JPH07165740A - ２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸及びその製法 - Google Patents
２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸及びその製法Info
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- JPH07165740A JPH07165740A JP6297861A JP29786194A JPH07165740A JP H07165740 A JPH07165740 A JP H07165740A JP 6297861 A JP6297861 A JP 6297861A JP 29786194 A JP29786194 A JP 29786194A JP H07165740 A JPH07165740 A JP H07165740A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式
【化１】
［式中、Ｒ1は水素原子又はアミノ保護基、Ｒ2及びＲ3
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物又はその塩及びその製法。 【効果】本発明により、セファロスポリン誘導体の７−
位側鎖として有用な一般式［Ｉ］の化合物又はその塩及
びその効率的製法が提供される。
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物又はその塩及びその製法。 【効果】本発明により、セファロスポリン誘導体の７−
位側鎖として有用な一般式［Ｉ］の化合物又はその塩及
びその効率的製法が提供される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、セファロスポリン誘導
体の７−位側鎖として有用な新規２−（２−アミノチア
ゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイ
ミノ）酢酸又はその塩及びそれらの製法に関するもので
ある。
体の７−位側鎖として有用な新規２−（２−アミノチア
ゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイ
ミノ）酢酸又はその塩及びそれらの製法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来、セファロスポリン誘導体の７位側
鎖に２−（２−アミノチアゾリル）−２−置換オキシイ
ミノ酢酸基を有する化合物は極めて多く合成されている
が、置換オキシイミノ基の置換基としてビニル基を有す
る２−（１−ビニルオキシイミノ）酢酸誘導体は、特開
昭５４−２２３９２号公報（Ｇｅｒ．Ｏｆｆｅｎ．，
２，８３１，３３２；Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｒ．，９０−
１６８６３０ｎに対応）に記載されており、その合成は
下記反応式の通りである。
鎖に２−（２−アミノチアゾリル）−２−置換オキシイ
ミノ酢酸基を有する化合物は極めて多く合成されている
が、置換オキシイミノ基の置換基としてビニル基を有す
る２−（１−ビニルオキシイミノ）酢酸誘導体は、特開
昭５４−２２３９２号公報（Ｇｅｒ．Ｏｆｆｅｎ．，
２，８３１，３３２；Ｃｈｅｍ．Ａｂｓｔｒ．，９０−
１６８６３０ｎに対応）に記載されており、その合成は
下記反応式の通りである。
【０００３】
【化５】 ［式中、Ｘは塩素、臭素、ヨウ素原子を表し、ａｌｋは
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を表す］該公報
による開示は、２−（２−アミノチアゾリル）−２−
（１−ビニルオキシイミノ）酢酸誘導体にのみ限られて
おり、本発明化合物である２−（２−アミノチアゾリ
ル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸誘導体に関しては合成はおろか示唆もされてい
ない。
１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を表す］該公報
による開示は、２−（２−アミノチアゾリル）−２−
（１−ビニルオキシイミノ）酢酸誘導体にのみ限られて
おり、本発明化合物である２−（２−アミノチアゾリ
ル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸誘導体に関しては合成はおろか示唆もされてい
ない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】β−ラクタム抗生物質
は、細菌にのみ選択毒性を示し、動物細胞に対しては、
影響を与えないことから、副作用の少ない抗生物質とし
て細菌による感染症の治療に広く使用され有用性の高い
薬剤である。しかしながら、近年、感染症の起炎菌とし
て耐性のグラム陽性菌及び耐性のブドウ糖非発酵グラム
陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向にあり、これらの菌に
対する抗菌力の増強が望まれている。
は、細菌にのみ選択毒性を示し、動物細胞に対しては、
影響を与えないことから、副作用の少ない抗生物質とし
て細菌による感染症の治療に広く使用され有用性の高い
薬剤である。しかしながら、近年、感染症の起炎菌とし
て耐性のグラム陽性菌及び耐性のブドウ糖非発酵グラム
陰性桿菌の分離頻度が増加の傾向にあり、これらの菌に
対する抗菌力の増強が望まれている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は新規な２−（２
−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビ
ニルオキシイミノ）酢酸又はその塩及びその製法に関す
るものであり、該化合物は優れた抗菌力を有する新規な
セファロスポリン誘導体の７−位側鎖残基として有用で
ある。本発明者らは、セファロスポリン誘導体の７位に
２−（２−アミノチアゾリル）−２−置換オキシイミノ
アセトアミド基を有するセファロスポリン誘導体を数多
く合成した結果、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）アセトアミド基を有する一般式［ＩＶ］
−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビ
ニルオキシイミノ）酢酸又はその塩及びその製法に関す
るものであり、該化合物は優れた抗菌力を有する新規な
セファロスポリン誘導体の７−位側鎖残基として有用で
ある。本発明者らは、セファロスポリン誘導体の７位に
２−（２−アミノチアゾリル）−２−置換オキシイミノ
アセトアミド基を有するセファロスポリン誘導体を数多
く合成した結果、２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）アセトアミド基を有する一般式［ＩＶ］
【０００６】
【化６】 ［式中、Ｒは水素原子、カルボキシル保護基又は陰電
荷、Ｑは水素原子、ハロゲン原子、アジド基、置換基を
有していてもよい、第４級アンモニオ基、又は置換基を
有していてもよい窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から
なる群から選ばれるヘテロ原子を少なくとも１個有する
複素環チオ基を示す］の化合物は合成はおろか出願明細
書における開示も全くなされていない文献未記載の新規
化合物であり、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラム
陽性菌に対して、強い抗菌力を有すること、及びβ−ラ
クタマ−ゼに対する安定性に優れていることを見出した
（特許出願昭和６２年 ５０２３１８号）。本発明者ら
はその７−位残基である２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシ
イミノ）酢酸誘導体の展開及びその製法を開発すべく鋭
意検討した結果、原料化合物の２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸誘導体［ＩＩ］をＯ−
（１−カルボキシ−１−ビニル）ヒドロキシルアミン誘
導体［ＩＩＩ］と反応させ、要すれば保護基を除去する
ことにより、本発明化合物［Ｉ］を高収率で製造するこ
とができることを見出し本発明を完成した。次に本明細
書に記載された各種記号及び用語について説明する。
荷、Ｑは水素原子、ハロゲン原子、アジド基、置換基を
有していてもよい、第４級アンモニオ基、又は置換基を
有していてもよい窒素原子、酸素原子及び硫黄原子から
なる群から選ばれるヘテロ原子を少なくとも１個有する
複素環チオ基を示す］の化合物は合成はおろか出願明細
書における開示も全くなされていない文献未記載の新規
化合物であり、感受性・耐性のグラム陰性菌及びグラム
陽性菌に対して、強い抗菌力を有すること、及びβ−ラ
クタマ−ゼに対する安定性に優れていることを見出した
（特許出願昭和６２年 ５０２３１８号）。本発明者ら
はその７−位残基である２−（２−アミノチアゾール−
４−イル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシ
イミノ）酢酸誘導体の展開及びその製法を開発すべく鋭
意検討した結果、原料化合物の２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）グリオキシル酸誘導体［ＩＩ］をＯ−
（１−カルボキシ−１−ビニル）ヒドロキシルアミン誘
導体［ＩＩＩ］と反応させ、要すれば保護基を除去する
ことにより、本発明化合物［Ｉ］を高収率で製造するこ
とができることを見出し本発明を完成した。次に本明細
書に記載された各種記号及び用語について説明する。
【０００７】カルボキシル保護基とは有機合成化学上通
常用いられるものを意味し、例えばｔｅｒｔ−ブチル
基、２，２，２−トリクロロエチル基、アセトキシメチ
ル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、１−アセトキシエチル基、１−プロピオニル
オキシエチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エ
チル基、フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベ
ンジル基、ベンズヒドリル基、ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチル基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ル−４−イル）メチル基、トリメチルシリル
基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられ、
特にベンズヒドリル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シリル基
等が好ましい。
常用いられるものを意味し、例えばｔｅｒｔ−ブチル
基、２，２，２−トリクロロエチル基、アセトキシメチ
ル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバロイルオキシ
メチル基、１−アセトキシエチル基、１−プロピオニル
オキシエチル基、１−（エトキシカルボニルオキシ）エ
チル基、フタリジル基、ベンジル基、４−メトキシベン
ジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロベ
ンジル基、ベンズヒドリル基、ビス（４−メトキシフェ
ニル）メチル基、（５−メチル−２−オキソ−１，３−
ジオキソ−ル−４−イル）メチル基、トリメチルシリル
基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられ、
特にベンズヒドリル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シリル基
等が好ましい。
【０００８】アミノ保護基とは有機合成化学上通常用い
られるものを意味し、例えばトリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
られるものを意味し、例えばトリチル基、ホルミル基、
クロロアセチル基、トリフルオロアセチル基、ｔｅｒｔ
−ブトキシカルボニル基、トリメチルシリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げられる。
【０００９】又、一般式［Ｉ］のオキシイミノ基におけ
る部分構造はシン異性体（Ｚ配位）及びアンチ異性体
（Ｅ配位）が存在し、一般にシン異性体が優れた抗菌活
性を示し、本明細書における置換オキシイミノ基はすべ
てシン異性体である。Ｅ／Ｚ命名法はジャーナル オブ
ジ アメリカン ケミカル ソサエティ（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第９０巻、５０９頁（１９６８
年）に記述されている。
る部分構造はシン異性体（Ｚ配位）及びアンチ異性体
（Ｅ配位）が存在し、一般にシン異性体が優れた抗菌活
性を示し、本明細書における置換オキシイミノ基はすべ
てシン異性体である。Ｅ／Ｚ命名法はジャーナル オブ
ジ アメリカン ケミカル ソサエティ（Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）第９０巻、５０９頁（１９６８
年）に記述されている。
【００１０】一般式［Ｉ］の好適な塩としては、例えば
ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ア
ルミニウム等との金属塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレ
ンジアミン、プロカイン等との有機アミン塩、グルタミ
ン酸、アスパラギン酸、リジン、アルギニン等とのアミ
ノ酸塩等が挙げられる。次に一般式［Ｉ］の化合物につ
いて説明する。本発明の化合物は一般式［Ｉ］
ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウム、ア
ルミニウム等との金属塩、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレ
ンジアミン、プロカイン等との有機アミン塩、グルタミ
ン酸、アスパラギン酸、リジン、アルギニン等とのアミ
ノ酸塩等が挙げられる。次に一般式［Ｉ］の化合物につ
いて説明する。本発明の化合物は一般式［Ｉ］
【００１１】
【化７】 ［式中、Ｒ1は水素原子又はアミノ保護基、Ｒ2及びＲ3
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物である。該化合物にはオキシイ
ミノ基における部分構造におけるシン異性体（Ｚ配位）
及びアンチ異性体（Ｅ配位）が存在し、本明細書におけ
る置換オキシイミノ基はシン異性体が好ましいが、該シ
ン異性体はアンチ異性体を少量含むものであってもよ
い。本発明により提供される一般式［Ｉ］の化合物の好
ましい例としては、以下のものが挙げられる。
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物である。該化合物にはオキシイ
ミノ基における部分構造におけるシン異性体（Ｚ配位）
及びアンチ異性体（Ｅ配位）が存在し、本明細書におけ
る置換オキシイミノ基はシン異性体が好ましいが、該シ
ン異性体はアンチ異性体を少量含むものであってもよ
い。本発明により提供される一般式［Ｉ］の化合物の好
ましい例としては、以下のものが挙げられる。
【００１２】１） ２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸 ２） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオキ
シイミノ）酢酸 ３） ２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−１−ビニルオキシイミノ）酢酸 ４） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾ
ール−４−イル）酢酸 ５） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）酢酸 ６） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトアミド
チアゾール−４−イル）酢酸 ７） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１−ビニルオ
キシイミノ）酢酸 ８） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸 ９） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）酢酸 １０） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸 １１） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イル）酢酸 １２） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオ
キシイミノ）酢酸メチルエステル １３）２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−１−ビニルオキシイミノ）酢酸メチルエ
ステル １４） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １５） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １６） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトアミ
ドチアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １７） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）酢酸メチルエステル １８） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸メチ
ルエステル １９） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチ
アゾール−４−イル）酢酸メチルエステル ２０） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル ２１） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル等が挙
げられ上記化合物の内１）、２）、４）、５）、１
２）、１４）、１５）が特に好ましい。
イル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸 ２） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオキ
シイミノ）酢酸 ３） ２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−１−ビニルオキシイミノ）酢酸 ４） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾ
ール−４−イル）酢酸 ５） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチア
ゾール−４−イル）酢酸 ６） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−
ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトアミド
チアゾール−４−イル）酢酸 ７） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−
（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１−ビニルオ
キシイミノ）酢酸 ８） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸 ９） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）酢酸 １０） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸 １１） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イル）酢酸 １２） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオ
キシイミノ）酢酸メチルエステル １３）２−（２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキ
シカルボニル−１−ビニルオキシイミノ）酢酸メチルエ
ステル １４） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチア
ゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １５） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチ
アゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １６） ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１
−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトアミ
ドチアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル １７） ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２
−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）酢酸メチルエステル １８） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニルアミノチアゾール−４−イル）酢酸メチ
ルエステル １９） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチ
アゾール−４−イル）酢酸メチルエステル ２０） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル ２１） ２−（１−ベンズヒドリルオキシカルボニル−
１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−クロロアセトア
ミドチアゾール−４−イル）酢酸メチルエステル等が挙
げられ上記化合物の内１）、２）、４）、５）、１
２）、１４）、１５）が特に好ましい。
【００１３】前記一般式におけるカルボキシル基、アミ
ノ基又は水酸基の保護及びその除去方法は、β−ラクタ
ム合成の分野で通常使用されている保護基を適宜選択し
て用いることができる。保護基の導入及び除去方法は、
例えばワイレイ（Ｗｉｌｅｙ）社より１９８１年に発行
されたティ ダブリュー グリ−ン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅ
ｎｅ）著のプロテクティブ グループス イン オーガ
ニック シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕ
ｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、
プレナム プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ）社より
１９７３年に発行されたジェイ エフ ダブリュー マ
コミィー（Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ）著のプロテクテ
ィブ グループス イン オーガニック ケミストリー
（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）等に記載されている方
法に準じて行うことができる。
ノ基又は水酸基の保護及びその除去方法は、β−ラクタ
ム合成の分野で通常使用されている保護基を適宜選択し
て用いることができる。保護基の導入及び除去方法は、
例えばワイレイ（Ｗｉｌｅｙ）社より１９８１年に発行
されたティ ダブリュー グリ−ン（Ｔ．Ｗ．Ｇｒｅｅ
ｎｅ）著のプロテクティブ グループス イン オーガ
ニック シンセシス（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕ
ｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）、
プレナム プレス（Ｐｌｅｎｕｍ Ｐｒｅｓｓ）社より
１９７３年に発行されたジェイ エフ ダブリュー マ
コミィー（Ｊ．Ｆ．Ｗ．ＭｃＯｍｉｅ）著のプロテクテ
ィブ グループス イン オーガニック ケミストリー
（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇ
ａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）等に記載されている方
法に準じて行うことができる。
【００１４】カルボキシル保護基としては、例えばｔｅ
ｒｔ−ブチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ア
セトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバ
ロイルオキシメチル基、１−アセトキシエチル基、１−
プロピオニルオキシエチル基、１−（エトキシカルボニ
ルオキシ）エチル基、フタリジル基、ベンジル基、４−
メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、
４−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ビス（４−
メトキシフェニル）メチル基、（５−メチル−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチル基、トリ
メチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等
が挙げられ、特にベンズヒドリル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、シリル基等が好ましい。
ｒｔ−ブチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、ア
セトキシメチル基、プロピオニルオキシメチル基、ピバ
ロイルオキシメチル基、１−アセトキシエチル基、１−
プロピオニルオキシエチル基、１−（エトキシカルボニ
ルオキシ）エチル基、フタリジル基、ベンジル基、４−
メトキシベンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、
４−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基、ビス（４−
メトキシフェニル）メチル基、（５−メチル−２−オキ
ソ−１，３−ジオキソール−４−イル）メチル基、トリ
メチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等
が挙げられ、特にベンズヒドリル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基、シリル基等が好ましい。
【００１５】アミノ保護基としては、例えばトリチル
基、ホルミル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、トリメチル
シリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げ
られる。
基、ホルミル基、クロロアセチル基、トリフルオロアセ
チル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、トリメチル
シリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基等が挙げ
られる。
【００１６】保護基の除去方法は、その保護基の種類に
応じて、常用の方法を適宜選択して行うことができる。
特に酸処理、加水分解、還元等の常法により容易に除去
できる保護基が好ましい。
応じて、常用の方法を適宜選択して行うことができる。
特に酸処理、加水分解、還元等の常法により容易に除去
できる保護基が好ましい。
【００１７】例えば、トリチル基、ホルミル基、ｔｅｒ
ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンズヒドリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、２−メトキシエトキシメチル基等の保護
基の除去は塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で行うことができ、特にトリフルオロ酢酸が好まし
い。酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合、アニソー
ル、チオアニソール、フェノール等を添加することによ
り反応は促進され、副反応も抑制される。反応は水、塩
化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、ベンゼン等
の反応に悪影響を与えない溶媒中、或いはこれらの混合
溶媒中で行うことができる。反応温度及び反応時間は一
般式［Ｉ］の本発明化合物の化学的性質、保護基の種類
に応じて有機合成化学の分野で通常使用されている除去
方法を適宜選択し、特に氷冷ないしは室温程度の緩和な
条件で行うのが好ましい。
ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンズヒドリル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基、２−メトキシエトキシメチル基等の保護
基の除去は塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で行うことができ、特にトリフルオロ酢酸が好まし
い。酸としてトリフルオロ酢酸を用いる場合、アニソー
ル、チオアニソール、フェノール等を添加することによ
り反応は促進され、副反応も抑制される。反応は水、塩
化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン、ベンゼン等
の反応に悪影響を与えない溶媒中、或いはこれらの混合
溶媒中で行うことができる。反応温度及び反応時間は一
般式［Ｉ］の本発明化合物の化学的性質、保護基の種類
に応じて有機合成化学の分野で通常使用されている除去
方法を適宜選択し、特に氷冷ないしは室温程度の緩和な
条件で行うのが好ましい。
【００１８】例えば、アミノ保護基Ｒ1がホルミル基、
ベンズヒドリル基、トリチル基若しくはｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及
びＲ3が同一又は異なって、ｔｅｒｔ−ブチル基若しく
はベンズヒドリル基である場合、本発明化合物［Ｉ］
を、例えば塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で処理することにより、保護基を除去することがで
きる。特にトリフルオロ酢酸が好ましい。酸としてトリ
フルオロ酢酸を用いる場合、アニソール、チオアニソー
ル又はフェノールを添加することにより反応は促進さ
れ、副反応も抑制される。反応は、例えば水、塩化メチ
レン、クロロホルム、塩化エチレン、ベンゼン等の反応
に悪影響を与えない溶媒中、或いはこれらの混合溶媒中
で本発明化合物１当量に対して、０．１〜２０倍量（Ｖ
／Ｗ）好ましくは０．５〜１０倍量（Ｖ／Ｗ）の酸を用
いて行うことができる。反応温度は氷冷ないしは加温程
度の緩和な条件で行うことができる。例えば、アミノ保
護基Ｒ1がトリフルオロアセチル基、トリメチルシリル
基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及びＲ3が同一又は
異なって、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基又はベンズヒ
ドリル基である場合、本発明化合物［Ｉ］を、例えばア
ルカリ又は酸加水分解することにより、保護基を除去す
ることができる。該アルカリとしては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属
炭酸塩等が挙げられ、該酸としては、例えば塩酸、臭化
水素酸、希硫酸等が挙げられる。反応は、例えば水、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、又はこれらの混合溶媒中、本発明化合物１当量に対
して、０．５〜５当量モル、好ましくは１〜３当量の塩
基又は０．１〜２０倍量（Ｖ／Ｗ）、好ましくは０．５
〜１０倍量（Ｖ／Ｗ）の酸を用い、反応温度は０〜８０
℃である。
ベンズヒドリル基、トリチル基若しくはｔｅｒｔ−ブト
キシカルボニル基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及
びＲ3が同一又は異なって、ｔｅｒｔ−ブチル基若しく
はベンズヒドリル基である場合、本発明化合物［Ｉ］
を、例えば塩酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼンス
ルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の無機酸又は有機
酸等で処理することにより、保護基を除去することがで
きる。特にトリフルオロ酢酸が好ましい。酸としてトリ
フルオロ酢酸を用いる場合、アニソール、チオアニソー
ル又はフェノールを添加することにより反応は促進さ
れ、副反応も抑制される。反応は、例えば水、塩化メチ
レン、クロロホルム、塩化エチレン、ベンゼン等の反応
に悪影響を与えない溶媒中、或いはこれらの混合溶媒中
で本発明化合物１当量に対して、０．１〜２０倍量（Ｖ
／Ｗ）好ましくは０．５〜１０倍量（Ｖ／Ｗ）の酸を用
いて行うことができる。反応温度は氷冷ないしは加温程
度の緩和な条件で行うことができる。例えば、アミノ保
護基Ｒ1がトリフルオロアセチル基、トリメチルシリル
基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及びＲ3が同一又は
異なって、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ベンジル基又はベンズヒ
ドリル基である場合、本発明化合物［Ｉ］を、例えばア
ルカリ又は酸加水分解することにより、保護基を除去す
ることができる。該アルカリとしては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物、
例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属
炭酸塩等が挙げられ、該酸としては、例えば塩酸、臭化
水素酸、希硫酸等が挙げられる。反応は、例えば水、メ
タノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、又はこれらの混合溶媒中、本発明化合物１当量に対
して、０．５〜５当量モル、好ましくは１〜３当量の塩
基又は０．１〜２０倍量（Ｖ／Ｗ）、好ましくは０．５
〜１０倍量（Ｖ／Ｗ）の酸を用い、反応温度は０〜８０
℃である。
【００１９】例えば、アミノ保護基Ｒ1がベンジルオキ
シカルボニル基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及び
Ｒ3が同一又は異なって、ベンジル基、４−メトキシベ
ンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロ
ベンジル基若しくはベンズヒドリル基である場合、本発
明化合物［ＩＩＩ］を水素ガス気流中、例えばパラジウ
ム黒等の触媒の存在下に、常圧乃至は加圧下に１０〜７
０℃で接触還元することにより、保護基を除去すること
ができる。反応溶媒は、例えば水、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン又はこれらの有機溶媒と水と
の混合溶媒を用いることができる。 実施例１ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 英国特許明細書第１，６０２，７２５号に記載の方法に
より製造したＮ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
−１−ビニルオキシ）フタルイミド６．０３ｇ（２０．
８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン２００ｍｌとメタノール１
０ｍｌの混合溶液に溶解した後、８０％抱水ヒドラジン
１．８８ｍｌとメタノール４０ｍｌの溶液を滴下し、室
温で１．５時間撹拌する。不溶物を除去した後、濾液を
８％アンモニア水で３回及び飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、Ｏ
−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル）
ヒドロキシルアミンの残渣を得る。この残渣をメタノー
ル１２０ｍｌに溶解した後、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸７．４６ｇ（１
８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌する。析出結晶
を濾取し、標記化合物７．０８ｇ（収率７０．９％）を
得る。
シカルボニル基及び／又はカルボキシル保護基Ｒ2及び
Ｒ3が同一又は異なって、ベンジル基、４−メトキシベ
ンジル基、３，４−ジメトキシベンジル基、４−ニトロ
ベンジル基若しくはベンズヒドリル基である場合、本発
明化合物［ＩＩＩ］を水素ガス気流中、例えばパラジウ
ム黒等の触媒の存在下に、常圧乃至は加圧下に１０〜７
０℃で接触還元することにより、保護基を除去すること
ができる。反応溶媒は、例えば水、メタノール、エタノ
ール、テトラヒドロフラン又はこれらの有機溶媒と水と
の混合溶媒を用いることができる。 実施例１ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 英国特許明細書第１，６０２，７２５号に記載の方法に
より製造したＮ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
−１−ビニルオキシ）フタルイミド６．０３ｇ（２０．
８ｍｍｏｌ）を塩化メチレン２００ｍｌとメタノール１
０ｍｌの混合溶液に溶解した後、８０％抱水ヒドラジン
１．８８ｍｌとメタノール４０ｍｌの溶液を滴下し、室
温で１．５時間撹拌する。不溶物を除去した後、濾液を
８％アンモニア水で３回及び飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、Ｏ
−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル）
ヒドロキシルアミンの残渣を得る。この残渣をメタノー
ル１２０ｍｌに溶解した後、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸７．４６ｇ（１
８ｍｍｏｌ）を加え、室温で３時間撹拌する。析出結晶
を濾取し、標記化合物７．０８ｇ（収率７０．９％）を
得る。
【００２０】ｍｐ：１１０〜１１５℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３４００，２９７０，１７２
５，１６３０，１１００，７００ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：１．４５（９Ｈ，ｓ），
５．２０（１Ｈ，ｂｒｓ），５．３３（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ），７．１０〜７．４０（１
５Ｈ，ｍ），８．８２（１Ｈ，ｂｒ ｓ） 元素分析値：Ｃ31Ｈ29Ｎ3Ｏ5Ｓとして 計算値（％）：Ｃ，６７．００；Ｈ，５．２６；Ｎ，
７．５６；Ｓ，５．７７ 実測値（％）：Ｃ，６７．３０；Ｈ，５．５８；Ｎ，
７．７４；Ｓ，５．５４ 実施例２ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 Ｎ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシ）フタルイミド３９２ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を
塩化メチレン８ｍｌとメタノール０．８ｍｌの混合溶液
に溶解した後、８０％抱水ヒドラジン０．１６５ｍｌ
（２．６ｍｍｏｌ）とメタノール２ｍｌの溶液を滴下
し、室温で１時間撹拌する。不溶物を除去した後、濾液
を８％アンモニア水で３回及び飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
Ｏ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニ
ル）ヒドロキシルアミンの残渣を得る。この残渣をメタ
ノール５ｍｌに溶解した後、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸４１４ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌する。析
出結晶を濾取し、標記化合物４００ｍｇ（収率７６．１
％）を得る。本品のＩＲ及びＮＭＲスペクトルは実施例
１のそれに全く一致する。 実施例３ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸（シン異性体）の製造 ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル
酸１７２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１と
同様の操作を行い、標記化合物２０７．５ｍｇ（収率６
６．２％）を得る。
５，１６３０，１１００，７００ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：１．４５（９Ｈ，ｓ），
５．２０（１Ｈ，ｂｒｓ），５．３３（１Ｈ，ｂｒ
ｓ），７．０５（１Ｈ，ｓ），７．１０〜７．４０（１
５Ｈ，ｍ），８．８２（１Ｈ，ｂｒ ｓ） 元素分析値：Ｃ31Ｈ29Ｎ3Ｏ5Ｓとして 計算値（％）：Ｃ，６７．００；Ｈ，５．２６；Ｎ，
７．５６；Ｓ，５．７７ 実測値（％）：Ｃ，６７．３０；Ｈ，５．５８；Ｎ，
７．７４；Ｓ，５．５４ 実施例２ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 Ｎ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシ）フタルイミド３９２ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を
塩化メチレン８ｍｌとメタノール０．８ｍｌの混合溶液
に溶解した後、８０％抱水ヒドラジン０．１６５ｍｌ
（２．６ｍｍｏｌ）とメタノール２ｍｌの溶液を滴下
し、室温で１時間撹拌する。不溶物を除去した後、濾液
を８％アンモニア水で３回及び飽和食塩水で洗浄し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し、
Ｏ−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニ
ル）ヒドロキシルアミンの残渣を得る。この残渣をメタ
ノール５ｍｌに溶解した後、２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）グリオキシル酸４１４ｍｇ
（１．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間撹拌する。析
出結晶を濾取し、標記化合物４００ｍｇ（収率７６．１
％）を得る。本品のＩＲ及びＮＭＲスペクトルは実施例
１のそれに全く一致する。 実施例３ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸（シン異性体）の製造 ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）グリオキシル
酸１７２ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を用いて、実施例１と
同様の操作を行い、標記化合物２０７．５ｍｇ（収率６
６．２％）を得る。
【００２１】ｍｐ：１２０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３４００，３１５０，２９９
０，１７２０，１６４０，１３８０，１３２０，１２０
０，１１５０，９８０，８５０，７３０ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ6／ＣＤ3ＯＤ）δ：１．４８（９Ｈ，ｓ），５．
２９（１Ｈ，ｓ），５．３９（１Ｈ，ｓ），７．１０
（１Ｈ，ｓ），７．３０（２Ｈ，ｂｒ ｓ） 実施例４ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 ２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリオ
キシル酸２００ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を用いて、実施
例１と同様の操作を行い、標記化合物１８３ｍｇ（収率
５３．６％）を得る。
０，１７２０，１６４０，１３８０，１３２０，１２０
０，１１５０，９８０，８５０，７３０ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ6／ＣＤ3ＯＤ）δ：１．４８（９Ｈ，ｓ），５．
２９（１Ｈ，ｓ），５．３９（１Ｈ，ｓ），７．１０
（１Ｈ，ｓ），７．３０（２Ｈ，ｂｒ ｓ） 実施例４ ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）酢酸（シン異性体）の製造 ２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）グリオ
キシル酸２００ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を用いて、実施
例１と同様の操作を行い、標記化合物１８３ｍｇ（収率
５３．６％）を得る。
【００２２】ｍｐ：１３０℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３４００，３１５０，２９８
０，１７２０，１６９０，１６３０，１５６０，１４０
０，１３８０，１２８０，１２１０，１１５０，９８
０，８５０，７４０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：１．４８（９Ｈ，ｓ），
５．１８（１Ｈ，ｓ），５．２４（１Ｈ，ｓ），７．４
９（１Ｈ，ｓ），８．５１（１Ｈ，ｓ） 実施例５ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸 トリフル
オロ酢酸塩（シン異性体）の製造 ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）３５０ｍｇ（０．６３
ｍｍｏｌ）を塩化メチレン４ｍｌとアニソール０．８ｍ
ｌの混合溶液に溶解し、０℃に冷却した後、予め０℃に
冷却したトリフルオロ酢酸４ｍｌを加え、同温度で３０
分間、室温で１．５時間撹拌する。減圧下に溶媒を留去
し、油状残渣にジイソプロピルエーテル２０ｍｌを加
え、析出粉末を濾取、ジイソプロピルエーテルで洗浄
し、標記化合物２００ｍｇ（収率８５．５％）を得る。
０，１７２０，１６９０，１６３０，１５６０，１４０
０，１３８０，１２８０，１２１０，１１５０，９８
０，８５０，７４０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：１．４８（９Ｈ，ｓ），
５．１８（１Ｈ，ｓ），５．２４（１Ｈ，ｓ），７．４
９（１Ｈ，ｓ），８．５１（１Ｈ，ｓ） 実施例５ ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸 トリフル
オロ酢酸塩（シン異性体）の製造 ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−トリチルアミノチアゾール
−４−イル）酢酸（シン異性体）３５０ｍｇ（０．６３
ｍｍｏｌ）を塩化メチレン４ｍｌとアニソール０．８ｍ
ｌの混合溶液に溶解し、０℃に冷却した後、予め０℃に
冷却したトリフルオロ酢酸４ｍｌを加え、同温度で３０
分間、室温で１．５時間撹拌する。減圧下に溶媒を留去
し、油状残渣にジイソプロピルエーテル２０ｍｌを加
え、析出粉末を濾取、ジイソプロピルエーテルで洗浄
し、標記化合物２００ｍｇ（収率８５．５％）を得る。
【００２３】ｍｐ：１１０〜１１５℃（分解） ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ-1：３４００，３１２０，１６５
０，１６３０，１６１０，１５９０，１１９０，１１８
０，９８０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6／Ｄ2Ｏ）δ：５．４０（１Ｈ，
ｓ），５．４７（１Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｓ）
０，１６３０，１６１０，１５９０，１１９０，１１８
０，９８０ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6／Ｄ2Ｏ）δ：５．４０（１Ｈ，
ｓ），５．４７（１Ｈ，ｓ），７．１５（１Ｈ，ｓ）
【００２４】
【発明の効果】セファロスポリン誘導体の７−位の側鎖
として有用な２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１
−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸又はその
塩及びその製法が提供される。
として有用な２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１
−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸又はその
塩及びその製法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 浅井 光 愛知県岡崎市柱町上荒子23番地 (72)発明者 畔柳 悟 愛知県岡崎市上六名２丁目11番地８ (72)発明者 田中 芳治 愛知県岡崎市大門３丁目14番地18 (72)発明者 石川 守明 愛知県岡崎市舳越町本郷88番地１ (72)発明者 牛嶋 良輔 愛知県岡崎市戸崎元町14番地３
Claims (3)
- 【請求項１】一般式 【化１】 ［式中、Ｒ1は水素原子又はアミノ保護基、Ｒ2及びＲ3
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物又はその塩。 - 【請求項２】２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル
−１−ビニルオキシイミノ）−２−（２−トリチルアミ
ノチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）、 ２−（２−アミノチアゾール−４−イル）−２−（１−
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニルオキシイミ
ノ）酢酸（シン異性体）、 ２−（１−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−１−ビニル
オキシイミノ）−２−（２−ホルムアミドチアゾール−
４−イル）酢酸（シン異性体）又は２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）−２−（１−カルボキシ−１−ビ
ニルオキシイミノ）酢酸（シン異性体）である特許請求
の範囲第１項記載の化合物。 - 【請求項３】一般式 【化２】 ［式中、Ｒ4は水素原子又はアミノ保護基、Ｒ5は水素原
子又はカルボキシル保護基を示す］で表される化合物を
一般式［ＩＩＩ］ 【化３】 ［式中、Ｒ6は水素原子又はカルボキシル保護基を示
す］で表される化合物と反応させ、要すれば保護基を除
去することを特徴とする一般式［Ｉ］ 【化４】 ［式中、Ｒ1は水素原子又はアミノ保護基、Ｒ2及びＲ3
は同一又は異なって水素原子又はカルボキシル保護基を
示す］で表される化合物又はその塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6297861A JPH07165740A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | ２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸及びその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6297861A JPH07165740A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | ２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸及びその製法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62502318A Division JPH0764852B1 (ja) | 1986-04-14 | 1987-04-14 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07165740A true JPH07165740A (ja) | 1995-06-27 |
Family
ID=17852097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6297861A Pending JPH07165740A (ja) | 1994-11-07 | 1994-11-07 | ２−（２−アミノチアゾリル）−２−（１−カルボキシ−１−ビニルオキシイミノ）酢酸及びその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07165740A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61254584A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-12 | Ajinomoto Co Inc | 新規チアゾ−ル誘導体 |
| JPS62158278A (ja) * | 1986-01-06 | 1987-07-14 | イ−・ア−ル・スクイブ・アンド・サンズ・インコ−ポレイテツド | モノスルフアクタム類 |
-
1994
- 1994-11-07 JP JP6297861A patent/JPH07165740A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61254584A (ja) * | 1985-05-07 | 1986-11-12 | Ajinomoto Co Inc | 新規チアゾ−ル誘導体 |
| JPS62158278A (ja) * | 1986-01-06 | 1987-07-14 | イ−・ア−ル・スクイブ・アンド・サンズ・インコ−ポレイテツド | モノスルフアクタム類 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008303216A (ja) * | 1996-07-22 | 2008-12-18 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍活性を有するポリメチレン誘導体をリガンドとする新規ビス−プラチナ複合体 |
| JP2009007357A (ja) * | 1996-07-22 | 2009-01-15 | F Hoffmann La Roche Ag | 抗腫瘍剤としてのポリアミン配位子を有する新規ビス−プラチナ錯体 |
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