JPH03108365A - 混成集積回路基板 - Google Patents

混成集積回路基板

Info

Publication number
JPH03108365A
JPH03108365A JP1243328A JP24332889A JPH03108365A JP H03108365 A JPH03108365 A JP H03108365A JP 1243328 A JP1243328 A JP 1243328A JP 24332889 A JP24332889 A JP 24332889A JP H03108365 A JPH03108365 A JP H03108365A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
heat sink
sink
board
integrated circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1243328A
Other languages
English (en)
Inventor
Norio Kasai
笠井 則男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Lighting and Technology Corp filed Critical Toshiba Lighting and Technology Corp
Priority to JP1243328A priority Critical patent/JPH03108365A/ja
Publication of JPH03108365A publication Critical patent/JPH03108365A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/2612Auxiliary members for layer connectors, e.g. spacers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/484Connecting portions
    • H01L2224/4847Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
    • H01L2224/48472Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area also being a wedge bond, i.e. wedge-to-wedge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は混成集積回路基板に関し、特に絶縁性基板上に
半導体チップ等の放熱を行うヒートシンクを搭載した混
成集積回路基板に関する。
(従来の技術) 周知の如く、パワートランジスターチップ(半導体チッ
プ)を実装した混成集積回路基板が多用されている。第
2図は、従来の混成集積回路基板の一例を示す。
図中の1は、絶縁性基板である。この基板1上には、導
体層2a、2bが形成されている。これらの導体層は、
印刷、焼成により形成される。−方の導体層2a上には
、半田層3aを介してボンディング用バッド4が形成さ
れている。他方の導体層2b上には半田層3bを開して
ヒートシンク5が形成され、このヒートシンク5上にダ
イボンド層6を介して半導体チップ7が実装されている
前記半導体チップ7とボンディング用パッド4間には、
ボンディングワイヤ8が設けられている。
ところで、第2図の混成集積回路基板において、ヒート
シンク5と導体層2bは半田層2bを介して接続されて
いるため、半田層2b内にボイドが発生すると、熱伝導
率が低下する。また、局部発熱が生じ、半導体チップ7
にクラックが発生したりあるいは動作不良を起こす。
(発明が解決しようとする課題) 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、半田層のボ
イド発生や局部発熱に起因する支障を回避し、又ヒート
シンクから絶縁性基板への放熱性に優れた混成集積回路
基板を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段と作用) 本発明は、絶縁性基板と、この絶縁性基板上に載置され
たヒートシンクとを具備した混成集積回路基板において
、前記絶縁性基板と前記ヒートシンクとは焼成導体層に
より固着されていることを特徴とする混成集積回路基板
である。
本発明によれば、絶縁制基板と例えば半導体チップ等の
発熱性電気素子を搭載するヒートシンクとを半田層を用
いることなく焼成導体層のみで固着するため、ヒートシ
ンクから絶縁性基板への放熱の低下が生じることなく、
そのため局部発熱。
発熱性電気素子の障害発生を防止できる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を第1図を参照して説明する。
図中の11は、絶縁性基板としてのアルミナ基板である
。この基板11上には、導体層12a、 12bが形成
されている。一方の導体層12a上には、半田層13を
介してボンディング用パッド14が形成されている。他
方の導体層12b上にはヒートシンク15が形成され、
このヒートシンク15上にダイボンド層16を介して例
えば半導体チップ17等の発熱性電気素子が実装されて
いる。前記半導体チップ17とボンディング用パッド1
4間にはボンディングワイヤ18が設けられ、アルミナ
基板11に印加された他の印刷回路(図示せず)と半導
体チップ17が電気的に接続されている。
こうした構成の混成集積回路基板は、次のように製造さ
れる。
まず、アルミナ基板11上の所定の個所に、例えば銅粉
末、ガラスフリット、バインダーなどを混練した導体ペ
ーストをスクリーン印刷する。次に、ヒートシンク材を
搭載し、120℃、10分程度の乾燥を行う。ここで、
ヒートシンク材としては、前述の導体ペーストとの焼結
が可能で、かつ熱伝導性の良い材料のものがよく、本実
施例の場合にはCuを主成分とするCu合金が最適であ
るが、モリブンデン、更にはNiメツキなどでもよい。
つづいて、銅粉末を主体とした導体ペーストの酸化を避
けるため600℃の窒素雰囲気中で前記導体ペーストの
焼成を行う。これにより、前記導電ペーストが焼結され
て導体層12a、 12bが形成され、ヒートシンク1
5は焼成導体層によりアルミナ基板ll上に固着される
。次いで、前記ヒートシンク15上に半導体チップ17
をダイボンド層1Bを介してダイボンドする。更に、ボ
ンディング用パッド14を半田層13を介して形成する
。最後に、ワイヤボンディング法により前記半導体チッ
プ17とパッド14をボンディングワイヤ18で接続し
て混成集積回路基板を製作した。
上記実施例によれば、600℃の窒素雰囲気中で焼成を
行うことにより、前記導電ペーストが焼結されて導体層
12a、 12bが形成される。従って、従来のように
ヒートシンクと導体層間に半田層を介在させる必要がな
いため、ヒートシンク15からアルミナ基板11への放
熱性が向上する。また、従来のようなヒートシンクの下
部のに半田層が不要になることから、半田の使用量を少
なくでき、コスト低減を図ることができる。
なお、上記実施例では、導体ペーストとして銅系の材料
を用いてヒートシンクと絶縁性基板との固着を行なって
いるが、これに限らない。例えば、銀パラジウム系等既
存の材料も使用でき、その焼成雰囲気、温度についても
導体ペーストの材料に応じて適宜変化させる事ができる
[発明の効果] 以上詳述した如く本発明によれば、絶縁制基板と例えば
半導体チップ等の発熱性電気素子を搭載するヒートシン
クとを半田層を用いることなく焼成導体層のみで固着す
るため、ヒートシンクから絶縁性基板への放熱の低下が
生じることなく、そのため局部発熱1発熱性電気素子の
障害発生を防止できる混成集積回路基板を提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る混成集積回路基板の断
面図、第2図は従来の混成集積回路基板の断面図である
。 ll・・・アルミナ基板、12a 、 12b・・・導
体層、13.・・・半田層、14・・・ボンディング用
パッド、15・・・ヒートシンク、16・・・ダイボン
ド層、17・・・半導体チップ、18・・・ボンディン
グワイヤ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶縁性基板と、この絶縁性基板上に載置されたヒートシ
    ンクとを具備した混成集積回路基板において、前記絶縁
    性基板と前記ヒートシンクとは焼成導体層により固着さ
    れていることを特徴とする混成集積回路基板。
JP1243328A 1989-09-21 1989-09-21 混成集積回路基板 Pending JPH03108365A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1243328A JPH03108365A (ja) 1989-09-21 1989-09-21 混成集積回路基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1243328A JPH03108365A (ja) 1989-09-21 1989-09-21 混成集積回路基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03108365A true JPH03108365A (ja) 1991-05-08

Family

ID=17102192

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1243328A Pending JPH03108365A (ja) 1989-09-21 1989-09-21 混成集積回路基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03108365A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104813760A (zh) * 2014-03-18 2015-07-29 华为终端有限公司 一种散热组件及电子设备

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104813760A (zh) * 2014-03-18 2015-07-29 华为终端有限公司 一种散热组件及电子设备
US10103087B2 (en) 2014-03-18 2018-10-16 Huawei Device (Dongguan) Co., Ltd. Heat dissipation assembly and electronic device
US10497641B2 (en) 2014-03-18 2019-12-03 Huawei Device Co., Ltd. Heat dissipation assembly and electronic device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS59126665A (ja) 厚膜混成集積回路
JP3631638B2 (ja) 半導体素子用パッケージの実装構造
JP3520540B2 (ja) 多層基板
JPH03108365A (ja) 混成集積回路基板
JPH0320067A (ja) セラミック放熱フィン付半導体装置
JP2001274278A (ja) マイクロ波半導体装置およびその製造方法
JPH09213877A (ja) マルチチップモジュール半導体装置
JP2736161B2 (ja) 半導体装置
JP2000183253A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JPH10135405A (ja) 配線基板モジュール
JP2012064616A (ja) 高放熱型電子部品収納用パッケージ
JP3279849B2 (ja) 半導体装置
JPS6220701B2 (ja)
JPH11289037A (ja) 放熱用金属板およびそれを用いた電子部品用パッケージ
JP2002076213A (ja) 半導体素子モジュール
JP2000277872A (ja) 配線基板
JPH07211822A (ja) 半導体素子収納用パッケージ
JP4574071B2 (ja) 放熱部材および半導体素子収納用パッケージ
JP4596698B2 (ja) 放熱部材および半導体素子収納用パッケージ
JP2003197825A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH11297909A (ja) 放熱用金属板およびそれを用いた電子部品用パッケージ
JP2000236034A (ja) 電子部品用パッケージ
JP2004111431A (ja) パワーモジュールとその製造方法
JPH02226749A (ja) 高出力回路部品用ヒートシンク
JP2000114442A (ja) 電子部品用パッケージ