続する複数のMO
Sトランジスタから1つのMoSトランジスタを選択し
、選択されたMOSトランジスタを介して一方のビット
ラインに前記データとなる電荷を直接に与え、電荷を与
えられたビットラインに接続するメモリセル内のキャパ
シタへ前記データとなる電荷を直接に移送し保持したこ
とを特徴とする。
[Configuration of the Invention (Means for Solving the Problems) To solve the above problems, the method of writing test data to a recording element according to claim (1) of the present invention provides a method for writing test data into a recording element in which data consisting of a binary code is propagated. Multiple MOs connected to the bit lines of
One MoS transistor is selected from the S transistors, and a charge serving as the data is directly applied to one bit line through the selected MOS transistor, and the charge is transferred to a capacitor in a memory cell connected to the bit line to which the charge is applied. The device is characterized in that the charge serving as the data is directly transferred and held.

また、請求項(2)の記録素子へのテストデータ書込方
法は、2連符号からなるデータが伝播する一対のビット
ラインに接続する複数のMOSトランジスタから少なく
とも1つのMOSトランジスタを選択し1選択されたM
OSトランジスタを介して一方のビットラインにのみ前
記データとなる電荷を直接に与え、他方のビットライン
を零電位に保持し、前記一対のビットライン間の電位差
をビットラインに接続するセンスアンプで増幅し、電荷
を与えられたビットラインに接続するメモリセル内のキ
ャパシタへ前記センスアンプで増幅された前記電荷を移
送し保持したことを特徴とする。
Further, the method of writing test data to a recording element according to claim (2) selects at least one MOS transistor from a plurality of MOS transistors connected to a pair of bit lines through which data consisting of double codes is propagated; M that was done
A charge serving as the data is directly applied to only one bit line via an OS transistor, the other bit line is held at zero potential, and the potential difference between the pair of bit lines is amplified by a sense amplifier connected to the bit line. The charge amplified by the sense amplifier is transferred to and held in a capacitor in a memory cell connected to a charged bit line.

さらに、請求項(3)の記録素子テスト回路は、2連符
号のデータとなる電荷が伝播する一対のビットラインの
電位を増幅するセンスアンプと、前記ビットラインに与
えられる電荷をワードラインからの信号に応じて直接に
あるいは前記センスアンプで増幅後吸収及び保持するメ
モリセルと、前記ビットラインごとに直接に接続される
MOSトランジスタを介して一方のビットラインにのみ
与えられる前記データとなる電荷を前記ビットラインか
ら前記メモリセルへ移送し前記データを前記メモリセル
に書き込むデータ書込手段と、該手段により書き込まれ
た書込データを読み出しこの読出データが前記書込デー
タと一致するか否かを検査するデータ検査手段とを並列
に複数設け、かつ前記データ書込手段を形成するMOS
トランジスタの動作制御を行うと共に前記データ検査手
段へ検査信号を送信するコントロール回路とを設けて構
成したことを特徴とする。
Furthermore, the recording element test circuit according to claim (3) includes a sense amplifier that amplifies the potential of a pair of bit lines through which charges serving as data of a double code propagate, and a sense amplifier that amplifies the potential of a pair of bit lines through which charges serving as data of a double code are propagated; The charge that becomes the data is applied to only one bit line directly or through a memory cell that absorbs and holds the signal after amplification by the sense amplifier and a MOS transistor that is directly connected to each bit line. data writing means for transferring the data from the bit line to the memory cell and writing the data into the memory cell; and reading the write data written by the means and determining whether or not the read data matches the write data. A MOS including a plurality of data testing means to be tested in parallel and forming the data writing means.
The present invention is characterized in that it includes a control circuit that controls the operation of the transistor and transmits a test signal to the data test means.

ここで、データ書込手段のMOSトランジスタは、電源
に接続されるPMOSトランジスタと、接地されるNM
OSトランジスタからなることを特徴とする。
Here, the MOS transistors of the data writing means include a PMOS transistor connected to a power supply and a NMMOS transistor grounded.
It is characterized by consisting of an OS transistor.

また、コントロール回路から送信される検査信号は互い
に相異なる電位レベルを有する第1検査信号及び第2検
査信号からなり、データ検査手段は、一方のビットライ
ンの電位をゲート側に入力し前記電位に応じて前記第1
検査信号を導通する第lNMOSトランジスタと、他方
のビットラインの電位をゲート側に入力し前記電位に応
じて前記第2検査信号を導通する第2NMOSトランジ
スタと、前記第lNMOSトランジスタあるいは前記第
2NMOSトランジスタから出力される一方の検査信号
をゲート側に入力し読出データが書込データと不一致で
ある場合導通する第3 NMOSトランジスタからなる
ことを特徴とする。
Further, the test signal transmitted from the control circuit is composed of a first test signal and a second test signal having different potential levels, and the data test means inputs the potential of one bit line to the gate side and adjusts the potential to the above potential. According to the first
A first NMOS transistor that conducts a test signal, a second NMOS transistor that inputs the potential of the other bit line to its gate side and conducts the second test signal according to the potential, and the first NMOS transistor or the second NMOS transistor. It is characterized by comprising a third NMOS transistor which inputs one of the output test signals to the gate side and becomes conductive when the read data does not match the write data.

(作用) 本発明の請求項(1)の記録素子へのテストデータ書込
方法では、入出カラインを用いることなく、電源に接続
されたMoSトランジスタを導通させて一方のビットラ
インにのみ直接に電荷を与え、次いでこの電荷をセンス
アンプで増幅することなく上記ビットラインに接続する
特定のメモリセル内のキャパシタへ直接に移送し保持す
る。
(Function) In the method for writing test data to a recording element according to claim (1) of the present invention, a MoS transistor connected to a power supply is made conductive to directly charge only one bit line without using an input/output line. This charge is then directly transferred and held in a capacitor in a specific memory cell connected to the bit line without being amplified by a sense amplifier.

従って、キャパシタに保持される電荷の有無を2連符号
パ0°°、” 1 ”のデータとみなすことにより、メ
モリセルにデータを書き込み保持することができる。ま
た、入出カラインを経由しないのでデータの書き込みを
速やかに行うことができる。
Therefore, data can be written and held in the memory cell by regarding the presence or absence of charge held in the capacitor as data of the double code PA0°, "1". Furthermore, data can be written quickly because it does not go through input/output lines.

また、請求項(2)の記録素子へのテストデータ書込方
法では、入出カラインを用いることなく、電源に接続さ
れたMOSトランジスタを導通させ一方のビットライン
に電荷を与え、また他方のビットラインを零電位に維持
し、あるいは接地されたMOSトランジスタを導通させ
上記ビットラインを零電位に変える0次いで、一対のビ
ットライン間の電位差をセンスアンプで増幅した後電荷
を有するビットラインに接続する特定のメモリセル内の
キャパシタへ電荷を移送し保持する。
Further, in the method of writing test data to a recording element according to claim (2), without using input/output lines, a MOS transistor connected to a power supply is made conductive to apply charge to one bit line, and the other bit line is charged. The bit line is maintained at zero potential, or the grounded MOS transistor is made conductive to bring the bit line to zero potential.Next, the potential difference between the pair of bit lines is amplified by a sense amplifier, and then the specified bit line is connected to the charged bit line. The charge is transferred to and held in the capacitor in the memory cell.

従って、請求項(1)の記録素子へのテストデータ書込
方法と同様にメモリセルにデータを速やかに書き込み保
持することができる。また、センスアンプでビットライ
ンの電位を増幅したので、メモリセル内のキャパシタへ
の電荷の移送及び保持は確実に行われる。
Therefore, similarly to the method for writing test data to a recording element according to claim (1), data can be quickly written and held in a memory cell. Furthermore, since the potential of the bit line is amplified by the sense amplifier, the charge is reliably transferred to and held in the capacitor in the memory cell.

さらに、請求項(3)の記録素子テスト回路では、デー
タ書き込み時、一対のビットラインのうち一方のビット
ラインに電源に接続されるPMOSトランジスタを導通
させデータとなる電荷を与え、他方のビットラインを零
電位に維持し、あるいは接地されるNMOSトランジス
タを導通させ上記ビットラインを零電位に変える。次い
で、一対のビットライン間の電位差をセンスアンプで増
幅した後、あるいはセンスアンプを用いることなく直接
に電荷を有するビットラインに接続する特定のメモリセ
ル内のキャパシタへ電荷を移送し保持する。
Furthermore, in the recording element test circuit of claim (3), when writing data, a PMOS transistor connected to a power supply is made conductive to one bit line of the pair of bit lines to apply a charge that becomes data, and the other bit line is is maintained at zero potential, or the grounded NMOS transistor is made conductive to change the bit line to zero potential. Next, after the potential difference between the pair of bit lines is amplified by a sense amplifier, or without using a sense amplifier, the charge is directly transferred to and held in a capacitor in a specific memory cell connected to the charged bit line.

従って、高密度に集積されてなる記録素子の1ビツトの
記録単位に対応するメモリセルに2進符号からなるデー
タを書き込み保持することができる。
Therefore, data consisting of a binary code can be written and held in a memory cell corresponding to a 1-bit recording unit of a highly densely integrated recording element.

次にデータ読み出し時、キャパシタに保持された電荷は
ワードラインからの信号によりビットラインを再充電し
、一方のビットラインのみが電位を有するようになる。
Then, when reading data, the charge held in the capacitor recharges the bit line by the signal from the word line, so that only one bit line has a potential.

すると、第1NMOSトランジスタあるいは第2NMO
Sトランジスタのうち一方のみがビットラインからHレ
ベルの信号を受けて導通してコントロール回路から一方
の検査信号のみを通し、通過した検査信号が第3 NM
OSトランジスタへのゲート信号となる。
Then, the first NMOS transistor or the second NMOS transistor
Only one of the S transistors receives an H level signal from the bit line, becomes conductive, passes only one test signal from the control circuit, and the passed test signal is transferred to the third NM.
This becomes a gate signal to the OS transistor.

ここで、第1検査信号と第2検査信号の電位レベル(H
レベルあるいはLレベル)が相異なるので、データの読
み出し動作が正常である場合、正しく再充電される一方
のビットラインに接続し導通するNMOSトランジスタ
はLレベルの検査信号をコントロール回路から入力する
ように設定されている。それで、第3NMOSトランジ
スタへのゲート信号はLレベルになり、第3NMOSト
ランジスタは導通しない。
Here, the potential level (H
If the data read operation is normal, the NMOS transistor that is connected to one bit line and conducts to be recharged correctly receives an L level test signal from the control circuit. It is set. Therefore, the gate signal to the third NMOS transistor becomes L level, and the third NMOS transistor is not conductive.

データの読み出し動作が誤っている場合、誤って再充電
される他方のビットラインに接続し導通ずるNMOSト
ランジスタはコントロール回路がらHレベルの検査信号
を入力することになる。それで、第3NMOSトランジ
スタへのゲート信号はHレベルになり、第3NMOSト
ランジスタは導通する。
If the data read operation is erroneous, the NMOS transistor connected to the other bit line that is erroneously recharged and turned on will receive an H-level test signal from the control circuit. Therefore, the gate signal to the third NMOS transistor becomes H level, and the third NMOS transistor becomes conductive.

従って、読み出し動(ヤが正常であるか否か、即ちRA
Mテスト対象である記録素子の検査される特定の記録単
位部が正常であるか否かにより、第3NMOSトランジ
スタは非導通あるいは導通するので、記録素子の誤動作
を判別することができる。
Therefore, whether the read operation (or not) is normal or not, that is, the RA
Since the third NMOS transistor is rendered non-conductive or conductive depending on whether or not a particular recording unit portion to be inspected of the recording element to be tested is normal, malfunction of the recording element can be determined.

また、データ書込手段とデータ読出手段を並列に複数設
けることにより、RAMテスト対象である記録素子の複
数の記録単位部を同゛時に検査できる。
Further, by providing a plurality of data writing means and a plurality of data reading means in parallel, it is possible to simultaneously test a plurality of recording units of a recording element that is a RAM test target.

(実施例) 以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。(Example) Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図に本発明の一実施例に係わる記録素子へのテスト
データ書込方法を実施するための記録素子テスト回路を
示す。
FIG. 1 shows a recording element test circuit for carrying out a method of writing test data to a recording element according to an embodiment of the present invention.

図において、記録素子テスト回路はこの回路の動作を制
御するコントロール回路1と、該回路1からノードA、
B、C1及びDを介して制御されビットライン2.3の
電位を2進符号からなるデータとして設定するビットラ
イン電位設定部4と、該設定部4で設定される電位を記
録することによりデータが書き込まれるメモリセル5と
、ビットライン電位設定部4により設定されたビットラ
イン2.3の電位を増幅するセンスアンプ6と、メモリ
セル5に書き込まれたデータを読み出して得られる読出
データがノードE、Fを介してコントロール回路1から
送信される検査信号を用い正しいか否かの検査を行う検
査回路7と、ビットライン2と入出カライン(Ilo)
8の接続あるいはビットライン3と入出カライン(Il
o)9の接続を選択する選択部10から構成される。
In the figure, the recording element test circuit includes a control circuit 1 that controls the operation of this circuit, and a node A from the circuit 1.
A bit line potential setting section 4 which is controlled via bit line B, C1 and D and sets the potential of the bit line 2.3 as data consisting of a binary code, and data by recording the potential set by the setting section 4. The memory cell 5 to which is written, the sense amplifier 6 that amplifies the potential of the bit line 2.3 set by the bit line potential setting unit 4, and the read data obtained by reading the data written to the memory cell 5 are connected to a node. A test circuit 7 that tests whether it is correct or not using a test signal transmitted from the control circuit 1 via E and F, a bit line 2, and an input/output line (Ilo).
8 connection or bit line 3 and input/output line (Il
o) Consists of a selection unit 10 that selects 9 connections.

ここで、コントロール回路1は2進符号からなるテスト
データである入力データDINを入力し、該データの入
力時にノードA、B、C1及びDへ入力データに応じて
状態信号を出力し、がつメモリセル5からのデータを読
み出す時にノードE。
Here, the control circuit 1 inputs input data DIN, which is test data consisting of binary codes, and outputs status signals to nodes A, B, C1, and D according to the input data when the data is input. Node E when reading data from memory cell 5.

Fへ検査信号を出力する。Outputs a test signal to F.

ビットライン電位設定部4はビットライン2に接続され
るPMOSトランジスタM1及びNMOSトランジスタ
M2と、ビットライン3に接続されるPMOSトランジ
スタM3及びNMOShランジスタM4とから構成され
る。PMOSトランジスタM1、NMOSトランジスタ
M2、PMOSトランジスタM3、及びNMOSトラン
ジスタM4のゲート側にはノードA、ノードB、ノード
C1及びノードDがそれぞれ接続され、PMOSトラン
ジスタMl、M3はVcc電位の電源に接続されビット
ライン2あるいは3をVcc電位に保つ態様となってい
る。また、NMOSトランジスタM2、M4は接地され
ビットライン2あるいは3を零電位に保つ態様となって
いる。
The bit line potential setting unit 4 includes a PMOS transistor M1 and an NMOS transistor M2 connected to the bit line 2, and a PMOS transistor M3 and an NMOS transistor M4 connected to the bit line 3. A node A, a node B, a node C1, and a node D are connected to the gate sides of the PMOS transistor M1, NMOS transistor M2, PMOS transistor M3, and NMOS transistor M4, respectively, and the PMOS transistors M1 and M3 are connected to a power supply with a Vcc potential. The bit line 2 or 3 is maintained at Vcc potential. Further, the NMOS transistors M2 and M4 are grounded to keep the bit line 2 or 3 at zero potential.

メモリセル5はNMOSトランジスタ11及びキャパシ
タC1を直列接続してなり、NMOSトランジスタ11
のゲート側にはワードラインW/Lが接続され、ワード
ラインW/Lからの信号に応じてビットライン2とキャ
パシタC1の間で電荷の交換が行われる態様となってい
る。
The memory cell 5 is formed by connecting an NMOS transistor 11 and a capacitor C1 in series.
A word line W/L is connected to the gate side of the word line W/L, and charges are exchanged between the bit line 2 and the capacitor C1 in response to a signal from the word line W/L.

検査回路7はNMOSトランジスタM5、M6、M7、
及びM8から構成される。NMOSトランジスタM5は
ゲート側がビットライン3に接続され、ビットライン3
の電位に応じてノードFの信号をノードHへ伝える。N
MOSトランジスタM6はゲート側がビットライン2に
接続され、ビットライン2の電位に応じてノードEの信
号をノードHへ伝える。NMOSトランジスタM7はゲ
ート側をリセットラインR/Lに接続され、リセットラ
インR/Lからのリセット信号に応じてノドHを零電位
にリセットする態様となっている。
The test circuit 7 includes NMOS transistors M5, M6, M7,
and M8. The gate side of the NMOS transistor M5 is connected to the bit line 3, and the gate side is connected to the bit line 3.
The signal of node F is transmitted to node H according to the potential of node F. N
The gate side of the MOS transistor M6 is connected to the bit line 2, and transmits the signal of the node E to the node H according to the potential of the bit line 2. The gate side of the NMOS transistor M7 is connected to the reset line R/L, and the node H is reset to zero potential in response to a reset signal from the reset line R/L.

NMOSトランジスタM8はゲート側をノードHに接続
され、エラー発生ラインTQの電位をノドHの電位に応
じて零電位にする態様となっている。
The gate side of the NMOS transistor M8 is connected to the node H, and the potential of the error generation line TQ is set to zero potential according to the potential of the node H.

選択部10はNMOSトランジスタM9.10をそのゲ
ート側をカラムラインCOLにそれぞれ接続して構成さ
れる。NMOSトランジスタM9はカラムラインCOL
からのカラム選択信号に応じて入力ライン8とビットラ
イン2を導通する。
The selection unit 10 is constructed by connecting NMOS transistors M9 and M9 and their gates to the column line COL, respectively. NMOS transistor M9 is connected to column line COL
The input line 8 and the bit line 2 are made conductive in response to a column selection signal from the input line 8 and the bit line 2.

NMOSトランジスタMIOはカラムラインCOLから
のカラム信号に応じて入力ライン9とビットライン3を
導通する。
NMOS transistor MIO conducts input line 9 and bit line 3 in response to a column signal from column line COL.

なお、図示されていないがビットライン2.3、ビット
ライン電位設定部4、メモリセル5、センスアンプ6、
検査回路7、及び選択部8からなるデータの書込及び読
出の回路は多数並列接続され、コントロール回路1から
の制御を並列に受ける。
Although not shown, the bit line 2.3, bit line potential setting unit 4, memory cell 5, sense amplifier 6,
A large number of data writing and reading circuits including the test circuit 7 and the selection section 8 are connected in parallel and receive control from the control circuit 1 in parallel.

また、上記データの書込及び読出の各回路はワードライ
ンW/L、リセットラインR/L、及びエラー発生ライ
ンTQを共通のラインとして有する。
Further, each of the data writing and reading circuits has a word line W/L, a reset line R/L, and an error generation line TQ as common lines.

上記の構成に基づき記録素子テスト回路の一般的な動作
を説明する。
The general operation of the recording element test circuit will be explained based on the above configuration.

動作は従来のDRAM素子と同様であり、MOSトラン
ジスタM1乃至M4はコントロール回路1からの制御に
より非導通になる。
The operation is similar to that of a conventional DRAM element, and the MOS transistors M1 to M4 are rendered non-conductive under control from the control circuit 1.

上記状態において、NMOSトランジスタM9ないしM
IOはカラムラインからのカラム選択信号により導通し
、入出カライン8ないし9はビットライン2.3、及び
センスアンプ6に電気的に接続する。
In the above state, the NMOS transistors M9 to M
IO is made conductive by a column selection signal from the column line, and the input/output lines 8 and 9 are electrically connected to the bit line 2.3 and the sense amplifier 6.

次いで、センスアンプ6は上記カラム選択信号により選
択されたビットライン2あるいは3を介してワードライ
ンW/Lにより選択されたメモリセル5のキャパシタC
1をNMOSトランジスタMllを通して充電する。
Next, the sense amplifier 6 connects the capacitor C of the memory cell 5 selected by the word line W/L via the bit line 2 or 3 selected by the column selection signal.
1 is charged through the NMOS transistor Mll.

このようにして、キャパシタC1に2連符号“0°゛、
1°゛のデータに相当する電荷が与えられ、データの書
き込みが成される。
In this way, the double code "0°",
A charge corresponding to 1° of data is applied, and data is written.

次にデータの読み出し時には、メモリセル5はワードラ
インW’/Lからの信号を受は上記NMOSトランジス
タMllが導通し、キャパシタC1に充電された電荷は
ビットライン2ないし3へ放電される。すると、センス
アンプ6はビットライン2ないし3の電位変化を状態信
号として検出し増幅する0次いで、増幅された状態信号
は電気的に接続する入出カライン8ないし9へ出力する
Next, when reading data, the memory cell 5 receives a signal from the word line W'/L, and the NMOS transistor Mll becomes conductive, and the charge stored in the capacitor C1 is discharged to the bit lines 2 and 3. Then, the sense amplifier 6 detects and amplifies the potential change of the bit lines 2 and 3 as a state signal.Then, the amplified state signal is outputted to the electrically connected input/output lines 8 and 9.

このような動作は通常のDRAM素子の動fヤと同じで
ある。
Such operation is the same as that of a normal DRAM device.

次に、RAMテストに関し、本発明の一実施例である記
録素子へのテストデータ書込方法を実行する場合の記録
素子テスト回路の動作を説明する。
Next, regarding the RAM test, the operation of the recording element test circuit when executing a method of writing test data to a recording element, which is an embodiment of the present invention, will be described.

ここで、RAMテストとはテスト対象であるRAMにテ
ストデータを書き込み、次いで上記RAMから読み出さ
れたデータをRAMに書き込んだデータと比較すること
である。
Here, the RAM test is to write test data to the RAM to be tested, and then compare the data read from the RAM with the data written to the RAM.

このようなRAMテストにおけるテストデータの書き込
み方式として本実施例において2種類の方式がある。即
ち、一方はセンスアンプ6を用いない方式であり、他方
はセンスアンプ6を用いる方式である。
In this embodiment, there are two types of methods for writing test data in such a RAM test. That is, one is a method that does not use the sense amplifier 6, and the other is a method that uses the sense amplifier 6.

なお、上記のいずれの方式にしろ本実施例ではNMO5
トランジスタM9、MIOは非導通になり、入出カライ
ン8.9はビットライン2.3から遮断される。即ち、
入出カライン8.9は用いられない。
In addition, regardless of the above-mentioned method, in this example, NMO5
Transistors M9 and MIO become non-conductive and the input/output line 8.9 is cut off from the bit line 2.3. That is,
Input/output lines 8.9 are not used.

最初に、センスアンプ6を用いない方式について説明す
る。
First, a method that does not use the sense amplifier 6 will be explained.

テストデータDINとして2連符号(“0“°及び’1
”)のうち°1′°を選んだ場合、” 1 ”であるテ
ストデータはデータ書き込み動作時にビットライン2を
介してメモリセル5のキャパシタC1に直接与えられる
。即ち、ビットライン2へ接続するメモリセル5を有す
るワードラインW/1゜が選択された後、コントロール
回路1はノードAをLレベルに維持してPMO8トラン
ジスタM1を導通させ、ビットライン2は電位Vccに
なる。
The test data DIN is a double code (“0”° and '1
), the test data of "1" is directly applied to the capacitor C1 of the memory cell 5 via the bit line 2 during the data write operation. That is, it is connected to the bit line 2. After the word line W/1° having the memory cell 5 is selected, the control circuit 1 maintains the node A at L level to turn on the PMO8 transistor M1, and the bit line 2 becomes the potential Vcc.

この時、上記ワードラインW/Lにより選択されるNM
OSトランジスタMllは導通し、センスアンプ6が用
いられることなくキャパシタC1は直接充電される。こ
の充電がデータ゛1゛°の書き込みに相当する。この時
、ビットライン2上へ与えられたテストデータ゛1”′
と同じデータがコントロール回路1にラッチされ、デー
タの読み出し時に書き込みデー、夕としてノードE、F
へ出力される。
At this time, NM selected by the word line W/L
The OS transistor Mll becomes conductive, and the capacitor C1 is directly charged without using the sense amplifier 6. This charging corresponds to writing data "1". At this time, test data ``1''' applied to bit line 2
The same data is latched in the control circuit 1, and when reading the data, the write data is transferred to nodes E and F.
Output to.

次に、センスアンプ6を用いる方式について説明する。Next, a method using the sense amplifier 6 will be explained.

センスアンプ6を用いない方式と同様にテストデータと
して°“1°°を選んだ場合、コントロール回路1はノ
ードAをLレベルにノードDをHレベルに維持し、PM
OSトランジスタM1及びNMOSトランジスタM4を
導通させる。すると、ビットライン2は電位Vccにな
り、ビットライン3は零電位になる0次いで、センスア
ンプ6はビットライン2とビットライン3の電位差を検
知し増幅し、上述したセンスアンプ6を用いない方式と
同様にして選択されたキャパシタC1はVcc電位に充
電される。このようにしてデータ゛1゛。
Similar to the method that does not use the sense amplifier 6, when 1° is selected as the test data, the control circuit 1 maintains the node A at the L level and the node D at the H level, and PM
The OS transistor M1 and the NMOS transistor M4 are made conductive. Then, the bit line 2 becomes potential Vcc, and the bit line 3 becomes zero potential.Then, the sense amplifier 6 detects and amplifies the potential difference between the bit line 2 and the bit line 3. Similarly, the selected capacitor C1 is charged to the Vcc potential. In this way, data ゛1゛.

がメモリセル5に書き込まれる。is written into the memory cell 5.

次に、上述した2つのデータ書き込み方式のいずれかに
よりメモリセル5に書き込まれたデータを読み出し、こ
の読み出しデータを書き込みデータと比較する動作を説
明する。
Next, the operation of reading data written into the memory cell 5 by either of the two data writing methods described above and comparing the read data with the written data will be described.

まず、コントロール回路1はノードA及びノードCにH
レベルの状態信号を、またノードB及びノードDにLレ
ベルの状態信号を与え、MOSトランジスタM1乃至M
4を非導通にする。
First, the control circuit 1 connects nodes A and C to an H level.
MOS transistors M1 to M
4 becomes non-conductive.

次いで、トランジスタMllはワードライン2からの信
号により導通し、キャパシタC1に保持される電荷がワ
ードライン2へ放電される。すると、センスアンプ6は
ビットライン3が零電位、即ちLレベルであるのに反し
、ビットライン2がHレベルになったことを検出する。
Transistor Mll is then turned on by the signal from word line 2, and the charge held in capacitor C1 is discharged to word line 2. Then, the sense amplifier 6 detects that the bit line 2 is at the H level while the bit line 3 is at zero potential, that is, at the L level.

上記のセンスアンプ6による検出が成されるまで、コン
トロール回路1はノードE及びノードFをLレベルに維
持する。上記検出が成されると、コントロール回路1は
状態信号をノードA乃至りを介して出力しなときラッチ
したテストデータに対応する検査信号をノードE、Fを
介して出力する。即ち、テストデータは1°°であるの
でコントロール回路1はノードEへLレベルの検査信号
を、またノードFへHレベルの検査信号を出力し、メモ
リセル5に書き込まれたデータ゛1”は検査回路7で検
査される。
Control circuit 1 maintains node E and node F at L level until the above-described detection by sense amplifier 6 is performed. When the above detection is performed, the control circuit 1 outputs a test signal corresponding to the latched test data via the nodes E and F when the control circuit 1 does not output the status signal via the nodes A to F. That is, since the test data is 1°, the control circuit 1 outputs an L-level test signal to the node E and an H-level test signal to the node F, and the data "1" written in the memory cell 5 is not tested. Tested in circuit 7.

即ち、ビットライン3のLレベル(零電位)信号はNM
OSトランジスタM5のゲート側へ伝えられ、ビットラ
イン2のHレベル信号はNMOSトランジスタM6のゲ
ート側へ伝えられる。すると、NMOSトランジスタM
5は非導通となり、NMOSトランジスタM6は導通し
、ノードHヘノードEのLレベルの検査信号が伝えられ
、NMOSトランジスタM8は非導通を維持する。
That is, the L level (zero potential) signal on bit line 3 is NM
The signal is transmitted to the gate side of the OS transistor M5, and the H level signal on the bit line 2 is transmitted to the gate side of the NMOS transistor M6. Then, NMOS transistor M
5 becomes non-conductive, NMOS transistor M6 becomes conductive, the L-level test signal of node E is transmitted to node H, and NMOS transistor M8 remains non-conductive.

それで、予め荷電されHレベルになっているエラー発生
ラインTQは、RAMテストの読み出し動作時において
Hレベルを維持する。これは、キャパシタC1から読み
出されたデータがメモリセル5のキャパシタC1へ書き
込まれたデータと一致すること・を意味する。
Therefore, the error generation line TQ, which is previously charged and at H level, maintains the H level during the read operation of the RAM test. This means that the data read from the capacitor C1 matches the data written to the capacitor C1 of the memory cell 5.

従って、RAMテスト対象である記録素子は正常である
ことを確認できる。
Therefore, it can be confirmed that the recording element that is the subject of the RAM test is normal.

次に、メモリセル5に書き込まれたデータを読み出した
ときエラーが生じ、デーラダ゛1゛を読み出すべきであ
るのにデータ゛0パを読み出した場合、センスアンプ6
はビットライン2が零電位、即ちLレベルであるのに反
し、ビットライン3がHレベルになったことを検出する
。それで、NMOSトランジスタM6は零電位をゲート
側に入力して非導通となるのに反し、NMOSトランジ
スタM5はHレベルをゲート側に入力し導通する。
Next, if an error occurs when reading the data written in the memory cell 5 and data 0 is read when data 1 is supposed to be read, the sense amplifier 6
detects that bit line 3 is at H level while bit line 2 is at zero potential, that is, at L level. Therefore, the NMOS transistor M6 inputs a zero potential to its gate side and becomes non-conductive, whereas the NMOS transistor M5 inputs an H level to its gate side and becomes conductive.

すると、ノードHヘノードFのHレベルの検査信号が伝
えられ、NMOSトランジスタM8は導通する。それで
、予め荷電されHレベルになっているエラー発生ライン
TQは、RAMテストの読み出し動作時においてNMO
SトランジスタM8を通ってグランドへ放電し零電位に
なる。これは、キャパシタC1から読み出されたデータ
がメモリセル5のキャパシタC1へ書き込まれたデータ
と不一致であることを意味する。
Then, the test signal at the H level of the node F is transmitted to the node H, and the NMOS transistor M8 becomes conductive. Therefore, the error generation line TQ, which has been charged in advance and is at H level, becomes NMO during the read operation of the RAM test.
It is discharged to the ground through the S transistor M8 and becomes zero potential. This means that the data read from the capacitor C1 does not match the data written to the capacitor C1 of the memory cell 5.

従って、RAMテスト対象である記録素子は不良である
ことを確認できる。
Therefore, it can be confirmed that the recording element that is the subject of the RAM test is defective.

このように、エラー発生ラインTQは図示しないが並列
して設置される他の記録素子テスト回路ごとに設置され
るNMo5トランジスタM8の全てを並列に接続する共
通ラインであるので、メモリセルごとに=売み出される
データは同時に検査回路で並列処理され、この処理結果
がエラー発生ラインTQに並列に伝えられる。つまり、
RAMテスト対象である記録素子に対し所定のビット数
だけ一括した単位でRAMテストが行われ、少なくとも
1のビットに欠陥があるとエラー発生ラインTQは零電
位になり、上記記録素子が不良であることが分かる。
In this way, although not shown, the error generation line TQ is a common line that connects in parallel all the NMo5 transistors M8 installed in each of the other recording element test circuits installed in parallel, so that for each memory cell = The data to be sold is simultaneously processed in parallel by the test circuit, and the processing results are transmitted in parallel to the error generation line TQ. In other words,
A RAM test is performed on the recording element that is the subject of the RAM test in units of a predetermined number of bits, and if at least one bit is defective, the error generation line TQ becomes zero potential, indicating that the recording element is defective. I understand that.

なお、リセットラインR/Lに接続するNMOSトラン
ジスタM7は、所定のビット数ごとにテストされる記録
素子の次のテストサイクルに備えてリセットラインR/
LからHレベルの信号を受けて導通し、ノードHを零電
位にリセットする。
Note that the NMOS transistor M7 connected to the reset line R/L is connected to the reset line R/L in preparation for the next test cycle of the recording element to be tested every predetermined number of bits.
It receives a signal from L to H level, becomes conductive, and resets node H to zero potential.

上述したように、本実施例では入出カライン8.9を用
いること無くビットライン2.3ヘデータを直接に書き
込み1次いで読み出して得られるデータ、即ちメモリセ
ル5から読み出されるデータを書き込みデータと検査回
路3で論理的に一致するか否かを検査することにより、
記録素子の品質検査ができる。
As described above, in this embodiment, the data obtained by directly writing and then reading data to the bit line 2.3 without using the input/output lines 8.9, that is, the data read from the memory cell 5, is used as the write data and the inspection circuit. By checking whether there is a logical match in step 3,
The quality of recording elements can be inspected.

また、選択されたワードラインW/Lに接続される各メ
モリセルへのデータ書き込み動作は1つのサイクルの間
に可能であり、また各メモリセルに記録されるデータの
読みだし動作も1つのサイクルの間に可能であるので、
RAMテスト時間を大幅に短縮することができる。
Furthermore, the data write operation to each memory cell connected to the selected word line W/L is possible during one cycle, and the data read operation recorded in each memory cell is also possible in one cycle. Since it is possible between
RAM test time can be significantly reduced.

本発明は、上記実施例に限定されるものではなく、適宜
の設計的変更により、適宜の態様で実施し得るものであ
る。
The present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be implemented in any appropriate manner by making appropriate design changes.

[発明の効果コ 以上説明したように本発明の請求項(1)の記録素子へ
のテストデータ書込方法によれば、2連符号からなるデ
ータが伝播する一対のビットラインに接続する複数のM
OSトランジスタから1つのMOSトランジスタを選択
し、選択されたMOSトランジスタを介して一方のビッ
トラインに前記データとなる電荷を直接に与え、電荷を
与えられたビットラインに接続するメモリセル内のキャ
パシタへ前記データとなる電荷を直接に移送し保持し、
入出カラインを経由することがないので、大幅にRAM
テストの所要時間を短縮できる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the method of writing test data to a recording element according to claim (1) of the present invention, a plurality of bit lines connected to a pair of bit lines through which data consisting of a double code is transmitted M
One MOS transistor is selected from the OS transistors, and a charge serving as the data is directly applied to one bit line through the selected MOS transistor, and the charge is transferred to a capacitor in a memory cell connected to the given bit line. Directly transfers and holds the charge serving as the data,
Since there is no input/output line, a large amount of RAM is required.
It can shorten the time required for testing.

また、請求項(2)の記録素子へのテストデータ書込方
法によれば、2連符号からなるデータが伝播する一対の
ビットラインに接続する複数のMOSトランジスタから
少なくとも1つのMOSトランジスタを選択し、選択さ
れたMoSトランジスタを介して一方のビットラインに
のみ前記データとなる電荷を直接に与え、他方のビット
ラインを零電位に保持し、前記−・対のビットライン間
の電位差をビットラインに接続するセンスアンプで増幅
し、電荷を与えられたビットラインに接続するメモリセ
ル内のキャパシタへ前記センスアンプで増幅された前記
電荷を移送し保持し、入出カラインを経由することがな
いので、大幅にRAMテストの所要時間を短縮でき、ま
たセンスアンプでビットラインの電位を増幅するので、
データの書き込みは確実である。
According to the method for writing test data to a recording element according to claim (2), at least one MOS transistor is selected from a plurality of MOS transistors connected to a pair of bit lines through which data consisting of double codes is propagated. , directly apply the charge that becomes the data to only one bit line through the selected MoS transistor, hold the other bit line at zero potential, and apply the potential difference between the pair of bit lines to the bit line. The charge amplified by the connected sense amplifier is transferred and held to the capacitor in the memory cell connected to the charged bit line, and the charge is not passed through the input/output bit line. The time required for RAM testing can be shortened, and the sense amplifier amplifies the bit line potential.
Data writing is reliable.

さらに、請求項(3)の記録素子テスト回路によれば、
2連符号のデータとなる電荷が伝播する一対のビットラ
インの電位を増幅するセンスアンプと、前記ビットライ
ンに与えられる電荷をワードラインからの信号に応じて
直接にあるいは前記センスアンプで増幅後吸収及び保持
するメモリセルと、前記ビットラインごとに直接に接続
されるMOSトランジスタを介して一方のビットライン
にのみ与えられる前記データとなる電荷を前記ビットラ
インから前記メモリセルへ移送し前記データを前記メモ
リセルに書き込むデータ書込手段と、該手段により書き
込才れた書込データを読み出しこの読出データが前記書
込データと一致するが否かを検査するデータ検査手段と
を並列に複数設け、かつ前記データ書込手段を形成する
MOSトランジスタの動作制御を行うと共に前記データ
検査手段へ検査信号を送信するコントロール回路とを設
けて構成したので、上述の記録素子へのテストデータ書
込方法を実施するに役立つ。
Furthermore, according to the recording element test circuit of claim (3),
A sense amplifier amplifies the potential of a pair of bit lines through which charges that become data of a double code propagate, and absorbs charges applied to the bit lines either directly or after amplification by the sense amplifier according to a signal from a word line. The data is transferred from the bit line to the memory cell through a MOS transistor that is directly connected to each bit line, and the charge that becomes the data is transferred from the bit line to the memory cell. A plurality of data writing means for writing into a memory cell and data checking means for reading the written data written by the means and checking whether the read data matches the written data are provided in parallel, In addition, since the configuration includes a control circuit that controls the operation of the MOS transistor forming the data writing means and transmits a test signal to the data testing means, the method for writing test data to the recording element described above can be carried out. Helpful.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例に係わる記録素子テスト回路
である。 1・・・コントロール回路 2.3・・・ビットライン 4・・・ビットライン電位設定部 5・・・メモリセル 6・・・センスアンプ 7・・・検査回路 8.9・・・入出カライン 10・・・選択部
FIG. 1 shows a recording element test circuit according to an embodiment of the present invention. 1... Control circuit 2.3... Bit line 4... Bit line potential setting section 5... Memory cell 6... Sense amplifier 7... Inspection circuit 8.9... Input/output line 10 ...Selection section

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)2進符号からなるデータが伝播する一対のビット
ラインに接続する複数のMOSトランジスタから1つの
MOSトランジスタを選択し、選択されたMOSトラン
ジスタを介して一方のビットラインに前記データとなる
電荷を直接に与え、電荷を与えられたビットラインに接
続するメモリセル内のキャパシタへ前記データとなる電
荷を直接に移送し保持したことを特徴とする記録素子へ
のテストデータ書込方法。
(1) One MOS transistor is selected from a plurality of MOS transistors connected to a pair of bit lines through which data consisting of a binary code is propagated, and charges that become the data are transferred to one bit line through the selected MOS transistor. 1. A method for writing test data into a recording element, characterized in that the charge forming the data is directly transferred to and held in a capacitor in a memory cell connected to a charged bit line.
(2)2進符号からなるデータが伝播する一対のビット
ラインに接続する複数のMOSトランジスタから少なく
とも1つのMOSトランジスタを選択し、 選択されたMOSトランジスタを介して一方のビットラ
インにのみ前記データとなる電荷を直接に与え、 他方のビットラインを零電位に保持し、 前記一対のビットライン間の電位差をビットラインに接
続するセンスアンプで増幅し、 電荷を与えられたビットラインに接続するメモリセル内
のキャパシタへ前記センスアンプで増幅された前記電荷
を移送し保持したことを特徴とする記録素子へのテスト
データ書込方法。
(2) At least one MOS transistor is selected from a plurality of MOS transistors connected to a pair of bit lines through which data consisting of a binary code is propagated, and the data is transmitted to only one bit line through the selected MOS transistor. a memory cell connected to the bit line to which the electric charge is applied, the other bit line is held at zero potential, the potential difference between the pair of bit lines is amplified by a sense amplifier connected to the bit line, and the electric charge is applied directly to the bit line. A method for writing test data into a recording element, characterized in that the charge amplified by the sense amplifier is transferred to and held in a capacitor in the recording element.
(3)2進符号のデータとなる電荷が伝播する一対のビ
ットラインの電位を増幅するセンスアンプと、 前記ビットラインに与えられる電荷をワードラインから
の信号に応じて直接にあるいは前記センスアンプで増幅
後吸収及び保持するメモリセルと、前記ビットラインご
とに直接に接続されるMOSトランジスタを介して一方
のビットラインにのみ与えられる前記データとなる電荷
を前記ビットラインから前記メモリセルへ移送し前記デ
ータを前記メモリセルに書き込むデータ書込手段と、該
手段により書き込まれた書込データを読み出しこの読出
データが前記書込データと一致するか否かを検査するデ
ータ検査手段とを並列に複数設け、かつ前記データ書込
手段を形成するMOSトランジスタの動作制御を行うと
共に前記データ検査手段へ検査信号を送信するコントロ
ール回路とを設けて構成したことを特徴とする記録素子
テスト回路。
(3) A sense amplifier that amplifies the potential of a pair of bit lines through which charges that become data of a binary code propagate; After amplification, the charge that becomes the data given only to one bit line is transferred from the bit line to the memory cell through a memory cell that absorbs and holds it, and a MOS transistor directly connected to each bit line. A plurality of data writing means for writing data into the memory cells and data checking means for reading the write data written by the means and checking whether the read data matches the write data are provided in parallel. , and a control circuit for controlling the operation of a MOS transistor forming the data writing means and transmitting a test signal to the data testing means.
(4)データ書込手段のMOSトランジスタは、電源に
接続されるPMOSトランジスタと、接地されるNMO
Sトランジスタからなることを特徴とする請求項(3)
記載の記録素子テスト回路。
(4) The MOS transistors of the data writing means include a PMOS transistor connected to the power supply and an NMOS transistor connected to the ground.
Claim (3) characterized in that it consists of an S transistor.
The recording element test circuit described.
(5)コントロール回路から送信される検査信号は互い
に相異なる電位レベルを有する第1検査信号及び第2検
査信号からなり、 データ検査手段は、一方のビットラインの電位をゲート
側に入力し前記電位に応じて前記第1検査信号を導通す
る第1NMOSトランジスタと、他方のビットラインの
電位をゲート側に入力し前記電位に応じて前記第2検査
信号を導通する第2NMOSトランジスタと、 前記第1NMOSトランジスタあるいは前記第2NMO
Sトランジスタから出力される一方の検査信号をゲート
側に入力し読出データが書込データと不一致である場合
導通する第3NMOSトランジスタからなることを特徴
とする請求項(3)記載の記録素子テスト回路。
(5) The test signal transmitted from the control circuit consists of a first test signal and a second test signal having mutually different potential levels, and the data test means inputs the potential of one bit line to the gate side and a first NMOS transistor that conducts the first test signal in accordance with the potential of the other bit line; a second NMOS transistor that inputs the potential of the other bit line to its gate side and conducts the second test signal in accordance with the potential; and the first NMOS transistor Or the second NMO
3. The recording element test circuit according to claim 3, further comprising a third NMOS transistor which inputs one of the test signals outputted from the S transistor to the gate side and becomes conductive when the read data does not match the write data. .
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NL (1) NL194812C (en)
RU (1) RU2084972C1 (en)
SE (1) SE512452C2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05128899A (en) * 1991-10-29 1993-05-25 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6950356B2 (en) * 2002-02-26 2005-09-27 Koninklijke Philips Electronics N.V. Non-volatile memory test structure and method
WO2016143169A1 (en) * 2015-03-09 2016-09-15 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor storage device

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6446300A (en) * 1987-08-17 1989-02-20 Nippon Telegraph & Telephone Semiconductor memory

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59185097A (en) * 1983-04-04 1984-10-20 Oki Electric Ind Co Ltd Memory device with self-diagnostic function
JPS62229599A (en) * 1986-03-31 1987-10-08 Toshiba Corp Nonvolatile semiconductor memory device
DE3773773D1 (en) * 1986-06-25 1991-11-21 Nec Corp TEST CIRCUIT FOR A STORAGE EQUIPMENT WITH Arbitrary ACCESS.
EP0263312A3 (en) * 1986-09-08 1989-04-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor memory device with a self-testing function
JPH01113999A (en) * 1987-10-28 1989-05-02 Toshiba Corp Stress test circuit for non-volatile memory

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6446300A (en) * 1987-08-17 1989-02-20 Nippon Telegraph & Telephone Semiconductor memory

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05128899A (en) * 1991-10-29 1993-05-25 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

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