JPS61254584A - 新規チアゾ−ル誘導体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、抗生物質として有用な新規化合物、その新規
製造中間体、より詳しくは下記一般式〔式中、Ｒ１は保
護されていてもよいアミノ基を、Ｒ２ハＣ（Ｗ）〔Ｙ〕
−２（ココテ、Ｚ　＆”ｌ　Ｃｏ２Ｒ’　ｔ　タ＆！　
ＣＯ□−を、ＷはＲ’、　Ｆ、　ＯＲ’、　ＱＣ（−０
）Ｒ’、　Ｒ’、　ＮＨＲ’、　ＮＨＣ（−Ｑ）Ｒ、Ｃ
Ｈ２Ｆ、　０Ｍ２０Ｒ、ＣＨ２ＱＣ（−０）Ｒ、ＣＨ２
Ｒ。

ＣＨ２ＮＨＲ、ＣＨ２ＮＨＣ（−０）Ｒを、ＹはＦ、　
ＯＲ’、　ＱＣ（−０）Ｒ’。

Ｒ’　、　ＮＩ（Ｒ’、　ＮＨＣ（−０）Ｒ’、　Ｃｆ
（２Ｆｆ　Ｃｆ（２０Ｒ’、　ＣＨ２０Ｃ（＝０）Ｒ’
。

ＣＨ２０’＃　Ｃ）Ｉ２ＮＨＲ’、　ＣＨ２ＮＨＣ（−
０）Ｒ’　　を表わすか、またはＷとＹとを合わせてア
ルキリデン基を表わす。

（ここでＲ３は水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類
金属、有機アンモニウム塩、エステル残基、あるいはカ
ルメキシル保護基を、Ｒ４は水素原子または炭素数１乃
至６個の低級直鎖または有枝鎖アルキル、アルケニル、
アルキニル基、アミノ低級アルキル基、ジ低級アルキル
アミノ低級アルキル基、カルバモイル低級アルキル基、
カルボキシ低級アルキル基、アリール低級アルキル基、
または低級アルコキシカルゲニル低級アルキル基を表わ
す。）２を、Ａは式、 または （式中、Ｒ，Ｚはそれぞれ前と同じ意味であり、Ｂは、
水素、または求核性化合物残基を表わす。）を、〜はシ
ン異性体、アンチ異性体、またはそれらの混合物をそれ
ぞれ意味する。〕 または一般式、 〔式中、Ｒ’、Ａｌ−は前記と同じ意味を、Ｒ５はＣＨ
２Ｃ（Ｔ）（Ｕ）−Ｚ　［ココで、２は前記と同じ意味
を、ＴはＲ’、　Ｆ、　ＯＲ’、　ＱＣ（＝Ｏ）Ｒ’、
　Ｒ’、　ＮＨＲ’、　Ｎ）（Ｃ（−Ｑ）Ｒ’。

ＣＨ２Ｆ、　ＣＴ（２０Ｒ、ＣＨ２ＱＣ（→）Ｒ、ＣＨ
２Ｒ、ＣＨ２ＮＨＲ。

ＣＨ２ＮＨＣ（−０）Ｒを、ＵはＦ、　ＯＲ、ＱＣ（＝
Ｏ）Ｒ、Ｒ。

ＮＨＲ’、　Ｎｆ（Ｃ（＝Ｏ）Ｒ’、　ＣＨ２Ｆ、　Ｃ
Ｈ２０Ｒ’、　ＣＨ２ＱＣ（＝Ｏ）Ｒ’。

ＣＨ２Ｒ’、　ＣＨ２０Ｒ’、　ＣＨ２ＮＨＣ（−０）
Ｒ’を表わす。（ここで１３　、　Ｒ４は前記と同じ意
味を表わす。））をそれぞれ表わす。〕 で示される新規チアゾール誘導体に関する。

本発明者は、一般式 〔式中、Ｒ’　ｔ　Ｈ２ＣＡ　ｅ〜は、前記と同じ意味
を表わす。〕 および一般式 〔式中、Ｒ’　ｔ　Ｈ５ＣＡ　＃〜は前記と同じ意味を
表わす。〕 で示される誘導体の合成に成功し、更にこの誘導体が、
ダラム陽性菌及びダラム陰性菌に幅広い抗菌力を示し、
さらに緑膿菌に対しても優れた抗菌力を有し、故に、抗
菌剤又はその製造中間体としての使用が期待できること
を見いだし、本発明を完成した。

式（Ｉｍ）に於いてＲとして好ましい置換基としては１
例えば以下のものが挙げられる。

（１）式 で示される基。〔式中２は前記と同じ意味を表わす。〕 （２）式 ％式％） で示される基。〔式中ＲはＣＨ２Ｆ、　ＣＩ（２０Ｒｅ
ＣＨ２ＱＣ（＝０）Ｒ’ｔ　ＣＨ２Ｒ’ｔ　ＣＨ２ＮＨ
Ｒ’、　０Ｈ２ＮＨＣ（−０）Ｒ’、Ｒ’　＃　Ｚは前
記と同じ意味を表わす。〕式（Ｉｂ）に於いてＲ５とし
て好ましい置換基としては、例えば以下のものが挙げら
れる。

−ＣＨ２Ｃ（Ｒ）（Ｒ）−Ｚ で示される基。〔式中ＲはＦ、　ＯＲ、ＱＣ（−０）Ｒ
。

Ｒ’　、　ＮＨＲ’　ｔ　タハＮＨＣ（−０）Ｒ’　ヲ
表ｂ　Ｌ、、”　ｅ　Ｚ　ハ前記と同じ意味を表わす。

〕 Ｒ１において保護されていてもよいアミン基とは、アミ
ノ基または保護され九アミノ基である。アミノ基の保護
基としては一般に用いられるそれ自体公知の保護基をい
ずれも用いることができ、例えば、ハロゲノで置換され
ていてもよい脂肪族カルボン酸アシル基（例えば、ホル
ミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、インブチリ
ル、バレリル、イソバレリル、オキサリル、スクシニル
、ピパロイル、モノクロロアセチル、ジクロロアセチル
、トリクロロアセチル等）、ハロゲノで置換されていて
もよい炭素原子数２〜７の低級アルコキシカルゲニル基
（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、
ブロポキシカルデニル、１−７クログロビルエトキシカ
ルゲニル、インブロポキシカル？ニル、ｔａｒｔ−，７
”チルオキシカル？二）１゜ ル、ｔ−ペンチルオキシカルブニル、ヘキシルオキシカ
ルノニル、トリクロロエトキシカルブニル等）、低級ア
ルカンスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、エタ
ンスルホニル、プロ／４ンスルホニル、イングロー臂ン
スルホニル、ブタンスルホニ／１４）、芳香族スルホニ
ル基ＩＬｔば、ベンゼンスルホニル、トルエンスルホニ
ル等）、芳香族アシル基（例えば、ベンゾイル、トルオ
イル、ナフトイル、フタロイル、インダンカル？ニル等
）、アル（低級）アルカノイル基（例えば、フェニルア
セチル、フェニルプロピオニル等）、シクロ（低級〕ア
ルキル（低級）アルカノイル〔例えば、シクロヘキシル
アセチル、シクロペンチルアセチル等〕、アル（低級）
アルコキシカルゲニル（例エバ、ペンジルオキシカルゲ
ニル、ｐ−ニトロベンジルオキシカル？ニル、ｐ−メト
キシペンジルオキシカルボ二ル、フェネチルオキシカル
ブニル等）、モノ−トリフェニル〔低級〕アルキル（例
えば、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリ
フェニルメチク等）、低級アルコキシカル−ニル（低級
）アルキリデンまたはそのエナミン互変異性体（例えば
、１−メトキシカルボニル−１−ｆロペンー２−イル等
）、ジ（低級）フルー？ルアミノメチレン（例えば、ジ
メチルアミノメチレン等）、芳香族ホスフィニル基（例
えば、ジフェニルホスフィニル等）、芳香族ホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
）。

芳香族スルフェニル基（例、ｔば、３−ニトロ−２−ピ
リジンスルフェニル基等）等が挙げられる。

Ｒ３において、カルゲキシル保護基としては一般に使用
されるそれ自体公知の保護基をいずれも用いることがで
き１例えば、低級アルカノイルオキシ（低級）アルキル
エステル（例えば、アセトキシエチルエステル、ゾロピ
オニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチルエ
ステル、バレリルオキシメチルエステル、ピパロイルオ
キシメチルエステル、２−アセトキシエチルエステル、
２−ゾロピオニルオキシエチルエステル、ヘキサノイル
オキシメチルエステル等）、低級アルカンスルホニル（
低級）アルキルエステル（例、ｔハ、２−メシルエチル
エステル等）またはモノ（ｔたはジまたはトリ）−ハロ
（低級）アルキルエステル（例えば、２−ヨードエチル
エステル、２．２．２−トリクロロエチルエステル等〕
と−クた少なくとも１個の置換基を有していてもよい低
級アルキルエステル（例、ｔ［、メチルエステル、エチ
ルエステル、ゾロビルエステル、イソプロピルエステル
、ブチルエステル、インブチルエステル、ｔ−ブチルエ
ステル、（メチルエステル、ヘキシルエステル、１−シ
クロプロピルエチルエステル等）、低級アルケニルエス
テルＣ例、ｔば、ビニルエステル、アリルエステル等）
、低級アルキニルエステル（例、ｔば、エチニルエステ
ル、プロピニルエステル等〕、少なくとも１個の適当な
置換基を有していてもよいアル（低級〕アルキルエステ
ル〔例えば、モノ（またはりまたはトリ）フェニル（低
級ンアルキルエステル等）（例、ｔば、ベンジルエステ
ル、４−、、’）キシベンジルエステル、４−ニトロベ
ンジルエステル、フェネチルエステル、トリチルエステ
ル、ベンズヒドリルエステル、ビス（メトキシフェニル
）メチルエステル、３．４−ジメトキシベン・ゾルエス
テル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジ
ルエステル等）、少なくトモ１個の適当な置換基を有し
ていてもよりアリールエステルＣ例、ｌ、フェニルエス
テル、４−クロロフェニルエステル、トリルエステル、
ｔ−ブチルフェニルエステル、キシリルエステル、メシ
チルエステル、ツメニルエステル等〕などが挙げられる
。

Ｂにおいて求核性化合物残基としては、例えば、水酸基
、メルカプト基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキ
シ基、３−オキソブチリルオキシ基、３−カルブキシゾ
ロピオニルオキシ基、３−エトキシカルバモイルゾロビ
オニルオキシ基、４−カル−キシブチリルオキシ基など
の置換されていてもよい炭素数２〜４の低級脂肪族カル
？ン酸アシルオキシ基、マンゾリルオキシ基、２−力７
ｔｚ／キシベンゾイルオキシ基、２−（カルゲエトキシ
カルパモイル〕ベンゾイルオキシ基、２−（カル♂エト
キシスルファモイル）、ペンジイルオキシ基な−どの置
換されていてもよい芳香族カルがン酸アシルオキシ基、
カルバモイルオキシ基、シアノ、アジド、アミノ、カル
バモイルチオ、チオカルノ譬モイルオキシ、アミノ基の
保護されたカルバモイルオキシ基（例、Ｎ−クロロアセ
チルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ジクロロアセチルカル
バモイルオキシ基、Ｎ−）リクロロアセチルカルパモイ
ルオキシ基などのＮ−モノ−、ジーおよびトリハロゲノ
アセチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−クロロスルホニル
カルバモイルオキシ基、Ｎ−）リメチルシリルカルパモ
イルオキシ基）、フェニルグリシルオキシ基などが挙げ
られる。あるいはこれらの求核性化合物残基が、さらに
アルキル基（例、メチル、エチル、プロピルなどの炭素
数１〜３の低級アルキル基）、アシル基（例、アセチル
、ゾロビオニル、ブチリルなどの炭素数２〜４の低級脂
肪族カルボン酸アシル基、ベンゾイル、ｐ−クロロベン
ゾイル、ｐ−メチルベンゾイル、マンゾロイルなどの芳
香族カルデン酸アシル基）で置換されていてもよく、こ
の場合、置換基の数は通常１〜２個である。あるいは求
核性化合物残基は第４級アンモニウム基であってもよい
。第４級アンモニウム基としては、例えばピリジニウム
、３−メチルピリジニウム、４−メチルピリジニウム、
３−クロロビリジニウム、３−ブロモピリジニウム、３
−ヨードヒリジニウム、４−カル・ぐモイルビリゾニウ
ム、４−（Ｎ−ヒドロキシメチルカルバモイル）ピリジ
ニウム、４−　（Ｎ−カルゲメトキシカルパモイル〕ピ
リジニウム、４−（Ｎ−シアノカルバモイルコピリゾニ
ウム、４−（カル？キシメチル）ピリジニウム、４−（
ヒドロキシメチル）ピリジニウム、４−（トリフルオル
メチル）ビリゾニウム、キノリニウム、ピコリニウム、
ルチジニウム、または４−スルフォピリジニウムなどが
挙げられる。また求核性化合物残基は、Ｓを介して結合
したヘテロ環すなわち、ヘテロ環チオ基を４表わす。こ
こにヘテロ環とはＯ９ＳまたはＮから選ばれた１〜４個
の異種原子を含有する５〜６員環であって、窒素原子は
オキシド化されていてもよい。これらの異項環としては
、たとえばピリジル、Ｎ−オキシドピリジル、ピリミジ
ル、ピリダジニル、Ｎ−オキシドピリダジニル、ピラゾ
リル、ジアゾリル、チアゾリル、１，２．３−チアジア
ゾリル、１，２．４−チアゾアゾリル、１，３．４−チ
アジアゾリル、１，２．５−チアゾアゾリル、１．２．
３−オキサジアゾリル、１．２．４−オキサジアゾリル
、１．３．４−オキサジアゾリル、１，２．５−オキサ
ジアゾリル、１．２．３−　）リアゾリル、Ｌ２−４−
トリアゾリル、ＩＨ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリ
ル等が繁用される。また、これらへテロ環上には、たと
えばメチル；エチル、ゾロビル等の炭素数１〜３の低級
アルキル基、メトキシ、エトキシ、！ロポキシ等の炭素
数１〜３の低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、クロル、ブロム等のハロダン原子、　）
リフロロメチル、トリクロロエチルなどのトリハロゲノ
置換低級アルキル、水酸基、メルカプト基、アミノ基、
カル？キシル基、カルバモイル基、たとえば、ジメチル
アミノエチル、ジメチルアミノメチルなどの炭素数１〜
３のジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、カルゲキシ
メチル基などのカルゲキシ低級アルキル基、アセチルな
どの低級アシル基、アミノ低級アルキル基、カルバモイ
ル低級アルキル基、アリール低級アルキル基、　低級ア
ルキニル基低級アルキル基、低級アルコキシカル♂ニル
基、ニトロ基、スルフォ基、スルフォエチルナトノスル
フォアルキル基、などの置換基を有していてもよい。ヘ
テロ環上にこれらの置換基が置換する場合、置換基の数
は通常１〜３個である。

また、式中に弐〇−Ｎ　−ＯＲ”　（Ｒ”はＲ２を九は
Ｒ５を表わす）ま念は弐〇−Ｎ〜ＯＨで示される基を有
する場合は、二重結合の存在に起因する幾何異性体（シ
ン異性体（式（ｆＶａ）　）　、およびアンチ異性体（
式（ｌＶｂ）　）が存在するが、Ｃ−Ｎ〜０Ｒ１０およ
びＣ−Ｎ〜ＯＨは、その一方または混合物を表わすもの
である。

また、２−アミノ−１，３−チアゾリル基については、
２−アミノ−１，３−チアゾール体（式（ｆＶｃ　）ン
と、２−イミノ−１ｓ３−チアゾリン体（式（ｌＶｄ）
）の互変異性体構造をとると考えられるが、本明細書を
通じて２−アミノ−１，３−チアゾール化合物として表
わし、それにより、２−イミノ−１，３−チアゾリン体
も含まれるものとする。

本発明の誘導体を製造するには、例えば次の方法がある
。

（１）Ａが式、 〔式中、Ｂ、Ｚは前記と同じ意味を表わす。〕で示され
る誘導体は、例えば下記に示す■、■の方法によって製
造することができる。

上記式中、Ｒ、Ｒ１０，ｚは前記と同じ意味を表わす。

Ｒ８はＢのうち、Ｒ９Ｈの基によって置換され得る基で
あり、例えば、水酸基、アセチルオキシ基、プロピオニ
ルオキシ基、３−オキソブチリルオキシ基、３−カルブ
キシプロピオニルオキシ基、３−エトキシ力ルパモイル
グロビオニルオキシ基。

４−カルフキシブチリルオキシ基などの置換されていて
もよい炭素数２〜４の低級脂肪族カルゲン醗アシルオキ
シ基、マンゾリルオキシ基、２−カルデキシペンゾイル
オキ７基、２−（力Ｈｄｅエトキシカルバモイル）ベン
ゾイルオキシ基、２−（カル−エトキシスルファモイル
）ベンゾイルオキシ基などの置換されていてもよい芳香
族カル♂ン酸アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、
アミノ基の保護されたカルバモイルオキシ基（例、Ｎ−
：１ｌｌｌ クロロアセチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ジクロロア
セチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−）ＩＪジクロロアセ
チルカルバモイルオキシ基どのＮ−モノ−、シーおよび
トリハロｒノアセチルカル／４モイルオキシ基、Ｎ−ク
ロロスルホニルカル／々モイルオキシ基、Ｎ−）リメチ
ルシリルカルパモイルオキシ基〕、フェニルグリクルオ
キシ基などが挙げられる。あるいはこれらの求核性化合
物残基が１、さらにアルキル基（例、メチル、エチル、
プロピルなどの炭素数１〜３の低級アルキル基）、アシ
ル基（例、アセチル、プロピオニル、ブチリルなどの炭
素数２〜４の低級脂肪族カルデン酸アシル基、ベンゾイ
ル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ−メチルベンゾイル、マ
ンゾロイル々どの芳香族カルデン酸アシル基）で置換さ
れていてもよく、この場合、置換基の数は通常１〜２個
である。

Ｒ９は求核性化合物残基であり例えば、メルカプト基、
アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、３−オキソ
ブチリルオキシ基、３−カルブキシプロピオニルオキシ
基、３−エトキシカルパモイルゾロピオニルオキシ基、
４−カルゲキシプチリルオキシ基などの置換されていて
もよい炭素数２〜４の低級脂肪族カルゲン酸アシルオキ
シ基、マンゾリルオキシ基、２−カル−キシベンゾイル
オキシ基、２−（カルがエトキシカルバモイル）ベンジ
イルオキシ基、２−（カル？エトキシスルファモイル〕
ベンゾイルオキシ基などの置換されていてもよい芳香族
カルデン酸アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、シ
アノ、アジド、アミノ、カルバモイルチオ、チオカルバ
モイルオキシ、アミン基の保護され九カルバモイルオキ
シ基（例、Ｎ−クロロアセチルカルバモイルオキシ基、
Ｎ−ジクロロアセチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−トリ
クロロアセチルカルバモイルオキシ基などのＮ−モノ−
、ジーおよびトリハロゲノアセチルカルバモイルオキ７
基、Ｎ−クロロスルホニルカルバモイルオキシ基、Ｎ−
トリメチルシリルカルバモイルオキシ基〕、フェニルグ
リシルオキシ基などが挙げられる。あるいはこれらの求
核性化合物残基が、さらにアルキル基（例、メチル、エ
チル、プロピルなどの炭素数１〜３の低級アルキル基）
、アシル基（例、アセチル、ゾルピオニル、ブチリルな
どの炭素数２〜４の低級脂肪族カルデン酸アシル基、ヘ
ンソイル、ｐ−クロロベンゾイル、ｐ−メチルベンゾイ
ル、マンゾロイルなどの芳香族カルゲン酸アシル基）で
置換されていてもよく、この場合、置換基の数は通常１
〜２個である。あるいは求核性化合物残基は第４級アン
モニウム基であってもよい。第４級アンモニウム基とし
ては、例えばピリジニウム、３−メチルピリジニウム、
４−メチルピリジニウム、３−クロロピリジニウム、３
−ブロモピリジニウム、３−ヨードピリジ二鋏４−カル
ノ々モイルヒリシニｒ）ム、４−（Ｎ−ヒドロキシメチ
ルカルバモイル）ピリジニウム、４−（Ｎ−カル？メト
キシカルバモイル）ピリジニウム、４−（Ｎ−シアノカ
ルバモイル）ピリジニウム、４−（カルボキシメチル）
ピリジニウム、４−（ヒドロキシメチル）ピリジニウム
、４−（トリフルオルメチル）ピリジニウム、キノリニ
ウム、ピコリニウム、ルチジニウム、または４−スルフ
ォピリゾニウムなどが挙げられる。また求核性化合物残
基は、Ｓを介して結合したヘテロ環すなわち、ヘテロ環
チオ基をも表わす。ここにヘテロ環とは、０．Ｓまた＋
−ｉ　Ｎから選ばれた１〜４個の異種原子を含有する５
〜６員環であって、窒素原子はオキシド化されていても
よい。これらの異項環としては、たとえばピリジル、Ｎ
−オキシドピリゾル、ピリミジル、ピリダジニル、Ｎ−
オキシドピリダジニル、ピラゾリル、イミダゾリル、チ
アゾリル、１．２．３−チアジアゾリル、１，２．４−
チアジアゾリル、１，３．４−チアジアゾリル、１，２
゜５−チアジアゾリル、１，２．３−オキサジアゾリル
、１．２．４−オキサジアゾリル、１，３．４−オキサ
ジアゾリル、１，２．５−オキサジアゾリル、１，２．
３−　）リアゾリル、１，２．４−　）リアゾリル、Ｉ
Ｈ−テトラゾリル、２Ｈ−テトラゾリル等が繁用される
。

また、これらへテロ環上には、たとえばメチル、エチル
、プロピル等の炭素数１〜３の低級アルキル基、メトキ
シ、エトキシ、！口Ｉキシ等の炭素数１〜３の低級アル
コキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、低級
アシル基、クロル、ブロム等のハロダン原子、トリクロ
ロメチル、トリクロロエチルなどのトリハロｒノ置換低
級アルキル、水酸基、メルカプト基、アミノ基、カルブ
キシル基、カルバモイル基、たとえば、・ジメチルアミ
ノメチル、ジメチルアミノメチルなどの炭素数１〜３の
ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、カルブキシメチ
ル基などのカルゲキシ低級アルキル基、アセチルなどの
低級アシル基、アミノ低級アルキル基、カルバモイル低
級アルキル基、アリール低級アルキル基、低級アルコキ
シカル？ニル低級アルキル基、低級アルコキシカルゲニ
ル基、ニトロ基、スルフォ基、スルフオニチルなどのス
ルフォニルキル基、などの置換基を有していてもよい。

ヘテロ環上にこれらの置換基が置換する場合、置換基の
数は通常１〜３個である。

Ｘはハロダン原子；またはメタンスルフォニル、ｐ−ト
ルエンスルフォニルなどの脱離基を表わす。

また前式は、式中の適当な工程で、カルブキシル基の保
護基、アミノ基の保護基、またはその両方を除去する工
程を含むことができるものとする。

また、前式は式中の適当な工程で、カルブキシル基の保
護、アミノ基の保護、またはその両方を行う工程を含む
ことができるものとする。

■ 〔式中、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｒ、Ｘ、Ｚはそれぞれ前記と同じ
意味を表わす。〕また前式は、式中の適当な工程でカル
♂キシル基の保護基、アミノ基の保護基、またはその史
方を除去する工程を含むことができるものとする。また
前式は、式中の適当な工程で、カルがキシル基の保護、
アミノ基の保護、またはその両方を行う工程を含むこと
かできるものとする。

（２）Ａが式、 〔式中、菱は前記と同じ意味を表わす。〕で示される誘
導体は、例え１．ハ下記に示す方法によって製造するこ
とができる。

〔式中、Ｒ”　＊　Ｒ”　ｓ　Ｘ　ｔ　Ｚはそれぞれ前
記と同じ意味を表わす。〕また前式は、式中の適当な工
程でカル？キシル基の保護基、アミノ基の保護基、また
はその両方を除去する工程を含むことができるものとす
る。また両式は、式中の適当な工程で、カルゲキシル基
の保護、アミノ基の保護、またはその両方を行う工程を
含むことができるものとする０ （３）Ａが式、 〔式中、Ｒは前記と同じ意味を表わす。〕で示される誘
導体は１例えば下記に示す方法によって製造することが
できる。〜 （ＸＩ）　　　　　　　　　　　　　（ＸＸＩＶ）また
はそのカルブキシル　　またはそのアミノ基基における
反応性誘導　　における反応性誘導体もしくはその塩　
　　　体もしくはその塩またはそのカバキシル　　また
はそのアミノ基基における反応性誘導　　における反応
性誘導体もしくはその塩　　　　体もしくはその塩（Ｘ
ＸＶ） （ＩＩ） （４）　　式（ＸＩ）で示される化合物は、例えば下記
に示す方法によって製造することができる。

（ＸＸＶ） （ＸＸＶＩＩ） （Ｘ）　　　　　　　　α■） （５）　　（４）における出発原料の一つである式（Ｘ
ＶＩ）で示される化合物は、例えば下記に示す方法によ
って製造することができる。

Ｑ　　　　　　　　　　　　　　　　０（ＸＸ’ｌｌｌ
［）　　　　　　　　　　　　　　（ＸＸＩＫ）（脱フ
タロイ／ｌ／） Ｈ２ＮＯＲ” （ｘＶＩ） 上記の各製造方法中の反応は常法の手段を利用すること
ができる。さらに詳しくは、以下の方法が挙げられる・ （イ）　三位変換反応 ■　一般式（Ｉｄ）または（Ｖａ）の化合物を、一般式
ＣＭ）の化合物と、溶媒中攪拌することにより行う。（
Ｉｄ）　＝　（Ｖａ）または（Ｍ）はそれらの塩類を用
いることができる。塩基性基における塩類とし【は、た
とえば、塩酸、硝酸または硫酸などの鉱酸との塩；シュ
ウ酸、コハク酸、ギ酸、トリクロロ酢酸またはトリフル
オロ酢酸などの有機カルゲン酸との塩；メタンスルホン
酸、エタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、トルエン
−２−スルホン酸、トルエン−４−スルホン酸、メシチ
レンスルホンｉ！ｌ！　（２，４，６−）リメチルベン
ゼンスルホン酸）、ナフタレン−１−スルホン酸□、ナ
フタレン−２−スルホン酸、フェニルメタンスルホン酸
、ベンゼン−１，３−ジスルホン酸、トルエン−３，５
−ジスルホン酸、ナフタレン−１，５−ジスルホン酸、
ナフタレン−２，６−ジスルホン酸、ナフタレン−２，
７−ジスルホン酸、ベンゼン−１，３，５−トリスルホ
ン酸、ベンゼン−１，２，４−）ジスルホン酸、ナフタ
レン−１，３，５−）ジスルホン酸などのスルホン酸と
の塩を、また酸性基における塩としては、たとえば、ナ
トリウムまたはカリウムなどのアルカリ金属との塩：カ
ルシウムまたはマグネシウムなどのアルカリ土類金属と
の塩；アンモニウム塩；デロカイン、ジベンジルアミン
、Ｎ−ベンジル−β−フェネチルアミン、　Ｎ、Ｎ−ジ
ベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリブチルアミン、ピリシン、ジメチルア
ニリン、Ｎ−メチルビ（リシン、Ｎ−メチルモルホリン
、ソエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどの含窒
累有機塩素との塩を挙げることぶできる。

またこれらの塩類はあらかじめ単離して用いてもよく、
あるいは反応系内で調製してもよい。用いられる溶媒と
しては例えば、水、アセトン、ジオキサン、アセトニト
リル、クロロホルム、塩化メチン／、テトラヒドロフラ
ン、ジメチルホルムアミド、ホルムアミド、Ｎ−メチル
ホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド
、メタノール、エタノール等を挙げることができる。ま
た、これらの混合物を用いる事もできる。この反応は、
Ｏ℃〜１５０℃、好ましくは室温〜１００℃で行われ、
数分〜数十時間で完了する。また、水系の反応溶媒の場
合は反応中、反応液の−をコントロールすることが望ま
しい。

■　一般式（Ｉｄ）または（Ｖａ）の化合物と、一般式
（Ｖｌ）の化合物を酸または酸の錯化合物の存在下、溶
媒中攪拌することにより行う。

この反応において使用される酸または酸の錯化合物とし
ては、たとえば、プロトン酸、ルイス酸またはルイス酸
の錯化合物が挙げられる。ゾロトン酸としては、たとえ
ば、硫酸類、スルホン酸類または超強酸類（超強酸とは
１００％硫酸より強い酸を意味し、前述の硫酸類および
スルホン酸類の一部も含まれる）が挙げられ、さらに具
体的には、硫酸、クロロ硫酸、フルオロ硫酸などの硫酸
類：メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸
などのアルキル（モノ−またはり−）スルホン酸、また
はｐ−）ルエンスルホン酸などのアリール（モノ−、ジ
ーまたはトリー〕スルホン酸などのスルホン酸類；過塩
素酸、マジック酸（ＦＳＯ，Ｈ−８ｂＦ５）、ＦＳＯ，
ｆ（−ＡｓＦ５、ＣＦ、Ｓｏ、Ｈ−８ｂＦ５、ＨＦ−Ｂ
Ｆ、　、　Ｈ２ＳＯ４−８０，などの超強酸類が挙けら
れるＯまた、ルイス酸としては、たとえば、三弗化硼素
などが挙げられる。また、ルイス酸の錯化合物としては
、たとえば、三弗化硼素と、ジエチルエーテル、ジ−ｎ
−プロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテルなどとの
シアルキルエーテル錯塩；エチルアミン、ｎ−ゾロビル
アミン、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミンなど
とのアミン錯塩；ギ酸エチル、酢酸エチル逓どとのカル
？ン酸エステル錯塩；酢酸、プロピオン酸などとの脂肪
酸錯塩；アセトニトリル、ゾロビオニトリルなどとのニ
トリル錯塩などが挙げられる。

また、この反応においては有機溶媒を用いた場合カ好ま
しく、用いられる有機溶媒としては、反応に不活性な全
ての有機溶媒、たとえば、ニトロメタン、ニトロエタン
、ニトロゾロ／４ンなどのニトロアルカン類；ギ酸、酢
酸、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、プロピオン酸な
どの有機カルゲン酸類：アセトン、メチルエチルケトン
、メチルインブチルケトｙなどのケトン類；ジエチルエ
ーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、
アニソール、ジメチルセルソルブなどのｘ−ｆ　Ａ／　
類：ギ酸エチル、炭撤ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、クロロ酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；
アセトニトリル、ブチロニトリルなどのニトリル類；塩
化メチレン、クロロホルム、ｌ、２−ジクロロエタンナ
トツノ−ロダン化炭化水素類；スルホランなどのスルホ
ラン類などが挙げられ、これらの溶媒を二種以上混合し
て用）１ぐ いてもよい。また、これらの有機溶媒とルイス酸とで形
成場れる錯化合物を溶媒として使用することもできる。

酸または酸の錯化合物の使用量は、一般式（Ｉｄ）また
は（ｖｌ）の化合物もしくはその塩類に対し等モル以上
であればよく、個々の場合に応じ適宜増減させることが
できる。特に、２〜１０倍モル量の使用が好ましい。酸
の錯化合物を用いる場合には、それ自体を溶媒として用
いることができ、二種以上の錯化合物を混合して用いて
もよい。

また、一般式（Ｖｌ）の求核性化合物もしくはその塩類
の使用量は、一般式（Ｉｄ）またはＣＶ＆）、もしくけ
その塩類に対して等モル以上であればよいが、特に１．
０〜５．０倍モル量の使用が好ましい。

この反応は、通常Ｏ〜８０℃で行われ、数分〜数十時間
で完了する。

この反応の系内に水分があると原料または生成物のラク
トン化およびβ−ラクタム環の開裂など好ましくない副
反応を惹起することがあるので、反応系内を無水の状態
に保つことが望ましい。この条件を満たすために、反応
系内圧適当な脱水剤。

たとえば、五酸化リン、ポｙ　ｒ）ン酸、五塩化リン、
三塩化リン、オキシ塩化リンなどのリン化合物；Ｎ、０
−ビス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメチル
シリルアセトアミド、トリメチルクロロシラン、ジメチ
ルジクロロシランなどの有機シリル他剤ニアセチルクロ
リド、ｐ−トルエンスルホニルクロリドなどの有機酸ク
ロリド；無水酢酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水
物；無水硫酸マグネシウム、無水塩化カルシウム、モレ
キュラーシープ、カルシウムカーバイドなどの無機乾燥
剤などを添加してもよい。

（ロ）　アシル化反応 一般式（Ｖａ）　−（ｖｂ）　、　（ＸＸｆＶ）または
（ＸＸＸ）の化合物またはそのアミノ基における反応性
誘導体もしくはそれらの塩類に、一般式（■）、（■）
、（ＤＯ，（Ｘ）または（ＸＩ）の化合物またはそのカ
ル−キシル基における反応性誘導体もしくはそれらの塩
類を反応させることにより行う。

一般式（Ｖａ）　、　（Ｖｂ）　、　（ＸＸＩＶ）　、
（ＸＸＸ）　、（■）、（■）、（ＩＸ）。

（Ｘ）または（Ｍ）の化合物の塩類としては、ケ）の中
で（Ｖａ）、（Ｉｄ）または（Ｖｌ）の塩類について説
明したものと同様の塩基性基あるいは酸性基における塩
が挙げられる。

一般式（Ｖａ　）　、（Ｖｂ　）　−（Ｘ）ＧＶ）また
は（ＸＸＸ）の化合物のアミノ基における反応性誘導体
としては、一般のアシル化反応において用いられるもの
が用いられる。例えば、インシアナート、一般式（Ｖａ
　）　、　（Ｖｂ　）。

（ＸＸＩＶ）　、または（ＸＸＸ）の化合物またはその
塩類とビス（トリメチルシリル）アセトアミド、トリメ
チルシリルアセトアミド、トリメチルシリルクロライド
などのシリル化合物、三塩化燐、（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２
Ｐｃ？、（ＣＨ，ＣＨ２）２ＰＣ１などのリン化合物ま
たは（Ｃ４Ｈ，）、５ｎＣ１などのスズ化合物との反応
により生成するシリル誘導体、リン誘導体またはスズ誘
導体などが挙げられる。

一般式（Ｖｌｌ）　、　（■）、（１）０．（Ｘ）また
は（ＸＩ）の化合物のカルゲキシル基における反応性誘
導体としては、一般のアシル化において用いられるもの
が用いられる。例えば、酸ハロダン化物、酸無水物、混
合酸無水物、活性酸アミド、活性エステルならびに一般
式（■）、（Ｖｌ）、（Ｘ）、（Ｘ）または（Ｘ［）の
化合物と、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体などが
挙げられる。混合酸無水物としては、たとえば、炭酸モ
ノエチルエステル、炭酸モノイソブチルエステルなどの
炭酸モノアルキルエステルとの混合酸無水物、♂バリン
酸やトリ２０口酢酸などのへ口ｒンで置換されていても
よい低級アルカン酸との混合酸無水物などが用いられる
。活性酸アミドとしては、たとえば、Ｎ−アシルサッカ
リン、Ｎ−アシルイミダゾール、Ｎ−アシルベンゾイル
アミド、Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシル−Ｎ−アシル尿素
、Ｎ−アシルスルホンアミドなどが用いられる。つぎに
、活性エステルとしては、たとえば、シアンメチルエス
テル、置換フェニルエステル、置換ベンツルエステル、
置換チェニルエステル、ベンゾトリアゾールエステル、
スフシイミドエステルなどが用いられる。

ま九、ビルスマイヤー試薬との反応性誘導体としては、
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ツメチルアセ
トアミドなどの酸アミドに、ホスダン、塩化チオニル、
三塩化リン、三臭化リン、オキシ塩化リン、五塩化リン
、トリクロロメチルクロロホルメート、塩化オキゾリル
などのハロゲン化剤を作用させて得られるビルスマイヤ
ー試薬との反応性誘導体などが挙げられる。

一般式（■）、（■）、（Ｎ）、（Ｘンまたは（Ｘ［）
の化合物を遊離酸または塩の状態で使用する場合は、適
当な縮合剤を用いる。このような縮合剤としては、たと
えば、　Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカル？ジイミドの
ようなＮ、Ｎ’−ノ置換カル？ノイミド；　Ｎ、Ｎ’−
チオニルジイミダゾールのようなアゾライド化合物Ｎ−
エトキシカルゲニル−２−エトキシ−１，２−ヒドロキ
シキノリン、オキシ塩化燐、アルコキシアセチレンなど
の脱水剤；２−クロロピリジニウムメチルヨーヅド、２
−フルオロピリソニウムメチルヨージドなどの２−ハロ
ゲノビリジニウム塩などが用いられる。

このアシル化反応は、一般に適当な溶媒中、塩基の存在
または非存在下で実施される。溶媒として、たとえば、
クロロホルム、塩化メチレンなどのハロダン化炭化水素
類；ベンゼン、トルエンなどの芳香族系炭化水素類；テ
トラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；　Ｎ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド、　Ｎ、Ｎ−ジメチルアセ
トアミド、アセトン、水またはこれらの混合物などが使
用できるまた、塩基としては、水酸化アルカリ、炭酸水
素アルカリ、炭酸アルカリまたは酢酸アルカリなどの無
機塩基；トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリグ
チルアミン、ピリジン、Ｎ〜メチルビヘリジン、Ｎ−メ
チルモルホリン、ルチジン、コニ　　リジン、４−ジメ
チルアミノピリジンの第３級アミンあるいはジシクロヘ
キシルアミン、ジエチルアミンなどの第２級アミンなど
の有機塩基が挙げられる。

反応温度は特に限定されないが通常−７８℃〜６０℃、
好ましくは一５０℃〜３０℃で行われ、反応は通常数分
〜数十時間で完了する。

（ハ）　アルキル化反応 ■　一般式（ＸＩ［）　、　（ＸＩＸ）　、　（ＸＸ　
）　、　ＣＸＸｍ）　、　（ＸＸＶ）　、　（ＸＸＷ）
　。

（ＸＸＸＩ）ま九は（ＸＸＸＩＶ）の化合物に一般式（
ＸＩＶ）の化合物を塩基の存在下に反応させることによ
り行うＯ 溶媒としては、本反応を阻害しない限りいかなるもので
もよく、たとえば、テトラヒドロフラン、Ｏジオキサン
、メタノール、エタノール、りｃ１０ホルム、塩化メチ
レン、酢酸エチル、酢酸グチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルス
ルフオキシド水など、またはこれらの混合物などが用い
られる。用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩、水酸化ナトリ
ウム水酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物、ト
リエチルアミン、ピリジン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン
などの第３級アミンあるいはジシクロヘキシルアミン、
ジエチルアミンなどの第２級アミンなどの有機塩基があ
げられる。

反応は一般に一３０℃〜１００℃で行われ、数分から数
十時間で完了する。

■　一般式（Ｘｌ［）　、　（ＸＩＸ）　、　（ＸＸ）
　、　（ＸＸＩ）　、　（ＸＸＶ）　、（ＸＸＶＩ）　
。

（ＸＸＸｔ）　＊　タハ（ＸＸＸＩＶ）　ノ化合物トー
４’式（Ｘｌｌｌ）　ｃｖ化合物とを、一般に用いられ
る脱水反応を施すことにより行う。

脱水反応に用いる試薬としては例えばトリ置換ホスフィ
／とアゾシカルピン酸エステルを挙げる猿・ ことができる。用いられるトリ置換ホスフィンとしては
例えば、トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホ
スフィン、トリフエノキシホスフィンナトのトリアリー
ルオキシホスフィン、トリエトキクホスフィンなどのト
リアルコキシホスフィン、またはトリエチルホスフィン
などのトリアルエチル、アゾジカル♂ン酸ジイソプロピ
ルなどが挙げられる。

溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエ
チルエーテルナトのエーテル系溶媒、ヘンゼン、トルエ
ンなど芳香族系溶媒、ヘキサメチルホスフォリックトリ
アミドなど、あるいはこれらの混合物が挙げられる。

一般式（Ｘ［Ｉ）、（ＸＩＸ）、（ＸＸ）、（ＸＸ［［
［）、（ＸＸＶ）、（ＸＸＭ）。

ＣＸＸＭ）または（ＸＸＸＩＶ）の化合物に対し、一般
式（ＸＩＩ［）の化合物は０．５〜２倍モル、好ましく
は０．８〜１．２倍モル、トリ置換ホスフィンは１〜３
倍モル、好ましくは１〜１，５倍モル、アゾシカルピン
酸エステルは１〜３倍モル、好ましくは１〜１．５倍モ
ル用いられる。

反応温度は一５０℃〜８０℃、好ましくは一３０℃〜３
０℃である。反応は１〜数十時間で完了する。

に）閉環反応 一般式、（Ｘｌｌ）、（ＸＶ）、（ＸＸ）、（ＸＸＩ）
、（ＸＸＸ［）　ｉ　タハ（ＸＸＸＩＩ）の化合物もし
くはその塩類に、一般式（■）の化合物を反応させるこ
とにより行う。

この反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、本
反応を阻害しない限りいかなるものでもよいが、たとえ
ば、水、メタノール、エタノール、アセトン、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、　Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピリ
ドンなど、またはこれら二種以上の混合溶媒が用いられ
る。脱酸剤の添加は、特に必要としないが、セファロス
ポリン骨格に変化を与えない範囲の量の脱酸剤を添加す
ると円滑に反応が進行することもある。この反応に用い
られる脱酸剤としては、水酸化アルカリ金属塩、炭酸水
素アルカリ金属塩、トリエチルアミン、ピリジン、Ｎ、
Ｎ−ツメチルアニリンなどの無機または有機塩基が挙げ
られる。

反応は一般に０〜１００℃の範囲で行われる。

通常、一般式（Ｘｌｌ）、（ＸＶ）、（ＸＸ）、（ＸＭ
）、（ＸＸＸ［）　マタハ（ＸＸＸＩＩ）の化合物、も
しくはその塩類に対し、１〜数倍モルの（■）が用いら
れる。反応時間は通常、１〜数十時間、好ましくは１〜
１０時間である。

（ホ）　オキシム化反応 一般式、（Ｘ）　、　（ＸＭ）　、　（ＸＸＩＩ）ま＊
　ハ（ＸＸＸＩＩ［）　ｆ）化合物またはその塩類に、
一般式（牌）の化合物またはその塩類を反応させること
によって行う。

一般式（ＸＶＩ）の化合物の塩類としては、例えば塩酸
塩、臭化水素酸塩、硫酸塩などが挙げられる。

そして、この反応は、通常、水、アルコールなどの溶媒
のほかに、反応に不活性な溶媒、またはこれらの混合溶
媒中で行われ、反応は通常、Ｏ〜１０．０℃、好ましく
は１０〜５０℃の範囲で行われ、１０分〜４８時間で完
了する。

一般式（Ｘ）、（ＸＭ）、（ＸＸ）または（ＸＸＸ［Ｉ
Ｉ）の化合物またはその塩類に対して、１〜数倍モルの
一般式０ｃ４）の化合物が用いられる。

（へ）脱フタロイル反応 一般式、　　（ＸＸＩＫ）の化合物の脱フタロイル反応
は、通常の脱フタロイル反応、例えば抱水ヒドラジン、
Ｎ−メチルヒドラジンなどのとドラジンを用いて行われ
る。

溶媒は用いなくてもよいが、通常溶媒としてメタノール
、エタノール、塩化メチレンなどが用いられ、反応は通
常０−１００℃の範囲で行われ、数分〜数日で完了する
。

以上のようにして合成された本発明の誘導体の単離は、
それ自体公知の単離手段（抽出法、カラムクロマトグラ
フィー法、再結晶法等）を適宜利用して行うとよい。

さらに本発明の一部の誘導体には光学異性体が存在する
が、この場合には、それらの各異性体及びそれらの混合
物も本発明に含まれる。本発明化合物が標記の化学構造
を有することは、元素分析、赤外吸収スペクトル、核磁
気共鳴スペクトル、質量分析等によって確認された１′
□。

これらの化合物の有用性を例示する為、この発明の代表
的な化合物の抗菌力を表１に示し次。抗菌力試験は日本
化学療法学会標準法により行った・以上のようにして得
られた一般式（■＆）および（Ｉｂ）の化合物またはそ
の塩類は、遊離の形、非毒性塩、及び生体内でそれらに
変換され得る化合物の形で人および動物に投与すること
ができる。その場合、通常上７アａスポリン系薬剤に適
用されている剤形に調製すればよく、例えば錠剤、カプ
セル剤、散剤、顆粒剤、丸剤なとの固形剤形、または例
えば溶液、懸濁液、エマルジ！Ｉ／などの液体剤形が挙
げられる。上記の製剤を調製する際、必要に応じ、例え
ばデンプン、乳糖、グルコース、リン酸カルシウムなど
の賦形剤、デンプン、結晶セルロース、カルゲキシメチ
ルセルロースナトの結合剤、タルク、ステアリン酸マグ
ネシウムなどの潤沢剤、および崩壊剤、希釈剤、添加剤
などを用いてもよい。投与は経口的にも非経口的にも投
）１１．１ 与することができる。非経口的投与しては例えば静脈内
投与、筋肉内投与、皮下投与または坐剤が挙げられる。

投与量は投与対象者の年令、性別、体重あるいは症状な
どによって変動するが、通常成人１人当り、１日約５０
〜５０００叩を１〜４回に分けて投与すればよい。

以下、実施例により本発明の詳細な説明する。

実施例１　２−ブロモ−３−ヒトａキシプロピオン酸ｔ
−ブチルａ）アクリル酸ｔ−ブチル２３．８１１、ギ酸
２６ｄｆｔクロロホルム３３ｄに溶解し、１０〜１５℃
で攪拌しながらジブロモベンゼンスルホンアミド２９、
３　ＩＩｉ加え比。その後反応温度を室温に上げ６時間
攪拌した。生じた白色結晶を戸別し、クロＦ液を濃縮し
、残渣を減圧蒸留し、２−プロモー３−ホルミルオキシ
ゾロピオン酸ｔ−ブチルエステル２５ＪＩ′ｌｋ得た。

（収率８５．６％）ＩＲ（液膜法）：　１７４０備　（
−０ＣＨＯ）、１７２０　（−Ｃｏ２Ｃ（ＣＨ３）、）
ＦＤ　−ＭＳ　（ｍ／ｚ　）　　：　２５３　（Ｍ）ｂ
）２−プロモー３−ホルミルオキシプロピオン酸ｔ−ブ
チル３Ｉを水−エタノール−濃塩酸（２０ニア９：１）
１４＋ｄに溶解し、６０℃で３時間、６５℃で１時間攪
拌した。反応液を濃縮し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液
で中和した後、エーテル３０ゴを加え抽出した。エーテ
ル層を水洗の後無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過、溶
媒留去を行い、標記化合物２ｇを得た。（収率７５チ）
ＩＲ（液膜法）　：　３３５０ｃ＋ｙｓ−’（−０Ｈ）
　。

１７２０　（−Ｃｏ２Ｃ（ＣＨ３）、）ＦＤ−ＭＳ（ｍ
／ｚ）　　：２２５（Ｍ）２−プロモー３−ヒドロキシ
ゾロビオン酸を一ブチル１２．４５ｇとＮ−ヒドロキシ
フタルイミド９、Ｏｌを乾燥ＤＭＦ　１８９　ｄに溶解
し、室温で攪拌しながら無水炭酸カリウム７、２　Ｉｉ
を徐々に加え念。

乾燥ＤＭＦを３０−加え、室温で７４時間攪拌した。

乾燥ＤＭＦ　５０　ｍｌ、無水炭酸カリウム０．４＃ｅ
加え更に１時間攪拌した後、反応液を水４６０−に加え
、３０分攪拌した。生じた沈殿ｔ−Ｆ＊Ｌ、塩化メチレ
ンに溶解した後、水で３回洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥した。乾燥剤を戸去した後、溶媒を留去して得られ
た残渣をシリカダルカラムクロマトグラフィーで処理し
、標記化−合物２．０７．Ｆを白色固体として得た。（
収率１２．１８％）’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）δ：　１
５３（９１（、畠、−ｃ（ｃＨ，）、）　。

３．９３（２Ｈ，ｄ、−ＣＨ２−）　。

４．５６（ＩＨ％　ｔ、−ＣＨ−）　。

ＩＲ（液膜法）ｃＷｌ　、３４８０，１７９０．１７２
０ＦＤ−ＭＳ　（ｍ／ｚ　）　：　３０７　（Ｍ”）２
−７タルイミドオキシー３−ヒドロキシ−プロピオン酸
ｔ−ブチル１．４６　ｉをピリジン２０ｄに溶解し、Ｏ
Ｃに冷却した後、メタンスルホニルクロリド１．６３．
９を加え、０℃で２時間攪拌した。

反応液を氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し、１０％硫
酸水素カリウムで洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。溶媒を留去後、残渣をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ
）　３５　ｄに溶解して０℃に冷却下、ジアゾビジクロ
ウ／デセン７８０ηを加え０℃で１，５時間攪拌した。

反応液に酢酸エチルを加え、ＩＮ、塩酸、炭酸水素ナト
リウム、次いで水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。溶媒製して、標記化合物１．０５＃（収率７６．
３　％　）　ｋ得た。

”ＨＮＩＭＲ（ＣＤＣ２３）δ：　１．５１　（９Ｈ、
ｓ　、　−Ｃ（ＣＨ３）、　）４．８０　（ＩＨ、ｄ　
−Ｊ　＝３　Ｈｚ　、＝ＣＨ２）５．４４　（ＩＨ＝　
ｄ　、Ｊ　＝３　Ｈｚ　、＝ＣＨ２）２−フタルイミド
オキシ−アクリル酸ｔ−ブチル１．０５　ｇを塩化メチ
レン３５ゴに溶解し、抱水ヒドラジン３６２　＋１１ｐ
を加え、室温で４０分攪拌した。析出物をろ過し、７チ
アンモニア水、次いで水で洗浄後、硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去後、残渣をエタノール８０−に溶
解し、２−（２−トリフェニルメチルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）−２−オキソ酢酸１ｇを加え、
室温で３時間攪拌した。溶媒を留去し、残渣に酢酸エチ
ルを加え、５チリン酸、次いで水で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。溶媒を留去し、残物８３６ｒｎ９（
収率：　６６．０チ）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）δ：　１．３９（９Ｈ，ｌ　
、−Ｃ（ＣＨ，）３）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｓｓ−：１７２
０，１６３０実施例５　　７−（２−（２−）リフェニ
ルメチルアミノー１，３２−（２−）ジフェニルメチル
アミノ−１，３−チアゾール−４−イル）−２−（（１
−ｔ−ブチルオキシカル−ニルエチニル）オキシイミノ
〕酢酸５５５〜．７−アミツセフアロスＩラン酸を一ブ
チルエステル４００１Ｑ、１−ヒトミキシベンゾトリア
シー＃１５０ｒｎ９をＴＨＦ　１５−に溶解し、０℃に
冷却後、ＴＨＦ５−に溶解したＮ、Ｎ’−ジシクロへキ
シル力−ゲジイミド２３０ｒｖを加えた。０℃で２時間
攪拌後さらに室温で２３時間攪拌し念。

析出物をろ過した後、ろ液を５チリン酸、次いで炭酸水
素ナトリウムで洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。

溶媒を留去後残渣をシリカダルカラムクロマトグラフィ
ー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して標記化
合物６２５＃（収率：６８．１チ）を得た＠ ’ＨＭＭＲ（ＣＤＣ１３）δ：　１．４８　（９Ｈ＃　
１１　ｅ　ｔ−Ｂｕ　）１．５１　（９Ｈ、ｓ　、　ｔ
−Ｂｕ　　）２．０９（３Ｈ、ｓ　、　Ａｃ　　） ５．５７　（２Ｈ２ｍ　、＝ＣＨ２） ７．６６（ＩＨ、ｍ　、　　−ＣＯＮＨ−）実施例６　
　７−（２−（２−アミノ−１，３−チア／−ルー４７
−［：２−（−）リフェニルメチルアミノー１．３−チ
アゾール−４−イル）−２−（（１−ｔ−プチルオキシ
カルゲニルエテニル）オキシイミノ〕−アセトアミド〕
−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ｔ−ブチルエステル２９５ｍ９に、ギ０３−を加え、
４０℃で４時間攪拌した。析出物をろ通抜、アンモニア
水で中性とし、凍結乾燥した。残渣をＸＡＤ−１１（ロ
ームアンド・ハース社）で精製して標記化合物１１４１
ダ（収率：　６５．４％）を得た。

’　ＨＮＭＲ（Ｄ２０＋ＣＤ３００）δ：２．０６　（
３Ｈ、ｓ　、　Ａｃ　） ５．６９　（２Ｈ１ｍ　、＝ＣＨ２） ■ ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ　　　：１７６０，１４００Ｍａｓｓ
　ｒｒｖ’＠；　　５１２　（Ｍ＋Ｈ）実施例７ ＴＨＦ　ｌ　５０−に、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド４
．８９１Ｉ、（Ｓ）−２−ｔ−プトキシカルメキサミド
ー３−ヒドロキシゾロピオン酸ｔ−ブチルエステル７．
８４．Ｆ、）リフェニルホスフイン１１．８０ｇを溶解
し、−１５℃で攪拌した。これに、アゾジカル？ン酸ジ
エチル７、８４　Ｎ　ｔ−ＴＨＦ　１０　ｄに溶解した
ものを、１時間で滴下し、反応ｔＬを一１５℃で２時間
、室温で一晩攪拌した。溶媒を留去した後、トルエンを
加え、不溶物を濾去した。残渣に再びトルエンを加え、
不溶物を濾去した。この操作を４回繰り返した後、溶媒
を留去し、残渣をシリカダルクロマトグラフィ−（シリ
カダル３００１１　トルエン：酢酸エチル＝１０：１）
で精製し、ヘキサンより再結晶して、標記化合物３．０
２Ｆ（２４゜８チ）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃＩＦｌ　、１７９２．１７４０，１７
０８’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）δ：　１．４４（９Ｈ、
ａ　、　”Ｂｕ　）１．４７　（９Ｈｒ　ｓ　ｒ　Ｂｏ
Ｃ）４．３８　（ＩＨ、ｄｄ　、　Ｊ＝３．４Ｈｚ、　
９．９Ｈｚ。

４．７７（１Ｂ　、　ｄｄ　、　Ｊ＝２．４Ｈｚ　。

９．９Ｈｚ　ｌ−ｍ−−） ５．９４　（ＬＨ、ｂｒｄ　、　＆５Ｈｚ　、　−ＮＨ
Ｂｏｅ　）実施例８ Ｎ−ヒドロキシフタルイミド０．８１２．９．　　（Ｒ
）−２−ｔ−ブトキシカルボキサミド−３−ヒドロキシ
プロピオン酸ｔ−ブチルエステル１．３０１Ｉ。

トリフェニルホスフィン１．９６Ｉ！、アゾジカルゲン
酸ジエチル１．３０．９を用いて、実施例７と同様にし
て、標記化合物０．４９１１（２４，２チ）を得た。

ＺＲ（ＫＢｒ）ｚ　　、１７９２，１７４０，１７０８
’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）δ：　１．４４　（９Ｈｅ　
ｓ　ｐ　”Ｂｕ　）１．４７　（９Ｈ＃　Ｉ　＃　Ｂｏ
ａ　）４．３８　（ＩＨ、ｄｄ　、　Ｊ＝＝３　Ｈｚ　
、　１０Ｈｚ　。

■ ＮＨＢｏｅ ４．７７　（１Ｂ　、　ｄｄ　、　Ｊ＝＝３　Ｈｚ　、
　１０Ｈｚ　。

−Ｃ４）−ＣＨ） ５．９３（ＩＨ、ｄ　、Ｊ＝９Ｈｚ　ｒ　−ＮＢｏｃ　
　）■ ＦＤ−ＭＳ　　（ｍ／４１）　：　５７　（”Ｂｕ）　
、　３０５　（Ｍ−■ｚＢｕ）　ｅ４０７　（Ｍ＋Ｈ）
　、　４６３　（Ｍ＋”Ｂｕ）。

８１３（２Ｍ＋Ｈ） 実施例９ （Ｓ）　−２−ｔ−プトキシカルメキサミドー３−フタ
ルイミドオキシプロピオン酸ｔ−ブチルエステル２１を
塩化メチレン３０Ｉｎｔに溶解し、抱水ヒドラジン０．
４８ＴＴＩｔを加え）、、た。室温で３時間攪拌後、不
溶物を濾去し、濾液を７チアンモニア水、水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥して、標記化金物１．２４　
！Ｉ（９１，３チ）１に得た。

ＩＲ（液膜法）α−’：　１７０８譚−１−腎憫阻ｃＤ
ｃｚ、　）δ：　１．４６　（９Ｈ＋　８ｅ　”Ｂｕ　
）１．４８（９Ｈ、ａ　、Ｂｏｃ　） ５．４８（ＬＨ、ｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ、−ＮＨ−Ｂｏａ）
５．５６　（２Ｈ、ｂｒａ　、　ＮＨ２）ＦＤ−ＭＳ　
　（ｍ、４）　：５７　（”Ｂｕ）、　１７５　（Ｍ−
ＣＯ，、’Ｂｕ）　。

２７６（Ｍ） 実施例１Ｏ （Ｒ）　−２−ｔ−グトキシカル？キサミドー３−フタ
ルイミドオキシプロピオン酸ｔ−グチルエステル０．４
１１Ｉ、抱水ヒドラジン９８　ｄ　ｔ−用いて、実施例
９と同様にして、標記化合物０．２４ｇ（８６，０チ）
を得た。

ＩＲ（液膜法）　　ｃｍ　　　、１７００’ＨＮＷｒＲ
（ＣＤＣ１，）δ：　Ｌ４６　（９Ｈｚ　ａ　ｔ　”Ｂ
ｕ　）４．３８−４．４２　（ＩＨ−ｍ　−−ＣＨ−Ｃ
Ｈ２）５．４８（ＩＨ、ｂｒｄ　、Ｊ＝８Ｈｚ　　、Ｎ
ＨＢｏｃ）５．５６　（２Ｈ、ｂｒｓ　、ＮＨ２）実施
例１１ （Ｓ）　−３−アミノオキシ−２−ｔ−プトキシカルメ
キサミドプロピオン酸ｔ−ブチルエステル６６０Ｉｎ９
を、エタノール６０−に溶解し、２−（２−トリフェニ
ルメチルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）−２
−オキソ酢酸（フリ一体：ナトリウム塩＝９＝１の混合
物）　９７２１＃ｔ−加え、室温で１．５時間攪拌した
。溶媒を留去した後、残渣を酢酸エチルに溶解し、１０
チクエン酸水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。残渣を酢酸エチル−ｎ−ヘキサンより粉末化して、
標記化合物１．４０．Ｐ（８９，３チ）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ　　：１７０７ １ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ２）ａ＝１．３２（９Ｈ１Ｉ、＋
Ｂｕ）１．４０　（９Ｈ＋　ａ　ｅ　Ｂｑ　ｃ　　）４
．４６　（３Ｈ、ｂｒａ　、　−ＣＨ２−ＣＨ−）５．
８７（ＩＨ、ｂｒｓ　、−ＮＨ−Ｂｏ　ｃ）ＦＤ−ＭＳ
：５７（”Ｂｕ）、２４３（Ｔｒｔ）。

６７３（Ｍ＋Ｈ） 実施例１２ （Ｒ）　−３−アミノオキシ−２−ｔ−プトギシ力ルポ
キサミド！ロピオン酸ｔ−ブチルエステル１８０η、２
−（２−）リフェニルメチルアミノーｌ、３−チアゾー
ル−４−イル）−２−オキソ酢酸（フリ一体：ナトリウ
ム塩＝９：１の混合物）２５３ダｉ用いて、実施例１１
と同様にして、標記化合物３３４ｒｎ９（８１，８％）
を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｍ　　、１７０９，１６３６，１１５
７，７０２’亮（ＣＤＣ１，）δ：　　１．３３　（９
Ｈ、ｓ　、　＋Ｂｕ　）１．４３　（９Ｈｅ　ｌ　＃　
Ｂｏａ　）４．４３〜４．５４　（３Ｈ１ｍ　−ＣＨ２
−ＣＨ−）５．７８　（ＩＨ、ｄ　、　Ｊ　＝７．２Ｈ
ｚ　、　−ＮＨＢｏｃ）ＦＡＢ−ＭＳ　　（ｍ／４）　
：　６７３　（Ｍ＋Ｈ）　、　６９５　（Ｎａ塔田）。

７１７（Ｎａ塩＋Ｎｍ） 実施例１３ １＋ デジノン−ｌ−スルフォン酸ナトリウム（Ｚ）　−２−
（（８）　−２−ｔ−ブトキシカルボニル−２−ｔ−プ
トキシ力ル〆キサミドエトキシイミノ）−２−（２−）
リフェニルメチルアミノー１．３−チアゾール−４−イ
Ｎ）酢酸２５０ｆｎ９．１−ヒドロキシベンゾトリアゾ
ール６０　ｍｇ、　Ｎ、Ｎ’−ジシクロへシルカ−？ジ
イミド８２ｒｎ９をＤＭＦ　１　ｍに水冷下に溶解した
。別に、（３８，４８）−３−アミノ−４−メチル−２
−アゼチジノン−１−スルフォン酸１０１１１１９をＤ
ＭＦ　０．４　ｍに懸濁し、水冷下にトリエチルアミン
７８．２μｌを加えて、溶解した。この溶液を、水冷下
に先の溶液に加えた。

水冷下に１時間攪拌した後、室温で一晩攪拌した。

減圧下に濃縮した後、酢酸エチルを加え、不溶物を濾過
した。濾液を濃縮し、少量の酢酸エチルを加え冷蔵し、
再び不溶物を濾去し次。この操作を２回繰り返した後、
濾液を水、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去し、標記化合物２８６Ｉｎｇ（
８９，７１）を得た。

ＩＲ（（ＫＢｒ）ｏ＋＋　　、１７５５，１７１７，１
６８６，１３７０゜１２８５．１２５０．１１５７．１
０４９ＦＡＢ−ＭＳ　（ｒｒｖ／ｉＩ）：　８３５　（
Ｍ＋Ｈ）　、８５７　（Ｎａ塩＋Ｈ）。

８７９（Ｎａ塩十Ｎｍ　） 実施例　１４ ジノン−１−スルフォン酸テトラツチルアンモニウム塩 （３８ｅ　４　Ｓ　）　−３−（（Ｚ）　−２−（（Ｓ
）　−２−１−１トキシカルがニル−２−ｔ−プトキシ
カルゲキサミドエトキシイミノ）−２−（２−）ＩＪフ
ェニルメチルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）
アセトアミドツー４−メチル−２−アゼチジノン−１−
スルフオン酸ナトリウム塩　２３４１ｖに、酢酸エチル
　２０ｄ１水　２０１７−１ｉ−加え、攪拌した。硫酸
水素テトラブチルアンモニウム９３■を加え、１時間攪
拌した。酢酸エチル層を分離し、水層を更に酢酸エチル
で３回抽出した。

酢酸エチル層を合わせ、水、飽和食塩水で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して、標
記化合物　２７８■（９４，９１）ｉ得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｏｎ　　　、１７５５，１７１７，１３
７０，１２８５，１２４６１１５７　、１０４９ ’ＨＮＭＲ（ＣＤＣ２，）δ：　　０．９７　（１２Ｈ
，ｔ　、Ｎ＋（αＦ￥−■、）４）。

１．３６−１．４４　（２９Ｈ、ｍ　、Ｎ”（Ｑ（２Ｃ
Ｈ２Ｇ（２ｃＨ３）　４゜υ １、ｓ　ｓ　−１，６７（８Ｈ，ｍ、Ｎ”　（Ｃ）Ｌｚ
ｃＨ２ａ（２ａ（３）４）３．２２−３．２７　（８）
１−　ｍ　−Ｎ＋（ａ１２ａ（２ａ（２ｃＨ５）４　。

７．２７−７．２９（１５Ｈ，ｍ、　＠　）ＦＤ−ＭＳ
（Ｉｖ／ｚ）　：　　２４２（Ｎ（ｔ＋Ｂｕ）４）　、
　１０１０７５（実施例　１５ （Ｚ）　−２−（（Ｒ）　−２−ｔ−ブト午ジカルボニ
ルー２−ｔ−ブトキシカルがキサミドエトキシイミノ）
−２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−チア
ゾール−４−イル）酢酸　１２０〜．１−ヒドロキシベ
ンゾ）＋７７：／−ｋ　　２９■、Ｎ、Ｎ’−ジシクロ
へキシルカーがジイミド　４４．３　ｒＩ９、（３３，
４８）−３−アミノ−４−メチル−２−アゼチジノン−
１−スルフォン酸　４８．４〜、トリエチルアミン　３
７．５μｔ’ｉｔ、用いて、実施例１３と同様にして、
標記化合物　１１６Ｑ（７６，０％）を得た・ ＩＲ（ＫＢｒ）譚−’　：　１７５５　＃　１７１７　
ｔ　１６７８１１３７０−１２８５．１２４６，１１５
７．１０４９ＦＡＢ−ＭＳ（ｒＱ／Ｚ）：　８３５　（
Ｍ十Ｈ）、８５７　（Ｎａ塩）実施例　１６ アルがン気流下に、（３Ｓ、４’５）−３−Ｃ（Ｚ）　
−２−（（Ｓ）　−２−ｔ−プトキシカルメ二ルー２−
ｔ−１トキシカルｙｆ＝？サミドエトキシイミノ）−２
−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−チアゾー
ル−４−イル）アセトアミドツー４−メチル−２−アゼ
チジノン−１−スルフオン酸テトラブチルアンモニウム
塩　２２０１！９’ｉ、゛アニソール　１６０μノに溶
解した。水冷下これにトリフルオロ酢酸　１．６ｄを加
えた。水冷下１時間、室温１．５時間反応させた後、水
冷下ジイソプロピルエーテル３９ｔ／を加えた。上澄を
捨て、残渣に再びジイソプロピルエーテルを加えた。冷
厳後、上澄を捨てた。この操作を数回繰シ返した後、残
渣を水に溶解し、５慢重１水でＰＨを６．０に調整し、
凍結乾燥して、白色粉末の粗標記化合物１１０ｍｇ’ｉ
得た。このうち９ＱＷ１９ｆ７７パーーｙイ）　ＸＡＤ
　−２（ローム・アンド・ハース社）７０ａ７に対し、
水で溶出した目的化合物を含むフラクシ■ンを凍結乾燥
して、標記化合物　４７．５＃（５９，２慢）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃＩＩ＆−１７６３−１６６３１１２７
７ｐ　１２４２　ｖ１２０７．１０５３ ’　ＨＮＭＲ（Ｄ２０　）δ：　１．５８　（３Ｈ０ｄ
−Ｊ−６Ｈｚ　ＣＨｓ）　−ＦＡＢ−ＭＳ（ＩＱ／ｊ）
　：　４８１　（Ｍ＋Ｈ）　−５０３（Ｍ＋Ｎａ　）実
施例　１７ ミノ）アセトアミドツー４−メチル−２−アゼチ（３Ｓ
　、　４　Ｓ　）　−３−（（Ｚ）　−２−（（Ｒ）　
−２−１−ブト中シカルゲニルー２−ｔ−ブト午シカル
がキプミドエトキシイミノ）−２−（２−トリフェニル
メチルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセト
アミドツー４−メチル−２−アゼチジノン−１−スルフ
オン酸ナトリウム塩　８２１ｎ９を、アニソール　８０
μ！、トリフルオロ酢酸０．８−で実施例１６と同様に
処理して、白色粉末の粗標記化合物　３５〜を得た。こ
れを、アンパ）・ 一うイトＸＡＤ　−２（ローム・アンド・ハース社）５
０−に付し、水で溶出した目的化合物を含むフックシ、
ンを凍結乾燥して、標記化合物　２４．６１Ｒ９（５３
，５％）を得た。

−１。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ　　、　１７６３，１６８２，１２０
７，１１４２．１０５７’　ＨＮＭＲ（Ｄ２０　）δ：
　　１．６０（３Ｈ，ｄ、Ｊ−６Ｈ！、ＣＨ３）＃実施
例　１８ （Ｚ）　−２−（（Ｓ）　−２−ｔ−１トキシカルメ二
ルー２−ｔ−ブトキシカルがキプミドエトキシイミノ）
−２−（２−トリフェニルメチルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）酢酸　５４０ダ、ｌ−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール　１１９ダ、（７８）−７−アミノ−
３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル　３９
７１１９ｆＤＭＦ１０ｄに氷冷下に溶解した。Ｎ、Ｎ／
−ジシクロへキフルカーデジイミド　１９０ダをＤＭＦ
　１ゴに溶解した液を、滴下した。水冷で２時間、室温
で一晩攪拌した後、不溶物を濾去し、濾液ｔ−濃縮した
。

残渣を酢酸エチルに溶解し、水、飽和食塩水で洗浄した
。無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒を留去して
残渣１．０２．９ｔ−得た。シリカゲルクロマトクラフ
ィー（トルエン：酢酸エチル謹５：１）で精製して、標
記化合物　３０６．１■（３３，２係）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃ＋ｎ　　、１７９０，１７２１，１５
２４，１３７０’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＬ、）δ：　１．２
７（９Ｈ山”Ｂｏ）　。

１．４２　（９Ｈ，畠、Ｂｏａ）　、　３．７３　、３
．７７（２Ｈ。

３．８４（３Ｈｔ１．　、Ｎ−ＣＨ，）。

６．９２　（ＩＨ＝　ｍ　、−Ｃ：ｆｌ　Ｐｈ　２　）
　一実施例　１９ （Ｚ）　−２−（（Ｒ）　−２−ｔ−ブトキシカルがニ
ル−２−ｔ−プトキシカルゲキサミドエトキシイミノ）
−２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−チア
ゾール−４−イル）酢酸　１４８ダ、１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール　３３■、（７８）−７−アミノ−３
−（１−メチルテトラゾール−５−イル）−３１どセフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル　１０
９ｍｇ’１ＴＨＦ５ｄＫ氷冷下に溶解した。Ｎ、Ｎ／−
ジシクロへキシルカーがジイミド　５３ｍｇ？ＴＨＦ１
ｄに溶解した液を、滴下した。水冷で３時間、室温で一
晩攪拌した後、不溶物を濾去し、濾液を濃縮し九・残渣
を酢酸エチルに溶解し、水、飽和食塩水で洗浄した。無
水硫酸マグネシウムで乾燥した後、溶媒全留去した。残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（トルエン：酢酸エ
チル−５：１）で精製して、標記化合物　１４８．３１
ダ（５８，６優）を得た。

ｒＲ（ＫＢｒ）ａ＋ｓ−’　：　１７９０　、１７１７
’ＨａＲ（ＣＤＣＡ、）δ：　１．２６（９Ｈ山”Ｂｕ
）　。

１．４４（９Ｈ，ｍ、Ｂｏｅ）　。

３．８３（３Ｈ，ｓ、　　ンＮ−ＣＨ，）　。

４．５０−４．５９（３Ｈ，ｍ、−０Ｍ２−ＣＨ）寞 ■ ６．９０　（ＩＨ、ａ　、　−ｃ！ｐｈ、）　。

ＦＤ−ＭＳ（ｎ７ｚ）　：　　５７　（”Ｂｕ）　、　
２４３　（Ｔｒｔ）　、　１１４８（Ｍ）実施例　２０ ム塩 （７ｓ　）　−７−（（Ｚ）　−２−（（Ｓ）　−２−
ｔ　−ブトキシカル−ニル−２−ｔ−ブトキシカルが中
サミドエトキシイミノ）−２−（２−トリフェニルメチ
ルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）アセトアミ
ド）−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）−３
−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル
　９５１１Ｐ？、７二７−）ｓｔＯ０５ｄに溶解し九〇
水冷下これにトリフルオロ酢酸　５ｄを加えた・氷冷下
２時間、室温２時間反応させた後、無水ベンゼン３９ａ
／ｉ加え、２０℃以下で溶媒を留去した。残渣に再び無
水ベンゼン３０ＩＬｌを加え、２０℃以下で溶媒を留去
した。この操作ｔ−３回繰シ返した後、残渣をエチルエ
ーテル−ｎ−へ中ブンで粉末化した。この粉末ｔ−５０
係蟻酸水２Ｒ１に溶解し、室温で２０分間、５０℃で３
０分間攪拌した。不溶物を濾去し、濾液を濃縮した・残
渣をエタノール−ジエチルエーテルで粉末化して、粗標
記化合物５３．５ａｐを得た。このうち３７■を水に溶
解し、５チ重曹水で−を６．０に調整し、アンバーライ
トＸＡＤ　−２（ローム・アンド・ハース社）１０ｍに
付し、水、および２゜チメタノール水で溶出した目的化
合物を含む７ラクシ、ンを集め、メタノールを留去した
後、凍結乾燥して、標記化合物　２４．５７Ｖ　（７０
，６％）　ｔ”得た。

ＴＲ（ＫＢｒ）ｍ　　　、　　１７６７　　、　１６８
２ＦＡＢ−ＭＳ　　：　　　　　５８５（Ｍ十Ｈ）、６
０７（Ｎａ塩＋Ｈ）。

６２９（２Ｎｍ塩十Ｈ） 実施例　２１ アゾール−４−イル’）　−（Ｚ）　−２−（（Ｒ）　
−２−ム塩 （７Ｓ　）　−７−（（Ｚ）　−２−（（Ｒ）　−２−
ｔ　−ブトキシカルがニル−２−ｔ−プトキシカルカ中
テミドエトキシイミノ）−２−（２−）１７フエニルメ
チルアミノー１，３−チアゾール−４−イル）アセトア
ミド）−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）−
３−セフェム−４−カルがン酸ジフェニルメチルエステ
ル　１２０ダを、アニソール　９０μノに溶解した。水
冷下これにトリフルオロ酢酸　０．９１７ｉ加えた。水
冷下２時間、室温２時間反応させた後、水冷下ジイソプ
ロピルエーテル３ＱａＪを加えた。上澄を捨て、残渣に
再びジイソプロピルエーテルを加えた。冷厳後、上澄を
捨てた。この操作を数回繰シ返した後、残渣を水に溶解
し、５チ重１水で−を５．５に調整し、凍結乾燥して、
淡黄色粉末の、粗標記化合物　７７ダを得た。このうち
６７■をアンバーライト脚−２（ローム・アンド・ハー
ス社）９０ｄＫ付Ｌ、水で溶出した目的化合物を含む７
ラクシ、ンを凍結乾燥して、標記化合物　３６．１■を
得た。このうち１６．５ダを水０．ＩＰＩＬＩＫ溶解し
、セファデックスＧ−１０（ファルマシア社）２２ｄに
付し、水で溶出した目的化合物を含むフラクションを凍
結乾燥して、標記化合物　１３．６■（５４，２チ）１
−得た。

ＩＲ（ＫＢυｔｘ　　、１７５９，１６７８．１２０７
実施例　２２ （Ｚ）　−２−（（Ｓ）　−２−ｔ−プトキシカルメ二
ルー２−ｔ−プトギシカルメキテミドエト中ジイミノ）
−２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−チア
ゾール−４−イル）酢酸　５００１ｎ９．１−ヒドロキ
シペンツトリ７ゾール　１２２ｍ９、（７８）−７−ア
ミノ−３−アセト中ジメチルー３−セフェム−４−カル
ざン酸ジフェニルメチルエステル　３５８＃ｔ−ＴＨＦ
　１０１１１に氷冷下に溶解した。Ｎ、Ｎ／−ジシクロ
へキシルカーがジイミド１７９■をＴＨＦ　３−に溶解
した液を１滴下した。

水冷で１時間、室温で一晩攪拌した後、不溶物を濾去し
、濾液ｔ−濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し冷蔵後
、不溶物を再び濾去した。この操作を数回繰シ返した後
、濾液を濃縮し、残渣をシリカダルクロマトグラフィー
（トルエン：酢酸エチル−１０：１）によシ精製して、
標記化合物４６０１ｎ９（５６，６％　）を得り。

ｆＲ（ＫＢｒ）ｍ　　　、　　１７９４　　、　１７２
８’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｔ、）δ：　１．２８　（９Ｈｓ
　ｓ　−”Ｂｕ）　。

１．４４（９Ｈ，ｉ、Ｂｏｃ）。

４．４７−４．５８　（２Ｈｓｍ＋　−０Ｍ２−ａｎ　
＞　。

４．６８−４．７５　（ＩＨｔｍ、−ＣＨ２Ｊ−！Ｉ）
　。

５．５６　（ＩＨ＊　ｄ　、　Ｊ繻９Ｈｚ　ｅ　−ＮＨ
Ｂｏｃ　）　。

６．９３　（ＩＨｔ易＃　−ＣＨＰｈｚ）　ｅ実施例　
２３ と　・ （Ｚ）　−２−（（Ｒ）　−２−ｔ−プトキクカルゲニ
ルー２−ｔ−ブトキシカルがキサミドエトキシイミノ）
−２−（２−トリフェニルメチルアミノ−１，３−チア
ゾール−４−イル）酢酸４００■、１−ヒドロ今りベン
ゾトリアゾール９７．６ｑ、（７８）−７−アミノ−３
−アセトキシメチルー３−セフェム−４−カルメン酸ジ
フェニルメチルエステル２８７１１Ｉｇ＠ＴＨＦＩＩＪ
に氷冷下に溶解した。

Ｎ、Ｎ’−ジシクロへキシルカーがジイミド１４５ＩＩ
Ｉ９’ｉ　ＴＨＦ　３　ｍｌに溶解した液を滴下した。

水冷で１時間、室温で一晩攪拌し念後、不溶物を濾去し
、濾液を濃縮した・残渣を酢酸エチルに溶解し冷蔵後、
不溶物を再び濾去した。この操作を数回繰シ返した後、
濾液を濃縮し、残渣をシリカダルクロマトグラフィー（
トルエン：酢酸エチル−１０：　１　）にヨシ精製して
、標記化合物３８０１Ｒ９（５８，４１）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｍ　　、　１７９０　、１７４０　、１
７２４　、１６９４’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＡ、）δ　：　
　１．３０（９Ｈ，ｓ、十Ｂａ）　　。

１．４４（９Ｈ，ｍ　、”Ｂｏａ）　。

２．０１　（３Ｈ山−ｏ８ｃｕ３　）　ｖ３．３９　、
３．５２（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ　。

−ＣＨ２−ＣＨ）　、４−８４−　ｓ、ｏ　９　（２Ｈ
＊ＡＢｑ　−υ Ｊ−８Ｈｚｅ　　−ＮＨＢｏｃ　）　＃　　５．９Ｂ（
ＩＨ＃ｄｄ＃ＦＤ−ＭＳ（＋ｖ’ｚ）　：　５７（”Ｂ
ｕ）　、　１６７（ＣＨＰｈ２）　、　２４３（Ｔｒｔ
）　。

１１０９３（十Ｈ） 実施例　２４ 一力ルがン酸 （７８）　−７−（（Ｚ）　−２−（（Ｓ）　−２−ｔ
　−ブト午シカルゲニルー２−ｔ−１トキシカルゲキサ
ミドエト中ジイミノ）　−２−（２−）　ジフェニルメ
チルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）ア七ドア
ミド〕−３−アセト牛ジメチル−３−セフェム−４−カ
ルざン酸ジフェニルメチルエステル３５０１１９１−、
アニソールＱ、４ａ／に溶解した。水冷下これにトリフ
ルオロ酢酸４−？加えた。水冷下２時間、室温２時間反
応させた後、水冷下ジイソゾロビルエーテル５０ｍ？加
えた。上澄を捨て、残渣に再びジイソゾロビルエーテル
を加えた。冷蔵後、上澄を捨てた。この操作を数回繰シ
返した乾燥して、淡黄色粉末の粗標記化合物１２５９Ｐ
ｔ−得た。これをアンバーライトＸＡＤ　−２（ローム
・アンド・ハース社）１２５１１７に付し、水で洗浄し
た後３０チメタノールで溶出した。目的化合物を含むフ
ラクションを集め、メタノールを減圧留去した後、凍結
乾燥して標記化合物３９．１１１１９（２３，３チ）を
得た。

ＩＲ（ＫＢｒ′）ｃＷｌ、　１７７５　、１６１６’　
ＨＮＭＲ（Ｄ２０）δ：　２．１１　（３Ｈｅ　ｍ　−
０Ａｅ　）　ｔ　３．４４．３．７０　（２Ｈ−４，６
５，４９７（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ　。

実施例　２５ ルボン酸 （７８）−７−［迄）−２−Ｃ＠−２−ｔ−ブトキシカ
ルにルー２−ｔ−ブトキシカル？キサミドエトキシイミ
ノ）−２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−
チアゾール−４−イル）アセトアミドツー３−アセトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルがン酸ジフェニルメ
チルエステル７５■ヲ、アニソール９０μ！に溶解した
。水冷下これにトリフルオロ酢酸０．９コを加えた。水
冷下２時間、室温２時間反応させた後、水冷下ジイソプ
ロピルエーテル３０ｍ／を加えた。上澄を捨て、残渣に
再びジイソプロピルエーテルを加えた。冷蔵後、上澄を
捨てた。この操作を数回繰り返した後、残渣を氷水に溶
解し、アンバーライトＩＲＡ　−４５（ＯＨ型）を加え
、ｐＨ’ｔ５．５に調整し、凍結乾燥して、淡黄色粉末
の粗標記化合物３７ダを得た。これをアンバー、ｙイ）
ＸＡＤ−２（ローム・アンド・ハーフ社）３０プに付し
、水で洗浄した後３０１メタノールで溶出した。目的化
合物を含むフラクシ冒ンを集め、メタノールを減圧留去
した後、凍結乾燥して。

標記化合物ｘ４．ｏ１ｎＩｌ（ａｓ、ｓ壬）を得た。

ＩＲ（ＫＢｒ）　ｃｍ　　、　１７６７　、１６５９　
、１６０９’ＫＮＭＲ（０２０）δ：　２．１１　（３
Ｈ−ｍ　１ＯＣＣＨｓ）　−４，１８（Ｉ　Ｈ−ｄｄ　
＝　Ｊ＝３　Ｈｚ　−８Ｈｚ　−−ｃｍ２−ｃＨ）　−
ＦＡＢ　−ＭＳ　（ｍ／ｚ）　　：　　５２９　（Ｍ＋
Ｈ）実施例　２６ ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）−２−（（１−ｔ−ブチルオキシカル
？ニルエチニル）オキシイミノ〕酢酸４００■、７−ア
ミノ−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）チオ
メチル−３−セフェム−４−カルがン酸ジフェニルメチ
ルエステル４１６９．１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル１０７ｒＩ９ｔ−ＴＨＦ　１０ゴに溶解し、０℃に冷
却後、ＴＨＦ　３　ｍに溶解したジシクセへキシルカー
がジイミド１′６２ｒＩＩｇを加えた。０℃で２時間攪
拌後、さらに室温で７０時間攪拌した。析出物をろ過し
た後、酢酸エチルを加え有機層を５係リン酸、炭酸水素
す）　ＩＪウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥し製して、標記化合物２２ｚｍｐ（３ｏ、ａ４）を得
た。

ＮＭＲ（ＣＤＣＬ、）δ： １．４５　（９Ｈ＃　ｌ　−ｔＢｕ　）５．５９（２Ｈ
，ｍ、ｏ−Ｃ−） Ｕ２ ■ 実施例　２７ ７−［２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−
チアゾール−４−イル）−２−（（１−を−ブチルオキ
シカルがニルエチニル）オキシイミノ〕−７セトアミド
］−３−（１−メチルテトラゾール−５−イル）チオメ
チル−３−セフェム−４−カル♂ン酸ジフェニルメチル
エステル２００■にギ酸２−を加え、４”０℃で５時間
攪拌した。

析出物をろ通抜、アンモニア水で中性とし、凍結乾燥し
た。残渣１ｘＡＤ−Ｉｆ（ローム・アンド・ハース社）
で精製して標記化合物５４１ｎ９（４７，８係）を得た
。

ＩＲ（ＫＢｒ）ｃＩＬ−’　：１７５０．１６００．１
３９５実施例　２８ ２−７タルイミドオキシー３−ヒドロキシプロピオン酸
ｔ−ブチル７、ＯＩｉ”ｆ乾燥塩化メチレン４０ゴに溶
解し、−７８℃に冷却した。この溶液にジエチルアミノ
サルファトリフルオライド（ＤＡＳＴ）　５．５　ｄ′
ｔ−加えた後、反応温度を室温に上げ６時間攪拌した。

ＤＡＳＴ　２．　Ｏｒｎｌｋ加え、さらに２時間攪拌し
た。反応終了後、冷炭酸水素す）　ＩＪウム液にあけ、
酢酸エチルを加え、抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。濾過、溶媒留去の後、得られた残渣４．７２．９
　？シリカダルカラムクロマトグラフィーに付し、トル
エン：酢酸エチル１０：１で溶出し、標記化合物２．０
．９　？白色固体として得た。（収率、２８．４１） １ＫＮＶｒＲ（ＣＤＣｔ）δ：　１．４７　（９Ｈ、８
、−Ｃ（ＣＨ３）、ノ。

４．７８　（２Ｈ、ｄｄ　、　Ｊ＝−４，５Ｈｚ　。

４５　Ｈｚ　−−ｃａ２ｒ　）　−４，８９（Ｉ　Ｈ−
ｄｔ　、　Ｊ＝４．５　Ｈｚ　、　２４．５　Ｈｚ　、
　−ＣＨ−）ＩＲ（ＫＢｒ）ｃｒＩＬ−’　：　１８０
０　、１７６０　、１７２５ＦＤ−ＭＳ　（ｍ／ｚ）　
：３０９　（Ｍ”）実施例　２９ ２−アミノオキシ−３−フルオロプロピオン酸ｔ−ブチ
ル ２−７タルイミドオキシー３−フルオロゾロピオン酸ｔ
−ブチル１．９．９ｆｔ実施例９と同様に処理し、標記
化合物１．０６１１を得た。（収率９６．４係）’ＨＮ
ＭＲ（ＣＤＣｔ３）　：　１．４９　（９Ｈ、＠、　−
Ｃ（ＣＨ３）、　、　４．２６（ＩＨ，ｄｔ　、　Ｊ＝
＝３．６Ｈｚ　、　２４．３　。

−ＣＨ−）、４．５９（２Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝３−６　Ｈｚ
　１４６−５　Ｈｚ　、−ＣＨ２Ｆ　）　−５，７６（
２ＨＩ　ｂｒｓ　＃−ＮＨ２） ＩＲ（液膜法）ｃＩｒＬ″″’　：３４２０，１７３０
実施例　３０ ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）−２−オキソ酢酸１．０．９および２
−７ミノオキシー３−フルオロデロピン′ｆＩｌｔ−ブ
チル０．４３　ｌ！をエタノール２０ゴに溶解し、実施
例１１と同様に処理し、標記化合物１．１１１を得た。

（収率７９．９係） ’ＨＦＪＭＲ（ＣＤＣＺｓ　）　：　Ｌ　４０　（９Ｈ
−８−−〇（ＣＩ（ｓ）　５　）　−４，６９（２Ｈ＊
　ｄｄ　−Ｊ＝３．９Ｈｚ　−４８Ｈｚ　、−ＣＨ２Ｆ
　）　、４．８５　（Ｉ　Ｈ−ｄ　ｔ　−Ｊ＝３．９Ｈ
ｚ　、　２４Ｈｚ　、　−ＣＨ−）　。

実施例　３１ ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）−２−（１−ｔ−プトキシカルゼニル
ー２−フルオロエトキシイミノ）酢酸０．５．９および
７−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４
−カルノン酸ジフェニルメチルエステル０．３６．９を
乾燥ＴＨＦ　１０−に溶解し。

これに１−ヒドロキシベンゾトリアゾール０．１２１１
を加え、０℃で攪拌した。この溶液にＮ、Ｎ’−ジシク
ロへキシルカル−ジイミド０．１９．９の乾燥Ｔ）ＩＦ
溶液１０ゴをゆっくり滴下し、反応温度を室温に上げ、
２０時間攪拌した。反応終了後、実施例５と同様に反応
させ、シリカダルクロマトグラフィー（酢酸エチル：ト
ルエン＝ｌ：３．）で精製して、標記化合物０．７２　
Ｎ　を得た。（収率８３．２％） ’ＨＮＭＲ（ｃｐｃｚ、）　：　１．４３　（９Ｈ，ｓ
　、−Ｃ（ＣＨ，）３）　。

１．９６　（３Ｈ−ｓ　−−０ＣＯＣＨ３）　−３，３
０〜３．５９　（２Ｈ１ｍ　−２−ＣＨ２）−４，４３
〜５−２６　（６Ｈ−ｍ　ｅ　−ＣＨ２ＱＡ’ｅ　−−
ＣＨ−、−ＣＨ２Ｆ　、　６−　ＣＨ）　、　５．７３
〜ｍ　＃　−〇にφ２）１７．１９（２５Ｈ＃ｆｉ＃Ｉ
Ｒ（ＫＢｒ）ｃｍ　　　：１７８０．１７４０〜１７２
０ＦＤ　−ＭＳ（ｍ／ｚ）：９９５（Ｍ”）実施例　３
２ ７−［２−（２−）リフェニルメチルアミノー１．３−
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔ−ブトキシカル
ノニル−２−フルオロエトキシイミノ］アセトアミド〕
−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カル？ン
酸ジフェニルメチルエステル０．２５　＃を実施例２４
と同様に処理し、標１゜ 配化合物３２．７ｒＲ９ｔ”得た。（収率２４．ｆｔ９
６）’ＨＮＭＲ（Ｄ２０）　：　２．０９　（３Ｈ、８
、−０ＣＯＣＨ，）　、　３．４１（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１
８．１Ｈｚ、２−０■ン。

３．６７（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８．１Ｈｚ、２−ＣＨ）、
４．７１〜４．９３（５Ｈ，ｍ、−ＣシＯＡｃ。

■ 塩−、−ＣＨ２Ｆ）　、５．２２（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝ＦＡ
Ｂ−ＭＳ　（ｍ／ｚ）：　５３１　（Ｍ　　）実施例３
３ ２−７タルイミドオキシー３−ヒドロキシゾロピオン酸
ｔ−ブチルエステル４．０．９’を乾燥塩化メチレン８
０ｍＪに溶解し、この溶液に水冷下ヒドラジン・１水和
物１．３．９ｔ−加えた。反応液を室温で１．５時間攪
拌し、濾過の後溶媒を減圧留去した残渣に酢酸エチルを
加え、７嗟アンモニア水で１回、水で１回洗浄した。酢
酸エチル層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、−過、溶媒
留去へ後標記化合物ｔ−１，６３＃得九、（収率ニア０
．９壬〕’ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　６）δ　：　　１
．４６　　（９Ｈ−ｓ　　−−Ｃ（ＣＨｓン　）。

３．６３　（２Ｈ、ｄ　、　Ｊ＝３．０Ｈｚ　。

−ＣＨ２−）、４．００（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝３．０　Ｈ
ｚ　、　−ＣＨ−） ＩＲ（液膜法）ｃｍ″″’：３４００，１７２０実施例
　３４゜ ２−アミノオキシ−３−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブ
チルエステル１．４５．９および２−（２−トリフェニ
ルメチルアミノ−１，３−チアゾール−４−イル）−２
−オキソ酢酸３．３９．Ｐをエタノール３０ゴに溶解し
、実施例１１と同様に反応処理し、標記化合物３．０５
．ｌｉ’を得た。（収率：６５．０係） １ＨＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ）δ：　１．４３　（９Ｒ，
ｓ　、　−Ｃ（ＣＨ）　　）　−３、６７〜３．８６　
（２Ｈ９ｍ　、−Ｃ）Ｌ２−　）　−４，４９〜４．６
４　（１’Ｈ、ｍ　、−ＣＨ−）　。

実施例　３５ ７−（２−（２−トリフェニルメチルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イル）−２−（１−ｔ−ブトキシカル
？ニルー２−ヒドロキシエトキシイミノンアセトアミド
〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルゼ
ン酸ｔ−ブチルエステル ２−（２−）ジフェニルメチルアミノ−１，３−チアゾ
ール−４−イル）−２−（１−ｔ−ブトキシカルビニル
−２−ヒドロキシエチルオキシイミノ）酢酸０．３．９
．７−アミノセファロスポラン酸ジフェニルメチルエス
テル０．２Ｎおよび１−ヒドロキシベンゾトリアゾール
０．０７１１？乾燥ＴＨＦ　３ｄに溶解した。この溶液
に０℃攪拌下、Ｎ、Ｎ−ジシクロへキシルカーゴジイミ
ド０．１１　ｇの乾燥ＴＨＩ’″２ゴ溶液を滴下した。

滴下終了後室温で１９時間攪拌し、実施例５と同様に反
応させ、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエ
ン：酢酸エチル＝１０：１）で精製して、標記化合物０
．２３ＩＩ（収率４４．６　％　）　′ｆｅ得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＨＣ４）　：１．４３（９Ｈ，８、−Ｃ
（ＣＨ３）ｓ）　。

１．４９　（９）Ｔ　、　１　、−Ｃ（０Ｍ３）、　）
　。

２．０３　（３Ｉ（ｌｓ　−−０ＣＯＣＨｓ　）　、３
．３９（２Ｈ＝　ｍ　−２−ＣＨ２）　−４，００（２
Ｈ。

ｂＩＩ、ｃＪ１２０ＡＣ）、４．６６〜５．１０（４Ｈ
１ｍ　、　−Ｃ！！−、−ＣＨ２０Ｈ、６−Ｈ）　。

５．８６〜６．０３　（Ｉ　Ｔ（、ｄｄ　、　Ｊ＝４．
５Ｈｚ。

Ｊ＝９．０Ｈｚ、７−Ｈ）、６．６９（ＩＨ。

−■−） 実施例　３６ ）１・ ７−［２−（２−トリフェニルメチルアミノ−１，３−
チアゾール−４−イルノー２−（１−を−プトキシカル
ゲニルー２−ヒドロキシエトキシイミノ）アセトアミド
〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルＲ
ン酸１５０ダを実施例２４と同様に処理し、標記化合物
５３．０ＦＲ９’ｉ得た。

（収率５９．０１　） ’ＨＮＭＲ（Ｄ　Ｏ）δ：　２．０９　（３Ｈ−ａ　−
−ｏｃｏｃａ、　）　−３，４９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８
．１Ｈｚ、２−ＣＨ）。

看 ■ ３．６９（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝１８．１Ｈｚ、２−Ｃ＠）、
４．７０〜５．３３Ｃ６Ｈ，ｍ、３−区 ＣＨ２，−ＣＨ−、−ＣＨ２０Ｈ，６−Ｈノ　。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式で示されるチアゾール誘導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ａ） または ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ｂ） 式中、Ｒ＾１は保護されていてもよいアミノ基を、Ｒ＾
   ２は式：Ｃ（Ｗ）（Ｙ）−Ｚを表わし、ここで、ＺはＣ
   Ｏ＿２Ｒ＾３またはＣＯ＿２−を、ＷはＲ＾４、Ｆ、Ｏ
   Ｒ＾４、ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、Ｒ＾１、ＮＨＲ＾４、Ｎ
   ＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ＿２Ｆ、ＣＨ＿２ＯＲ＾４、
   ＣＨ＿２ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ＿２Ｒ＾１、ＣＨ＿
   ２ＮＨＲ＾４またはＣＨ＿２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４を、
   ＹはＦ、ＯＲ＾４、ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、Ｒ＾１、ＮＨ
   Ｒ＾４、ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ＿２Ｆ、ＣＨ＿２
   ＯＲ＾４、ＣＨ＿２ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ＿２Ｒ＾
   １、ＣＨ＿２ＮＨＲ＾４またはＣＨ＿２ＮＨＣ（＝Ｏ）
   Ｒ＾４を表わすか、またはＷとＹとを合わせてアルキリ
   デン基を表わす（ここでＲ＾３は水素原子、アルカリ金
   属、アルカリ土類金属、有機アンモニウム塩、エステル
   残基、またはカルボキシル保護基を、Ｒ＾４は水素原子
   または炭素数１乃至６個の低級直鎖または有枝鎖アルキ
   ル、アルケニルまたはアルキニル基、アミノ低級アルキ
   ル基、ジ低級アルキルアミノ低級アルキル基、カルバモ
   イル低級アルキル基、カルボキシ低級アルキル基、アリ
   ール低級アルキル基、あるいは低級アルコキシカルボニ
   ル低級アルキル基を表わす。）。Ａは式、 ▲数式、化学式、表等があります▼（IIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（IIｂ） または ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中Ｒ＾３、Ｚはそれぞれ前と同じ意味であり、Ｒは
   、水素、または求核性化合物残基を表わす。）を表わし
   、〜はシン異性体、アンチ異性体、またはそれらの混合
   物を、それぞれ意味する。Ｒ＾５は式：ＣＨ＿２Ｃ（Ｔ
   ）（Ｕ）−Ｚを表わし、Ｚは前記と同じ意味を、ここで
   ＴはＲ＾４、Ｆ、ＯＲ＾４、ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、Ｒ＾
   １、ＮＨＲ＾４、ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ＿２Ｆ、
   ＣＨ＿２ＯＲ＾４、ＣＨ＿２ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、ＣＨ
   ＿２Ｒ＾１、ＣＨ＿２ＮＨＲ＾４またはＣＨ＿２ＮＨＣ
   （＝Ｏ）Ｒ＾４を、ＵはＦ、ＯＲ＾４、ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ
   ＾４、Ｒ＾１、ＮＨＲ＾４、ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、Ｃ
   Ｈ＿２Ｆ、ＣＨ＿２ＯＲ＾４、ＣＨ＿２ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ
   ＾４、ＣＨ＿２Ｒ＾４、ＣＨ＿２ＮＨＲ＾４またはＣＨ
   ＿２ＮＨＣ（＝Ｏ）Ｒ＾４、（ここでＲ＾３、Ｒ＾４は
   前記と同じ意味を表わす。）