JPH03105473A - ２次元ｃａｄシステムにおけるアイソメトリック図作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 ２次元ＣＡＤシステムにおいてアイソメトリック図を作
成し、かつ作成後の視点変更による形状変更を行う２次
元ＣＡＤシステムにおけるアイソメトリック図作成方法
に関し、 アイソメトリック図の視点の変更が容易であり、隠れ線
処理、正確な寸法の測定および寸法線の記人を効率よく
行うことができるようにす．ることを目的とし、 立体図で表現する２次元ＣＡＤシステムであってアイソ
メトリック座標軸設定過程と、アイソメトリック座標変
換過程と、アイソメトリック掃引体作成過程と、アイソ
メトリック三面図合成過程と、アイソメトリック回転体
作成過程とを具備するアイソメトリック図作成方法にお
いて、さらに、図形を視点を変えて表示するアイソメト
リック視点変更過程と、アイソメトリック図に寸法線を
付加するアイソメトリック図寸法入力過程と、裏に隠れ
る図形を非表示にするアイソメトリック図隠線処理過程
を具備し、画面表示用の２次元図形要素のほかに非表示
の３次元図形情報を保持するように構或する。

〔産業上の利用分野〕

本発明はＣＡＤ　（コンピュータ援助設計）システムに
係り、特に２次元ＣＡＤシステムにおいてアイソメトリ
ック図（立体図）を作成し、かつ作成後の視点変更によ
る形状変更等を行う２次元ＣＡＤシステムにおけるアイ
ソメトリック図作成方法に関する。

〔従来の技術〕

近年、コンピュータ援助の下、表示画面上で設計図面を
作成するコンピュータ援助設計システムが普及しつつあ
る。また、製造業では種々のサービス資料、特にパーツ
カタログとして立体図を用いることが、部品供給などを
円滑に効率よく行えるという点で広く採用されている。

このＣＡＤシステムの利用方法の１つとして、設計製図
を行った図面から立体図を作戊するアイソメトリック機
能があるが、従来の２次元ＣＡＤシステムでは、２次元
平面図から立体的形状を表示するのみで、作成データが
形状変化した２次元データであるため、視点を変えた表
示や、隠れ線の消去および寸法の表示を行えないという
課題があり、あまり利用されていない。

このため２次元ＣＡＤでは立体図作戊は行えないので、
３次元ＣＡＤを導入しなければ．ならないことになり、
手軽で安価な２次元ＣＡＤで２．５次元の処理が行える
方法が求められている。

〔発明が解決しようとする課題〕

アイソメトリック図は、作成過程において、最も製品形
状の理解がし易い視点くビュー）で図形を見ながら作業
を行ったり、パーツカタログに掲載する場合においても
手配作業などに誤りが発生しないよう最も製品形状の理
解がし易い視点で示すことが要求される。

従って、本発明の目的は、アイソメトリック図の視点の
変更が容易であり、隠れ線処理、正確な寸法の測定およ
び寸法線の記入を行うことが効率よくできるようにする
ことにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明においては、第１図に示されるように、表示画面
上で作成された２次元形状のデータを基に、物の形状が
理解しやすいよう立体図で表現する絵画的製図法を援助
する２次元ＣＡＤシステムであって、アイソメトリック
座標系を設定するアイソメ｝　ＩＪック座標軸設定過程
２と、２次元平面図形をアイソメトリック座標系に変換
表示するアイソメトリック（立体）座標変換過程３と、
座標変換された図形に厚さを加え立体図を作成表示する
アイソメトリック掃引体作成過程４と、２次元の三面図
から一括で立体図を作戊表示するアイソメトリック三面
図合成過程５と、座標変換された図形を基に回転体立体
図を創成表示するアイソメトリック回転体作成過程６と
を具備するアイソメトリック図作成方法において、さら
に、図形を視点を変えて表示するアイソメトリック視点
変更過程７と、アイソメトリック図に寸法線を付加する
アイソメ｝　ＩＪック図寸法入力過程８と、裏に隠れる
図形を非表示するアイソメトリック図隠線処理過程９と
を具備し、画面表示用の２次元図形要素のほかに非表示
の３次元図形情報を保持するようにしたことを特徴とす
る２次元ＣＡＤシステムにおけるアイソメトリック図作
成方法が提供される。

〔作　用〕 上述の各過程を実行すれば、第２図に示されるようなア
イソメトリック図形変換処理が行われる。

すなわち、過程１１では指示図形を各プリミティブ構或
に分解し、過程１２では各プリミティブ図形をアイソメ
トリック座標系への変換演算を行い、過程１３では演算
結果をアイソメトリックセグメントとして創成および表
示する。

〔実施例〕

本発明は２次元平面図形の設定した立体座標系への変換
処理（アイソメトリック変換）において、変換後の図形
形状データに加え補助データとして図形の実体形状（３
次元〉を意味する非表示の任意情報を持たせる新データ
構造、第１図に示される既存方式のオレーション機能の
組み合わせで構或される。

第１図に示されるように、アイソメトリック図作成機能
は、参照数字２から９に示される各過程によって達威さ
れる。特に過程７は「掃引体」、「三面図合成」、「回
転体」で作成して図形を視点を変えて表示する。

本発明の実施例のアイソメ｝　Ｕツタ図形変換処理とデ
ータ構造について説明する。

アイソメトリック図形変換処理は第２図に示される過程
１１から１３によって処理される。

まず過程ｌ１の指示図形を各プリミティブ構或への分解
処理は第３図に例示される。すなわち指定２次元図形要
素単位における点要素、線分要素、折れ線要素、矩形要
素、円弧要素、円要素、自由曲線要素はそのまま分解さ
れた図形プリミティブ構或要素となり、指定２次元図形
要素単位のうち角丸め要素、中心線要素、ハッチング要
素は、それぞれ分解された図形プリミティブ構或におけ
る円弧、線分、線分の要素で構或される。指定２次元図
形要素単位におけるその他要素は読み飛ばしとして分解
された図形プリミティブ構或となる。

各プリミティブ図形のアイソメトリック座標系への変換
演算は与えられた２次元図形データのＺ座標を０として
、以下の座標演算を行う。

〔Ｘｅ．Ｙｅ，Ｚｅ．　　１）　＝　（Ｘ，　Ｙ，Ｚ，
　１−）　Ｔα：変換元図形のＸ軸とアイソメ｝　＋７
ツタ座標系Ｘｅのなす角度 β：変換元図形のＺ軸とアイソメトリック座標系Ｚｅの
なす角度 求められた（Ｘｅ，Ｙｅ，Ｚｅ，１）座標のうち（Ｘｅ
，Ｙｅ）データを画面表示用２次元データとする。

次にアイソメトリック要素としての創戒について第４図
と第５図を用いて説明する。

第４図の例では線分要素して４要素、角丸め要素として
４要素、円要素として５要素、中心線要素として２要素
がある。線分および中心線要素は線分要素として処理さ
れ、角丸め要素は楕円弧要素として、円要素は楕円要素
として処理される。

そして第４図の図形は第５ｖｉ！Ｊのように処理される
。

第５図において、アイソメトリック要素は１５要素あり
、６要素の線分要素と３次元線分内部情報、４要素の楕
円弧要素と３次元円弧内部情報、および５要素の楕円プ
リミティブ要素と３次元円内部情報で構威される。

アイソメトリック図形要素構造は第６図により説明され
る。アイソメトリック図形要素は、画面表示用の２次元
図形要素と非表示の３次元図形処理用の任意数値情報か
ら構或され、変換前の２次元図形要素１本に対し１要素
が作られる。この１つの例としてのアイソメトリック座
標変換が第１４図に示され、同じくアイソメトリック掃
引体作成が第１５図に示される。

本発明の実施例で構戊されるアイソメトリック機能の使
用例を第７図から第１３図を用いて説明する。

第７図は変換前の２次元図形を示す。

第８図はアイソメトリック座標系軸設定過程を示す。

第９図はアイソメ｝　ＩＪソク座標変換を示す。すなわ
ち、内部３次元データのＺ座標の値は０であり、Ｘおよ
びＹ座標は変換前と同じである。表示用の２次元データ
は、アイソメ｝　ＩＪック変換式で演算された図形情報
を表示する。

第１０図は掃引体作成を行い、平面形状に厚さを加え立
体形状を創成ずる。内部３次元データのＺ座標の値は指
定された厚さであり、ＸおよびＹ座標は変換前に同じで
ある。

第１１図は視点の変更を行った図である。内部３次元デ
ータは第１０図と同一であり、表示用２次元データはア
イソメトリック変換式で再度演算し図形情報を表示する
。

第１２図は隠線消去をしたもので、内部３次元データは
第１１図の場合と同様であり、表示用２次元データは隠
れ線消去処理を行い図形情報を表示する。

第ｌ３図は寸法線の記入が行われる。この際、寸法は内
部３次元データを用いて表示される。

〔発明の効果〕

本発明によれば、例えばテクニカルイラストレーション
を作成するような場合、多種の製品の立体図が容易かつ
迅速に得られる。そして、視点変更、隠れ線処理、寸法
の測定、寸法線の記入を効率よく行うことができる。ま
た３次元ＣＡＤのプログラムを使用しないで２次元ＣＡ
Ｄを利用するから処理プログラムの大幅な削減も可能で
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のアイソメトリック図作成機能構或を説
明する図、 第２図はアイソメ｝　ＩＪック図形変換を説明する図、 第３図は２次元図形の各プリミティブ構或への分解処理
を説明する図、 第４図および第５図はアイソメトリック要素を説明する
図、 第６図はアイソメ｝　ＩＪック図形要素構造を説明する
図、 第７図から第１３図は実施例としてのアイソメトリック
図作威処理を順を追って説明する図、第１４図はアイソ
メ｝　ＩＪック図形要素構造の座標変換の一例を示す図
、および 第ｌ５図はアイソメ｝　ＩＪック図形要素構造の掃弓体
作成の一例を示す図である。 図において、 １・・・アイソメトリック図作成機能、２・・・アイソ
メトリック座標軸設定処理、３・・・アイソメトリック
座標変換処理、４・・・アイソメトリック掃引体作成処
理、５・・・アイソメトリック三面図合成処理、６・・
・アイソメトリック回転体作成処理、７・・・アイソメ
トリック視点変更処理、８・・・アイソメトリック図寸
法人力処理、９・・・アイソメトリック図隠線処理、で
ある。 本発明のアイソメトリック図作成機能構成を説明する図
第１図 利用者がらの図形指示 アイソメトリック図形変換を説明する図第 図 アイソメトリック票素を説明する図 第４図 アイソメトリック要素を説明する図 第５図 ２次元図形の各プリミティブ構成への分解処理第 図 アイソメトリック図形要素構造を示す図第 図 アイソメトリック図作成にあける掃引体作成を示す図ア
イソメトリック図作成における視点の変更を示す図アイ
ソメトリック図作成における隠線消去を説明する図アイ
ソメトリック図作成における寸法線入力を説明する図第
１３図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 表示画面上で作成された２次元形状のデータを基に、物
   の形状が理解しやすいように立体図で表現する絵画的製
   図法を援助する２次元ＣＡＤシステムであって、 アイソメトリック座標系を設定するアイソメトリック座
   標軸設定過程（２）、 ２次元平面図形をアイソメトリック座標系に変換表示す
   るアイソメトリック座標変換過程（３）、座標変換され
   た図形に厚さを加え立体図を作成表示するアイソメトリ
   ック掃引体作成過程（４）、２次元の三面図から一括で
   立体図を作成表示するアイソメトリック三面図合成過程
   （５）、および 座標変換された図形を基に回転体立体図を創成表示する
   アイソメトリック回転体作成過程（６）、を具備するア
   イソメトリック図作成方法において、さらに、 図形を視点を変えて表示するアイソメトリック視点変更
   過程（７）、 アイソメトリック図に寸法線を付加するアイソメトリッ
   ク図寸法入力過程（８）、および裏に隠れる図形を非表
   示にするアイソメトリック図隠線処理過程（９）を具備
   し、 画面表示用の２次元図形要素のほかに非表示の３次元図
   形情報を保持するようにしたことを特徴とする２次元Ｃ
   ＡＤシステムにおけるアイソメトリック図作成方法。