JPH03107744A - 非分散型赤外線ガス分析システムと装置 - Google Patents
非分散型赤外線ガス分析システムと装置Info
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- JPH03107744A JPH03107744A JP2135179A JP13517990A JPH03107744A JP H03107744 A JPH03107744 A JP H03107744A JP 2135179 A JP2135179 A JP 2135179A JP 13517990 A JP13517990 A JP 13517990A JP H03107744 A JPH03107744 A JP H03107744A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガス分析装置に関する。特に本発明は非拡散型
の赤外線ガス分析装置に関する。
の赤外線ガス分析装置に関する。
非拡散型の赤外線（ＩＩＩ）ガス分析装置はサンプル室
に入れられたガス混合物に１１ｌ放射光線を照射するた
めのＩＲソースを使用している。ＩＲエネルギが濃度を
判定しようとするガスの吸収周波数にてサンプル室内の
混合物を通過する。各周波数において検出された吸収率
が特定の吸収帯域を有する成分ガスの濃度を表す。自動
車の廃ガス分析装置という特定の用途では、濃度を検出
しようとするガスにはＩＩｃ（炭化水素） 、 Ｃｏ及
びＣｏ６が含まれる。
に入れられたガス混合物に１１ｌ放射光線を照射するた
めのＩＲソースを使用している。ＩＲエネルギが濃度を
判定しようとするガスの吸収周波数にてサンプル室内の
混合物を通過する。各周波数において検出された吸収率
が特定の吸収帯域を有する成分ガスの濃度を表す。自動
車の廃ガス分析装置という特定の用途では、濃度を検出
しようとするガスにはＩＩｃ（炭化水素） 、 Ｃｏ及
びＣｏ６が含まれる。
これらのガスの濃度を測定するため、各成分ガスごとの
吸収帯域において透過帯域を有する複数個の光フィルタ
がソースと検出器との間に交互に配置され、各ガスの濃
度の表示を提供する。検出器の出力は全ての成分ガスの
濃度の情報を含む単一の時分割多重化信号である。この
信号は従来通り個々の信号に分ＩＩ（デマルチプレクス
）され、かつ各ガス成分のための別個の増幅器チャネル
へと供給される。自動車の排ガスの正確な測定値を生成
するため、本システムは部品のの変動及び光学部品の表
面上の排気粒子の集積に対して調整を行うため頻繁に校
正されなければならない。自動車からの汚染物質の許容
排出量が著しく減少しているので、−層敏感で正確な測
定が必要である。少なくとも１つの州では現在、各ガス
測定チャネルの利得は全目盛り値、又は１００％のスパ
ンに対して最低２ポイントで校正されることが必要であ
る。
吸収帯域において透過帯域を有する複数個の光フィルタ
がソースと検出器との間に交互に配置され、各ガスの濃
度の表示を提供する。検出器の出力は全ての成分ガスの
濃度の情報を含む単一の時分割多重化信号である。この
信号は従来通り個々の信号に分ＩＩ（デマルチプレクス
）され、かつ各ガス成分のための別個の増幅器チャネル
へと供給される。自動車の排ガスの正確な測定値を生成
するため、本システムは部品のの変動及び光学部品の表
面上の排気粒子の集積に対して調整を行うため頻繁に校
正されなければならない。自動車からの汚染物質の許容
排出量が著しく減少しているので、−層敏感で正確な測
定が必要である。少なくとも１つの州では現在、各ガス
測定チャネルの利得は全目盛り値、又は１００％のスパ
ンに対して最低２ポイントで校正されることが必要であ
る。
２つの校正ポイントは例えば、全目盛り値の２０％及び
６０％である。ガス分析装置の全体的な性能はこれらの
基準及び将来導入される見通しの基準に合致する優れた
ものでなければならない。
６０％である。ガス分析装置の全体的な性能はこれらの
基準及び将来導入される見通しの基準に合致する優れた
ものでなければならない。
更に各ガス・チャネルの出力は温度変化、部品の老化及
びその他の要因により変動する傾向がある。α１定値の
誤読を避けるため、この変動、もしくは残留偏差は相殺
、もしくはゼロ値にされなければならない。各ガス測定
チャネルは個々にゼロ値にされなければならないので、
必要な努力及び誤りの機会は多重になる。自動化された
自己ゼロ値化シェーマが提案されているが、このシェー
マは一般に従来手動的に行われた機能を自動化するに過
ぎない。
びその他の要因により変動する傾向がある。α１定値の
誤読を避けるため、この変動、もしくは残留偏差は相殺
、もしくはゼロ値にされなければならない。各ガス測定
チャネルは個々にゼロ値にされなければならないので、
必要な努力及び誤りの機会は多重になる。自動化された
自己ゼロ値化シェーマが提案されているが、このシェー
マは一般に従来手動的に行われた機能を自動化するに過
ぎない。
本発明はコンパクトな装置で著しく迅速かつ正確なガス
分析が可能な非分散型赤外線ガス分析装置を提供するも
のである。本発明は嵩張り、コストが高い校正用ガス・
ボトルを使用せずに、複数の成分ガスのための２ポイン
ト校正が可能なガス分析システムを提供する。本発明の
ｌ側面に従って、内部校正基準を得るために、測定され
る成分ガスの単数又は複数の周知の濃度をそれぞれ封入
した校正室によって校正できるガス分析装置が提供され
る。発明のこの側面に基づき、ガス・サンプル内の成分
ガスを検出する装置には放射光線を照射するソースと、
放射光線を検出する検出器と、検出される成分ガスを含
む身上のサンプル・ガスを入れるためのサンプル室とを
備えている。サンプル室はソースと検出器の間の光経路
内に配ＩＰｌされると、室を通る第１の所定の光経路の
長さを規定する。サンプル室を通る光経路の長さとは異
なる、校正室を通る第２の所定の光経路の長さを規定す
るため、所定の吸収特性を有する校正室をソースと検出
器との間に配置するための装置が設けられている。校正
室の吸収特性は、サンプル室に所定ｍの検出される成分
ガスを充填した場合に生成される校正係数値とほぼ等し
い校正係数を生成するように予選択される。発明のこの
側面は校市川ガスーボトルの使用に完全に取って代わる
ものではない。発明の国連する側面に基づき、校正室の
吸収特性は、先ず従来の技術を用いてシステムを校正し
、次ぎに校正されたガス分析システムを利用して本来の
校正室の特性を“読み取る”ことによって判定される。
分析が可能な非分散型赤外線ガス分析装置を提供するも
のである。本発明は嵩張り、コストが高い校正用ガス・
ボトルを使用せずに、複数の成分ガスのための２ポイン
ト校正が可能なガス分析システムを提供する。本発明の
ｌ側面に従って、内部校正基準を得るために、測定され
る成分ガスの単数又は複数の周知の濃度をそれぞれ封入
した校正室によって校正できるガス分析装置が提供され
る。発明のこの側面に基づき、ガス・サンプル内の成分
ガスを検出する装置には放射光線を照射するソースと、
放射光線を検出する検出器と、検出される成分ガスを含
む身上のサンプル・ガスを入れるためのサンプル室とを
備えている。サンプル室はソースと検出器の間の光経路
内に配ＩＰｌされると、室を通る第１の所定の光経路の
長さを規定する。サンプル室を通る光経路の長さとは異
なる、校正室を通る第２の所定の光経路の長さを規定す
るため、所定の吸収特性を有する校正室をソースと検出
器との間に配置するための装置が設けられている。校正
室の吸収特性は、サンプル室に所定ｍの検出される成分
ガスを充填した場合に生成される校正係数値とほぼ等し
い校正係数を生成するように予選択される。発明のこの
側面は校市川ガスーボトルの使用に完全に取って代わる
ものではない。発明の国連する側面に基づき、校正室の
吸収特性は、先ず従来の技術を用いてシステムを校正し
、次ぎに校正されたガス分析システムを利用して本来の
校正室の特性を“読み取る”ことによって判定される。
このような校正室は場合により故障することがあるので
、本発明の別の側面により、故障した校正室を交換する
ため、装置を極めて分解し易くしである。装置はソース
・モジュールと受光モジュールとサンプル室に分割され
ている。
、本発明の別の側面により、故障した校正室を交換する
ため、装置を極めて分解し易くしである。装置はソース
・モジュールと受光モジュールとサンプル室に分割され
ている。
サンプル室を通過した放射光線は窓を通って受光モリュ
ール内に入り、検出器アセンブリによって検出される。
ール内に入り、検出器アセンブリによって検出される。
検出器アセンブリは受光モジュールのハウジングのアク
セス・カバーに取り付けられ、カバーを取り外すと検出
器アセンブリ内に設けられた校正室に即座にアクセスで
きる。 本発明の関連する側面に基づき、ソース−モジ
ュールは補足的に放射光線が通過する窓を有するハウジ
ングを備えている。サンプル室はソースと受光モジュー
ルとの間に配置されている。サンプル室は管状であり、
ソース及び受光モジュールの窓によって閉鎖される開放
端を有している。このように、主要部品はサンプル室か
ら排気粒子を洗浄するため、最小の努力で分離し、洗浄
しかつ再度組立ることができる。
セス・カバーに取り付けられ、カバーを取り外すと検出
器アセンブリ内に設けられた校正室に即座にアクセスで
きる。 本発明の関連する側面に基づき、ソース−モジ
ュールは補足的に放射光線が通過する窓を有するハウジ
ングを備えている。サンプル室はソースと受光モジュー
ルとの間に配置されている。サンプル室は管状であり、
ソース及び受光モジュールの窓によって閉鎖される開放
端を有している。このように、主要部品はサンプル室か
ら排気粒子を洗浄するため、最小の努力で分離し、洗浄
しかつ再度組立ることができる。
挿々の一時的な環境要因がガス濃度の読みに影響を及ぼ
す。それを補償するため、複数の測定値をとり、結果を
平均して一時的な影響を排除することが望ましい。読み
は限定された期間で行われなければならないので、読み
の速度は抽出できるサンプルの数に、ひいては結果の制
度に影響を及ぼす。本発明の更に別の側面に基づき、全
ての成分ガスの濃度についての吸収信号を含む時分割多
重化信号である検出器信号は、修正を行うために信号を
分１１１１（デマルチプレクス）せずに、残留偏差と利
得誤差の双方について修正される。従来の分離、誤差の
修正及び再多重化は時間を要するので、発明のこの側面
によって多くの時間を節減できる。重要な点は、ガス・
チャネル増幅器に必要なハードウェアの多重化は必要な
くなることである。発明のこの側面に基づき、更に残留
偏差及び利得誤差を修正するために時分割多重化された
信号に“同時進行的に“供給される修正率は、別のルー
チン中に時分割多重化された検出器出力信号を先ず分Ｍ
（デマルチプレクス）しなくても、独自に決定すること
ができる。
す。それを補償するため、複数の測定値をとり、結果を
平均して一時的な影響を排除することが望ましい。読み
は限定された期間で行われなければならないので、読み
の速度は抽出できるサンプルの数に、ひいては結果の制
度に影響を及ぼす。本発明の更に別の側面に基づき、全
ての成分ガスの濃度についての吸収信号を含む時分割多
重化信号である検出器信号は、修正を行うために信号を
分１１１１（デマルチプレクス）せずに、残留偏差と利
得誤差の双方について修正される。従来の分離、誤差の
修正及び再多重化は時間を要するので、発明のこの側面
によって多くの時間を節減できる。重要な点は、ガス・
チャネル増幅器に必要なハードウェアの多重化は必要な
くなることである。発明のこの側面に基づき、更に残留
偏差及び利得誤差を修正するために時分割多重化された
信号に“同時進行的に“供給される修正率は、別のルー
チン中に時分割多重化された検出器出力信号を先ず分Ｍ
（デマルチプレクス）しなくても、独自に決定すること
ができる。
つぎにこの発明の実施例を添付図面を参照しつつ詳細に
説明する。
説明する。
さて図面及び図示された実施例をを詳細に参照すると、
非拡散型赤外線ガス分析装置システム２゜はコネクタ２
４を介して、卓上装置内で実行される特定の機能を制御
するための卓上制御装ｗ１２６に接続された光学卓上装
ｆｉ１２２を備えている。システム２旧ｊ更にこれも卓
上装置２２の特定の機能、及びＲ３２３２＋ｔ１列通信
ポート３０（第１図）を経てポスト・コンピュータ（図
示せず）との通信を制御するマイクロプロセッサ装Ｆ１
２８を備えている。マイクロプロセッサ装置２８は更に
サンプル処理制御装置３２の機能をコーデイネートし、
このサンプル処理制御装置は光学装置１２２に適宜の時
間に適宜のガスを提供するため、制御装置３４−３８の
機能をコーデイネートする。詳細には、制御装置？２３
２はそのｌｌｃ、ｃＯＣＯ１成分を判定しようとするサ
ンプル・ガス又は周囲大気を卓上装置２２に供給するた
めのポンプ・スイッチ３４の動作をお制御する。空気ソ
レノイド３５はポンプ３４が卓上装はにサンプル・ガス
と周囲空気のどちらを供給するのかを決定する弁を作動
する。ＣＡＬＩ及びＣＡＬ２・ソレノイド弁３６．２７
は付勢されると、校正用ガスを使用したシステム２０の
定期校正中に２つの標準校正用ガスを別個に供給する。
非拡散型赤外線ガス分析装置システム２゜はコネクタ２
４を介して、卓上装置内で実行される特定の機能を制御
するための卓上制御装ｗ１２６に接続された光学卓上装
ｆｉ１２２を備えている。システム２旧ｊ更にこれも卓
上装置２２の特定の機能、及びＲ３２３２＋ｔ１列通信
ポート３０（第１図）を経てポスト・コンピュータ（図
示せず）との通信を制御するマイクロプロセッサ装Ｆ１
２８を備えている。マイクロプロセッサ装置２８は更に
サンプル処理制御装置３２の機能をコーデイネートし、
このサンプル処理制御装置は光学装置１２２に適宜の時
間に適宜のガスを提供するため、制御装置３４−３８の
機能をコーデイネートする。詳細には、制御装置？２３
２はそのｌｌｃ、ｃＯＣＯ１成分を判定しようとするサ
ンプル・ガス又は周囲大気を卓上装置２２に供給するた
めのポンプ・スイッチ３４の動作をお制御する。空気ソ
レノイド３５はポンプ３４が卓上装はにサンプル・ガス
と周囲空気のどちらを供給するのかを決定する弁を作動
する。ＣＡＬＩ及びＣＡＬ２・ソレノイド弁３６．２７
は付勢されると、校正用ガスを使用したシステム２０の
定期校正中に２つの標準校正用ガスを別個に供給する。
２つのガス混合物は２ポイント校正を行うため、別個の
濃度の成分ガスを提供する。排出用スイッチ３８は検査
後、真空ポンプを付勢してサンプル・ガスを光学装置２
２から排出する。マイクロプロセッサ装置１２８は更に
、ＩＲガス分析以外の技術によってサンプル室内のサン
プル・ガスの０．含量を監視するための０．センサ３９
のような種々の光学装置と適応するようにされている。
濃度の成分ガスを提供する。排出用スイッチ３８は検査
後、真空ポンプを付勢してサンプル・ガスを光学装置２
２から排出する。マイクロプロセッサ装置１２８は更に
、ＩＲガス分析以外の技術によってサンプル室内のサン
プル・ガスの０．含量を監視するための０．センサ３９
のような種々の光学装置と適応するようにされている。
光学卓上装Ｗ１２２はソース・モ：ンユール４ｏと、す
ンブル室４２と受光モジュール４４七を備えている。
ンブル室４２と受光モジュール４４七を備えている。
（第２図及び４図）ソース−モジュール４ｏはにａｎｔ
ｈａｌアルミニウム合金線から成る赤外線ソース４８を
囲み、密閉するハウジング４６を備えている。
ｈａｌアルミニウム合金線から成る赤外線ソース４８を
囲み、密閉するハウジング４６を備えている。
ソース４８からの赤外線放射は、ハウジング４６内の開
口部を密関する窓５２を通して球面鏡５０によって反射
される。サンプル室４２は開放端５４．５６を有する中
空の管状部材である。サンプル室４２は更にサンプル室
をガスが循環するためのガス人口及び出口５８．６０を
備えている。
口部を密関する窓５２を通して球面鏡５０によって反射
される。サンプル室４２は開放端５４．５６を有する中
空の管状部材である。サンプル室４２は更にサンプル室
をガスが循環するためのガス人口及び出口５８．６０を
備えている。
受光モジュール４４は、室４２と位置合わせされ、かつ
ＩＲＲ射光線がハウジング６２内部に入るための滴化カ
ルシウムの窓６４によって覆われた密閉式のハウジング
６２を備えている。窓６４を通る放射光線はシリコン平
凸レンズ６６によって集束され、次ぎに放射光線チａツ
バ争アセンブリ６８を通過し、最後にセレン他船から成
る放射光線検出器７０へと向かう。ハウジング６２内の
校正アセンブリ７２は後に詳述するように、ＩＲ放放射
光線路路内選択的に配置される。しかし、ガス測定中は
校正アセンブリ７２は放射光線経路から効果的に除去さ
れる。
ＩＲＲ射光線がハウジング６２内部に入るための滴化カ
ルシウムの窓６４によって覆われた密閉式のハウジング
６２を備えている。窓６４を通る放射光線はシリコン平
凸レンズ６６によって集束され、次ぎに放射光線チａツ
バ争アセンブリ６８を通過し、最後にセレン他船から成
る放射光線検出器７０へと向かう。ハウジング６２内の
校正アセンブリ７２は後に詳述するように、ＩＲ放放射
光線路路内選択的に配置される。しかし、ガス測定中は
校正アセンブリ７２は放射光線経路から効果的に除去さ
れる。
光学装置２２の構造はサンプル室４２を通過する排気ガ
スによる汚染を極めて容易に洗浄できるようにされてい
る。サンプル室４２は対向端５４．５６が開放されてお
り、これらの開放端は装置を組み立てる際、ソース−モ
ジュールの窓５２と、受光モジュールの窓６４によって
それぞれ閉鎖される。ソース・モジュールから受光モジ
ュールへとサンプル室の周囲で延びる複数個の細長いフ
ァスナ７４を外すことによって＄５２．６４の光学表面
は汚染物を容易に洗浄できる。それによってソース及び
受光モジュールをサンプル室から容易に分離して汚染し
た光学表面が露出される。洗浄は極めてアクセスし易い
サンプル室４２内部を拭き取り、窓５２．６４を拭って
行われる。その後、装置はファスナ７４を元に戻して容
易に再組立てすることができる。
スによる汚染を極めて容易に洗浄できるようにされてい
る。サンプル室４２は対向端５４．５６が開放されてお
り、これらの開放端は装置を組み立てる際、ソース−モ
ジュールの窓５２と、受光モジュールの窓６４によって
それぞれ閉鎖される。ソース・モジュールから受光モジ
ュールへとサンプル室の周囲で延びる複数個の細長いフ
ァスナ７４を外すことによって＄５２．６４の光学表面
は汚染物を容易に洗浄できる。それによってソース及び
受光モジュールをサンプル室から容易に分離して汚染し
た光学表面が露出される。洗浄は極めてアクセスし易い
サンプル室４２内部を拭き取り、窓５２．６４を拭って
行われる。その後、装置はファスナ７４を元に戻して容
易に再組立てすることができる。
受光モジュール４４のハウジング６２はアクセス・カバ
ー７８（第３図）によって閉鎖されるアクセス用開口部
７６を備えている。受光モジュール４４の内部部品はア
クセス・カバー７８に取り付けられ、放射光線検出用の
サブ・アセンブリ８０を形成し、これはカバー７８を取
り外すだけでハウジング６２からユニットで取り外すこ
とができる。（第３図及び５図）検出アセンブリ８０は
参照番号８２で総称する複数個の電気機械式モジュール
を備えており、これらのモジュールはカバー７８の底部
８６に取り付けた接続回路板８４上の適合するコネクタ
８５と噛み合うコネクタ８３を介して相互に電気的に接
続されている。カバー７８から延びる複数個のタブ８８
によって電気機械式モジュール８２を機械的に取り付け
ることができる。
ー７８（第３図）によって閉鎖されるアクセス用開口部
７６を備えている。受光モジュール４４の内部部品はア
クセス・カバー７８に取り付けられ、放射光線検出用の
サブ・アセンブリ８０を形成し、これはカバー７８を取
り外すだけでハウジング６２からユニットで取り外すこ
とができる。（第３図及び５図）検出アセンブリ８０は
参照番号８２で総称する複数個の電気機械式モジュール
を備えており、これらのモジュールはカバー７８の底部
８６に取り付けた接続回路板８４上の適合するコネクタ
８５と噛み合うコネクタ８３を介して相互に電気的に接
続されている。カバー７８から延びる複数個のタブ８８
によって電気機械式モジュール８２を機械的に取り付け
ることができる。
第３図を参照すると、電気機械式モジュールは放射光線
経路の順序で、校正アセンブリと７２と、ソース−同期
化回路板９０と、放射光線チョッパ・アセンブリ６８と
、検出器−同期化回路板９２と、放射光線検出器と前置
増幅器アセンブリ６９とを備えている。アクセス中カバ
ー７８に取り付けられたファイバーガラス性の支持部材
９４は下部延長部９６を設けており、そこにチョッパ・
アセンブリ６８を取り付けるためのブラケット９８が取
り付Ｉ＋られている。支持部材９４の前部表面には金属
製のシート！００が取り付けられ、受光モジュール内部
の熱安定化を補助するためＭ質量を提供する。放射光線
検出器と前置増幅器アセンブリ６９はシート１．００と
は反対側の支持部材９４の表面に取り付けられている。
経路の順序で、校正アセンブリと７２と、ソース−同期
化回路板９０と、放射光線チョッパ・アセンブリ６８と
、検出器−同期化回路板９２と、放射光線検出器と前置
増幅器アセンブリ６９とを備えている。アクセス中カバ
ー７８に取り付けられたファイバーガラス性の支持部材
９４は下部延長部９６を設けており、そこにチョッパ・
アセンブリ６８を取り付けるためのブラケット９８が取
り付Ｉ＋られている。支持部材９４の前部表面には金属
製のシート！００が取り付けられ、受光モジュール内部
の熱安定化を補助するためＭ質量を提供する。放射光線
検出器と前置増幅器アセンブリ６９はシート１．００と
は反対側の支持部材９４の表面に取り付けられている。
シート１００に取り付けられたブラケット＋０２は放射
光線検出器と前置増幅器アセンブリ６９に実装さた検出
器７０の前部を受け、かつ支持部材９４内の開口部１０
４を横切っている。検出器同期化板９２はブラケット１
０２の上方のシート＋００に取り付けである。放射光線
チョッパ・アセンブリ６８は検出器同期化板９２の前方
に配設されている。
光線検出器と前置増幅器アセンブリ６９に実装さた検出
器７０の前部を受け、かつ支持部材９４内の開口部１０
４を横切っている。検出器同期化板９２はブラケット１
０２の上方のシート＋００に取り付けである。放射光線
チョッパ・アセンブリ６８は検出器同期化板９２の前方
に配設されている。
チタッパーアセンブリ６８はｌ端１０８がブラケット９
Ｂ内に支持された圧ｍ（Ｐ［！ン刃１０８を備えている
。
Ｂ内に支持された圧ｍ（Ｐ［！ン刃１０８を備えている
。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、サンプル中の成分ガスを検出する装置において、 検出される成分ガスを含むサンプル・ガスを入れるサン
プル室と、 サンプル室に予選択されたスペクトル帯域で赤外線放射
を照射するソースと、 該ソースからサンプル室を通過する予選択されたスペク
トル帯域の放射光線の入射に応答して検出器出力を生成
する検出器と、 該ソースと該検出装置との間の明確な時間間隔中に複数
個のフィルタを挿入して該検出器出力を時分割多重化し
、該フィルタの１つは検出される成分ガスの濃度を表示
する放射光線透過特性を有する形式の多重化装置と、 該検出器出力に修正信号を供給して修正された出力を提
供する修正装置であって、該フィルタの該１つが該ソー
スと該検出装置との間にある時間間隔中、検出される該
成分ガスのための修正率を該検出器出力に付与するため
、該多重化装置と同期化される形式の修正装置、とから
構成されたことを特徴とする装置。 ２、該修正装置が該出力の残留偏差及び利得誤差を修正
する装置を備えたことを特徴とする請求項１記載の装置
。 ３、該修正装置が該検出器出力に応答して、該修正され
た出力を該検出器出力と第１修正率との差として、かつ
、該検出器出力と第２修正率との商として生成すること
を特徴とする請求項１記載の装置。 ４、該第１修正率は残留偏差修正率であり、該第２修正
率は利得修正率であることを特徴とする請求項３記載の
装置。 ５、該修正装置が、 第１及び第２入力を有し、該第１入力に付与された信号
と、該第２入力に付与された入力との差である差分出力
を生成するための回路と、 ほぼ非吸収性のガスをサンプル室に充填しつつ、該検出
器出力を該第１入力に、又、ゼロ値信号を該第２入力に
供給し、該差分出力の残留偏差値を生成するための第１
装置と、 検出される成分ガスを含むサンプルガスを該サンプル室
に充填しつつ、該検出器出力を該第１入力に、又、該残
留偏差値を該第２入力に供給することによって、該成分
ガスの相対濃度を示す差分出力を生成するための第２装
置とを備えたことを特徴とする請求項１記載の装置。 ６、該回路が更に第３入力を備え、かつ該差分出力が該
第３入力に供給された信号と、該第１入力に付与された
信号と該第２入力に付与された信号との差との総和に等
しいことを特徴とする請求項５記載の装置。 ７、該回路が更に、 ほぼ非吸収性のガスをサンプル室に充填しつつ、該検出
器出力を該第１入力に、又該残留偏差値を眼第２入力に
供給して、該差分出力のトリム値を生成するための第３
装置を備え、かつ、 該第２装置が検出される成分ガスを含むサンプルガスを
該サンプル室に充填しつつ、該トリム値を該第３入力に
供給するための装置を備えたことを特徴とする請求項６
記載の装置。 ８、該修正装置が該フィルタの別の１つが該ソースと該
検出器との間にある別の時間間隔中、検出される別の成
分ガスのための第２修正率を該検出器出力に供給するた
めの装置を備え、該フィルタの該別の１つは検出される
別の成分ガスの濃度を表示する放射光線透過特性を有す
ることを特徴とする請求項１記載の装置。 ９、サンプル中の成分ガスを検出する方法において、 検出される成分ガスを含むサンプル・ガスを入れるサン
プル室を備え、 サンプル室に予選択されたスペクトル帯域で赤外線放射
を照射し、 サンプル室を通過する予選択されたスペクトル帯域の放
射光線を検出し、かつ検出器信号を生成し、放射経路内
の明確な時間間隔中に複数個のフィルタを挿入して該検
出器出力を時分割多重化し、その場合、該フィルタの１
つは検出される成分ガスの濃度を表示する放射光線透過
特性を有しており、該フィルタの該１つが該ソースと該
検出装置との間にある時間間隔中に、検出される該成分
ガスのための修正率を該検出器出力に付与するため、該
多重化装置と同期化されて修正信号を該検出器信号に供
給し、それによって修正された検出器信号を提供する、
各段階から成ることを特徴とする方法。 １０、修正信号を供給する該段階は、該検出器信号に応
答して該修正された検出器信号を、該検出器信号と第１
修正率との差として、又、該検出器出力と第２修正率の
商として生成するための回路を備える段階を含むことを
特徴とする請求項９記載の方法。 １１、該第１修正率は残留偏差修正率であり、眼第２修
正率は利得修正率であることを特徴とする請求項９記載
の方法。 １２、修正信号を供給する該段階が、 第１及び第２入力を有し、該第１入力に付与された信号
と、該第２入力に付与された入力との差である差分出力
を生成するための回路を備え、該検出器信号を該第１入
力に、又、残留偏差値を該第２入力に供給して、該成分
ガスの相対濃度を表示する差分出力を提供する、各段階
を含むことを特徴とする請求項９記載の方法。 １３、ほぼ非吸収性のガスをサンプル室に充填しつつ、
該検出器出力を該第１入力に、又、ゼロ値信号を該第２
入力に供給することによって該残留偏差値を生成し、そ
の場合、該残留偏差値は該差分出力にて生成される段階
を更に含むことを特徴とする請求項１２記載の方法。 １４、該回路が更に第３入力を備え、かつ該差分出力が
該第３入力に供給された信号と、該第１入力に付与され
た信号と該第２入力に付与された信号との差との総和に
等しく、かつ該供給段階が該第３入力にトリム値を供給
することを含むことを特徴とする請求項１２記載の方法
。 １５、ほぼ非吸収性のガスをサンプル室に充填しつつ、
該検出器出力を該第１入力に、又該残留偏差値を眼第２
入力に供給して、該差分出力のトリム値を生成する段階
を更に含み、その場合、該トリム値は該差分出力で生成
されることを特徴とする請求項１４記載の方法。 １６、修正信号を供給する該段階が、該フィルタの別の
１つが放射光線ソースの経路内にある別の時間間隔中、
検出される別の成分ガスのための第２修正率を該検出器
出力に供給する段階を含み、該フィルタの該別の１つは
検出される別の成分ガスの濃度を表示する放射光線透過
特性を有することを特徴とする請求項９記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US406.041 | 1989-09-12 | ||
| US07/406,041 US5060505A (en) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | Non-dispersive infrared gas analyzer system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03107744A true JPH03107744A (ja) | 1991-05-08 |
Family
ID=23606314
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2135179A Pending JPH03107744A (ja) | 1989-09-12 | 1990-05-24 | 非分散型赤外線ガス分析システムと装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5060505A (ja) |
| EP (1) | EP0417884A3 (ja) |
| JP (1) | JPH03107744A (ja) |
| CA (1) | CA2018568A1 (ja) |
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