JPH031117A - 走査型レーザ顕微鏡装置及びその使用方法 - Google Patents

走査型レーザ顕微鏡装置及びその使用方法

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JPH031117A
JPH031117A JP26481189A JP26481189A JPH031117A JP H031117 A JPH031117 A JP H031117A JP 26481189 A JP26481189 A JP 26481189A JP 26481189 A JP26481189 A JP 26481189A JP H031117 A JPH031117 A JP H031117A
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ウイリアム・エドワード・ウルフ
Alfred Hirschle
アルフレッド・ハーシュル
Derrick P Lattibeaudiere
デリク・プリンス・ラテイビューデイール
Robert H Livermore
ロバート・ヒュバード・リバーモア
Alan P Stamford
アラン・ペインター・スタンフォード
John Taylor
ジョン・テイラー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) この発明は走査型レーザー顕微鏡システム、特に、複屈
折材料や蛍光対象などのサンプルを拡大検査する走査型
レーザー顕微鏡システムに関する。 (従来の技術) 物の細部や構造の検査には何年にも渡って光学顕微鏡が
使われてきた。通常の顕微鏡は典型的には対象が全体と
して照明される像の種類を使用する。対象を伝わる光又
は対象から反射される光は、対物レンズにより中間像平
面に結像される。この中間像平面は接眼レンズにより観
察されるか、テレビカメラにより走査される。 従来の顕微鏡検査法の欠点は、対象の一点から散乱光が
像の別の部分の中間像平面に到着することにより、像の
各所間のコントラストが劣化することである。この効果
は走査顕微鏡システムにより最小限に抑制することがで
きる。 光学走査顕微鏡検査法では点毎に対象を照射し、伝達さ
れたり、反射されたり、離れたり、発生したりした光を
連続した各点で測定する。像は点毎の明るさのn1定結
果を組み合わせることにより適切な表示手段により表示
される。レーザーの出現により、単一波長の光を微小点
に収束させることがiJ能となったので、光学的走査顕
微鏡検査法の点毎の解像度は改善された。走査顕微鏡シ
ステムの詳細に関しては、1984年にAcademi
c Pressから出版されたVllson and 
5heppard、 −Th60ry and  Pr
actice  or  Scanning  0pt
ical  Mlcroscopy″の3−9頁を参照
されたい。 観察対象が異方性である場合は非常に複雑化する。異方
性材料を透過する光は、異なる速度で異なる方向に進む
。偏光は、異なる偏光角での伝播速度の相違により更に
影響を受ける。 複屈折材料は3軸異方性であるかもしれない。 更に、軸方向毎に異なる速度で光を透過させる複屈折材
料は、異なる2方向に光線を反射して2本の光線を形成
するかもしれない。複屈折材料を透過した偏光の収束ビ
ームは、通常の顕微鏡や走査顕微鏡で観察しても、干渉
縞効果が生じ、明暗の「縦縞」やr輪Jが形成される。 この効果に関しては、McGraw−8111社から1
976年に刊行されたJenkins and Whi
teの−Fundamentals of 0ptic
S”の576−579頁を参照されたい。 このような象の明るさの変化により、介在物、結晶格子
転位、粒子の境界、空格子点、格子間型などの僅かな特
異点の検出ができなくなる。明るさの均一な領域だけが
検査可能である。従って、像の僅かな部分だけが対象の
検査に用いられる。 このため、対象の所定領域を何度も観察しなければなら
ない。 電子光学装置の製造に当って適切な費用で機能的装置を
大量に生産するには、基板材料の質の知識が重要である
。分子配向ポリマーやたの複屈折材料の製造に当っては
、材料の質の知識が同様に重要である。 共焦レーザー走査顕微鏡は、解像度が改善され深さを識
別できる点で通常の顕微鏡とは異なる。 蛍光レーザー走査顕微鏡検査法は従来の蛍光顕微鏡検査
法より優れている。光を標本の非常に小さい点に収束さ
せることができ、非常に小さな蛍光体を検出することが
できる。従来の蛍光顕′RLm検査法では、焦点の合っ
ていない蛍光は、焦点の合っている標本層からの蛍光を
比較的強く妨害する。一方、共焦レーザー走査顕微鏡で
は、焦点の合っていない蛍光は、焦点の合っている標本
層からの蛍光を極僅かに妨害するだけであ・る。 この発明の目的は、材料その他の標本の微細な詳細や構
造の検出又は特徴付けの助けをする改善された走査型レ
ーザー顕微鏡システムを提供することである。 この発明の別の目的は、材料や標本を透過したり、材料
や標本で反射したり、材料や標本から生じた光を増強し
て、材料や標本と異変や対象領域とのフントラストを強
くする手段を提供することである。 この発明の更に別の目的は、対象の深さの識別や蛍光顕
微鏡検査に使用可能な単一走査型レーザー装置を提供す
ることである。 この発明の更に別の目的は、材料や標本を透過したり材
料や標本から反射してきた走査ビームにより検出された
光を表示する信号を処理する非常に精密な手段を提供す
ることである。 (発明の概要) この発明は以上の目的を達成するものであり、一つには
対象の特徴を捕らえる助けをする走査型レーザー顕微鏡
システムに関する。この発明の走査型レーザー顕微鏡シ
ステムは、軸を有し、線形偏光され、実質的にコリメー
トされた、第1の単波長レーザビームを発生する第1の
レーザと;対象物の走査面を横切る第1の方向と、この
第1の方向と直交する第2の方向とにレーザビームをラ
スター走査方式により走査する走査手段と一対象物の走
査部分と他の部分との間のコントラストを高くすること
により対象物からの光を増す手段と; この増す手段からの光を検出し、この検出光の強度を示
す電気信号を発生する手段と;この検出光から対象物の
走査面を示す象を形成する手段とを具備している。 更に、この′発明によれば、走査型レーザー顕微鏡装置
は、 材料の走査面上をラスター走査する光学系と、この材料
からの先ビームを検出し、検出された光ビームの強度を
表わす信号を発生する手段と、前記材料の走査面上で第
1方向の光ビーム位置を表わすピクセルクロック信号を
発生する手段と、前記材料の走査面上で前記第一方向に
直交する第二方向において光ビームを所望ビーム位置に
位置させる手段と、 検出された光信号を記憶する手段と、 前記第一方向のピクセルクロック信号及び前記第二方向
の所望位置に基づいて前記記憶手段に制御l3号を与え
て前記材料の走査面上のビーム位置に対応した記憶位置
に前記検出信号が記憶されるように前記記憶手段を同期
させる手段と、前記材料の走査面を表わす像に前記記憶
信号を変換する手段と、を備えている。 また、この発明によれば、走査型レーザ顕微鏡装置は、 軸を有し、第1の直線偏光され、ほぼ平行な、単波長光
ビームを発生する第1のレーザと、 対象物の走査面を
横切る第1の方向と、第1の方向と垂直に対象物の走査
面を横切る第2の方向にビームをラスター走査する走査
手段と、 前記対象物からの光を強調する強調手段と、前記強調手
段からの光を検出し、検出された光の強度を示す電気信
号を発生する手段と、検出された光から対象物の走査面
を示す画像を形成する形成手段とを備え、 前記走査手段は、回転軸に対して回転ijJ能かつ多数
の反射面を周面に備え、前記反射面の一つがビームを受
ける位置に設けられるローターと、前記ローターを回転
させ、対象物の走査面を横切る第1の方向にビーム軸を
走査する手段と、前記ローターからのビーム軸を入射角
を変えて第1の点に向ける第1の光学手段と、 ローター軸に垂直かつ前記第1の点を横切るミラー軸に
対して回転可能に設けられ、前記第1の光学手段からの
ビームを受ける位置に設けられる平面反射鏡と、 前記平面反射鏡に連結され、ミラー軸に対して反射鏡を
移動させ、対象物の走査面を横切る第2の方向にビーム
を走査し、結果として、前記平面反射鏡から反射される
ビーム軸に垂直な面にラスター光パターンを定めるガル
バノメーターと、前記反射鏡からのビーム軸を入射角を
変えて第2の点に向ける第2の光学手段と、 第2の点に配置され、前記第2の光学手段からのビーム
を受け、対象物の走査面にビームを結像するフラットフ
ィールドアポクロマート対物レンズと、を備でいる。 (実施例) 以下、図面を参照しながらこの発明の実施例について詳
細に説明する。 第1図には、この発明に係る走査型レーザ顕微鏡装置1
0の斜視図が示されている。顕微鏡装置10は光学テー
ブル12上に設けられており、この光学テーブルは振動
を減少および吸収可能に形成されている。光学テーブル
12は、中実のアルミニウムから成る天板部14、底板
部、及びアルミニウムから成る中間ハニカム部で構成さ
れた積層水平構造を備えていてもよい。なお、位置振動
を一層減少させるために、積層水平構造は空気サスペン
ションに支持されていてもよい。 光学テーブル12の天板部14上には、へりラム−ネオ
ンレーザ20のような第1の光源20が設けられている
。光源20として、カリフォルニア、カールスパッドに
あるヒユーズ・エアークラフト株式会社から入手可能な
レーザモデル第3225−)l−Pが適していることが
判明している。レーザ20は、直線偏光のほぼ平行光と
なった単波長の光ビームを出射する。ビームの波長は6
32.8ナノメータであり、直径約1ミリメータの円形
横断面を有する可視可能な赤色ビームとなる。レーザ2
0にはビームエキスパンダーφコリメータアッセンブリ
22が接続され、このアブセンブリはビームの径を約3
ミリメータに拡径およびコリメートする。上記目的のた
め、カリフォルニア、フォーテインバレーにあるニュー
ボート株式会社から入手可能なモデル第111−3Xの
ような3Xビームエキスパンダを使用することができる
。 拡径されたビーム24は、回転自在なロータ30の外周
囲28に設けられた複数の反射面26の1つに向けられ
る。顕微鏡装置1oに必要な設置スペースを削減するた
め、実施例によれば、レーザ20からの拡径ビーム24
は、まず、ダイクロイックビームスプリッタ32の反射
面により、水平面内で90度反射される。ビームスプリ
ッタ32として、ニューメキシコ、アルブクエークのC
VIレーザ株式会社から入手可能なモデル第48807
−0328Rのダイクロイックビームスプリッタを用い
ることができる。スプリッタ32からのビーム24はミ
ラー34により垂直方向上方に90度反射される。ミラ
ー34としては、ニューヨーク、ロチェスタのメルス・
グリオツドから入手可能なモデル第01MPGOO7の
ようなミラーが使用される。 ミラー34に反射されたビーム24は、24インチ四方
の中実板からなるパン切り板状の板38に形成された孔
36、およびロータ30を支持しているアッセンブリの
基板46を通してロータの1つの反射面26に導かれる
。板38は互いに離間した4つのポスト40により光学
テーブル12に接続及び支持されている。 ロータ30は検流計アッセンブリ42の一部を構成して
おり、アリシナ、ホエニブクスのリンコルレーザ株式会
社から入手可能な検流計アッセンブリ第1887511
−23ND−2−100のような検流計アッセンブリが
使用される。このアブセンブリ42はシャフトを有する
モータを備え、ロータ30はシヲフトに回転自在に支持
されているとともにモータによって回転される。モータ
及びロータ30は、2つの窓を有するハウジング内に支
持されている。 一方の窓は、ミラー34から1つの反射面26へのビー
ム24の通過を許容するとともに、この反射面で反射さ
れハウジングの外方へ向かうビームの通過を許容する。 他方の窓は、ハウジングのほぼ反対側に設けられ、ロー
タ30の他の反射面に向かう他のビームの通過および他
の反射面で反射されハウジングの外方に向かうビームの
通過を許容する。ハウジングは例えばボルトにより支持
アッセンブリに取り付けられており、支持アッセンブリ
は基板46に接続された垂直板44を備えている。基板
46及び垂直板44は間接片、つまり屈曲片48により
連結される。 ビーム24はロータ30で反射され、それにより、ビー
ムの周縁位置は垂直方向Xに移動され、ロータ30から
離れる程、X方向に大きな距離移動される。 第1及び第2の両凸レンズ50.52を有するリレーレ
ンズアッセンブリが設けられ、このアッセンブリはビー
ムをミラー54の平坦な第1の反射面に導く。適当な両
凸レンズ50.52として、前述したメルスーグリオッ
ト株式会社の部品箱0l−LDX 115107gが使
用される。第1の両凸レンズ50はビームをY方向に移
動する点に収束する。Y方向の走査の中間位置における
収束点から第1のレンズ50の反対側に等距離だけ離間
して、第2の両凸レンズ52が設けられている。第2の
レンズ52は、ビームをミラー54の固定スポットに種
々の入射角にて入射させる。なお、第1図において、第
1及び第2のレンズ50.52上に示された円は各レン
ズ上におけるビームの周縁位置をそれぞれ表わしている
。 ミラー54は検流計56に接続され、これらは共同して
検流計アッセンブリ58を構成している。 適当な検流計56は、マサチューセッツ、ウォータタウ
ンのジェネラルスキャニング株式会社から入手可能な部
品箱G120Dを適用することができる。 ミラー54は第1の反射面と平行な第2の平坦な反射面
を有し、この第2の反射面については後述する。上記目
的のミラーとして、5ssX 5m5X i−一の両面
平面鏡が適している。このようなミラーは、マサチュー
セッツ、ウィンチエスタ−にあるスペクトロ−フィルム
カンパニーから入手することができる。ミラーの両手坦
面は垂直平面内に位置している。検流計56は、ミラー
54を垂直軸、つまり、ミラーの中心を通る線の回りで
後方及び前方(一方向に続いて反対方向へ)回動させる
。 ビーム24の中心は、この垂直線と直角に交差する。ま
た、垂直線はロータ30の軸に対して直角に伸びている
。検流計56は、2つのラインを有するケーブル118
を介して検流計、つまり、検流制御モジュール116か
ら送られる電気的制御信号に応じて作動する。 検流計56の前方及び後方への移動は、ロータ30によ
るX方向への移動と組み合わされた際、ビームがラスタ
ー走査パターンで移動するような角度でミラーによりビ
ームを水平方向Y内に反射させる。ここで、ビームの周
縁位置は、ミラー54から離間する程、X及びX方向に
大きな距離だけ移動する。従って、ラスターパターンの
寸法は、ミラー54からの距離の増加に伴って増加する
。 第3、第4、及び第5の両凸レンズ60、−62.64
を有し、ビームを平面鏡、つまり、ビームスプリッタ6
6へ導く第2のりレーレンズアッセンブリが設けられて
いる。第3及び第4のレンズ60.62はラスター走査
パターンを1点に変換する。カリフォルニア、フォラテ
ィンにあるニューボート株式会社は、焦点距離63■■
の両凸レンズを部品箱KBX−145AR14として販
売しており、この両凸レンズは第3及び第4のレンズ6
0.62に適している。例えば、ニューボート株式会社
から部品箱KBX−163AR14として販売されてい
る焦点距離1765mのような第5のレンズ64は、第
3及び第4のレンズ60.62により1点に収束された
ビームを再度平行ビームに変換する。また、第5のレン
ズ64は、ラスターパターンを平面アポクロマートレン
ズ68上の固定スポットに収束し、固定スポットにおけ
るビーム24の入射角はラスターパターンに応じた方向
に沿って変化する。第5のレンズ64と固定スポットと
の間には、小型化および便宜上、ミラーあるいはビーム
スプリッタが選択的に配設され、ビームをレンズ68に
向かって下方に導く。 レンズ68としては、基本的な顕微鏡の対物レンズ、例
えば、ニュージャージ、ロックレイスのイー・レイツ有
限会社からレンズ第519892−8.3X。 2NAあルイハレンズ第519509−40X、75N
Aとして入手可能なレンズが使用される。そして、レン
ズ68は、使用される特定のレンズ68の倍率あるいは
開口数に応じた寸法にビームを収束する。 レンズ68を通過した後、ビームは分析される対象物、
つまり物質70に接触する。顕微鏡装置10は、例えば
、配向されたポリマーフィルムや、リチウムニオベート
、ポタジウムチタニルフ中スフエート(KTP) 、バ
リウムチタネート、あるいはビズマスシリコンオキサイ
ド(B S O)のウェファ等の結晶性物質のような複
屈折、半透明物質の分析に特に適している。 対象物70は、走査ステージアッセンブリ74の可動板
72に形成された孔の上方に載置される。 アッセンブリ74は、回動板72と、位置決めセンサー
に反応して可動板72を第1の方向(例えばX方向)に
移動させるモータを備えた第1の直線位置決めアッセン
ブリ76と、回動板72を第1の方向と直交する第2の
方向(例えばX方向)に移動させる類似の第2の直線位
置決めアッセンブリ78と、走査ステージキーバッド−
表示ユニット80と、ケーブル、つまり、電気ライン8
4を介して位置決めアッセンブリ76.78、キーバッ
ド−表示ユニット80及びコンピュータシステム86に
接続されたステージ制御モジュール82と、を備えてい
る。図示の走査ステージアッセンブリ74は、ニュージ
ャージ、ロックレイスのイー・レイツ有限会社から部品
箱M872070 S−2000として入手することが
できる。 対象物からの屈折、拡散及び/あるいは反射されたビー
ムのほとんどの部分は、ビーム増強アッセンブリ88を
通過する。ビーム増強アッセンブリ88は、このアブセ
ンブリ88を通過する光が円筒ハウジング内の光増倍管
(PMT)によって検出されるように、光検出アッセン
ブリ90上に載置されている。光増倍管及び円筒ハウジ
ングは光検出アッセンブリ90を構成している。この発
明に使用可能な光検出アッセンブリ90は、ペンシルバ
ニア、ロンキャスターのバール工業(以前のRCA)か
ら部品箱8645Rとして入手することができる。 光増倍管(PMT)は感知した光を電気信号に変換し、
その信号を同軸絶縁ケーブル等のライン91を通して補
助増幅モジュール94及び光増倍管制御モジュール96
に送り、更に、同軸絶縁ケーブル等のライン93を通し
てコンピュータ86へ送る。 板38上には、基板104上のサポート102により第
2の光源98が支持されている。同様の載置構造を用い
て、第1の光源を光学テーブル12に接続することがで
きる。第2の光源98としては、ヒユーズ・エアークラ
フト株式会社から入手可能なモデル第322111−P
のようなヘリウム−ネオンレーザを使用することができ
る。このようなレーザ98は、径1第1Imのほぼ平行
化された先ビームを出射する。第2の光源98は、ビー
ムスプリッタ106を通して板38の上面とほぼ平行な
方向にビームを向けるように位置決めされている。 ビームスプリッタ98として、前述したメルスーグリオ
ットから人手可能なキューブビームスプリッタ03−B
SC−009を使用することができる。ビーム100の
第1の部分108は、ビームスプリッタ106と、拡散
した光を遮蔽する調整可能な虹彩をHする第1のビーム
ストップ107とをほぼ直線的に通過して平面ミラー1
09に入射する。平面ミラー109はビームの第1の部
分108をミラー54の平坦な第2の反射面に向ける。 検流計56によって駆動されるミラー54はビームの第
1の部分108を水平面内で走査状に移動させる。 続いて、第1の部分108は第1のレンズ50と同様の
第6の両凸レンズ110を通過し、このレンズ110は
第1の部分108を1点に収束する。水平面内で移動す
る上記の点は光位置センサー112上に向けられる。こ
の光位置センサー112としては、カリフォルニア、セ
グンド Elのファントラッドから入手可能な位置セン
サーPS−100−500を使用することができる。 センサー112上におけるビームの第1の部分108の
移動は、対象物70上におけるビーム24の一方向への
移動に類似している。センサー112は、検知した光を
センサー112上におけるその光の位置を示す電気信号
に変換し、これらの電気信号を3つのラインを有するケ
ーブル114を通して検流計fi制御モジュール116
に供給する。 第2のレーザ98、ビームストップ107、ミラー10
9、検流計56、ミラー54の第2の反射面、第6のレ
ンズ110、センサー112、及び検流計制御モジュー
ル116は、光連結サーボシステムとして作用する。 一方、ビーム100の第2の部分120は、スプリッタ
106により第1の部分108から分離される。ビーム
の第2の部分120は第1のビームストップ107と同
様の第2のビームストップ122を通ってビーム操舵装
置に入射し、更に、平面ミラー124、検流計アッセン
ブリ42のノ\ウジングの第2の窓を通して、ロータ3
0の反射面の他の1つに入射する。ビーム操舵装置とし
ては、前述したニューボート株式会社から入手可能なモ
デル第875を使用することができる。ロータ30は第
2のビーム部分120を第2の窓の外に反射して垂直方
向Xへ移動させる。続いて、第2のビーム部分120は
第7の両凸レンズ126を通過して第2のビームスプリ
ッタ128に入射し、このビームスプリッタは第2のビ
ーム部分を分離し第3のビーム部分130を2重光検出
器、つまり、センサー132へ向ける。センサー132
としては、カリフォルニア、ニューベリーパークのシリ
コンディテクタ株式会社から人手可能なバイセル5D−
113−24−21−021スプリツトフオトデイテク
タを使用することができる。センサー132は、このセ
ンサーの第1の部分、続いて第2の部分を横切るビーム
の通過を示す電気信号を供給する。 これらの電気信号はライン134を通して走査検出回路
136へ送られる。走査検出回路136は、ライン13
8を通して電気信号をコンピュータシステム86及びフ
レーム、つまり、結像ステージ制御モジュール140へ
送る。 第4のビーム部分142は、第2のビームスプリッタ1
28を通ってほぼ直線的に進み、例えば、1インチ当り
50ラインを有するロンキー格子144に入射する。第
4のビーム部分142がロンキー格子144を横切って
進む際、このロンキー格子は第4のビーム部分の遮蔽お
よび通過を所定のパターンで繰り返し、第4のビーム部
分を変調する。続いて、変調された第4のビーム部分1
42は第8の両凸レンズ146を通ってピクセルクロッ
ク光センサ−148に入射する。このセンサー148は
検出した光の強度に比例した電気信号を発生する。この
目的を達成するセンサーであればどの様なセンサーでも
よいが、前述したシリコンディテクタ株式会社から入手
可能なシリコン光検出器5D−172−12−22−2
2iが上記目的を満たすことが判明している。センサー
148からの情報は、ケーブル150を介して補助増幅
回路152、ピクセルクロックモジュール154、続い
て、フレームステージ制御モジュール140へ送られる
。 ニューヨーク、エルブリッジにオフィスヲ持つスカンー
エーマチックから入手可能なモデル第8351Gのよう
な回転始動検出器174は、ロータ30上のブロックマ
ークの存在を検出し、このブロックマークが検出器17
4を通過したことを示す信号をケーブル176を通して
フレームステージ制御モジュール140に送る。 第1の光源20の代わりに使用可能な第3の光源156
を設けることもできる。この場合、第3の光源156は
第1の光源20に類似した光を供給するとともに、種々
の異なる波長に切換え可能であることが必要となる。こ
のような光源として、カリフォルニア、フリーモントの
レクセル株式会社から人手可能なアルゴン−イオンレザ
ーモデル65が知られている。特定のレーザが出射する
1つの波長は488ナノメータであり、可視可能な音色
光である。また、第3の光源156は光学テーブル12
上に配置され平面ミラー160にビーム158を出射す
る。そして、平面ミラー160はビーム158を反射し
てビームスプリッタ32に導き、第1の光源20からの
ビーム32に置き換える。 また、顕微鏡装置10は共焦構造を選択的に備えていて
もよい。顕微鏡装置10における共焦溝造は、試料の多
焦点膜に於ける光の検出、検出された光に対応する信号
の蓄桔、及びこれらの信号の3次元像形成を可能とする
。 このような共焦構造は、基板46と検流計アッセンブリ
42との間におけるビーム24の通路内に配置されたビ
ームスプリッタ162と、レンズ68と同様な顕微鏡の
対物レンズ164と、ピンホール開口166と、ライン
170を介してコンピュータに接続された光センサ−1
68と、を備えている。光センサ−168としては、例
えば、前述したプール工業から人手可能な光増倍管88
50を使用することができる。第1の光[20からのビ
ーム24は、前述したように、ビームスプリッタ162
を通ってロータに入射し、最終的に、レンズ68に入射
する。ビーム24の一部は、対象物で反射し、レンズ6
4.62.60を通って再度光路を反対方向に進み、ミ
ラー54で反射してレンズ52.50を通り、更に、ロ
ータで反射してビームスプリッタ162に入射する。ビ
ームスプリッタ162は反射ビームの一部を反射しレン
ズ164及びピンホール開口166を通してセンサー1
68へ導く。そして、センサー168は対象物70の反
射率の関数である電気信号を発生する。この電気信号は
、コンピュータシステム86に到達する前に、図示しな
い補助増幅モジュール94°によって増幅され、図示し
ない光増倍前制御モジュール96°によって制御される
。これらのモジュール94’   96°は、それぞれ
モジュール94.96と同一の構成を用いることができ
る。 上述した構成部材、つまり、種々のレンズ、ビームスブ
リ・?夕、ミラー ピンホール開口、ロンキー格子、及
びセンサーは、長さ調整可能ホルダ172により支持板
上に配置および支持される。 前述したニューポート株式会社から入手可能なホルダV
PH−3するイGet VPI−4ハホルダ172に適
している。 第2図は、第1図に示された走査型レーザ顕微鏡装置1
0を明瞭にするために重複部分を省略して示す簡略化さ
れたブロック図である。第2図に示すように、顕微鏡装
置10は前述した光学系202、補助増幅モジュール9
4、光増倍前制御モジュール96、コンピュータシステ
ム86、ステージ制御モジュール82、走査ステージキ
ーバッド−表示ユニット80、走査ステージアッセンブ
リ74、検流計制御モジュール116、走査検出回路1
36、補助増幅回路152、ピクセルクロックモジュー
ル154、フレームステージ制御モジュール140、及
び操作パネル204を備えている。 光学系202、特に、光学系内の光センサ−148は、
信号を補助増幅回路152に送るとともに補助増幅回路
からバイアス電圧を受けるケーブル150を通して補助
増幅回路152に接続されている。この補助増幅回路1
52は、信号を送るケーブル151によりピクセルクロ
ックモジュール154に接続されている。また、ピクセ
ルクロックモジュール154は送信ケーブル153を介
してフレームステージ制御モジュール140に接続され
ている。 光学系202、特に、2重光センサ−132は、信号を
走査検出回路136に送るとともに走査検出回路からバ
イアス電圧を受けるケーブル137を通して走査検出回
路136に接続されている。 この走査検出回路136は、信号を送るケーブル138
によりフレームステージ制御モジュール140に接続さ
れている。 また、光学系202の内、位置センサー112は、検流
計i!J aモジュール116に信号を送るとともに制
御モジュール116からバイアス屯圧を受けるケーブル
114を介して検流計制御モジコール116に接続され
ている。この検流51制御モジユール116は、駆動電
流を送るケーブル118により検流計アッセンブリ58
に接続されている。また、検流計制御モジュール116
は、ライン210を通してフレームステージ制御モジュ
ール140に接続され、このモジュール140から信号
を受ける。 光学系202の回転始動検出器174は、ケーブル17
6を通してフレームステージ制御モジュール140に接
続され、このモジュール140に信号を送るとともにモ
ジュール140から出力を受ける。 更に、光学系202、特に、光検出アッセンブリ90は
送信ライン91を介して補助増幅モジュール94に接続
され、この補助増幅モジュールは送信ライン95を介し
て光増倍管制御モジュール96に接続されている。また
、光増倍管モジュール96は制御電圧を送るライン97
を介して光学系202、特に、光検出アブセンブリ90
に接続されている。光増倍管制陣モジュール96は検出
光あるいはビデオ信号を送るライン93を通してコンピ
ュータシステム86に接続されている。 コンピュータシステム86は、ケーブル84によりステ
ージ制御モジュール82に接続されている。この制御モ
ジュール82は、順番にケーブル84により走査段階ア
ッセンブリ74及び走査段階キーバッド及び表示ユニッ
ト80に接続されている。コンピュータシステム86は
、フレーム保存制御モジュール40からの信号を受信す
るために電線216により接続されている。 フレーム保存制御モジュール140は、信号を操作パネ
ル204に送り、操作パネル204からの信号を受信す
るために電線によって接続されている。 第3図を参照すると、本発明の好ましい実施例に使用さ
れる断面で示した部品と共に変形された顕微鏡ベース3
00の詳細な側面図が描かれている。他の部品は、図面
を明確にするために省略されている。このベース300
は、中間部306により上部304に接続された下部3
02を有している。光検出アッセンブリ90は、下部3
02における孔308に部分的に嵌合されている。上部
304は、上面310を有している。トラック312は
、1つ以上の捩子314によって上面310に接続され
ている。このトラック312は、第3、第4及び第5の
両側凸レンズ60.62及び64を保持している。 様々な手段がトララック312上のレンズを保持するた
めに使用できる。第3図には、Cリングのような支持リ
ング318により環状のレンズホルダ316に保持され
たレンズ60及び62が示されている。′第3図を参照
すると、レンズホルダ316は固着捩子322により環
状サポート320に接合されている。レンズ64は、支
持リングまたは・部材323により環状サポート320
に接合されている。サポート320及び330は、捩子
326によりクランプ324に連結されている。 クランプ324は、トラック312に接続され、これに
沿って位置決めできる。クランプ324のうちいずれか
1つがトラック312に沿って移動する際に、サポート
をクランプ324に対して保持する捩子326の1つの
頭部は、トラック312の隙間溝328内を移動する。 反射鏡またはビームスプリッタ66は、開口338及び
下部フランジ340を有する環状IE1336内に保持
されている。環状壁336は、通路324を取り囲んで
いる。フランジ340は、通路342を取囲むありつぎ
保持具344に支承されている。上部304の通路34
6は、通路342を平面アポクロマート顕微鏡対物レン
ズ68に接続する。レンズ68は、回転ター・レットア
ッセンブリ348上に配置された複数のレンズのうちの
1つである。スペーサリング状ブロック350は、環状
壁336の周囲及びフランジ340上に付着されている
。ノ\ウジング352は、反射鏡66にわたるスペーサ
ブロック350上に配置されている。捩子356は、フ
ランジ340と、スペーサブロック350と、ハウジン
グ352とを互いに接続している。 保持具344、ブロック350、及びフランジ340の
厚さは、反射鏡またはビームスプリッタ66を直列にす
るように選択され、またレンズ64からのビームを遮る
ように、平面アポクロマート顕微鏡対物レンズ68にビ
ームを導くように選択されている。ベース300の上面
310は、部品の直列配置を助けるように、異なる高さ
にすることができる。例えば、第3図で上面310は、
保持具344が部分的に嵌合され下部を有し、またトラ
ック312が取付けられた上部を有している。 第2の増幅アッセンブリ88は、対象物からの反射光が
通路346.342、及びビームスプリッタ66を通過
した後に、この反射光を受けるためにビームスプリッタ
66の上方に配置することができる。この第2の増幅ア
ッセンブリ88の好ましい実施例は、第6B図に描かれ
ている。他の光検出アッセンブリ90゛は1第2の増幅
手段88からの反射光を受けるように配置されている。 他の光検出アッセンブリ90゛は、アッセンブリ90に
よって代表することができる。さらに、アッセンブリ9
0−からの信号は、(モジュール94及び94−と同様
の)予備増幅モジュール94(モジュール96及び96
゛と同様の)光検出制御モジュール96′、その後、コ
ンピュータシステム86、特に例えば、フレームバッフ
ァ278に移送される。 第3A図を参照すると、(イー・レイツ型の)顕微鏡の
側面図が描かれている。型式名はイルゴラックス (エ
ルゴルックス)で、第3図に示すように形成することが
できる。この顕微鏡は、孔308を有する下部302を
備えている。光R(図示せず)及び反射鏡360は、典
型的には下部302内に装着され、光源から孔308に
装着されたレンズ358を介して移送される光の直線上
に配置されている。本発明の目的では、光源、反射、m
360、及びレンズ358を外すことができ、光検出ア
ッセンブリ90が孔308に部分的に嵌合されでいる。 この顕微鏡は、さらに照射アッセンブリ362、フィル
タアッセンブリ364、及びベース300の上部に30
4に装着されたハウジングを備えている。本発明の目的
では、照射アッセンブリ362及びフィルタアブセンブ
リ364は外され、上面310は、トラック312を装
着するために平面に加工され、ハウジング352は、上
述のように位置を変更されている。 この顕微鏡は、さらにステージアッセンブリ368及び
上部及びアイピース366を有している。 これらは本発明の目的から外すことができる。コンピュ
ータは、典型的なステージアッセンブリ368用に置換
され得る上述の捜査ステージアッセンブリ74を制御す
ることができる。 第4図及び第4A図を参照すると、本発明に係わるビー
ム増・幅アッセンブリ88の第1実施N88′が描かれ
ている。この第1のビーム増幅アッセンブリ88″は、
光検出アッセンブリ90を収容し、回転可能に取付ける
ための円筒状の開口または通路402を有する下部ハウ
ジング400を備えている。親指捩子404は、ハウジ
ング400をアッセンブリ90に固着ために下部ハウジ
ング400の孔を通して螺着されている。 ハウジング400は、光遮蔽部材または保持板408を
収容するための溝406を有し、この保持板408は、
溝406内で直線方向にスライドできる。トラックピー
ス410は、保持板408のほぼ長方形の孔412内に
延出し、孔412を通ってスライドできる。リングまた
はホルダーシート414は、エポキシによって溝内にお
けるに下部ハウジングの環状開口402内に延出してい
るトラックピース410の一端に接着されている。 リング414は、環状フィルタホルダ416の周囲の溝
内に配置され、このホルダ416は、リング414内で
回転可能である。空間フィルタ418は、フィルタホル
ダ416の一端における溝内に配置されている。Cリン
グ420は、ホルダ416内のフィルり418を保持し
ている。空間フィルタ418は、直線状に偏光されたほ
ぼ単色光が対象物70を通して照射される際に形成され
る、干渉模様内における均一の強さの領域にほぼ一致す
るように形成された開口を有している。1つの好ましい
実施例では、空間フィルタ418は、十字またはパルス
状の隙間を有する金属網で良い。 これに好適するものは、コビナ、カリホルニアのロリン
・オブテイクス社(Covina、Ca1if’orn
lanのRolyn Op口Cs Company)製
の金属網7[1,1945である。駆動ワイヤまたは部
材422は、トラックピース410の溝内に摺動自在に
配置されている。 駆動ワイヤ422の第1端部は、フィルタホルダ416
に接続されている。ワイヤ422の第2の端部は、スラ
イダ424の孔内にエポキシによって接着されている。 このスライダ424は、トラックピースの溝内に摺動自
在に配置されている。 ワイヤ422の第1端部は、ホルダ416の孔内に付着
されたワイヤにおけるフックによって、フィルタホルダ
416に接続されている。トラックピース410及びワ
イヤ422内の溝は、曲がった形状を有し、スライダ4
24がワイヤ422の方向に移動した際に、ワイヤ42
2の第1端部は、トラックピース410の縦軸から傾斜
した方向にほぼ押し出される。 保持板426及びクランプ428は、ワイヤ422の一
部及びスライダ424を覆う捩子430によってトラッ
クピース410に固着されている。 上部ハウジング432は、捩子434により下部ハウジ
ング400に接続されている。上部ハウジング432は
、環状通路436を有し、これは互いに接続された際に
下部ハウジングの開口402と同心となる。捩子438
は、捩子438に接着された保持カラー439によりス
ライダ424に保持されている。この捩子438は、ク
ランプ428に捩子係合し、捩子438を回す際に、ス
ライダ424及びワイヤ422は、トラックピース41
0の溝内で摺動する。これは順番にリング414内のホ
ルダ416を保持しているホルダ416に接続されたワ
イヤ422の端部を動かす。摺動自在ホルダ440は、
下部ハウジング400の溝内に摺動自在に位置する。捩
子422は、付勢スペーサ444、ワッシャ446、及
び保持ブラケット448を通過する。その後、捩子44
2は、保持カラー450と係合し、この保持カラー45
0は、捩子442に接着される。この捩子442は、さ
らに摺動自在ホルダ440を通り、クランプ428に螺
合する。捩子442を回した時には、この捩子は、クラ
ンプ428、トラックピース410、溝406内の保持
板408、リン・グ414、ホルダ416及びフィルタ
418をすべて一体構造として、第1の直線方向に移動
させる。 捩子452は、付勢スペーサ454、ワッシャ456、
及び捩子462により下部ハウジング400に螺着され
た端部板458を通っている。さらに、捩子4゛52は
、保持カラー460(これは捩子452に接着されてい
る。)に係合する。捩子452は、端部板458を通り
、摺動自在ホルダ440に捩子係合されている。従って
、捩子452が回転された時に、この捩子は、ホルダ4
40、クランプ428、孔412を通(7てトラックピ
ース410、リング414、ホルダ416、及びフィル
タ418をすべて一体構造として第1の直線方向に直交
する第2の直線方向に移動させる。 偏光フィルタホルダ464は、親指捩子466により上
部ハウジング通路436の一端に固着されている。偏光
フィルタ468は、Cリングによりフィルタホルダ46
4の通路内に保持されている。 第4図及び第4A図に描かれているように、第1ビーム
増幅アッセンブリ88゛は、アッセンブリ90からの他
のすべての光線を遮断し、移動可能な十字状の開口を通
して、光線を通過させることができる。さらに、フィル
タ418は、2つの直交方向に及び傾斜方向に位置調整
することができる。 アッセンブリ88″は、複屈折の対象物、特に複屈折で
部分的に透明な対処物からの光検出に有効である。フィ
ルタ418の隙間の十字形状により、偏光された光をア
ッセンブリ90により検出されるべき複屈折材料を通過
させて、典型的な光干渉模様の比較的大きい均一部分が
形成される。 従来のレーザ走査顕微鏡を含む従来の顕微鏡と比較して
、十字状の隙間を通る光の部分が、アッセンブリ90に
より検出可能な明らかに明確な信号を発生させる対象物
構造に関する増加する変則的な情報を含むことが発見さ
れている。 第5図及び第5A図を参照すると、本発明に係わるビー
ム増幅アッセンブリ88の第2の実施例88′が描かれ
ている。この第2のビーム増幅アッセンブリ88′は、
縦軸501を有し、基部から頂部にわたって、ベース5
00、回転1自在ホルダ502、空間フィルタ板504
、回転自在円板506、サポート508、フィルタホル
ダ510、および偏光フィルタ512を具備している。 ベース500は、光検出アッセンブリ90に回転自在に
装着するための環状通路514を有している。親指捩子
516は、ベース500をアッセンブリ90に固着する
ことができる。通路514は、ホルダ502の下部52
0を収容するためのショルダ518を有している。 ホルダ502は、円板状に形成され、下部と、周囲グリ
ブ522〈環状溝524、光学的隙間526、及び上方
に延出する中心からずれたピン528を備えた中間部と
、上部リング部530とを具備している。親指捩子55
6は、ベーズ500をホルダ502に固着させている。 空間フィルタ板504は、ピン528を収容するための
中心からずれた孔532を有している。 この板504は、上部径方向溝536及び光学的隙間5
34を有し、これはホルダの光学的隙間526上に直列
となるように光学的隙間526より小さく形成されてい
る。フィルタ板の隙間534は、好ましい形状に形成で
きるが、図示の都合上円形に描かれている。フィルタ板
504は、ホルダ502より小さく、ホルダ502のピ
ン528がフィルタ板504の孔532内に位置し、こ
のフィルタ板504は、環状溝524に対して径方向に
延出せず、大部分のフィルタ板はピン528回りに回転
し、フィルタ板504は、リング部530の上方には延
出していない。先端がナイロンのセット捩子523は、
ホルダ502と回転自在円板506との間の摩擦を増加
させるために使用される。 回転自在日板506は、周囲グリップと光学的隙間53
8を有し、この隙間538は、フィルタ板の隙間534
及びホルダの隙間526より大きく、この上に直列配置
できる。この円板506は、さらに中心からずれた下方
に突出するピン540と、下方に突出する中子544を
有する下部シうルダ542とを具備している。中子54
4は、第5図に描かれているが、実際には中子544は
、第5に現れない。第5図では、中子544は、視野か
ら最も離れた位置で、ショルダ542に正確に接続され
ている。ピン540は、フィルタ板の径方向溝536内
に延出している。この中子544は、ホルダの環状溝5
24内に延出している。 サポート508は、ベース通路524と同心の環状通路
55.4と、ベーズ500上の配設ピン546を収容す
るための直列孔548を備えている。 捩子550は、サポート508をベース500に固着し
ている。このベース500は、サポート508とベース
500の残部との間に空間を設け、ホルダ502、板5
04及びそれらの間の円板を回転自在に保持するための
段部552を備えている。 ホルダ560内の偏光フィルタ558は、サポート通路
554内に親指捩子562によって固着されている。 ホルダ502、フィルタ板504及び円板506が停止
している際に、アッセンブリ88′を通る光の通路は、
フィルタ板の隙間534により制限される。この隙間5
34は、これらの隙間のうち最小に形成されているから
である。さらに、空間または光学的隙間538.534
、及び526は、常に直列に配置され、フィルタ板の位
置に係わらず光がフィルタ板の隙間534を通過できる
。 フィルタ板の隙間534の位置は、アッセンブリ88′
をアッセンブリ90に対して回転させることにより動か
すことができ、または、円板506の1つまたは両方を
、或いはホルダ502をベース500に対して回転させ
ることにより移動できる。 円板506を第5図及び第5A図に示す時計回りに、そ
れがホルダ502に対して停止するまで回転させた時に
、フィルタ板の隙間534は、アッセンブリ88′の軸
501に釣合い、中子544は、環状溝524の第1端
部に位置し、ピン540は、軸501に近接する。この
位置から、もし、円板506をホルダ502に対して第
5図及び第5A図に示す反時計回り1ご回転させた時に
は、フィルタ板の隙間534は、軸501から扇状に離
れて移動し、中子544は、第1端部から離れて第2端
部方向に環状溝534に沿って移動し、ピン538は、
軸501から離れて溝536に沿って移動する゛。円板
506は、中子544が環状溝524の第2端部に接触
した際に、ホルダ502に対する反時計回りの回転を停
止する。扇状に沿ったフィルタ板の隙間534の・任意
の位置では、円板506及びホルダ502が一体に回転
され、フィルタ板の隙間534を軸501の回りに回転
させる。 第5図及び第5A図に示す第2のビーム増幅アブセンブ
リ88′は、光学的隙間538.534、及び526を
通る光線を除いて、光検出アッセンブリ90に導入され
る光を遮蔽することができる。 増幅アッセンブリ88′と同様に、増幅アッセンブリ8
8′は、複屈折の対象物を観察する際には特に有効であ
る。さらに、このアッセンブリ88は、対象物内の吸収
性の異質体及び拡散した変態によって発生する光線を検
出するのに特に有効である。 第6図及び第6A図には、本発明によるビーム増幅装置
88の第3実施例が2i[d!されている。この第3実
施例によるビーム増幅装置88′″″はホトディテクタ
アッセンブリ90に装着するための円筒状部604を含
む基部602を備える。円筒状部604は円形通路60
8を有する支持板部606に結合され、この円形通路を
介して、軸610を中心とする光がホトディテクタ90
内に入ることができる。 例えばロリン オプリティックス カンバニイ(Rol
yn 0ptlcs Co5pany)からモデル番号
75.017として市販されている絞り膜gira (
Iris dlapbrag+a assembly 
) 612が支持板部606上に設けられている。この
絞り膜装置616はフレーム614を含み、このフレー
ムからシャッタあるいは絞り膜616が軸610に対し
て前後方向に延設され、作動アーム618により調整可
能な径を有する可変孔を形成する。 窓622及び開口端部を有する円筒状ハウジング620
がその一端を板部606に結合されている。スリーブ状
サポート624がハウジング620内に配置される。こ
のスリーブ状サポート624は内側上肩部626と内側
上肩部628との2つの端部を有する。スリーブ状サポ
ート624の一方の端部は板部606に接触する。絞り
膜装置612は内側下肩分628の近方に、この内側上
肩部628により所定位置に保持される。スリーブ状サ
ポート624はその外面に四部630と、この四部63
0内に形成された孔632とを何する。凹部630は窓
622に整合する。円筒状ハウジング620はねじ、エ
ポキシ樹脂あるいは他の好適な手段により基部602に
固定することができる。 ロッドあるいはアーム634は窓622、凹部630及
び孔632を介し、このロッド634の第1端部がスリ
ーブ状サポート624の内側にかつ第2端部が円筒状ハ
ウジング620の外側に配置されるように挿通される。 ロッド634の第1端部は、軸610にほぼ垂直な光遮
断用ブラックディスクあるいは部材636を支持する。 このディスク636は円形形状とすることも可能である
。 ロッド634の第2端部にはグリップ638が取り付け
られる。スリーブ状サポート624はロッドあるいはア
ームサポート640を含み、このロッドサポートは窓6
22を介して凹部630内に延設され、一対のねじ及び
ワッシャ642によりスリーブ状サポート624に装着
される。ロッド634はサポート640内の通路内に軽
く締め付けられる状態で摺動可能に支持されている。グ
リップ638の上下に配置されるサポート640のアー
ム644はロッド634の回転を防止する。 第1両凸レンズ646はスリーブ状サポート624の内
側上部肩部626に支持されている。プラスチック等の
適宜の材料で形成可能な円筒状スペーサ648が第1両
凸レンズ646上でスリーブ624内に配置され、この
スリーブ624に接触する。このスペーサ648上に第
2両凸レンズ650が載置されている。環状の保持板6
52がねじ654によりスリーブ624の上端に装置さ
れ、レンズ646,650及びスペーサ648を固定す
る。 上記第6図及び第6A図に図示しかつ説明した第3実施
例によるビーム増幅装置88′′−は対象物で散乱され
た光を検出するために特に有益である。ディスク636
はグリップ638を移動することによりスリーブ624
内に直線状に配置することが可能である。このディスク
636はホトディテクタ90に対して基部602を回転
することにより、スリーブ624内で所定角度で配置す
ることができる。例えば、ディスク636及び絞り11
616は、対象物70により影響を受けない光を遮断し
、ディテクタ90に送られないように配置することがで
きる。この場合には、対象物から散乱された光はディテ
クタ90で検出されない。 ディスク636及び絞り11616は、これらディスク
636と絞りH616とにより環状あるいはリング状の
孔が限定されるように配置することができる。 第6B図を参照すると、本発明によるビーム増幅装置8
8の第4実施例が記載されている。このT44実施例に
よるビーム増幅装置188−″パはホトディテクタ90
′に装着するための円筒状部を含む基部680を備える
。この円筒状部は環状の支持板部に結合される。 円筒状9.670の一端は基部680の環状支持板部に
結合される。第6図及び第6A図に関して説明したと同
様な他の絞り膜あるいは一定の空間を占めるフィルタ装
置612が基部の環状支持板部に近接して円筒状壁67
0内に配置される。 円筒状壁670の他端はハウジングの凹設領域内に挿入
するリング状の突出部672を有する。 第3図参照。 円筒状壁670は、突出部672を有する端部の辺部に
内側肩部674を有する。両凸レンズ676は、Cリン
グ等のホルダ678により肩部674に保持される。レ
ンズ676は対象物70から反射された光を絞り膜装置
612の可変孔を介して、ホトディテクタ90′の光増
倍管682の領域に焦点を合わせる。前述のように、対
象物から反射された光を表す信号が前置増幅モジュール
94′ (図示せず)と、ホトディテクタ制御モジュー
ル96′ (図示せず)と、その後コンピュータシステ
ム86の特に例えばフレームバッファ278に送られ′
る。 第4実施例のビーム増幅装置88”−−−は、第1図に
関連して説明した対応装置を用いるよりも対象物から反
射したより多くの光を検出することができる。 第6C図を参照すると本発明の第5実施例によるビーム
増幅装置88が記載されている。この第5実施例による
ビーム増幅装置188=′−−は、波長選択フィルタ(
vavelength 5elective rilt
er)が対象物と、絞り膜装置の代わりの光増fΔ間と
の間に固定されていることを除き、上述の第4実施例に
よるビーム増幅装置88=−一と同様である。 更に詳細には、第5実施例のビーム増幅装置88=  
′−はホトディテクタ装置90′に装着するための円筒
状部607を含む基部605を備えている。この円筒状
部606は環状の支持板部609に結合される。 管状コネクタあるいはハウジング611の一端は基部6
05の環状支持板部609に結合される。 波長選択フィルタ613は管状コネクタ内で両凸レンズ
619と光増倍管682との間に配置される。この波長
選択フィルタは、ホトディテクタ装置90′に近接する
第1バンドパスフイルタ装置と、レンズ619とダイク
ロイックビームスプリッタソウチロ33との一方あるい
は双方に近接する第2バンドパスフイルタ装Wt635
とを備えることができる。 管状コネクタ611の第2端部は、ハウジング3520
凹設領域内に挿入されるリング状突出部615を有する
。第3図参照。 管状コネクタ611は内側肩部617を第2端部の辺部
に有する。両凸レンズ619は例えばCリング等のホル
ダ621により肩部617に保?、17される。このレ
ンズ619は、対象物70から反射された光を波長選択
フィルタ613を介してホトディテクタ装置90′の光
増倍管682の領域に焦点を合わせるように配置されて
いる。上述のように、対象物から反射された光を表す信
号は前置モジュール94′ (図示せず)と、ホトディ
テクタ制御モジュール96′ (図示せず)と、その後
コンピュータシステム86の特に例えばフレームバッフ
ァ278に送られる。 管状コネクタ611は基部625の管状支持板部623
に結合される第3端部を有することができる。他のバン
ドパスフィルタ装置627は基部環状支持板部623に
近接する管状コネクタ611内に配置することができる
。基部625は、光増倍管631を含むホトディテクタ
装置90′に装着するための円筒状部629を有し、こ
の光増倍管は前置増幅モジュール94″゛′(図示せず
)に電気的に結合され、更にホトデイチクタボ制御モジ
ュール96=−(図示せず)に結合された後、コンピュ
ータシステム86の特に例えばフレームバッファ278
に結合される。 ダイクロイックビームスプリッタ装置633は所定の波
長よりも上あるいは下側の波長のものを通し、バンドパ
スフィルタ装置613を介してホトディテクタ装置90
′の光増倍管682の領域に送り、他の波長のもののす
べてをバンドパスフィルタ627を介してホトディテク
タ装置90′の光増倍管631に反射する。 第6D図を参照すると、本発明のビーム増幅装置88の
第6実施例が示されている。この第6実施例のビーム増
幅装置88=゛−=はホトディテクタ装置90′に装着
するための円筒状部643を含む基部641を備える。 円筒状部643は環状の支持板部645に結合される。 バンドパスフィルタ装置647等の波長選択フィルタ装
置が環状支持板部645に結合される。 このバンドパスフィルタ装置647はハウジング647
と、軸を中心に回転可能なディスク651と、ディスク
651内にこのディスクの回転軸から等距離に装着され
た多数のバンドパスフィルタ653と、ハウジング64
7で支持されかつこのハウジング内のディスク651を
、ホトディテクタ装置!90’で検出された光路内のい
ずれかの選択位置に回転するモータ装置655とを備え
る。 各フィルタ653はそれぞれ異なる波長範囲の光りを通
し、他のすべての波長は遮断する。公的なバンドパスフ
ィルタ装置が、コネチカット州スタットフォードのオリ
エール コーポレーション(Ortel Corpor
ation)よりモデル番号77371として市販され
ている。モータ装置655は、オペレータがホトディテ
クタ装置90′で検出すべき所要の波長の光バンドをキ
ーボードを介して入力すると、これによりホトディテク
タ装置90′の全部に配置すべき対応するフィルタ65
3を選択しかつ回転するようにコンピュータシステムに
結合することができる。 円筒状壁657の一端がハウジング647に結合されて
いる。円筒状9657の他端はハウジング352の四部
領域内に挿入されるリング状の突出部659を有する。 第3図参照。 円筒状壁657は突出部659を有する端部に近接した
内側肩部を有する。両凸レンズ663が例えばCリング
等のホルダにより肩部661に保持される。レンズ66
3は対象物から反射した光を、フィルタ装置647の選
択されたフィルタ653を介してホトディテクタ装置9
0′の光増倍管682の領域に焦点を合わせる。前述の
ように、対象物から反射された光を代表する信号が前置
増幅モジュール94′ (図示せず)と、ホトディテク
タ制御モジュール96′ (図示せず)と、この後、コ
ンピュータシステム86の特に例えばフレームバッファ
278に送られる。 第5及びm6実施例のビーム増幅装置88′=−,88
−一′==はルミネセンス顕微鏡法(Iu第1nesc
enee m1croscopy)に用いられる。所定
の対象物から放射される光がルミネセンスと称される。 ルミネセンスにはタイプの異なるものか存在する。その
第1は蛍光(f’ 1uorocence)であり、励
磁エネルギで刺厳されると同時に放射され、励磁放射が
終了すると直ちに停止する。第2はリン光(phosp
horescence)であり、刺激を取り去った後も
所定時間発光し続ける。例えばレーザ20あるいはレー
ザ156を選択して光ビーム24を放出させ、対象物7
0あるいは対象物内の粒子を刺激あるいは励磁して蛍光
を放射させることができる。波長選択フィルタ装置61
3,647はレーザビーム24の波長を含むすべての光
を遮断して対応するホトディテクタ装置で検出されるべ
き対象物から放出される蛍光の波長だけを通過できるよ
うに選定される。更にレーザ20,156は、対象物7
0あるいは対象物内の粒子を異なる波長で蛍光あるいは
発光させる光ビームを同時に放出するように選定するこ
とができる。これらの異なる波長は同時にあるいは順に
、例えば増幅装置88−−−−”等同じ増幅装置88と
、例えば第3図のホトディテクタ装置90′とハウジン
グ352との間に結合された増幅装ff188−”−及
び第1図のホトディテクタ装置1168とビームストッ
パ166との間に結合された第2増幅装置゛−とを有す
る別個の増幅装置との一方あるいは双方の別個のホトデ
ィテクタ装置により検出される。 したがって、走査レーザ顕?IL鏡システム10は更に
対象物70内の蛍光分子を励磁する機能を有する。蛍光
顕微鏡法に用いられる場合は、光増倍管で検出された光
及び像は対象物の蛍光部だけを表す。極めて特別の波長
だけがフルオロフォア(rluorophre)等の特
定の蛍光分子で吸収されあるいは放出されるため、レー
ザ及び波長選択フィルタは放出された蛍光を検出できる
ように選択されなければならない。 対象物70.は生物学的あるいは他の起源であってもよ
い。蛍光は対象物内に自然に存在する蛍光団あるいはサ
ンプル中の所要の部材の標識として蛍光分子で処理され
た対象物による。生物発光あるいは化学発光等地のタイ
プのルミネセンスは、発光のために光源による励磁を必
要としない。 蛍光モードにおける走査レーザ顕微鏡システム10は、
蛍光411識を付されたバクテリア、イースト、糸状菌
及び微生物の胞子の検出、計数及び分析に用いることが
できる。蛍光試料による直接的処理、免疫蛍光検査ある
いはし°シチン蛍光検査用の蛍光標識を付された抗体あ
るいはレシチン、あるいは、生活力の指標として蛍光生
体染色法を含む微生物に蛍光標識を付する適宜の方法が
使用できる。蛍光標識を付された微生物は走査用の適宜
の面に配置す・ることができる。 食物及び喫飲料、衛生綿棒、あるいは尿等の医学サンプ
ルから隔離された微細物に蛍光標識を付し、検出、計数
及び生活力の決定、あるいは、そのいずれかを行うこと
ができる。この方法は選択的な微生物の培養を含む伝統
的な方法、栄養媒体及び他の生理学的/生物学的方法に
代え、あるいは、これらと共に使用することができる。 更に、ここで使用される異常(ano■allcs)の
語は、蛍光分子、粒子あるいは生物学的あるいは非生物
学的起源の物質を含むものである。 下記に2つの実例を説明する。実例1は蛍光試料で直接
染色された微生物の検出、計数及び分析のために走査レ
ーザ顕微鏡システム10が使用される蛍光モードの状態
を示す。実例2はサンプル中の特定の微生物が蛍光標識
を付され、検出され、計数され、本発明の走査レーザ顕
微鏡システム10を用いて分析される状態を示す。 例1 イースト培養による部分標本、例えば、カンジダ菌(v
ini)  ((メリーランド州ロックビルに所在する
国際寄託機関ATCCのもとで、No18823として
保管され、ATCCから入手可能である。)をバクト(
Bacto) Y M培養液(ミシガン州デトロイトに
所在するデフコ(Dirco)研究所から入手可能であ
る。)によって培養されいる)は、黒ポリカーボネイト
フィルタ(カリフォルニア州プレアザントンに所在する
ヌコレボア(Nuelepore)コーポレーションか
ら入手可能である。)を用いて、真空中で濾過される。 このフィルタは、モル濃度0.2モル、pH7,0のリ
ン酸塩類緩衝液数第1)によって洗浄される。フィルタ
は、真空中から取出され、アクロダインオレンジ(ミズ
ーリ州セントルイスに所在するシグマ(Slguma)
ケミカルから人手可能である。)50mg/muの濃度
を有するリン酸塩類緩衝液によって、15分間蛍蛍光色
される。このフィルタは、再び真空中に戻され、数第1
のリン酸塩類緩衝液による洗浄、100%イソ−プロピ
ルアルコールによるフィルタに対する過度の染色の除去
、及び、再びリン酸塩類緩衝液による洗浄がなされる。 フィルタは、送風乾燥され、顕微鏡用スライドガラスの
頂部に非蛍光性オイルで濡されたカバー片とともに配置
される。 アルゴンレーザ156は、波長488n−で試料を走査
する。カット−オフ波長530n−の短波長吸収フィル
タ613(コネチカット州スタッフオードに所在するオ
リエル(OrIet)コーポレーション製No5130
0)は、フォトマルチプライヤPMT682の前側に配
置され、レーザ156からの反射光を吸収するとともに
蛍光を透過させる。 この例1に示された方法は、培地が蛍光染料によって直
接染色されてもかなわない、例えば、細胞の生活能力の
指標となりうる生体染色法における試料として、この発
明のレーザ顕微鏡装置10を用いた直接染色された微生
物を探知、計数、分析するため用いられる。 N2 間接免疫蛍光分析(IFA)においては、目的となる微
生物は、目的となる微生物の表面抗毒素に固有の第1の
非接合抗毒素に識別される。第1の抗毒素を認識するフ
ルオレセインイソチオシアネート接合(FITC)の第
2の抗毒素が用いられて、第1の抗毒素を有する微生物
が蛍光性に識別される。この識別された微生物は、プレ
パラート表面に配置され、レーザ顕微鏡装置10によっ
て画像形成される。例1と同様に、アルゴンレーザ】−
56は、波長488nsで試料を走査する。カット−オ
フ波長530 nsの短波長吸収フィルタ、オリエル<
0rie+)コーポレーション製No51300は、フ
ォトマルチプライヤPMT682の前側に配置され、レ
ーザ156からの反射光を吸収するとともに蛍光を透過
させる。 この方法の成果は、用いられる抗毒素の反動力とその選
択探知可能性に大きく依存する。姻戚関係の小さい第1
及び第2の抗毒素を用いることによって、第2の抗毒素
に含まれる細分された探知されるべき微生物とのFIT
C共有結合を防ぐことができる。反動力の高い抗毒素を
用いることで背面蛍光が大きくなるので、微生物の探知
に所望の選択的探知可能性は低下する。 FITC抗毒素を用いた微生物の識別によって、試料の
イースト細胞が直接染色され、スキャンされてレーザ顕
微鏡10で探知される理由を示す。 イースト培養試料、即ち、トルロブシスーソルンシスI
 (Torulopsls 5onorensis )
 、メリーランド州ロックビルに所在する国際寄託機関
ATCCのもとてNo56511として保管され、AT
CCから入手可能である。110r+lがYM倍溶液(
デフコ(Dirco)研究所から入手可能である。)で
−夜培養され、15r+l用遠心分離管に用意される。 培地は、3000G (重力加速度)、10分間の遠心
分離によって、イースト小球に形成される。溶出液が除
去され、このイースト小球は、モル濃度0.1モル、p
t19.2のカーボネイト/炭酸水素塩緩衝液10mf
lに懸濁される。イースト試料は、この方法によって3
度洗浄される。 2第1の懸濁されたイースト試料は、第2の15m1用
遠心分離管に用意され、モル濃度0.1モル(10mg
/ 第1 ) 、9119.2のカーボネイト/炭酸水
素塩緩衝液0.4m1)と混ぜられ、暗中に30分間放
置される。2第1の緩衝液を用いた遠心分離法による3
回の洗浄で過度のFITC液が除去される。FITCに
よって識別されたイースト細胞は、黒ポリカーボネイト
フィルタ(ヌコレボア(Nuclepore)コーポレ
ーションから入手可能である。)を用いて、真空中で濾
過され、10m1の緩衝液で洗浄される。このフィルタ
は、送風乾燥され、顕微鏡用スライドガラスの頂部に非
蛍光性オイルで濡されたカバー片とともに配置される。 アルゴンレーザ156は、波長488 ntaで試料を
走査する。カット−オフ波長5 B 0 nsの短波長
吸収フィルタ(コネチカット州スタッフオードに所在す
るオリエル(Oriel)コーポレーション製)は、フ
ォトマルチプライヤPM’7682の前側に配置され、
レーザ156からの反射光を吸収するとともに蛍光を透
過させる。 FITCによって識別されたイースト細胞は、首尾よく
レーザ顕微鏡10によって画像形成される。FITC’
は、試料における特定の微生物の探知、計数、分析のた
めに、免疫蛍光測定法における抗毒素、或いは、レクチ
ン蛍光分析法におけるレクチンに結合する一体的光発生
源を付加する、即ち、光発生源が付加される抗毒素或い
はレクチンによって微生物を識別する方法であって、こ
の発明のレーザ顕微鏡10に利用される。 上述したビーム増幅装置t88” 〜88°”” 及び
88 ”””のいづれかは、第1図に示されている対象
物70から発生され伝達されて、光ビームを増幅する増
幅袋H88に結合される。また、上述したビーム増幅袋
H88°〜88 ””’及び88°“°のいづれかは、
第3図に示されている光検出装置90゛とハウジング3
52との間の、対象物70から発生され伝達されて、光
ビームを増幅する増幅装置88に結合される。さらに、
上述したビーム増幅装置88゛〜88°°°°°及び8
8゛゛°°゛のいづれかは、第3図に示されている光検
出装置168と遮蔽板166との間の、焦点あわせ装置
に配置されている対象物70から発生され伝達されて、
光ビームを増幅する増幅装置88に結合される。 第7図には、第1図及び第2図に示されている装置に用
いられるプリアンプ回路152の詳細が示されている。 プリアンプ回路152の目的は、光検出器148からの
電流モードの出力をピクセルクロックモジュール154
で使用可能な電圧モード信号に変換することである。し
かし、この実施例における第7図に示されている回路は
、いかなるものであっても構わない。第7図に描かれて
いるプリアンプ回路152が用いられたとき、光検出器
148は、公知である逆バイアスモードで機能する。こ
の実施例に用いられているプリアンプ回路152は、ブ
ルーブラウン(Burr−Brown)コーポレーショ
ン製ICデータハンドブック、チャプター1,1986
、の189頁の回路特性に関する記載を参照した公知例
と同様のものである。 プリアンプモジュール94は、上述したプリアンプ15
2と同様に形成される。しかしながら、第1図及び第2
図に示されているフォトマルチプライヤモジュール96
は、光検出器90゛へ高電圧を供給する。公知の技法の
一つに、この開示に先立ち、この発明者の設計したこの
発明の装置におけるプリアンプ回路152及びモジュー
ル94に使用可能な多くのプリアンプ回路或いはモジュ
ールがある。 第8図には、第1図及び第2図に示されている装置に用
いることができるスキャン探知回路136の実施例が示
されている。このスキャン探知回路の詳細は、グツドマ
ンとロス(Good+man and I?osS〉に
よるレーザアプリケーションズ、Vol−4,1つ80
.171〜173真の記載を抜出したものである。第8
図に示されている回路は、この発明におけるスキャン探
知回路に使用可能な例である。 しかしながら、この回路は、対象物を横切る各スキャン
の最初に、対象物70の正確な位置を指示するフレーム
ストレーシコントロールモジュール140に十分に長い
信号を供給できるどんな回路が用いられても良い。 第9図は第2図のフレーム格納制御モジュール140お
よびオペレータコントロールパネル204の概略図であ
る。フレーム格納$4mモジュール140の1つの目的
または機能は、コンピュータシステム86内のデジタル
フレーム格納ユニット271を、目標に向けられた実際
の位置に同期させるための制御信号を発生することであ
る。フレーム格納制御モジュール140からの制御信号
にもとずいて、デジタルフレーム格納ユニット271は
サンプリングし、2値化し、光検出機構90からの検出
信号を正確な周期で格納する。デジタル信号は目標70
に向けられたビーム24の位置に対応するメモリロケー
ションに記憶される。フレーム格納制御モジュール14
0のもう1つの[1的は、ガルバノメータ56の駆動電
流を調節して実際のビーム位置が正確にビーム基準信号
を追従するように、ガルバノ制御モジュール116によ
り飛揚されるビーム位置基準信号を発生することである
。 フレーム格納制御モジュール140は、フレーム格納制
御回路226と、スキャン−1回路242と、スキャン
−2回路244と、およびスキャン−3回路246とで
構成される。フレーム格納制御回路226は、第1乃至
第4のラインを介してスキャン−1回路242に接続さ
れる。第1乃至第4のライン248のうち、3本のライ
ンはフレーム格納制御回路からの信号をスキャン−1回
路242に供給するのに用いられる。残りの1本のライ
ンはスキャン−1回路242からの信号をフレーム格納
制御回路226に供給するのに用いられる。スキャン−
1回路242は3本のライン250を介してスキャン−
2回路244に接続されている。3本のラインのうち2
本はスキャン−2回路244からの信号をスキャン−1
回路に供給するのに使用され、残りの1本のラインはス
キャン−1回路242からスキャン−2回路244に供
給するのに使用される。ライン2523はライン250
の1本(すなわち、スキャン−2回路244からの信号
をスキャン−1回路242)に供給するライン)をフレ
ームもしくはイメージ格納制御回路226に接続し、ス
キャン−2回路244からの信号をフレーム格納$1 
m回路226に供給する。ライン254はフレーム格納
制御回路226をスキャン−2回路244に接続し、フ
レーム格納$制御回路226からの信号をスキャン−2
回路244に供給する。9本のラインから成るデータバ
スはスキャン−2回路244をスキャン−3回路246
に接続し、信号を供給する。 フレーム格納制御モジュール140は、ライン138を
介してスキャン検出回路136からフレーム格納@御回
路226に信号を入力し、ライン176を介して、回転
開始検出器174からフレーム格納制御回路226に信
号を入力し、ライン153を介してピクセルクロックモ
ジュール154からフレーム格納制御回路226に信号
を入力し、ライン228を介してオペ°レータパネル2
04の制御スイッチ230からスキャン−1回路242
に信号を入力する。さらに、各々が12本の信号路すな
わちラインで構成された2本のデータバス232を介し
て、オペレータパネル204上のつまみスイッチのよう
なスイッチ群234からのスキャン−2回路244に信
号を入力する。フレーム格納制御モジュール140は3
本のラインを介して信号をフレーム格納$制御回路22
6からコンピュータシステム86に信号を供給
【7、ラ
イン116を介して、フレーム格納制御回路226から
ガルバノメータ制御モジュール116に信号を供給し、
データバス238を介してスキャン−3回路246から
オペレータパネル204上の表水装置240上に信号を
供給する。 第10図は第1図および第2図のシステムに使用される
フレーム格納制御モジュール140の詳細機能ブロック
図である。第10図を参照すると、フレーム格納制御回
路226は、それぞれスキャン検出回路136およびピ
クセルクロックモジュール154からの信号(以下、ス
キャン検出信号およびピクセルクロック信号と呼ぶ)を
受は取る。 スキャン検出信号は74120のようなパルス同期(シ
ンク)集積回路(IC)1002に供給される。クロッ
ク信号は、米国ニューヨーク州ニューロシェル(New
  Roche 11 e)にあるMF  エレクトロ
ニクス社の5406−4Mのような水晶クロックモジュ
ール1001により生成される。パルスシンクIC10
02は、スキャン検出信号がある場合に、クロック信号
(パルス)を12ビツトダウンカウンタ1004、すな
わち12ビットM分割カウンタ1004に供給する。 この12ビツトカウンタ1004は例えば、74F19
31Cのような3つのカスケード接続された4ビツトカ
ウンタICで構成される。これらのカウンタ1004へ
のデータ入力は、プルアップ抵抗とグラウンドに接続さ
れたスイッチを用いて一般的に選択されたバイナリの数
(値)である。 カスケード接続されたカウンタ群1004の最後のカウ
ンタが0になると、パルス信号をワンショット回路10
06に出力する。ワンショット回路1006はカウンタ
1004に初期値すなわち開始カウント値を再ロードす
る。パルスシンクIC1002、カウンタ1004、お
よびワンショット1006は遅延回路1007として機
能する。 ワンショット回路1006からの出力パルスは74S1
40のようなパワードライバIC1008に供給される
。パワードライバ1c1oosはライン248の1つを
介して遅延されたスキャン検出信号をスキャン−1回路
242に供給する。 同様に、第2装置群はパルスシンクICl0IO112
ビツトカウンタ1012、およびワンショット回路10
14で構成され、第2遅延回路1015として機能する
。すなわちクロック(CLOCK)信号のかわりにピク
セルクロック(P!XEL  CLOCK)信号を用い
て水平駆動フリップフロップ1016をリセットするた
めのパルスを出力し、このフリップフロップ1016は
水平ドライブ(HORI ZONTAL  DRI V
E)ゲート信号をオフにする。フリップフロップ101
6をリセットすると、その出力がANDゲート1018
に入力され、この結果、ピクセルクロックパルスをイネ
ーブルにして、12ビツトカウンタ1020とワンショ
ット回路1022で構成される512力ウント回路を駆
動する。ワンショット回路1022の出力がアクティブ
になると、フリップフロップ1016がセットされ、こ
の結果、水平駆動信号をオンにする。フリップフロップ
1016の出力はドライブ回路1024に供給され、ド
ライブ回路1024はライン216の1本を介して水平
駆動信号をフレームバッファ272に供給する。同様に
、ANDゲークー018の出力はドライブ回路1026
に供給され、ドライブ回路1026はゲートおよびライ
ン216の1つを介してピクセルクロック信号をフレー
ムバッファ272に供給する。 回転開始センサ174は、各フレームが同じロータ30
の回転面を用いて始まるようにするために使用される。 センサ174はロータ30が1回転するごとに信号を出
力し、この出力信号は回路1028により増幅され、7
4LS14のようなシュミットトリガ回路1030に供
給される。シュミットトリガ回路1030は入力された
信号をデジタルロジック信号に変換する。デジタルロジ
ック信号はANDゲート1032に供給される。 ANDゲート1032の他方の入力には、フリップフロ
ップ1034の出力が供給される。フリップフロップ1
034は、遅延回路1007からの遅延されたスキャン
検出信号をカウントする8ビツト垂直インターバルカウ
ンタ1036によりセットされる。ANDゲート103
2の出力によりワンショット回路1038が駆動され、
スタートスキャン(START  5CAN)信号が出
力され、ライン248の1本を介してスキャン−1回路
242に供給される。また、ワンショット回路1038
の出力信号により垂直インターバルカウンタ1036に
初期値を再ロードするとともに、フリップフロップ10
40をセットする。 最後のフレームがスキャンされると、スキャン−2回路
244からのスキャンカウントストップ値(SCAN 
 C0UNT−8TOP  VALUE)信号がライン
252を介してANDゲート1044の一方の入力に供
給され、遅延回路1007からの遅延スキャン検出信号
をワンショット回路1046に供給する。この結果、ワ
ンショット回路1007はワンショット回路1046を
アクティブにする。この結果、ワンショット回路104
6はフリップフロップ1040をリセットし、ストップ
スキャン(STOP  5CAN)信号をライン248
の1本を会してスキャン−1回路242に供給し、フリ
ップフロップ1034をリセットする。 フリップフロップ1040がリセットされると、その出
力をANDゲークー042に供給する。ANDゲート1
042の他方の入力には遅延回路1007からの遅延さ
れたスキャン検出信号が供給される。この結果、遅延ス
キャン検出信号は垂直インターバルカウンタ1036を
駆動する。フリップロップ1040がセットされると、
ANDゲート1042をディスエーブルにする。 フリップフロップ1040はさらにロードスキャンカウ
ント(自動モード)信号をライン254を介してスキャ
ン−2回路に供給するとともに、ドライバ回路1048
に供給する。この結果、ドライバ回路1048はライン
216の1本を介してフレームバ°ツファ272に垂直
ドライブ(VERTICAL  DRIVE)信号を供
給する。 第11図は第9図のモジュールに使用する場合のスキャ
ン−1回路の詳細機能ブロック図である。 第11図において、オペレータパネル204上の5つの
入力スイッチ230はブツシュボタンであり、MC14
490のようなスイッチデバウンス回路1102に接続
され、ボタンポット230を押してもバウンスの無い信
号が得られるように構成されている。ブツシュボタン2
30はサイクルボタン、オートボタン、マニュアルボタ
ン、シングルステップボタン、およびリセットボタンで
構成される。オートおよびマニュアルボタン230の出
力はそれぞれマニュアル/オートモードフリップフロッ
プ1104をセットおよびリセットする。フリップフロ
ップ1104がセットされると、(すなわちオートモー
ドの場合)フリップフロップ1104の出力の1つによ
り、ANDゲート1106がイネーブル状態になる。こ
の結果、ANDゲークー106はフレーム#錦回路22
6からのスタートスキャン信号をライン248の1本を
介してORゲート1108の一方の入力に供給する。こ
の結果、ORゲート1108はワンショット回路111
0を駆動する。ワンショット回路1110の出力パルス
はフリップフロップ1112をセットする。フリップフ
ロップ1112の出力はANDゲート1114の一方の
入力に供給される。この結果、ANDゲート1114は
遅延スキャンカウント信号をORゲート1116の入力
に供給するので、ORゲート1116はライン250の
1本を介してスキャンカウントクロック信号をスキャン
−2回路244に供給する。 フリップフロップ1104がリセットすると(すなわち
マニュアルモードの場合)、フリップフロップ1104
の他方の出力信号がANDゲート1118の一歩の入力
に供給され、他方の入力端子にはシングルステップボタ
ン230からの出力信号が供給される。シングルステッ
ププッシュボタン230が押されると、ANDゲート1
118の出力信号はパルスシンク(同期)回路1120
に供給される。この結果、パルスシンク回路1120は
つぎの遅延されたスキャン検出パルスが他方の入力に供
給されたとき1パルスを出力する。 パルスシンク回路1120の出力信号はORゲート11
16の他方の入力端子に供給されるので、ORゲート1
116はスキャン−2回路244にスキャンカウントク
ロック信号を供給する。サイクルボタンが押されると、
信号がORゲート1108の他方の入力端子に供給され
、この結果、ワンショット回路1110に供給される。 ワンショット回路11.10からの出力パルスによりフ
リップフロップ1112がセットされ、この結果、上述
したような動作を行う。 リセットボタンが押されると、その出力信号は第1OR
ゲート1122および第2ORゲート1124の各入力
端子に供給される。llORゲート1122の出力信号
はフリップフロップ1112をリセットする。第2OR
ゲート1124の出力端子はロードスキャンカウント(
マニュアルモード)信号を発生し、ライン248の1本
を介してフレーム格納制御回路226に供給する。第1
ORゲート1122の残りの2つの入力端子には、フレ
ーム格納制御回路226からのストップスキャン信号と
、スキャン−2回路244からのスキャンカウント−5
12信号がそれぞれ供給される。 第20Rゲー、)1124の残りの2つの入力端子には
、フレーム格納制御回路226からの信号とスキャン−
2回路244からのスキャンカウント−ストップ値信号
がそれぞれ供給される。 第12図は、第9図のモジュールに使用されるスキャン
−2回路の詳細機能ブロック図である。 第12図において、オペレータパネル204上の2進化
10進コード(BCD)サムホイールスイッチ234の
ような3つのスイッチオペレータにより所望のスタート
スキャンカウント値に設定される。これらのスイッチ2
34からのBCD出力信号はBCD−バイナリ変換回路
1202により10ビツトのバイナリ値に変換される。 この10ビツトデータはスキャンカウンタ1204と呼
ばれる10ビツトバイナリカウンタに供給される。 フレーム格納制御回路226からライン254を介して
供給されるロードスキャンカウント信号により、10ビ
ツトバイナリデータがカウンタ1204にロードされる
。カウンタ1204はスキャン−1回路242からライ
ン250を介してスキャンカウントクロック信号が供給
されるごとにインクリメントを行う。カウンタ1204
の出力信号はバス256を介して10ビツトバイナリコ
ンパレータ1206およびスキ中ソ−3回路に供給され
る。最上位ビットすなわち、512のカウントを表すビ
ットはライン250の1本を介してスキャン−1回路2
42に供給される。 バイナリコンパレータ1206の他方の入力端子には、
スイッチ234を介して入力され、同様の構成のBCD
−バイナリ変換回路1208により2進値に変換された
ストップスキャンカウント信号の2進値が供給される。 スキャンカウンタ1204の出力信号がストップスキャ
ンカウント値と等しくなると、コンパレータ1206の
出力信号がアクティブとなり、スキャンカウント−スト
ップ値信号を出力し、ライン252を介してフレーム格
納i!1a1回路226に供給するとともに、ライン2
50の1本を介してスキャン−1回路242に供給する
。 第13図は、第9図のモジュールで使用されるスキャン
3回路の詳細な機能ブロックダイアグラムを示す。第1
3図を参照して、スキャン2回路244のスキャンカウ
ンタ1204の10ビツト出力が、バス256上を10
ビツトj1!算デジタル/アナログコンバータ1302
に送られる。精密電圧基準1304は基準入力をコンバ
ータ1302に供給する。DAC1302の出力は、差
動増幅器1306の1入力に供給される。差動増幅器の
他の入力は、ポテンショメータ1308によって駆動さ
れ、それは精密電圧基準1304に接続されている。ポ
テンショメータ1308は増幅器1306の出力の中点
を0に調整する能力を提供する。アンプ1306の出力
は可変ゲインバッファ増幅器1310に送られ、そのゲ
インは0と1の間に調整されることができる。バッファ
増幅器1310の出力は、Yスキャン基準信号であり、
ライン210上をガルボ制御モジュール1]6に送られ
る。 スキャンカウンタ1204の出力はまたバイナリ/BC
Dコンバータ1312に送られ、それは、物体上のビー
ムの瞬時のy位置を表わすスキャンカウントを示すため
に、オペレータパネル204上に3桁のディスプレイを
駆動するように、バス238上にスキャンカウント表示
信号を送り出す。 第14図は、第1図と第2図のガルバノメータ制御モジ
ュール116を示し、ガルボ制御モジュール116は第
2の方向の実際のビーム位置を表わす信号を受信し増幅
する。その後、それは望ましいビーム位置Yスキャン基
準信号を受信し、2つの信号を比較する。比較結果に基
づいて、ガルボ制御モジュール116はガルバノメータ
56の駆動電流を変調し、第2の方向の実際のビーム位
置を正確に追尾させ、あるいは望ましいビーム位置にさ
せる。 このモジュール116はビーム位置増幅回路258を具
備し、それはライン262上をガルバノメータあるいは
ガルボドライバ回路260に信号を提供する。 ガルボ制御モジュール116は、光位置センサ112か
らビーム位置増幅回路258までのケーブル】14の第
1と第2の上の、およびスキャン3回路246からがル
ボドライバ回路260へのライン210上の信号を受信
する。ガルボ制御モジュール116は、ビーム位置増幅
回路258かう位置センサ112への第3のライン上に
、及びがルボドライバかいろ260からガルボアッセン
ブリ58へのケーブル118の2つのライン上にバイア
ス電圧を送り出す。 第15図はく第1図と第2図のシステムで使用されるの
に適するガルバノメータ制御モジュール116の詳細な
機能ブロックダイアグラムである。 第15図を参照して、位置検出器あるいはセンサ112
は、検出器112上の光ビームの位置に比例する信号を
提供する。検出器はバックバイアス電流モードで動作す
る。検出器の第1の出力は、前に述べた前置増幅回路1
52と同様に、電流/電圧増幅器1502に送られる。 増幅器1502の出力は合計増幅′a1504と差動増
幅器1506に供給される。 検出器112の他の出力は、その出力を提供するように
同様に構成された他の電流/電圧増幅器1508に供給
される。電流/電圧増幅器1508の出力は、合計増幅
器1504の第2の入力と差動増幅器1506の第2の
入力に提供される。 合計増幅′J51504と差動増幅器1506の出力は
、バーブラウン(Burr−Brown ) 4291
分周器のようなアナログ分周器1510の分母り入力と
分子N入力にそれぞれ送られる。分周器1510の出力
はN/Dに等しく、10倍される、すなわち(N/D)
xlO,合計信号によって差信号を分割することによっ
て、検出器112の入射ビーム強度の変化による分周2
ii1510の出力レベルの変化は除去され、あるいは
最小にされる。 分周器1510の出力はゲインとして1を有するバッフ
ァあるいは非反転増幅器1512に送られる。位置エラ
ー補正信号と呼ばれるこの出力は、合計増幅器1514
に供給される。合計増幅器1514への他の入力はスキ
ャン3回路246からのYスキャン基準信号とゼロme
ポテンショメータ1516の出力である。 ボテンショメ・−夕1516はガルバノメータの中間範
囲位置の調整を許す。 合計増幅器1514の出力は、サーボ補償器1518に
送られ、それは、ダシ(D’Azzo)とホービス(H
oupis)による”フィードバック制御システム分析
と合成” pp109−110.1960に述べられて
いるものと同様の遅延誘導(lag−1ead)補償器
であってもよい。 補償器1518はガルバノメータ制御モジュール116
と位置検出器112により構成されるサーボループの安
定性を確保する(すなわちリンギングと発振を防ぐ)。 補償器の出力はドライバ増幅器1520の1つの入力を
駆動し、それはプッシュプルパワー増幅器1522を駆
動する。プッシュプル増幅器1522はガルバノメータ
56中のコイルに駆動電流を提供する。フィードバック
抵抗1524はガルバノメータ中のコイルを流れる実際
の電流をセンスし、ドライ、バ増幅器1520に負のフ
ィードバック電圧を提供する。 第16図は第1図と第2図の光マルチプライア制御モジ
ュール96を示す。光マルチプライア制御モジュール9
6の機能は、アブセンブリ90からの増幅され、検出さ
れた信号の長時間平均を形成することである。長時間平
均はアッセンブリ90に供給される高電圧を制御するた
めに使用され、それによりそのゲインは制御される。光
マルチプライア制御モジュール96は、全体のフレーム
に渡って光検出器アッセンブリ90がほぼ一定のゲイン
を有することを確保する。 光マルチプライア制御モジュール96は、自動ゲイン制
#(AGC)ビデオ増幅器266にライン270によっ
て接続された高電圧(例えば3000■)パワーサプラ
イ264を具備する。図示されたパワーサプライ264
はバーテンアソシエイトオブヒックスバイル(Bert
an  As5ociates  of  Hicks
ville)、ニュウヨークから市販されているモデル
205A−03Rのもとに得られることができる。パワ
ーサプライ264はAGCビデオ増幅器266からのラ
イン270上の信号を受信する。 光マルチプライア制御モジュール96はライン97上を
パワーサプライ264から光マルチプライアアッセンブ
リ90に高電圧を送り、ライン93上をAGCビデオ増
幅器266からコンピュータシステム86中のフレーム
バッファ272に高電圧を送る。光マルチプライア制御
モジュール96は前置増幅モジュール94からAGCビ
デオ増幅器266へのライン95上の信号を受信する。 第17図は、第1図と第2図で使用されるのに適する光
マルチプライア制御モ°ジュール96の詳細な機能ブロ
ックダイアグラムである。第17図を参照して、前置増
幅モジュール94からの出力は、2のゲインを有するバ
ッファあるいは非反転増幅器1702に送られる。この
増幅器1702の出力はライン93上をフレームバッフ
ァ272に送られる。増幅器1702の出力はまた、約
2秒の時定数を有するローパスフィルタ17041:送
られる。このフィルタ1704の出力の極性は反転増幅
器1706によって反転される。増幅器1706の出力
は、積分増幅器1708の合計接合に送られる。セット
ポイント1710は増幅器1708の合計接合に第2の
入力を供給する。増幅器1708はその出力が負になる
ことを防ぐ出力制限回路を有する。 積分増幅器1708の出力は可変ゲイン増幅器1712
に送られ、それはモジュール96のゲインを制御する。 増幅器1712の出力は反転増幅器1714によって反
転され、高電圧パワーサプライ264に要求される極性
の入力を提供する。 パワーサプライ264は高電圧を光検出器アッセンブリ
90に提供し、その電圧はパワーサプライ264への入
力電圧に比例する。 第18図は第1図と第2図の画素クロヅクモジュール1
54を示す。画素クロヴクモジュール154は入出力を
有する位相ロックループ回路を含む。位相ロックループ
回路は、入力信号の各振幅ピークに対して、出力信号の
振幅ピークが一致して生じるように、その出力信号をそ
の入力信号に同期させる。加えて、画素クロックモジュ
ール154は、出力信号を形成するために、入力の周波
数(それはロンチ尺144上の単位距離当り振幅サイク
ルに対応する)を1から16の範囲内の予め決められた
数N1典型的には3あるいは4倍する。 画素クロックモジュール154は振幅が変化する信号を
受信する。この信号は、第4のビーム部分142が第1
の(X)方向にスキャンされるにつれて、ロンキー格子
144を通過する第4のビーム部分142によって作ら
れる。第4のビーム部分142のスキャンパターンは、
第1のレンズ50に向かって第1の方向に反射されるに
つれて、ビーム24のスキャンパターンに似ている。こ
のようにして、第4のビーム部分142のロンキー格子
144上の位置は物体70上の一方向へのビームの位置
を表わす。ロンキー格子144は、ビーム部分142が
それを横切るにつれて、第4のビーム部分142の強度
を変調する。ロンキー格子144は平行ラインを有し、
それらは等しく離れており、ロータ30は一定角速度で
回転していて、センサ148によってセンスされた信号
の単位時間当りの周波数は、ロンキー格子144の平面
内で第4のビーム部分142の速度のベクトル成分に依
存して変化する。述べられた以外に、口ンキー格子14
4は等しく離された平行ラインを有するので、光検出器
148によって受信された信号は第4のビーム142の
位置に対応する振幅で変化し、その位置はビーム24の
スキャンパターンと同期する。光学システムにより生じ
るスポット速度の変化は第4のビーム部分142とスキ
ャンビーム24に等しく影響を与える。このようにして
、光検出器148からの信号は、それがロンキー格子1
44を横切るにつれ、ビーム部分142の動きを正確に
追尾する。光検出器148からの信号はロンキー格子1
44の空間周波数(すなわち単位距離当りのライン)に
対応する一時的周波数を有し、その光学とロータ速度の
ために変化によって変調される。画素クロックモジュー
ル154は光検出器148によりて発生された信号の一
時的周波数を増倍し、結果として位置方向への物体平面
上のビーム24の空間位置を表わす非常に精密な画素ク
ロック出力信号が発生される。 画素クロックモジュール154は位相検出器251、電
圧制御発振器(VCO)255、N分割カウンタ259
を具備する。このシステムで使用可能な図示される位相
検出器251と発振器255はカリフォルニア、サニー
デールのシグネティックス社からの部品番号NE564
のもとで得られることができる。位相検出器251はラ
イン253により電圧制御発振器(VCO)255に接
続され、それに信号を送る。電圧制御発振器255はラ
イン257でN分割カウンタ259に接続され、それに
信号をおくる。N分割カウンタ259はライン261に
より位相検出器251に接続され、それに信号を送る。 ピクセルクロックモジュール154は、プリアンプ15
2から位相検出器251まで信号をライン151を介し
て受ける。ピクセルクロックモジュール154は、ライ
ン257からフレームまたはイメージストレージコント
ロールモジュール140までライン153を介して信号
を送る。 第19図は、第1図と第2図のシステムに使用するため
に適したピクセルクロックモジュール154の機能上の
回路構成図を詳述している。プリアンプ152の出力は
、アナログコンノくレータ−1902の1つの入力に供
給され、アナログコンパレーター1902は、入力信号
とコンノくレータ−の次の入力によって供給される固定
された直流基準電圧とを比較する(第19図)。コンパ
レーター1902の出力は、デジタルロジック回路の構
成要素と信号の極性を逆転して送られるインノく一ター
1904に一致している。インバーター1904の出力
は、NE564のようなフェーズロックループIC19
06のFM大入力供給されている。電力調整発信6 (
VCO)1912の出力は、インバーター1914に送
られるフェーズロックループIC1906に含まれてい
る。vC019】2の第1の周波数は、コンデンサーC
1によってセット、調整され、周波数は、ピクセルクロ
ック信号として要求される値に近付けられる。 コンデンサー02と03は、高周波信号が出されるよう
に、またIC1906の入力側からのエラー信号がvC
O入力に供給されやすいように選択される。 インバーター1914の出力は、4ビツト2進法カウン
ター1916のクロック入力に送られ、Nカウンターと
して分割される。Nカウンター1916入力値による分
割は、プルアップ抵抗を伴った個々のスイッチと共に選
択されることができる。カウンター1916の出力は、
(2)による入力の分割周波数に配置された゛D型フリ
ップフロップ1918に供給されている。このように、
D型フリップフロップ1918の出力は方形波であり、
その周波数は、ピクセルクロックモジュール154の入
力の1/2Nである。フリップ70ツブ1918の出力
は、インバーター1920によって逆転され、フェーズ
ロックループIC1906の位相コンパレーターの入力
に供給される。 インバータ・−1914の出力もまた、ライン153を
通してフレームストレーシコントロールモジュール14
0にピクセルクロック信号として別のインバーター19
22に、送られる。 フェーズロックループIC1906は、VCO1912
の周波数を31整し、FM大入力位相コンバレーター入
力との間の位相エラーを最小にする。 その結果、VCO1912の出力周波数は、ピクセルク
ロックモジュール154の出力周波数の2N倍となるで
あろう。 ロンキー格子(ronchi  rul ing)を透
過する第4ビーム部142による信号発生の空間周波数
は、変化することが知られている。このように、ピクセ
ルクロックモジュール154の出力は、変化し、モジュ
ール154に対する入力の空間周波数の2N倍となるよ
うに設計されている。 このピクセルクロックモジュール154の長所は、第4
ビームの直径の減少に関連した困難性を除いてロンキー
格子上をビームで走査することから検出される信号より
もより変化される空間解像度を有するピクセルクロック
信号を発生することである。第20図は、コンピュータ
ーシステム86と第1図および第2図のステージコント
ローラーシステムの概要を説明した図である。コンピュ
ーターシステム86は、内部データバス275と内部接
続ライン277とによって、(1)ビデオデイプレイ2
92に接続されたフレームバッファ(2)ALU276
、(3)キーボード、キーバッド、マウスおよび/また
はライトベン、プリンター298、ステージコントロー
ラーモジュール82のようなオペレーター入力手段を具
備するターミナル296に接続された直列インターフェ
ース282、そして、(4)1つまたはそれ以上のディ
スク記憶装置と駆動装置284、磁気カセットタープ記
憶装置と駆動装置286、RAM288または、フロッ
ピーディスクもしくはディスケットと駆動装置290の
ような、走査レーザ顕微鏡装置10によって1つあるい
はそれ以上のオペレーティングプログラムとデータ発生
を供給する手段に接続されたCPU274を含んでいる
。 コンピューターシステム86は、付随して第2フレーム
バッファー27BC第2ビデオデイプレイ294に接続
されている)とセンサーまたは第2先検出機構168か
ら信号を受ける第2ALUとを含んでも良い。フレーム
バッファー272.278は、ALU276.278に
ライン279によって接続されている。 図面について以下の部分は、マルボロ、マサチューセッ
ツのDlgltal Equipment Corpo
ration(D E C)から得ることができ、それ
ぞれのモデルナンバーを記す。 U P U 274−model 830Q B −A
 2、直列インターフェース2B2−= modelD
VQ −11−M。 ターミナル296− *odelVT−220AZ、デ
ィスク記憶装置と駆動装置284・・・−odelsR
D−5OA−5A and  RQDX3−BA、磁気
カセットタープ記憶装置と駆動袋g!286・・・−o
dels TK−50−AA and  TQK−50
−BA。 RAM28B−−−modelcMX−830、そして
ディスケット/駆動装置290− models800
− Kb  and  RX50−A−BA。 デジタルフレームストレーシュニット271は、フレー
ムバッファー272とALU276とを含む。受は入れ
フレームバッファーとALUは、提供したシステムに使
用でき、モデルナンバーDT−2651,DT−265
8からそれぞれ得られることができる。 コンピューターシステム86は、デジタルフレームまた
はイメージストレージ回路226からフレームバッファ
ー272,278までのライン226を通る信号を受け
、AGCとビデオバッファー266からフレームバッフ
ァー272,278までのライン93を通る信号を受け
る。 作動中目的は、ステージアッセンブリー74に出される
。操作者は、例えば、目的に関して同一のデータおよび
使用される段階位置が要求される情報選択の情報をター
ミナル296に入力する。 CPU274は、選択またはプログラムされたステージ
の位置にステージコントロールモジュール82を命令す
渇ことによって反応する。CPU274はさらに、デー
タを受は始めるアッセンブリー90および/またはフレ
ームバッファー278から、検出信号を受は始めフレー
ムバッファー272に命令する。 ステージアッセンブリー74が第1のプログラムポジシ
ョンである場合、フレームバッファー272(および/
または278)は、デジタル化とビームがラスターパタ
ーンを走査している間に正確な空間間隔としてアッセン
ブリー90かう検出信号を蓄積する。これらの蓄積され
た信号は、検出信号またはデータのフレームを含む。蓄
積された信号はさらに、記録蓄積の形式、すなわち、2
84.286またはメモリー288の1つに典型的に転
送させる。それから、ステージコントロールモジュール
82は、ステージの位置を変え、データの別のフレーム
を得ることができる。これは、フレームまたはイメージ
の要求される数が得られるまで繰り返され得る。 ビデオディスプレイ292は、蓄積されたデータの写像
表現をすることができ、データの個々のサンプルは、ビ
ームがサンプルに対しての目的に相当するスフ・リーン
上に投影される。 ALU276は、明るさのレベルを調整し、エツジを増
大し、雑音を減らすこと等を含む蓄積されたデータの標
準イメージ経過機能を成し遂げることができる。 第2フレームバツフアー278は、増幅され、アッセン
ブリー90によって検知された信号に貝でいる制御され
た信号が得られた後、センサー168からの信号により
同一の機能を果たす。代わりに、第2フレームバツフア
ー278は、第1フレームバツフアー272が記録記憶
装置の蓄積された信号を転送するとき、アッセンブリー
90から検知された信号のサンプルとして平行に接続さ
れることができる。さらに、バッファー272のフレー
ムストレージは、個々の映像の見分けがつかない細部を
強めるために対応するバッファー278のフレームスト
ラージと結合されることができる。 この発明は、従来の技術であるハードウェアとソフトウ
ェア配列の種々の機器を供給することができる。ソフト
ウェアを具体化して作動する前述のシステムの説明は、
この明細書の付録に含まれている。なお、ソフトウェア
プログラムは、C言語で書かれている。 これらの従来技術は、前述したこの発明の技術により、
恩恵を受けることができ、それに加えて、おびただしい
修正がある。これらの修正は、クレームに述べられたこ
の発明の範囲内に包含されるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の走査型レーザー顕微鏡システムの概
略図、 第2図は第1図の装置のブロック図、 第3図はこの発明の好ましい実施例に用いた修正顕微鏡
ベースを一部断面にして示す詳細な側面図、 第3A図は第3図に示したように用いるために修正可能
な商業的に入手可能な顕微鏡の側面図、第4図はこの発
明のビーム増強アセンブリの第1の実施例の分解図、 第4A図は完全に組み立てられた第4図のアセンブリの
平面図、 第5図はこの発明のビーム増強アセンブリの第2の実施
例の分解図、 第5A図は完全に組み立てられた第5図のビーム増強ア
センブリの横断面側面図、 第6図はこの発明のビーム増強アセンブリの第3の実施
例の平面図、 第6A図は第6図の矢印の方向における線A−Aに沿っ
た横断面側面図、 第6B図はこの発明のビーム増強アセンブリの第4の実
施例の横断面側面図、 第6C図はこの発明のビーム増強アセンブリの第5の実
施例の横断面側面図、 第6D図はこの発明のビーム増強アセンブリの第6の実
施例′の横断面側面図、 第7図は第1図及び第2図の装置に用いられるプリアン
プ回路の好ましい実施例の図、第8図は第′1図及び第
2図の装置に用いられる走査検出回路の好ましい実施例
の図、 第9図は第2図のフレーム又は像記ta ai制御モジ
ュール及び操作制御パネルのブロック図、第10図は第
1図及び第2図の装置に用いられるフレーム又は像記憶
制御モジュール及び操作制御パネルのブロック図、 第11図は第9図のモジュールに用いられる走査モジュ
ール制御論理又は走査1の詳細な機能ブロック図、 第12図は第9図のモジュールに用いられる走査カウン
ト又は走査2の詳細なブロック図。 第13図は第9図のモジュールに用いられるY走査基準
発生機又は走査3の詳細な機能ブロック図、 第14図は第1図及び第2図の検流計制御モジュールの
ブロック図、 第15図は第1図及び第2図の装置に用いられる検流計
制御モジュールの詳細な機能ブロック図、第16図は第
1図及び第2図の光電子増倍管制御モジュールのブロッ
ク図、 第17図は第1図及び第2図の装置に用いられる光電子
増倍管Malモジュールの詳細な機能ブロック図、 第18図第1図及び第2図のピクセルクロックモジュー
ルのブロック図、 第19図は第1図及び第2図の装置に用いられるピクセ
ルクロックモジュールの詳細な機能ブロック図、 第20図は第1図及び第2図のコンピュータシステム及
び記憶制御システムの概略図である。 10・・・走査型レーザ顕微鏡装置、20・・・第1の
光源、30・・・ロータ、42・・・検流計アッセンブ
リ、56・・・検流計、58・・・検流計走査アッセン
ブリ、70・・・対象物、74・・・走査ステージアッ
センブリ、82・・・ステージ制御モジュール、88・
・・ビーム増幅アッセンブリ、90・・・光検出アッセ
ンブリ、96・・・光増倍管制御モジュール、98・・
・第2の光源、156・・・第3の光源。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第3A 図 第 図 1!6A 図 第6B 図 田 第14 図 96兜禮4吉3琶シ冷り#tシリ!し ? 第16 図 手続補正書(方式) モ成2年6月27日 1′1′訂庁長官  吉[n 文毅  殿1、事件の表
示 特願平1−264811号 2、発明の名称 走査型レーザ顕微鏡装置及びその使用方法3、補正をす
る者 事件との関係   特許出願人 名称 イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド
・カンパニー4、代理人 住所 東京都千代田区霞が関3丁目7番2号〒100 
 ?W話 03(502)3181 (大代表)手続補
正書 292Φ 平成  年  月 日 特許庁長官 植 松   敏 殿 1、事件の表示 特願平1−264811号 2、発明の名称 走査型レーザ顕微鏡装置 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 名称 イー中アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド
・カンパニー 4、代理人 東京都千代田区霞が関3丁目7番2号 平成1年12月27日 6、補正の対象 委任状およびその訳文、図面 7、補正の内容  別紙の通り 図面の浄書(内容に変更なし) 発明の名称及び明細書 7、補正により減少する請求項の数 特許請求の範囲 1、軸を有し、線形偏光され、実質的にコリメートされ
た、第1の単波長光ビームを発生する第1のレーザと、 対象物の走査面を横切る$1の方向と、この第1の方向
と直交する第2の方向とに上記光ビームをラスター走査
方式により走査する走査手段と、対象物の走査部分と他
の部分との間のコントラストを高くすることにより対象
物からの光を増強する手段と、 上記増強手段からの光を検出し、この検出光のする手段
とを具備する、対象物の特性づけに寄与する走査型レー
デ顕微鏡装置。 2、 上記増強手段は、対象物の走査面に平行な面に選
択的に位置可能で、対象物からの光の一部を通すアノ9
チヤーを有する空間フィルター・アッセンブリーを備え
ている請求項1に記載の走査型レーデ頑f@鏡装置。 3、上記空間フィルター・アッセンブリーは、スロット
及び通路を有し、対象物からの光が上記通路を介して上
記検出手段へ至るように、上記検出手段上に回転可能に
設けられ九ノ・ウゾングと、孔を有し、上記スロット内
を摺動可能が支持プレートと、 上記孔内を摺動可能なトラックピースと、上記通路内に
設けられ、上記トラックピースに接続されたホルダーシ
ートと、 上記ホルダーシートに回転可能に支持されたフィルター
ホルダーと、 上記フィルターホルダーに支持されているとともに上記
アノ−チャを有するフィルタと、全備え。 上記アパーチャは上記支持グレートの孔内でトラックピ
ースを摺動させることにより、一方の線形方向に、また
ハウジングのスロット内で支持プレートを摺動させるこ
とにより前記一方の線形方向に直交する他方の線形方向
に位置決め可能である請求項2に記載の走査型レーデ顕
微樋装置。 4、 上記空間フィルター・アッセンブリーは、通路を
有し、対を物からの光がこの通路を介して上記検出手段
へ至るように、上記検出手段上に回転可能に配設された
ペースと、 光学ア・I−チャと、上記通路内に回転可能に支持され
た部分と、環状溝と、偏心ピンと、を有する回転ホルダ
ーと、 上記偏心ピンを中心として移動可能に設けられ、光学ア
I?−チャと、上記偏心ピンを受ける偏心孔と、径方向
溝と、を有する空間フィルタープレート と 、 光学ア・f−チャと、上記空間フィルタープレートの径
方向溝内に突出した偏心ピンと、上記回転ホルダーの環
状溝内に突出したピンとを有する回転ディスクと、を具
備し、上記回転ホルダーの光学アノ9−チャ、空間フィ
ルタープレートの光学ア/#−チャ並びに回転ディスク
の光学アノクーチャは整列されかつ上記ペース、回転ホ
ルダー及びディスクの少なくとも1つの回転により移動
可能である請求項2に記載の走査量レーデ顕微鏡装置。 5、 上記空間フィルター・アッセンブリーは、通路を
有し、対象物からの光が上記通路を介して上記検出手段
へ至るように、上記検出手段上に回転可能に配設された
ペースと、 上記ペースの通路に整列された上記ア・ぐ−チャのサイ
ズを選択的に規定する可動アイリスダイヤプラムを有す
るダイヤフラムアッセ/プリーと、上記ダイヤフラムブ
ツセ/プリー近くに位置する孔を有するサポートと、 上記孔内で直線的に摺動可能に上記サポートに設けられ
たアームと、 上記アーム上に設けられ、光が上記可変のアノクーチャ
を通る前に、対象物からの光の一部もしくは全部をさえ
ぎるように位置決め可能な光逍蔽部段と、を備えている
請求項2に記載の走査型レーデ顕微佛装置。 渉・fターン内の均一強度レベル領域と実質的に一致す
る形状を有している請求項2に記載の走査型波長の光の
みが増強手段を通るように形成されている請求項1に記
載の走査型レーザ顕微鏡装置。 8、 材料の走査面上でラスター走査方式により光ビー
ムを走査する光学系と、 上記材料からの光ビームを検出し、検出された光ビーム
の強度を表わす信号を発生する手段と、上記材料の走査
面上で第1の方向における光ビームの位置を表わすビク
υクロック信号を発生する手段と、 上記材料の走査面上で上記第1の方向に直交する第2の
方向における光ビームの位置を所望のビーム位置に位置
させる手段と、 検出され念光信号を記憶する手段と、 上記第1の方向のピクセルクロック信号及び上記第2の
方向の所望位置に基づいて上記記憶手段に制御信号を与
え、上記材料の走査面上のビーム位置に対応した記憶位
Rに上記検tT3信号が記憶されるように上記記憶手段
を同期させる手段と、上記記憶信号を上記材料の走査面
を表わす儂に変換する手段と、 全備えた走査型レーデ顕微鏡装置。 9、上記増強手段は、上記材料の走査面と平行な面内に
選択的に配置可能であるとともに上記材料からの光の一
部を通過させるアノクーチャを有する空間フィルター・
アッセンブリを備えている請求項8に記載の走査型レー
デ顕微佛装置。 10、  上記空間フィルター・アッセンブリは、スロ
ット及び通路を有し、対象物からの光が通路を通過して
前記検出手段に向けられるように前記検出手段上に回転
可能に載置されたハウゾングと、 孔を有し、′上記スロット内を直線的に摺動可能な支持
プレートと、 上記孔を通って摺動可能なトラックピースと、上記通路
内Vこ設けられているとともに上記トラックピースに接
続されたホルダーシートと、上記ホルダーシートによっ
て回転可能に支持さrしたフィルターホルダーと、 ア・母−チャを有し、上記フィルターホルダによって支
持されたフィルタと、を備え、上記ア・9−チャは、上
記支持プレートの孔を通して上記トラックピースを摺動
させることによって一直線方向に、また上記ハウ・ゾ/
グのスロット内で上記支持プレートを摺動させることに
より上記−直線方向と直交する他の@線方向に位置決め
可能である請求項9に記載の走査型レーザ顕微儒装置。 11、  上記llフィルター・アッセンブリーは、通
路を有し、対象物からの光がこの通路を介して上記検出
手段へ至るように、上記検出手段上に回転可能に配設さ
れたペースと、 光学ア・々−チャと、上記通路内に回転可能に支持され
九部分と、環状溝と、偏心ピンと、を有する回転ホルダ
ーと、 上記偏心ピンを中心として移動可能に設けられ、光学ア
・9−チャと、上記偏心ピンを受ける偏心孔と、径方向
溝と、を有する空間フィルタープレートと、 光学ア・ンーチャと、上記空間フィルタープレートの径
方向溝内に突出した偏心ピンと、上記回転ホルダーの環
状溝内に突出したピンとを有する回転ディスクと、を具
備し、上記回転ホルダーの光学アバ−チャ、空間フィル
タープレートの光学ア/f−チャ並びに回転ディスクの
光学アパーチャは整列されかつ上記ペース、回転ホルダ
ー及びディスクの少なくとも1つの回転により移動可能
である請求項9に記載の走査型レーデ顕微焼装置。 12、上記空間フィルター・アッセンブリーは、通路を
有し、対象物からの光が上記通路を介して上記検出手段
へ至るように、上記検出手段上に回転可能に配設された
ペースと、 上記ペースの通路に整列された上記アノ4−チャのサイ
!を選択的に規定;する可動シャッタを有するダイヤフ
ラムアッセンブリーと、 上記ダイヤフラムアッセンブリー近くに位置する孔を有
するサポートと、 上記孔内で直線的に摺動可能に上記すyje−)に設け
られたアームと、 上記アーム上に設けられ、光が上記可変のア・q−チャ
を通る前に、対象物からの光の一部本しくけ全部をさえ
ぎるように位置決め可能な光遮蔽部段と、を備えている
請求項9に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 渉パターン内の均一強度レベル領域と実質的に一致する
形状を有している請求項9に記載の走査型レーデ顕微鏡
装置。 14、  上記発生手段は、 上記ピクセルクロック信号が空間的に導出される入力に
同期するように、その入力の位相にその出力を同期させ
るフエーfoククルーデ手段と、上記ピクセルクロック
信号を形成する為に所定数を上記フェーズロックループ
の入力の空間的に導出され九周波数に掛ける手段と、 を備えた請求項8に記載の走査型1/−ヂ顕微鏡装置。 15、前記位置させる手段は、 軸を有する反射平面と。 励起された際上記反射平面が上記軸の周りで移動するよ
うに反射平面を支持したがルパノメータと、 第1の光ビームを上記反射平面に向け、上記がルパノメ
ータが励起された際に上記材料の走査面上の第2の方向
へ上記第1の光ビームに対応した方式で第2のビームを
走査する手段と、上記反射平面からの第2の光ビームを
受け、上記材料の走査面上の第2の方向に於ける第1の
光ビーム実際の位置を表わす信号を発生させるように配
置された光センサと、 上記制御信′号全与える手段から送られた参照信号及び
実際のビーム位置信号に基づいて上記がルパノメータの
作動を制御し、上記第2の方向の実際のビーム位(tを
所1のビーム位置に一致させるゴルパノメータ制御手段
と、 全備えた請求項8に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 16.上記増強手段は、上記対象物からの光を選択的に
通過させるとともにレーデの光ビームtS断する波長選
択フィルタ・アッセンブリを備えている請求項8に記載
の走査型レーザ顕微鏡装置。 17、軸を有し、直線偏光され、ほぼ平行な、第1の単
波長光ビームを発生する第1のレーデと、対象物の走査
面を1切る第1の方向と、第】の方向と垂直に対象物の
走査面tl−横切る第2の方向とにビームをラスター走
査する走査手段と、上記対象物からの光を増強する手段
と、上記増強手段からの光を検出し、検出された光の強
度を示す電気信号を発生する手段と、検出され電光から
対象物の走査面を示す画儂を形成する形成手段とを備え
、 上記走査手段は、回転軸の回りで回転可能に設けられか
つ多数の反射面全音する開開に備え、上記反射面の一つ
がビームを受ける位置に設けられたロータと、 上記α−夕を回転させ、対象物の走査面を横切る第1の
方向に上記光ビームのll¥hf、走査する手段と、 上記ロータカ為らの光ビームの@を入射角を変えて第1
の点に向ける第1の光学手段と、上記ロータの回転軸に
垂直かつ上記第1の点を横切るミラー軸の回りで回転可
能に設けられ、上記第1の光学手段からのビームを受け
る位置に設けられた平面鏡と、 上記平面鏡に連結され、上記ミラー軸の回りで平面鏡を
移動さ+!るともに対象物の走査面を横切る第2の方向
にビームを走査し、上記平面鏡で反射されたビームの軸
に垂直な面にラスター光・ぜターンを定めるガルバノメ
ーターと、 上記平面鏡からのビームの軸を入射角を変えて第2の点
に向ける第2の光学手段と、 第2の点に配置され、上記第2の光学手段からのビーム
を受け、対象物の走査面にビームを結像するフラットフ
ィールドアポクロマート対物レンズと、を備えている、
対象物の特徴描写に寄与する走査型レーデ顕微鏡装置。 】8.上記増強手段は、対象物の走査面に平行な面に選
択的に位置可能で、対象物からの光の一部を通すア・ン
ーチャーを有する空間フィルター・アッセンブリーを備
えている請求項17に記載の走査型レーデ顕微#!!、
装置。 19、上記空間フィルター・アッセンブリーは、スロッ
ト及び通路を有し、対象物からの光が上記通路全弁して
上記検出手段へ至るように、上記検出手段上に回転可能
に設けられたノ・ウジングと、孔を有し、上記スロット
内を摺動可能な支持プレートと、 上記孔内を摺動可能なトラックピースと、上記通路内に
設けられ、上記トラックピースに接続されたホルダーシ
ートと、 上記ホルダーシートに回fIixOT *@に支持され
たフィルターホルダーと、 上記フィルターホルダーに支持されているとともに上記
ア・9−チャを有するフィルタと、全備え。 上記7′パーチヤは上記支持プレートの孔内でトラック
ビー・スを摺動させることにより、一方の線形方向に、
またハウジングのスロット内で支持プレートを摺動させ
ることにより前記一方の線形方向に直交する他方cvl
lA形方向に位置決め可能である請求項18に記載の走
査型レーデ頒微佛装置、120、上記空間フィルター・
アッセンブリーは、通路を有し、対象物からの光がこの
通路を介して上記検出手段へ至るように、上記検出手段
上に回転可能に配設されたペースと、 光学アノ等−チヤと、上記通路内に回転可能に支持され
念部分と、環状溝と、偏心ピンと、を有する回転ホルダ
ーと、 上記偏心ピンを中心として移動可能に設けられ、光学ア
・卆−チャと、上記偏心ビ/を受ける偏心孔と、径方向
溝と、含有する空間フィルタープレート と 、 光学アパーチャと、上記空間フィルターグレートの径方
向溝内に突出1.た偏心ピンと、上記回転ホルダーの環
状溝内に突出し九ピンとを有する回転ディスクど、を具
備し、上記回転ホルダーの光学ア・ダーチヤ、空間フィ
ルタープレートの光学ア・ンーチャ並びに回転ディスク
の光学ア・ターチャは整列されかつ上記ペース、回転ホ
ルダー及びディスクの少々くとも1つの回転により移動
可能である請求項18に一記載の走査型レーデ顕微鏡装
置。 21、上記空間フィルター・アッセンプl −H5通路
を有し、対象物からの光が上記通路を介して上記検出手
段へ至るように、上記検出手段上に回転可能に配設され
たペースと、 上記ペースの通路に整列された上記ア・9−チャのサイ
ズを選択的に規定する可動アイリスダイヤプラムを有す
るダイヤフラムアッセンブリーと、上記ダイヤフラムア
ッセンブリー近くに位置する孔を有するサポートと、 上記孔内で直線的に摺動可能に上記サポートに設けられ
たアームと、 上記アーム上に設けられ、光が上記可変のアパーチャを
通る前に、対象物からの光の一部もしくは全部をさえぎ
るように位置決め可能な光遮蔽部段と、を備えている請
求項18に記載の走査型レーザ顕微鏡装置。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、軸を有し、線形偏光され、実質的にコリメートされ
    た、第1の単波長レーザビームを発生する第1のレーザ
    と; 対象物の走査面を横切る第1の方向と、この第1の方向
    と直交する第2の方向とにレーザビームをラスターソ走
    査方式により走査する走査手段と;対象物の走査部分と
    他の部分との間のコントラストを高くすることにより対
    象物からの光を増す手段と; この増す手段からの光を検出し、この検出光の強度を示
    す電気信号を発生する手段と; この検出光から対象物の走査面を示す象を形成する手段
    とを具備する、対象物の特性づけに寄与する走査型レー
    ザ顕微鏡システム。 2、前記対象物は、複屈折、部分的透明部材を有する請
    求項1に記載のシステム。 3、前記走査する手段は、回転軸を中心として回転可能
    であり、複数の反射面を備えた周側を有し、レーザビー
    ムを反射面の1つで受光するように位置されたロータと
    ; このロータを回転して、レーザビームの軸を対象物を横
    切る前記第1の方向に走査させる手段と;第1の点への
    異なる入射角で、ロータからのレーザビームの軸を検出
    する第1の光学手段と;前記ロータの回転軸に垂直で前
    記第1の点を通るミラー軸を中心として回転可能で、前
    記第1の光学手段からのレーザビームを受光するように
    位置されたプレナーミラーと; このプレナーミラーに接続され、プレナーミラーをミラ
    ー軸を中心として回転させ、かつレーザビームの軸を対
    象物の走査面を横切る第2の方向に走査させ、この結果
    プレナーミラーで反射されたレーザビームの軸に直交す
    る面にラスター光パターンを形成させるガルバノメータ
    と; 第2の点への異なる入射角で、ミラーからのレーザビー
    ムの軸を検出する第2の光学手段と;第2の点に位置し
    、第2の光学手段からのレーザビームを受光し、対象物
    の走査面にレーザビームをフォーカスするフラット・フ
    ィールド・アポクロマートレンズとを具備する請求項1
    に記載のシステム。 4、前記象を形成する手段により使用される信号を検知
    し、各フレームがロータの同じ反射面を使用して始まる
    ようにする手段をさらにる有する請求項3に記載のシス
    テム。 5、前記光を増す手段は、対象物からの光を前記検出す
    るための手段に、所定の偏光角で選択的に通す回転可能
    な偏光フィルターを有する請求項1に記載のシステム。 6、前記光を増す手段は、さらに対象物走査面に平行な
    面に選択的に位置可能で、対象物からの光の一部を通す
    アパチャーを有する空間フィルター・アッセンブリーを
    具備する請求項5に記載のシステム。 7、前記光を増す手段は、さらに対象物走査面に平行な
    面に選択的に位置可能で、対象物からの光の一部を通す
    アパチャーを有する空間フィルター・アッセンブリーを
    具備する請求項1に記載のシステム。 8、前記空間フィルター・アッセンブリーは、スロット
    とパッセイジとを有し、対象物からの光が検出するため
    の手段にパッセイジを介して通るように、検出するため
    の手段に回転可能に設けられたハウジングと; ホールを有し、前記スロット内で摺動可能な支持プレー
    トと; 前記ホール内を摺動可能なトラックピースと;前記パッ
    セイジ内に設けられ、前記トラックピースに接続された
    ホルダーシートと; このホルダーシートに回転可能に支持されたフィルター
    ホルダーと; このフィルターホルダーに支持され、アパーチャを有し
    、このアパーチャが前記支持プレートのホール内でトラ
    ックピースを摺動させることにより、一方の線形方向に
    、またハウジングのスロット内で支持プレートを摺動さ
    せることにより前記一方の線形方向に直交する他方の線
    形方向に位置可能となる、フィルターとを具備する請求
    項7に記載のシステム。 9、前記空間フィルター・アッセンブリーは、さらに前
    記フィルターホルダーに接続され、トラックピースに形
    成された溝内に摺動可能に位置し、溝内で摺動するとき
    に、フィルターが角方向に移動される駆動部材を具備す
    る請求項8に記載のシステム。 10、前記空間フィルター・アッセンブリーは、さらに
    パッセイジを有し、対象物からの光がパッセイジを介し
    て、検出する手段を通過するように検出する手段に回転
    可能に装着されたベースと;光学アパーチャ、パッセイ
    ジ内に回転可能に支持された部分、環状溝並びにオフセ
    ンター溝を有する回転ホルダーと; ピンを中心として回転可能に設けられ、光学アパーチャ
    と、ピンを受けるオフセンターホール、並びに径方向溝
    を有する空間フィルタープレート光学アパーチャ、前記
    空間フィルタープレートの径方向溝内に突出したオフセ
    ンターピン並びに前記回転ホルダーの環状溝内に突出し
    たピンとを有する回転デスクとを具備し、前記回転ホル
    ダーの光学アパーチャ、空間フィルタープレートの光学
    アパーチャ並びに回転デスクの光学アパーチャがアライ
    ンメントされかつ前記ベース、ホルダー並びにデスクの
    少なくとも1つの回転により駆動する、請求項7に記載
    のシステム。 11、前記空間フィルター・アッセンブリーは、さらに
    、パッセイジを有し、対象物からの光がパッセイジを介
    して、検出する手段を通過するように検出する手段に回
    転可能に装着されたベースと;ベースのパッセイジにア
    ラインメントされたアパーチャのサイズを選択的に規定
    する可動アイリスダイヤフラムを有するダイヤフラムア
    ッセンブリーと; このダイヤフラムアッセンブリー近くに位置するホール
    を有するサポートと; このホール内で直線方向摺動にサポートに設けられたア
    ームと、アームに設けられ、光が可変のアパーチャを通
    る前に、対象物からの光の一部もしくは全部をさえぎる
    ようにアラインメント可能な光遮蔽部材と; 検出する方向への対称物からの光をフォーカスする手段
    とを具備する請求項7に記載のシステム。 12、前記フォーカスする手段は、さらに、対称物から
    の光を空間フィルターアッセンブリーのアパーチャを介
    して、検出する手段にフォーカスするように位置された
    1対の両凸レンズを具備する請求項11に記載のシステ
    ム。 13、前記フォーカスする手段は、さらに対称物からの
    光を空間フィルターアッセンブリーのアパーチャを介し
    て、出する手段にフォーカスするように位置された1対
    の両凸レンズを具備する請求項7に記載のシステム。 14、前記アパーチャはクロス形状を有する請求項7に
    記載のシステム。 15、前記アパーチャは、線形偏光され、実質的に単色
    光な光が対称物を透過する時形成される干渉パターン内
    の均一強度レベル領域と実質的にマッチする形状を有す
    る請求項7に記載のシステム。 16、前記アパーチャは円形断面を有する請求項7に記
    載のシステム。 17、前記アパーチャは環形状を有する請求項7に記載
    のシステム。 18、前記増す手段は対称物を透過した光を受光する請
    求項1に記載のシステム。 19、前記光を増す手段は対称物から反射した光を受光
    する請求項1に記載のシステム。20、前記光を増す手
    段は対称物を透過した光を受光する請求項19に記載の
    システム。21、前記光を増す手段は、対称物により反
    射された波長の光が増す手段を通るようにする請求項1
    に記載のシステム。 22、前記形成する手段は、対称物走査面上にビームの
    位置を決定する手段と; 対称物走査面上のビームの位置に対応する保持位置に信
    号を保持する手段と; この保持された信号を、対称物走査面を表す像として形
    成する手段と; 像をディスプレイする手段とを具備する請求項1に記載
    のシステム。 23、前記形成する手段は、対称物走査面上に第1の方
    向へのビームの位置を表すピネックスクロック信号を発
    生する発生手段と; 第2の方向への対称物走査面上のビームの位置を所定の
    ビーム位置に一致させる手段と;検出した光信号を保持
    する保持手段と、第1の方向へのピクセルクロック信号
    並びに第2の方向への所定のビーム位置にもとずいて、
    保持手段に制御信号を供給し、検出した光信号が対称物
    走査面上のビームの位置に対応する保持位置に保持され
    るように保持手段を同期させる手段と; 保持した信号で、対称物走査面を表す像を形成する供給
    手段とを具備する請求項1に記載のシステム。 24、前記発生手段は、前記ピクセルクロック信号を空
    間的に取出されたインプットに同期するように、インプ
    ットの位相をアウトプットの位相に同期させる位相ロッ
    クループ手段と; 位相ロックループインプットの空間的に取出された周波
    数を所定数かけることにより、ピクセルクロック信号を
    形成する手段とを具備する請求項23に記載のシステム
    。 25、前記形成する手段は、軸を有する平面反射面と; 励起された時反射面が軸を中心として動くように、反射
    面を支持するガルバノメータと;このガルバノメータが
    励起された時ビームが対称物の走査面上の第2の方向に
    第1のビームに対応する方式で走査するように、反射面
    上に第2の光ビームを指向する手段と; 反射面から反射された第2のビームを受光し、対称物の
    走査面上の第2の方向に第1のビームの実際の位置を表
    す信号を発生する光センサーと;ガルバノメータの励起
    を制御し、実際のビーム位置信号並びに供給手段により
    送られた基準信号をもとにして、所定のビーム位置を得
    るガルバノメータ制御手段とを具備する請求項23に記
    載のシステム。 26、第1の方向へのビームの各走査の始めに対称物の
    走査面上にビームの位置を示す供給手段に信号を送り、
    供給手段に送られた制御信号を各走査の初期位置を示す
    信号とする手段を具備する請求項23に記載のシステム
    。 27、ビームがフレームを走査している間、検出手段か
    らの信号をサンプリングし、デジタル化し、そして保持
    するデジタルフレーム保持手段と;デジタルフレーム保
    持手段から送られる複数のフレームのデジタル信号を保
    持する保持手段と;デジタルフレーム保持手段から保持
    手段への信号の移送を制御する中央プロセスユニットを
    有する形成手段を具備する請求項23に記載のシステム
    。 28、線形偏光並びに実質的にコリメートされた他の単
    一波長光ビームを発生し、また走査手段から対称物への
    光路に沿って他のビームを指向するように位置された他
    のレザーを、さらに具備する請求項1に記載のシステム
    。 29、前記他のレザーは異なる波長に変調可能である請
    求項28に記載のシステム。 30、対称物から反射された光を検出し、検出した反射
    光の強度を表す電気信号を発生する同焦点手段と; 検出した反射光から対称物を表す像を形成する形成手段
    とを具備する請求項1に記載のシステム。 31、前記増す手段は、対称物から射出された光を選択
    的に通し、レザービームを遮蔽する波長選択フィルター
    アッセンブリーを具備する請求項1に記載のシステム。 32、対称物から射出した光はルミネッセンスである請
    求項31に記載のシステム。 33、対称物から射出した光はレザービームにより生じ
    る蛍光である請求項32に記載のシステム。 34、前記検出手段は、第1並びに第2の検出手段を具
    備し; 前記光を増す手段は、第1の所定の波長領域内で対象物
    からの光がビームスプリッターを通って第1の検出手段
    に行き、第2の所定の波長領域内で対象物からの光がビ
    ームスプリッターに反射されて第2の検出手段に行くよ
    うに波長選択ビームスプリッターを装着する手段を有す
    るハウジングを具備する請求項1に記載のシステム。 35、前記増す手段は、それぞれが異なる透過波長範囲
    を有する複数のフィルターを備えた回転フィルターホィ
    ールアッセンブリーと、対象物からの光がフィルターの
    うちの選択された1つを通って検出手段に行くように回
    転フィルターホィールアッセンブリーを回転させる手段
    とを具備する請求項1に記載のシステム。 36、第1の検出手段により、第1の所定の波長範囲の
    対象物から光を検出する工程と;同時に第2の検出手段
    により、第2の所定の波長範囲の対象物から光を検出す
    る工程とを具備する請求項1に記載のシステムを使用す
    る方法。 37、材料の走査面上をラスター走査する光学系と、 この材料からの光ビームを検出し、検出された光ビーム
    の強度を表わす信号を発生する手段と、前記材料の走査
    面上で第1方向の光ビーム位置を表わすピクセルクロッ
    ク信号を発生する手段と、前記材料の走査面上で前記第
    一方向に直交する第二方向において光ビームを所望ビー
    ム位置に位置させる手段と、 検出された光信号を記憶する手段と、 前記第一方向のピクセルクロック信号及び前記第二方向
    の所望位置に基づいて前記記憶手段に制御信号を与えて
    前記材料の走査面上のビーム位置に対応した記憶位置に
    前記検出信号が記憶されるように前記記憶手段を同期さ
    せる手段と、 前記材料の走査面を表わす像に前記記憶信号を変換する
    手段と、 を備えた走査型レーザ顕微鏡装置。 38、前記光学系は、 直線偏光され、実質的にコリメートされ、軸を有する信
    号波長光ビームを発生する第一のレーザと、 第一及び第二方向に光ビームをラスター走査する手段と
    、及び 材料の異常部分及び残る部分との間のコントラストを大
    きくすることによって材料からの光を強める手段と、 を備えた請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 39、前記走査手段は、 回転軸の周りに回転可能であって多数の反射面をその周
    囲に備えた回転体と、 前記回転体を回転させてビーム軸を第一の方向に走査さ
    せる手段と、 入射角を変えて回転体からのビーム軸を第一の点に向け
    る手段と、 前記回転軸に直交し、前記点に交差するミラー軸の周り
    に回転し、前記第一の光学手段からの光ビームを受ける
    ように配置された平面鏡と、前記平面鏡に接続され、こ
    の平面鏡を前記ミラー軸の周りに回転させ、前記ビーム
    軸を第二方向に走査させ、前記平面鏡のから反射された
    前記ビーム軸に直交する面内にラスター光パターンを生
    じさせるガルバノメータと、 入射角を変えて前記ミラーからのビーム軸を第二の点に
    向ける第2の光学手段と、及び 第2の点に位置され、第2の光学手段からの光ビームを
    受け、対象物の走査面にビームを収束しするフラットフ
    ィールドアポクロマート対物レンズと、 を備えた請求項38項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 40、前記制御信号を与える手段で用いられるべき信号
    を送りだして各フレームが各回転体の同一面を用いて開
    始されることを確実とする検出手段を更に備えた請求項
    39項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 41、前記光を強める手段は、特定の偏光角で前記材料
    からの光を選択的に前記検出手段に向けて通過させる回
    転可能な偏光フィルターから成る請求項38項記載の走
    査型レーザ顕微鏡装置。 42、前記光を強める手段は、前記材料からの光の一部
    を通過させる前記材料走査面に平行な面内に選択的に配
    置可能な空間フィルター装置を更に含む請求項41項記
    載の走査型レーザ顕微鏡装置。 43、前記光を強める手段は、前記材料からの光の一部
    を通過させる前記材料走査面に平行な面内に選択的に配
    置可能な空間フィルター装置を更に含む請求項38項記
    載の走査型レーザ顕微鏡装置。 44、前記空間フィルター装置は、スロット及び通路を
    有し、対象物からの光が通路を通過して前記検出手段に
    向けられるように前記検出手段を回転可能に載置するハ
    ウジングと、及び 前記スロット内で直線的にスライド可能な、孔を有する
    支持プレートと、 前記孔を通ってスライド可能なトラック片と、前記トラ
    ックに接続され、前記通路内に据えられたホルダー台座
    と、 前記ホルダー台座によって回転可能に支持されたフィル
    ターホルダと、及び アパチャーを有し、前記フィルターホルダによって支持
    され、前記プレート孔を介してトラック片をスライドす
    ることによって一直線方向に前記アパチャーが位置可能
    なフィルターと、 を含む請求項43項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 45、前記空間フィルター装置は、前記トラック片内の
    溝内でスライドされた際に前記フィルターが角方向に移
    動されるように前記フィルターホルダーに接続され、前
    記トラック片内の溝にスライド可能に位置されている付
    勢部材を更に含む請求項44項記載の走査型レーザ顕微
    鏡装置。 46、前記空間フィルタ装置は、 前記対象物からの光を前記通路を介して前記検出手段に
    通過させるように回転可能に前記検出手段に通過させる
    ように回転可能に前記検出手段を載置する通路を有する
    ベースと、前記光学アパーチャ、通路に回転可能に支持
    された部分、円形溝、及び中心から外されたピンを有す
    る回転ホルダと、 前記ピンの回りに移動可能であって光学アパーチャ、前
    記ピンを受容する中心から外されたピン及び放射状の溝
    を有する空間フィルタプレートと、及び 前記光学アパーチャ、前記プレートの放射溝内に突出す
    る中心から外されたピン、前記ホルダの円形溝中に突出
    するピンを有し、前記ホルダの光学アパーチャ、前記プ
    レートのアパーチャ及び前記ディスクの光学アパーチャ
    が一致され、前記ベース、ホルダ及びディスクの一つ以
    上の回転によって移動される回転ディスクと、 を備えた請求項43項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 47、前記空間フィルタ装置は、 前記対象物からの光を前記通路を介して前記検出手段に
    通過させるように回転可能に前記検出手段に通過させる
    ように回転可能に前記検出手段を載置する通路を有する
    ベースと、前記ベースの通路に一致された前記アパーチ
    ャのサイズを選択的に定める可動シャッタを有するダイ
    ヤフラム装置と、 このダイヤフラ装置に近接して位置された穴を有する支
    持部材と、 前記穴内を直線的にスライド可能な前記支持部材中のア
    ームと、 前記光が前記可変アパーチャを通過する前に前記対象物
    からの光の全て叉はその一部をブロックするようにアラ
    イン可能であって前記アーム上に載置された光遮蔽手段
    と、及び 前記対象物からの光を前記検出手段に向ける手段と、 を備えた請求項43項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 48、前記収束手段は、前記空間フィルタ装置を介して
    前記対象物からの光を収束するように配置された両凸レ
    ンズを更に含む請求項47項記載の走査型レーザ顕微鏡
    装置。 49、前記強める手段は、前記空間フィルタ装置を介し
    て前記対象物からの光を収束するように配置された両凸
    レンズを更に含む請求項43項記載の走査型レーザ顕微
    鏡装置。 50、前記アパーチャは、十字に形成されている請求項
    43項記載の走査型レーザ顕微鏡装置51、直線偏光さ
    れた実質的なモノクロマテイック光が前記対象物を通過
    した際に作られる干渉パターン中の一様な強度レベルの
    領域に略一致する形状を前記アパーチャが有する請求項
    43項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 52、前記アパーチャは、円形断面を有する請求項43
    項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 53、前記アパーチャは、円形である請求項43項記載
    の走査型レーザ顕微鏡装置。 54、直線偏光され、実質的にコリメートされ、単一波
    長を有する他の光ビームを発生し、前記走査部材から前
    記対象物の第一のビーム通路に沿ってそのほかの光ビー
    ムを向けるように配置された他のレーザを更に含む請求
    項38項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 55、前記他のレーザは、他の波長に同調されている請
    求項54項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 56、前記材料は、部分的に透明な復屈折物質である請
    求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 57、前記強める手段は、前記対象物を通過した光を受
    ける請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 58、前記強める手段は、前記対象物から反射された光
    を受ける請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 59、前記強める手段は、更に前記対象物を通過した光
    を受ける請求項58項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 60、前記発生手段は、 前記ピクセルクロック信号が空間的に導出される入力に
    同期するするようにその入力の位相にその出力を同期さ
    せるフェーズロックループ手段と、前記ピクセルクロッ
    ク信号を形成する為に所定数を前記フェーズロックルー
    プの入力の空間的に導出された周波数に掛ける手段と、 を備えた請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 61、前記位置させる手段は、 軸を有する反射平面と、 反射平面を付勢された際に前記軸の周りを前記反射面が
    移動するようにしじするガルバノメータと、 第二の光ビームを前記反射面に向けてガルバノメータが
    付勢された際に前記材料の走査面上の第二方向を前記第
    一ビームに対応した状態で第二ビームを走査する手段と
    、 前記反射面からの第2の光ビームを受け、前記材料の走
    査面上の第二方向に於ける第一ビームの実際の位置を表
    わす信号を発生させるように配置された光センサと、及
    び 前記ガルバノメータの作動を制御して第2の方向の実際
    のビーム位置を前記制御信号を与える手段から送られた
    参照信号及び実際のビーム位置信号に基づいて所望位置
    に一致させるガルバノメータ制御手段と、 を備えた前記請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装
    置。 62、前記第一方向の各ビームの走査開始時の前記材料
    走査面上のビーム位置を示す前記制御信号を与える手段
    に信号を送り、前記制御信号が各走査の開始時を示す信
    号に基づいて前記制御信号を与える手段によって与えら
    れる信号送出手段とを更に含む請求項37項記載の走査
    型レーザ顕微鏡装置。 63、前記記憶手段は、 フレームを走査する間前記検出手段からの信号をサンプ
    リングし、ディジタイズし、記憶するディジタルフレー
    ム記憶手段と、 このディジタルフレーム記憶手段から転送可能な多数フ
    レームディジタル信号を記憶する手段と、前記ディジタ
    ルフレーム記憶手段から前記記憶手段への転送を制御す
    るセントラルプロセシングユニットから成る形成手段と
    、 を備えた請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 64、前記材料から反射された光を検出し、前記検出さ
    れた反射光の強度を表わす信号を発生するコフォーカル
    手段と、 前記検出された反射光信号を記憶する手段と、制御信号
    を第2方向の所望ビーム位置及びピクセルクロックに基
    づいて前記記憶手段に与えて前記記憶する手段に同期さ
    せ、前記検出反射光信号が前記材料上のビーム位置に対
    応する記憶ロケーションに記憶される制御信号を与える
    手段と、及び 前記記憶された検出反射光信号を前記材料を表わす像に
    変換する形成手段と、 を備えた請求項25項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 65、前記強める手段は、選択的に前記対象物からの光
    を通過させ、光中ののレーザービームをブロックする波
    長選択フイル多装置を備えた請求項37項記載の走査型
    レーザ顕微鏡装置。 66、前記対象物からの光は、蛍光である請求項65項
    記載の走査型レーザ顕微鏡装置。67、前記対象物から
    の光は、レーザビームによって生じた蛍光である請求項
    66項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 68、前記検出手段は、 第一及び第二の検出手段から成り、 第一の所定波長領域内の対象物から光がビームスプリッ
    タを介して前記第一の検出手段に向けられ、第二の所定
    波長領域内の対象物からの光がビームスプリッタによっ
    て反射されて第二の検出手段に向けられるように波長選
    択ビームスプリッタを載置する手段を有するハウジング
    を含む請求項37項記載の走査型レーザ顕微鏡装置。 69、前記強める手段は、 回転フィルタホィール装置から成り、この装置は、夫々
    異なる波長帯域の光を通過させる多数のフィルタと、前
    記対象物からの光を1つのフィルタを介して前記検出手
    段に向けることによって前記フィルタホィール装置を回
    転させる手段を備えている請求項37項記載の走査型レ
    ーザ顕微鏡装置。 70、第1の所定波長レンジの範囲内にある、対象物か
    らの光を検出手段によって検出する工程と、これと同時
    に、第2の所定波長レンジの範囲内にある、対象物から
    の光を第2の検出手段によって検出する工程とを備え、
    請求項37記載の装置を用いる方法。 71、軸を有し、第1の直線偏光され、ほぼ平行な、単
    波長光ビームを発生する第1のレーザと、対象物の走査
    面を横切る第1の方向と、第1の方向と垂直に対象物の
    走査面を横切る第2の方向にビームをラスター走査する
    走査手段と、 前記対象物からの光を強調する強調手段と、前記強調手
    段からの光を検出し、検出された光の強度を示す電気信
    号を発生する手段と、 検出された光から対象物の走査面を示す画像を形成する
    形成手段とを備え、 前記走査手段は、回転軸に対して回転可能かつ多数の反
    射面を周面に備え、前記反射面の一つがビームを受ける
    位置に設けられるローターと、前記ローターを回転させ
    、対象物の走査面を横切る第1の方向にビーム軸を走査
    する手段と、前記ローターからのビーム軸を入射角を変
    えて第1の点に向ける第1の光学手段と、 ローター軸に垂直かつ前記第1の点を横切るミラー軸に
    対して回転可能に設けられ、前記第1の光学手段からの
    ビームを受ける位置に設けられる平面反射鏡と、 前記平面反射鏡に連結され、ミラー軸に対して反射鏡を
    移動させ、対象物の走査面を横切る第2の方向にビーム
    を走査し、結果として、前記平面反射鏡から反射される
    ビーム軸に垂直な面にラスター光パターンを定めるガル
    バノメーターと、前記反射鏡からのビーム軸を入射角を
    変えて第2の点に向ける第2の光学手段と、 第2の点に配置され、前記第2の光学手段からのビーム
    を受け、対象物の走査面にビームを結像するフラットフ
    ィールドアポクロマート対物レンズとを備える対象物の
    特徴描写を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 72、上記対象物は複屈折性の部分的に透明な物質を有
    している請求項71に記載の対象物の特徴描写を補助す
    るための走査型レーザ顕微鏡装置。 73、各フレームが上記ロータの同一表面を使用するの
    を保証するように上記形成手段により使用されるべき信
    号を送るセンシング手段を更に備えている請求項71に
    記載の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ
    顕微鏡装置。 74、上記強調手段は、上記対象物から上記検出手段へ
    の光を特別な偏光角で選択的に通すための回転可能な偏
    光フィルタを有している請求項71に記載の対象物の特
    徴描写を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 75、上記強調手段は、上記対象物の走査面に平行な面
    に選択的に配置可能なアパーチュアを有し、上記対象物
    からの光の一部を通すための空間フィルタ部品を更に有
    している請求項74に記載の対象物の特徴描写を補助す
    るための走査型レーザ顕微鏡装置。 76、上記強調手段は、上記対象物の走査面に平行な面
    に選択的に配置可能なアパーチュアを有し、上記対象物
    からの光の一部を通すための空間フィルタ部品を更に有
    している請求項71に記載の対象物の特徴描写を補助す
    るための走査型レーザ顕微鏡装置。 77、上記空間フィルタ部品は、 細長い穴及び通路を有し、上記対象物からの光がこの通
    路を通って上記検出手段へ導かれるように上記検出手段
    に回転可能に設けられるハウジングと、 穴を有し、上記細長い穴内でスライド可能な支持プレー
    トと、 上記穴を通ってスライド可能なトラックピース(tra
    ck piece)と、 上記トラックピースに接続され、上記通路内のホルダシ
    ートと、 上記ホルダシートにより支持される回転可能なフィルタ
    ホルダと、 上記フィルタホルダにより支持され、上記支持プレート
    の穴を通って上記トラックピースがスライドする1つの
    直線方向及び、上記ハウジングの上記細長い穴内に上記
    支持プレートがスライドする1つの直線方向に垂直な他
    の直線方向に配置可能なアパーチュアを有するフィルタ
    と、 を更に備えている請求項76に記載の対象物の特徴描写
    を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 78、上記空間フィルタ部品は、上記フィルダホルダに
    接続され、上記トラックピースの溝をスライドするとき
    上記フィルタはある角度方向に動かされるようにこの溝
    内でスライド可能に配置される動作部材を更に備えてい
    る請求項77に記載の対象物の特徴描写を補助するため
    の走査型レーザ顕微鏡装置。 79、上記空間フィルタ部品は、 通路を有し、上記対象物からの光がこの通路を通って検
    出手段へ導かれるように検出手段に回転可能に設けられ
    るベースと、 光学的アパーチュアを有する回転可能ホルダと、上記通
    路内に回転可能に支持される部分と、環状溝とオフセン
    タピンと、 光学的アパーチュアを有し、上記ピンの周囲に動作可能
    な空間フィルタプレートと、上記ピンを受けるためのオ
    フセンタ穴と、径溝と、 光学的アパーチュアを有する回転可能ディスクと、径プ
    レート溝から突出したオフセンタピンと、上記ホルダ環
    状溝内に突出したピンとを備え、上記ホルダ光学的アパ
    ーチュア、プレート光学的アパーチュア、及びディスク
    光学的アパーチュアは、軸が一致されると共に、上記ベ
    ース、ホルダ、及びディスクの打ちの1つ又はそれ以上
    が回転することにより動作可能である請求項75に記載
    の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ顕微
    鏡装置。 80、上記空間フィルタ部品は、 通路を有し、上記対象物からの光がこの通路を通って検
    出手段へ導かれるように検出手段に回転可能に設けられ
    るベースと、 ベース通路に軸が一致された上記間隙の大きさを選択的
    に規定する動作可能なアイリス絞りを有する絞り部品と
    、 上記絞り部品近接して配置された穴を有する支持体と、 上記穴を通って直線的にスライド可能な上記支持体内の
    アームと、 上記アームに固定され、上記対象物からの光が変化可能
    な上記アパーチュアを通る前に上記光の一部又は全部が
    遮光されるように軸が一致可能な光遮光部材と、 上記対象物からの光を上記偏光手段へ集束させる手段と
    、 を更に備えている請求項75に記載の対象物の特徴描写
    を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 81、上記集束手段は、上記空間フィルタ部品のアパー
    チュアを通って上記偏光手段へ上記対象物からの光を集
    束させるように配置された1組の両凸レンズを更に備え
    ている請求項80に記載の対象物の特徴描写を補助する
    ための走査型レーザ顕微鏡装置。 82、上記強調手段は、上記空間フィルタ部品のアパー
    チュアを通って上記偏光手段へ上記対象物からの光を集
    束させるように配置された両凸レンズを更に備えている
    請求項76に記載の対象物の特徴描写を補助するための
    走査型レーザ顕微鏡装置。 83、上記アパーチュアは十字形状である請求項76に
    記載の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ
    顕微鏡装置。 84、直線的に偏光されるほぼ単色の光が上記対象物を
    通って伝達されるとき、上記アパーチュアは干渉パタン
    が形成される均一強度レベル領域にほぼ一致されるよう
    に形成される請求項76に記載の対象物の特徴描写を補
    助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 85、上記アパーチュアは円形断面を有している請求項
    76に記載の対象物の特徴描写を補助するための走査型
    レーザ顕微鏡装置。 86、上記アパーチュアは環状形状である請求項76に
    記載の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ
    顕微鏡装置。 87、上記強調手段は、上記対象物を通って伝達される
    光を受ける請求項71に記載の対象物の特徴描写を補助
    するための走査型レーザ顕微鏡装置。 88、上記強調手段は、この強調手段を通るように上記
    対象物により発光された光のみ許容する請求項71に記
    載の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ顕
    微鏡装置。89、上記強調手段は上記対象物から反射さ
    れた光を受ける請求項71に記載の対象物の特徴描写を
    補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 90、上記強調手段は、上記対象物を通って伝達された
    光を更に受ける請求項89に記載の対象物の特徴描写を
    補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 91、上記形成手段は、 上記対象物走査面で上記ビームの位置を決定する手段と
    、 上記対象物走査面での上記ビームの位置に一致した記憶
    位置に上記信号を記憶させる手段と、上記対象物走査面
    で示された上記像に上記記憶された信号を成形させる手
    段と、 上記像を表示させる手段と、 を備えている請求項71に記載の対象物の特徴描写を補
    助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 92、上記形成手段は、 上記対象物走査面での第1方向に上記ビームの位置を示
    すピクセルクロック信号を発生させる手段と、 第2方向の上記対象物走査面での上記ビームの位置を要
    求されるビーム位置に一致させる手段と、上記検出され
    た光信号を記憶させる手段と、上記検出された光信号が
    上記対象物走査面での上記ビームの位置に一致した記憶
    位置に記憶されるように、上記記憶手段をシンクロさせ
    るように、上記第2方向に位置される要求させるビーム
    で上記第1方向に上記ピクセル時計信号に基ずいて上記
    記憶手段に制御信号を発生させる手段と、上記対象物走
    査面で示される像に記憶された信号を形成させる手段と
    、 を備えている請求項71に記載の対象物の特徴描写を補
    助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 93、上記発生手段は、 上記ピクセル時計信号が上記空間的に得られた入力にシ
    ンクロされるように出力の位相を入力の位相にシンクロ
    させる位相固定ループ手段と、上記ピクセル時計信号を
    形成させるために所定の数字で上記位相固定ループ入力
    の上記空間的に得られた周波数を増加させる手段と、を
    備えている請求項92に記載の対象物の特徴描写を補助
    するための走査型レーザ顕微鏡装置。 94、上記一致手段は、 軸を有するプラナー反射表面と、 エナジャイズされるとき上記反射面が上記軸の周囲を動
    くように反射面を支持するガルバノメータと、 上記ガルバノメータがエナジャイズされるとき上記ビー
    ムは上記対象物の上記走査面で第2方向に第1ビームに
    一致された方法で走査されるように上記反射面で第2光
    ビームを方向ずける手段と、上記反射面から反射された
    第2ビームを受けると共に、対象物走査面で第2方向へ
    第1ビームの動作位置を示す信号を発生させるように配
    置された光センサと、上記発生手段により送られた参照
    信号及び、動作ビーム位置信号に基ずく要求されたビー
    ム位置を一致させるために上記ガルバノメータのエナジ
    ャイズを制御するガルバノメータ制御手段と、を備えて
    いる請求項92に記載の対象物の特徴描写を補助するた
    めの走査型レーザ顕微鏡装置。 95、上記第1方向にビームの各々を走査する開始にお
    いて上記対象物走査面でビームの位置を示す上記発生手
    段へ信号を送る手段を更に備え、上記発生手段へ供給さ
    れる制御信号は各々の走査の開始位置を示す信号に基ず
    いている請求項92に記載の対象物の特徴描写を補助す
    るための走査型レーザ顕微鏡装置。 96、上記記憶手段は、 上記ビームがフレームを走査するとき検出手段からの信
    号をサンプリングし、デジタイズし、記憶するためのデ
    ジタルフレーム記憶手段と、上記デジタルフレーム記憶
    手段から転写しうる複数のフレームのデジタイズ信号を
    記憶する手段と、 上記デジタルフレーム記憶手段から上記記憶手段へ信号
    を転写させる制御のための中央演算装置を有する形成手
    段と、 を備えている請求項92に記載の対象物の特徴描写を補
    助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 97、もう1つの直線偏光されたほぼコリメートされた
    1つの波長ビーム光を発生すると共に、上記走査手段か
    ら上記対象物へ第1ビームの上記通路に沿って他のビー
    ムの方向へ向けるように位置されるもう1つのレーザを
    更に備えている請求項71に記載の対象物の特徴描写を
    補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 98、上記もう1つのレーザは異なった波長に設定でき
    る請求項97に記載の対象物の特徴描写を補助するため
    の走査型レーザ顕微鏡装置。 99、上記対象物から反射された光を検出すると共に、
    上記検出され反射された光の強度を示す電気信号を発生
    させる同一焦点手段と、 上記検出され反射される光から上記対象物を示す像も形
    成する形成手段と、 を更に備えている請求項71に記載の対象物の特徴描写
    を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 100、上記強調手段は、上記対象物からの光を選択的
    に通過させ、上記レーザビーム光を遮光するための波長
    選択フィルタ部品を備えている請求項71に記載の対象
    物の特徴描写を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置
    。 101、上記対象物からの光はルミネセンスである請求
    項71に記載の対象物の特徴描写を補助するための走査
    型レーザ顕微鏡装置。 102、上記対象物からの光はレーザビームによる蛍光
    である請求項101に記載の対象物の特徴描写を補助す
    るための走査型レーザ顕微鏡装置。 103、上記検出手段は第1検出手段と第2検出手段を
    備え、上記強調手段は、上記対象物からの第1の所定の
    波長の範囲の光がビームスプリッタを通って上記第1検
    出手段へ伝えられると共に、上記対象物からの第2の所
    定の波長範囲の光が上記ビームスプリッタにより上記第
    2検出手段へ反射されるように波長選択ビームスプリッ
    タを固定させる手段を有するハウジングを備えている請
    求項71に記載の対象物の特徴描写を補助するための走
    査型レーザ顕微鏡装置。 104、上記強調手段は、各々が波長の異なった範囲を
    通過させる複数のフィルタと、上記対象物からの光が上
    記フィルタの選択された1つを通って検出手段へ伝達さ
    れるようにフィルタホィール部品を回転させるための手
    段とを備えている請求項71に記載の対象物の特徴描写
    を補助するための走査型レーザ顕微鏡装置。 105、上記検出手段により上記対象物からの第1の所
    定波長の範囲の光を検出する手段と、上記第2の検出手
    段により上記対象物からの第2の所定波長の範囲の光を
    同時に検出する手段と、を備えている請求項71に記載
    の対象物の特徴描写を補助するための走査型レーザ顕微
    鏡装置の使用方法。
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