JPH03115272A

JPH03115272A - マンデル酸誘導体およびその製法

Info

Publication number: JPH03115272A
Application number: JP1273274A
Authority: JP
Inventors: Susumu Nakagawa; 晋中川; Takashi Mitomo; 三友　隆司; Ryosuke Ushijima; 牛嶋　良輔
Original assignee: Banyu Phamaceutical Co Ltd
Current assignee: MSD KK
Priority date: 1989-10-19
Filing date: 1989-10-19
Publication date: 1991-05-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】Ｌ１上立且■旦■ 本発明はマンデル酸誘導体、更に詳しくは医薬として有
用なセフェム化合物の中間体である２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−置換オキシイミノ酢酸誘導
体およびその製法に関する。

が　　よ−と従来、セフェム核の７位側鎖に２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−（置換オキシイミノ）アセトア
ミド基を有する化合物は極めて多く合成され、それらの
記載された公開技術としては、例えば特開昭５２−１０
２２９３号、同５２−１１６４９２号、同５３−１３７
９８８号、同５４−９２９６号、同５４−１５４７８６
号、同５４−１５７５９６号、同５５−１５４９８０号
、同５６−８６１８７号、同５７−５９８９５号、同５
７−９９５９２号、同５７−１９２３９４号および同５
８−１７４３８７号公報等が挙げられ、ダラム陽性菌お
よびシュードモナス　エルギノーザ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏ
ｎａｓ■Ｌ玉劫旦払）を含むセファロスポリン耐性のグ
ラム陰性菌に対しても活性を示し、優れた抗菌力と幅広
い抗菌スペクトルを有することが示唆されている。

しかしながら、これらの化合物の抗菌力はシュードモナ
ス　エルギノーザ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ貼旧琢旬仝
狙）、シュードモナス　セパシア（Ｐ　５ｅｕｄ　ｏ　
ｍｏｎ　ａ　ｓ　キ以に臘）、シュードモナス　マルト
フィリア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓｍａｌｔｏｈｉｌｉ
ａ）およびアシネトバクタ−カルコアセティカス（Ａｃ
ｉｎｅｔｏｂａｃｔｅｒ　ｃａｌｃｏａｃｅｔｉｃｕｓ
）等のブドウ糖非醗酵ダラム陰性惇菌（ｇｌｕｃｏｓｅ
　ｎｏｎ−ｆｅｒｍｅｎｔａｔｉｖｅ　ｇｒａｍ−ｎｅ
ｇａｔｉｖｅ　ｒｏｄｓ）に対して十分とは言えない。

更には、セフェム核７位アシル側鎖の置換オキシイミノ
基の置換部分としては、メチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基、フェニル基等のアリール基、ベンジル基等の
アラルキル基等が知られている。しかしながら本願にお
いて、対応する該置換部分、即ちα−カルボキシ−３，
４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）ベンジル基を
有する本発明の一般式［１１の化合物は、文献未記載の
新規な化合物であβ−ラクタム抗生物質は、細菌にのみ
選択毒性を示し、動物細胞に対しては影響を与えないこ
とから、副作用の少ない抗生物質として細菌による感染
症の治療に広く使用され有用性の高い薬剤である。

しかしながら、近年、ブドウ糖非醗酵グラム陰性憚菌、
特に緑膿菌は免疫力が低下した患者から、難治性感染症
の起炎菌として、しばしば分離され、種々の問題を提起
している。従って、これらの菌に対して改善された抗菌
力を有する抗菌剤の開発が望まれている。

・　　　　　　　こ　　　の本発明は、優れた抗菌力を有する新規なセファロスポリ
ン誘導体を提供することを目的とし、セフェム核の３位
に１−力ルボキシメチルビリジニウム−４−イルチオメ
チル基を、７位に２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（置換オキシイミノ）アセトアミド基を有す
る新規なセファロスポリン誘導体について鋭意研究した
。その結果、本発明化合物をセフェム核７位側鎖の合成
中間体とするセフェム化合物が、ダラム陽性菌およびダ
ラム陰性菌に対して特に優れた抗菌力を有し、セフタジ
ジム（ｃｅｆｔａｚｉｄｉｍｅ）およびセフォタキシム
（ｃｅｆｏｔａｘｉｍｅ）と比較して、シュードモナス
　エルギノーザ、シュードモナス　セパシアおよびアシ
ネトバクタ−カルコアセティカス等のブドウ糖非醗酵ダ
ラム陰性憚菌に対して強い抗菌力と幅広い抗菌スペクト
ルを有し、又β−ラクタマーゼに対する安定性に優れて
いることを見出し、本発明を完成した。

本発明は、一般式［Ｉ］（式中、Ｒはトリチル基、ホルミル基、クロロアセチル
基およびｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基からなる群よ
り選ばれるアミノ基の保護基、Ｐｈはフェニル基を示す
）で表される化合物またはその塩およびその製造法に関
する。

本明細書に記載された記号および用語について説明する
。

Ｒはトリチル基、ホルミル基、クロロアセチル基および
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基からなる群から選ばれ
るアミノ基の保護基を意味し、特にトリチル基が好まし
い。

ｐｈはフェニル基を示し、ｐｈｔはフタルイミド基を示
す。

一般式［］のオキシイミノ基における部分構造（−Ｃ−
；Ｒ＋は置換ベンジル基を示す）はシン異性１ＯＲ’ 配置：　−Ｃ−ＣＯＮＨ−）が存在し、一般にシン異性
体１／Ｒ’０が優れ抗菌活性を示し、本明細書においてＯＲ’基はす
べてシン異性体である。Ｅ／Ｚ命名法はジャナル　オブ
　ジ　アメリカン　ケミカル　ソサエティＵ、　Ａｍ、
　Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、）、第９０巻、５０９頁（１９
６８年）に記載されている。

一般式［１１の塩としては、カルボキシル基における塩
が挙げられる。例えばナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、マグネシウム、アルミニウム等との金属塩、Ｎ、Ｎ
’−ジベンジルエチレンジアミン、プロカイン等との有
機アミン塩；塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、過塩素酸
等との無機酸塩：酢酸、乳酸、プロピオン酸、マレイン
酸、フマール酸、りんご酸、酒石酸、くえん酸等との有
機酸塩；メタンスルホン酸、イセチオン酸、ｐ−トルエ
ンスルホン酸等とのスルホン酸塩；グルタミン酸、アス
パラギン酸、リジン、アルギニン等とのアミノ酸塩等が
挙げられる。

次に本発明化合物の製造法について説明する。

一般式［Ｉ］の化合物は、以下の方法により製造するこ
とができる。

式［１１］（式中、ｐｈはフェニル基を示す）で表される化合物と
２−メトキシエトキシメチルクロリドとを反応させ、式
［１１１］（式中、ｐｈは前記の意味を有する）で表される化合物
とし、次いで塩素化剤を作用させて、式［ＩＶ］自（式中、Ｐｈは前記の意味を有する）で表される化合物
とし、これとＮ−ヒドロキシフタルイミドとを塩基の存
在下に反応させて、式−［Ｖ］（式中、ｐｈｔはフタルイミド基、ｐｈは前記の意味を
有する）で表される化合物とし、これとヒドラジンとを
反応させて、式［ＶＩ］（式中、ｐｈは前記の意味を有する）合物とし、次いでこの化合物と式［■］で表される化（式中、Ｒはトリチル基、ホルミル基、クロロアセチル
基およびｔａｒｔ−ブトキシカルボニル基からなる群よ
り選ばれるアミノ基の保護基を示す）で表される化合物
とを反応させることにより、一般式［１］の化合物は製
造される。

本発明化合物の製造法について詳説する。

式［１１ｒ］の化合物と２−メトキシエトキシメチルク
ロリドとの反応は、式［ｎ］のベンゼン核上の水酸基を
保護するものである。（反応Ａ）保護基の導入方法はワ
イリイ（Ｗ　ｉ　ｌ　ｅ　ｙ　）社により１９８１年に
発行されたＴ、Ｗ、グリーン（Ｇｒｅｅｎｅ）著のプロ
テクティブ　グルーブス　イン　オーガニック　シンセ
シス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎＯｒ
ｇａｎｉｃ　５ｙｎｔｈｅｓｉｓ）、プレナム　プレス
（ＰｌｅｎｕｍＰｒｅｓｓ）社より１９７３年に発行さ
れたＪ、Ｆ、Ｗ、ｖコミイー（ＭｃＯｍｉｅ）著のプロ
テクティブ　グルーブス　イン　オーガニック　ケミス
トリー（ＰｒｏｔｅｃｔｉｖｅＧｒｏｕｐｓ　ｉｎ　Ｏ
ｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）等に記載されてい
る方法に準じて行うことができる。例えば好ましい方法
としては、例えば不活性溶媒中、アミンの存在下に、式
［■］の化合物１モルに対して２−メトキシエトキシメ
チルクロリドを２〜６モル、好ましくは３〜４モル反応
させることにより、式［ｍ］の化合物を得ることができ
る。反応は−１０〜２０’Ｃ１好ましくは一５〜５℃で
、０．５〜２時間撹拌下に行うことにより完結する。上
記不活性溶媒としては、反応に悪影響を及ぼさない、例
えば塩化メチレン、クロロホルム、ジエチルエーテル、
酢酸エチル、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、アセト
ニトリル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等またはこれらの混合溶媒が挙げられ、特に
塩化メチレンが好適である。

反応に使用されるアミンとしては、例えばトリエチルア
ミン、Ｎ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ−メチ
ルモルホリン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン等
が挙げられ、特にＮ、Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン
が好適である。アミンは、通常、式［Ｉｒ］の化合物１
モルに対して２〜６モル、好適には３〜４モル使用され
る。本反応で得られる式［１［［］の化合物は、単離精
製または単離精製することなく次の反応に付すことがで
きる。

式［１１ｒｌの化合物の水酸基を塩素化する反応（反応
Ｂ）は、前記不活性溶媒中、脱酸剤として前記アミンの
存在下に行うのが好ましく、不活性溶媒としては塩化メ
チレン、脱酸剤としてはピリジンが好適である。反応は
、式［１［１１の化合物１モルに対して塩素化剤を１〜
２モル、好ましくは１，５〜１．８モル使用する。塩素
化剤としては、例えば塩化チオニル、三塩化りん、五塩
化りん、オキシ塩化りん、オキサリルクロリド、ホスゲ
ン等が挙げられ、特に塩化チオニルが好適である。反応
温度は一２０〜２０℃、好ましくは−１０−１０℃であ
り、１５〜１６分間で反応は完結する。本反応で得られ
る式［］の化合物は、単離精製または単離精製すること
なく次の反応に付すことができる。

式［ｒＶ］の化合物とＮ−ヒドロキシフタルイミドとの
反応（反応Ｃ）は、反応Ｂと同様に前記不活性溶媒中、
脱酸剤として前記アミンの存在下に、式［ＩＶ］の化合
物１モルに対して、Ｎ−ヒドロキシフタルイミドを１−
１．５モル、好ましくは１．１〜１．２モル、アミンを
１〜１．５モル、好ましくは１．１〜１．２モル反応さ
せることにより、式［Ｖ］の化合物を得ることができる
。反応は一１Ｏ〜４０℃、好ましくは０〜２０℃で、撹
拌下、ｌＯ〜２４時間反応を行うことにより完結する。

本反応で得られる式［Ｖ］の化合物は、単離精製または
単離精製することなく次の反応に付すことができる。

式［Ｖ］の化合物とヒドラジンとの反応（反応Ｄ）は、
例えば水、メタノール、エタノール、塩化メチレン、ク
ロロホルム、ジエチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等またはこ
れらの混合溶媒、好ましくは塩化メチレン中で、式［Ｖ
］の化合物１モルに対して、ヒドラジン１．５〜５モル
、好ましくは２〜３．５モル使用する。反応は−２０−
１０℃、好ましくは一５〜５℃、５〜３０分間撹拌下に
行うことにより完結する。式［ＶＩ］の化合物は、単離
精製または単離精製することなく次の反応に付すことが
できる。

式［Ｖ１］の化合物と式［■］の化合物との反応（反応
Ｅ）は、反応りで使用される溶媒中、好ましくはメタノ
ール中で、式［ＶＩ］の化合物１モルに対して、式［■
］の化合物を０．８〜１．５モル、好ましくは０，９〜
１．２モル使用する。反応は１０〜４０℃、好ましくは
１５〜２５℃、１０〜３０分間撹拌下に行うことにより
完結する。本反応で得られる一般式［１］の化合物は、
適宜単離精製されるが、単離精製せずそのまま、セフェ
ム化合物合成のための反応に付すこともできる。

反応人ないし反応Ｅの各反応終了後、反応液から生成物
を適宜単離精製する際には、溶媒抽出、再結晶、クロマ
トグラフィー等の公知の手段または適宜それらを組合せ
て行うことができる。

一般式［Ｉ］の化合物は、常法により前記の塩とするこ
とができる。

本発明の特徴は、水酸基の保護基として２−メトキシエ
トキシメチル基、カルボキシル基の保護基としてベンズ
ヒドリル基を導入したことにある。これらの保護基は、
セフェム化合物合成のための中間原料である本発明の化
合物［Ｉ］を工業的に容易に製造するための好適な保護
基の組合せである。

以下に、実施例および参考例を挙げて本発明の詳細な説
明するが、これらに本発明は限定されるものではない。

実施例（Ａ）参考例で得た粗ベンズヒドリル３．４−ジヒドロ
キシマンデル酸エステル６．９ｇ　（１９，７ミリモル
相当）を塩化メチレン１４０ｍ４に溶解し、Ｎ、Ｎ−ジ
イソプロピルエチルアミン１３．８ｍ４　（７９ミリモ
ル）を加え、０℃に冷却する。この溶液に２−メトキシ
エトキシメチルクロリド８．９ｍ７　（７９ミリモル）
を滴下し、１時間撹拌する。反応液を順次ＩＮ塩酸、Ｉ
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液および飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去す
る。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ワコ
ーゲノｔ、＠Ｃ−３００）に付し、目的物を含む溶出画
分（酢酸エチル：ヘキサン＝１：１）を濃縮して、ベン
ズヒドリル３．４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ
）マンデル酸エステル６．０ｇ　（収率：５８％）を得
る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）　δ：　３．２２　（６Ｈ，
ｓ）、３．４５　（４Ｈ。

ｍ）、３．７５　（４Ｈ，ｍ）、５．１８　（２Ｈ，ｓ
）、５．２２　（２Ｈ。

ｓ）、５．２５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝　５Ｈｚ）、６．
２２　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、６．７８　（ＩＨ，ｓ）、６．９０〜７
．６０　（１３Ｈｍ）（Ｂ）上記反応（Ａ）で得た化合物５．０ｇ　（９，５
ミリモル）を塩化メチレン１００ｍ７に溶解し、ピリジ
ン４．３５ｍ１　（５５，０ミリモル）を加え、０℃で
塩化チオニル１．２ｍ４　（１６，５ミリモル）と塩化
メチレン１２ｍ／の溶液を滴下する。３０分間撹拌した
後、反応液をｌＯ％重曹水中に注ぎ、塩化メチレンで抽
出する。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下
溶媒を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ワコーゲノＬ／’Ｃ−３００）に付し、
目的物を含む溶出画分（酢酸エチル：ヘキサン＝１：ｌ
）を濃縮してベンズヒドリル２−クロロ−２−［３，４
−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）フェニル］酢酸
エステル３．３５ｇ　（収率：６５％）を得、直ちに次
の反応に用いる。

（Ｃ）上記反応（Ｂ）で得た化合物９．０ｇ　＜１６．
５ミリモル）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド９０ｍ１
に溶解する。この溶液にＮ−ヒドロキシフタルイミド３
．１ｇ　（１９ミリモル）、トリエチルアミン２．６８
ｍ１（１９ミリモル）とＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
３１ｍ１の溶液を０℃で滴下した後、室温で１２時間撹
拌する。反応液をｌＯ％重曹水中に注ぎ、酢酸エチルで
３回抽出し、飽和食塩水で洗浄し、有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去する。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、目的物を含む
溶出画分（酢酸エチル：ヘキサン＝３：ｌ）を濃縮し、
ベンズヒドリル２−（フタルイミドオキシ）−２−［３
，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）フェニル］
酢酸エステル９．７５ｇ　（収率：８８％）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ：　３．２０　（６Ｈ，ｓ
）、３．３８　（４Ｈ。

ｍ）、３．７０　（４Ｈ，ｍ）、５．１５　（２Ｈ，ｓ
）、５．２０　（２Ｈ。

ｍ）、５．９５　（ＩＨ，ｓ）、６．８３　（ＩＨ，ｓ
）、７．００〜７．５０　（１３Ｈ，ｍ）、７．７８　
（４Ｈ，５）（Ｄ）上記反応（Ｃ）で得た化合物９．７
５ｇ　（１４，５ミリモル）を塩化メチレン１００　ｍ
　ｌに溶解し、８０％抱水ヒドラジン３．１２ｍｊ　（
４９ミリモル）を含むメタノール溶液４５ｍ１を０℃で
滴下する。反応溶液を１５分間撹拌した後、沈澱を濾別
し、濾液を無水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下溶媒
を留去して得られる残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ワコーゲ／−Ｃ−３００）に付し、目的物を
含む溶出画分（酢酸エチル：ヘキサン＝　１　：　３）
を濃縮して、ベンズヒドリル２−アミノオキシ−２−［
３，４−ジ（２−メトキシエトキシメトキシ）フェニル
］酢酸エステル５．１ｇ　（収率：６５％）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ：　３．２０　（６Ｈ，ｓ
）、３．４８　（４Ｈ。

ｍ）、３．７２　（４Ｈ，ｍ）、５．１４　（３Ｈ，ｓ
）、５．２２　（２Ｈ。

ｓ）、６．３８　（２Ｈ，ｂｒ　ｓ）、６．８０　（Ｉ
Ｈ，ｓ）、７．００〜７．５０　（１３Ｈ，ｍ）（Ｅ）上記反応（Ｄ）で得た化合物５．１ｇ　（９，４
ミリモル）をメタノール５０ｍｊに溶解し、室温で２＝
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）グリオキ
シル酸３．５ｇ　（８，５ミリモル）とメタノール４１
ｍ１の懸濁液を加える。１５分間撹拌後、生成する白色
の沈澱を濾取し、メタノールで洗浄、乾燥して標記化合
物４．８７ｇ　（収率：５５％）を得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ：３゜２０　（６Ｈ，ｓ）
、３．４１　（４Ｈ。

ｍ）、３．７２　（４Ｈ，ｍ）　５．１５　（２Ｈ，ｂ
ｒ　ｓ）、５．２６（２Ｈ，ｂｒｓ）、５．７７　（Ｉ
Ｈ，ｓ）、６．８５　（２Ｈ，ｓ）。

６．９０〜７．７０　（２８Ｈ，ｍ）、８．８０　（Ｉ
Ｈ，ｂｒｓ）参考例（Ａ）カテコール８８ｇ　（０，８モル）と４０％グリ
オキシル酸水溶液１０９．５ｇ　（約０．５モル）の懸
濁液に窒素気流中、水冷下に水酸化ナトリウム４８ｇ　
（１，２モル）を含む水溶液５００ｍ７を滴下後、４０
℃で５時間加温する。反応液を水冷下に６Ｎ塩酸でＰＨ
２，０とし、未反応のカテコールを酢酸エチルで抽出し
た後、水層を減圧下乾固する。残渣をＮ、Ｎ−ジメチル
ホルムアミド７００ｍ７に溶解し、炭酸カリウム２７６
ｇ　（２モル）、よう化カリウム１０ｇ　（６０ミリモ
ル）および塩化ベンジル２３０ｍ７　（２モル）を加え
、室温で１５時間、更に４０℃で８時間撹拌する。反応
液を氷水１．５２に注ぎ、酢酸エチルで抽出した後、水
および飽和食塩水で洗浄する。抽出液を無水硫酸ナトリ
ウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、粗製のベンジル３．
４−ジベンジルオキシマンデル酸エステルを含む油状残
渣を得る。この残渣にメタノール１ｆｆｉおよび水酸化
ナトリウム６０ｇを含む水溶液２００ｍ７を加え、室温
で５時間撹拌する。反応液を減圧下濃縮し、残渣に氷水
１［を加え、濃塩酸にてＰＨ２，０とした後、酢酸エチ
ルで抽出する。抽出液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、
減圧下濃縮し、析出結晶をジイソプロピルエーテルで洗
浄して３．４−ジベンジルオキシマンデル酸８３ｇ（収
率：　４５．５％）を得る。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ’　：　７３５．１０３０．１０
９５．１１４０゜１２３５、１２７０．１４２５．１５
２０．１７０５．３５０ＯＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ）δ
：　４．９５　（ＩＨ，ｓ）、５．１０　（４Ｈ。

ｓ）、６．９９　（２Ｈ，ｓ）、７．１７　（ＩＨ，ｓ
）、７．４０　（ＩＯＨｂｒ　５）（Ｂ）上記反応（Ａ）で得た化合物２ｇ　（５，４９ミ
リモル）をテトラヒドロフラン２０ｍ１に溶解し、１０
％パラジウム炭素触媒０．５０ｇを加え、室温で１．５
時間接触水素添加を行う。触媒を濾別し、濾液にジフェ
ニルジアゾメタン１．２０ｇ　（６，１ミリモル）を加
え、室温で１２時間撹拌する。減圧下溶媒を留去し、残
渣を酢酸エチルに溶解し、５％重曹水で洗浄する。有機
層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下溶媒を留去し
、粗ベンズヒドリル３．４−ジヒドロキシマンデル酸エ
ステル１．３８ｇ　（収率ニア６％）を得、精製するこ
とな（次の反応に用いる。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ）δ：　５．０９　（ＩＨ，ｄ
、Ｊ　＝　４Ｈｚ）５．８６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ　＝　４
Ｈｚ）、６．６Ｑ　〜６．９０　（３８ｍ）、６．７６
　（ＩＨ，ｓ）、７．００〜７．６０　（１０Ｈ，ｍ）
光肌立羞１本発明によれば、抗菌剤として有用なセフェム化合物の
７位側鎖形成のための中間体を効率よく製造することが
できる。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）一般式［ I ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］（式中、Ｒはトリチル基、ホルミル基、クロロアセチル
基およびｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基からなる群よ
り選ばれるアミノ基の保護基、Ｐｈはフェニル基を示す
）で表される化合物またはその塩。
（２）Ｒがトリチル基である特許請求の範囲第１項記載
の化合物。
（３）式［II］ ▲数式、化学式、表等があります▼［II］（式中、Ｐｈはフェニル基を示す）で表される化合物と
２−メトキシエトキシメチルクロリドとを反応させ、式
［III］ ▲数式、化学式、表等があります▼［III］（式中、Ｐｈは前記の意味を有する）で表される化合物
とし、次いで塩素化剤を作用させて、式［IV］ ▲数式、化学式、表等があります▼［IV］（式中、Ｐｈは前記の意味を有する）で表される化合物
とし、これとＮ−ヒドロキシフタルイミドとを塩基の存
在下に反応させて、式［Ｖ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［Ｖ］（式中、Ｐｈｔはフタルイミド基、Ｐｈは前記の意味を
有する）で表される化合物とし、これとヒドラジンとを
反応させて、式［VI］ ▲数式、化学式、表等があります▼［VI］（式中、Ｐｈは前記の意味を有する）で表される化合物
とし、次いでこの化合物と式［VII］ ▲数式、化学式、表等があります▼［VII］（式中、Ｒはトリチル基、ホルミル基、クロロアセチル
基およびｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基からなる群よ
り選ばれるアミノ基の保護基を示す）で表される化合物
とを反応させることを特徴とする一般式［Ｉ］ ▲数式、化学式、表等があります▼［ I ］（式中、ＲおよびＰｈは前記の意味を有する）で表され
る化合物またはその塩の製造法。