JPH03104539A - 精密形状測定装置を備えた加工装置 - Google Patents

精密形状測定装置を備えた加工装置

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JPH03104539A
JPH03104539A JP1240673A JP24067389A JPH03104539A JP H03104539 A JPH03104539 A JP H03104539A JP 1240673 A JP1240673 A JP 1240673A JP 24067389 A JP24067389 A JP 24067389A JP H03104539 A JPH03104539 A JP H03104539A
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JP
Japan
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measuring
axis
measurement
workpiece
stage
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Pending
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JP1240673A
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English (en)
Inventor
Tetsuji Konuki
哲治 小貫
Keizo Matsuo
松尾 圭造
Masatoshi Tokai
渡海 正敏
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、被加工面の形状をP!!密に測定する装置を
備えた加工装置に関するものである.[従来の技術] 従来のこの種の装置の一例を第2図に示す。
この装置では、Z軸方向に移動するスライド機構220
のZステージ201上に配設されたZ@を回転軸とする
ワーク保持軸203′を有するワークスピンドル203
と、X軸方向に移動するスライド機構221のXステー
ジ202上に配設されたバイト205とを有し、ワーク
スピンドル203に取付けられたワーク204を回転さ
せながらバイト205をZ軸並びにX軸方向に相対移動
させ、ワーク204の被加工面をバイト205により精
密加工する。
またZステージ201及びXステージ202の移動は、
それぞれの位置決め制御装置215に制御されるスライ
ド機構駆動装置213,214によって行なわれる。
ここで、ワーク204の被加工面の形状精度はZ軸方向
の移動量を検出するZステージ201に載置された反射
鏡201゛及びレーザ干渉計207とX軸方向の移動量
を検出するXステージ202に載置された反射鏡202
“及びレーザ干渉計208との各々の座標値によって決
定される。
しかし、ここで検出した座標値には、例えば位置決め誤
差や加工誤差等が含まれるため、精密に面形状を測定す
るには、別個の測定プロセスが必要であり、この装置で
はXステージ202に配設された測定プロープ206に
よりワーク204の被加工面の形状が測定される。
この測定方法は、測定ブローブ206の位置をZ軸レー
ザ干渉計207の座標値と、X軸レーザ干渉計208の
座標値とから測定し、さらに測定ブロープ206の先端
の被加工面当接部における当接位置の測定値(先端位置
の変位量)とを位置検出装置216に取り込み、これら
の相対位置関係からワーク204の面形状を測定し、加
えて、目標とする形状精度に対する誤差が求められてい
た。
[発明が解決しようとする課題] 上記の如き従来の技術に於いては、計測した測定値が測
定ブローブの先端の変位と、x.zスライド機構の各ス
テージの移動量とに依存するが、サブミクロンの微細領
域を考えると、被加工物が取付けられたZスライド機構
と、測定ブローブの取付けられたXスライド機構とは厳
密に真直に進んでいるわけではなく、各々ヨーイング成
分を含んでいる。
例えば、第3図(A) , (B)に現在の技術で最高
の精度が得られるエアスライド機構を使用した場合の各
スライド機構の真直度精度の例を示す。
この図に示す様に、各スライド機構上のステージの移動
に伴い、その移動方向の垂直方向に0.1μm以上のヨ
ーイング成分を生ずる。
従って、被測定面の形状測定値には、上記のようなXス
ライド機構及びZスライド機構の真直誤差が含まれてい
るので、面形状の精密測定、並びにFil加工における
形状精度の誤差は、従来技術では最小限度で0.15μ
m程度であった。
本発明はこの様な従来の問題点に鑑みてなされたもので
あり、面形状の測定におけるX,Z両スライド機構等の
移動手段から生ずる誤差成分の影響を除き、誤差を0.
1μm以下に抑えた面形状の精密測定,並びに精密加工
が容易に行える加工装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段] 上記目的達成のため本発明では、Z軸を回転軸として回
転される被加工物に対しZ軸並びにそれと直角なX@方
向に加工具を相対移動させることにより被加工物の表面
形状を加工する加工装置であって、前記被加工物の被加
工面に測定具の先端を当接させ、被加工面上の各位置に
おける測定具の先端の当接位置を計測することにより被
加工面の形状を精密測定する測定手段を備えた加工装置
において、前記X軸に対し平行でZ軸に対し垂直に精密
に配置されたX軸測定基準面と、前記Z軸に対し平行で
X軸に対し垂直に精密に配置されたZ軸測定基準面とを
有し、前記測定具の先端の位置が、前記両測定基準面か
らの相対位置計測により測定されることを特徴とする。
〔作用] 本発明は上記のように構成されているため、被測定面を
測定する際に、測定具の先端位置をX軸並びにY軸の測
定基準面からの相対位置計測により行う。
この測定手段においては、測定具若しくは加工具と被加
工物との相対移動手段の方式の如何に拘らず、常に、測
定基準面からの相対位置計測が為されるため、前記移動
手段における移動時の可動誤差、例えば従来例における
スライド機構の真直度の誤差等が測定値に影響しない。
又、この測定手段により測定された面形状の精度をフィ
ードバックして、補正加工を行うことにより、希望する
形状精度に対し誤差の少ない精密加工を行う。
[実施例] 本発明の実施例を図面を参照して説明する。
第1図に本発明の一実旅例に係る精密形状測定装置を備
えた加工装置を示す。
図において、1は駆動用のDCモーターを含むZスライ
ド機構20上をZ軸方向に不図示のエアースライドを介
して移動するZステージであり、Zステージ1上にはZ
軸を回転軸とするワーク保持軸3゜を有するワークスピ
ンドル3を備えている. 2は、駆動用のDCモーターを含むXスライド機構21
上をX軸方向に不図示のエアースライドを介して移動す
るXステージであり、加工具5および測定プローブ6が
取付けられている。この加工具5は、必要に応じて切削
バイト,若しくは研磨砥石その他の工具等に交換できる
Zステージ1及びXステージ2は、夫々位置決め制御装
置15に制御されるスライド機構駆動装置13.14に
より移動され、これらの移動量はZステージ1に載置さ
れた反射鏡1゛及びXステージに載置された反射鏡2゛
の反射光で計測するレーザ干渉計7.8により測定され
る。
この加工装置では、ワーク保持軸3′に取付けられた被
加工物(ワーク)4を回転させながら、加工具5とワー
ク4とを当接させることにより、ワーク4の被加工面を
加工具5で切削若しくは研磨等して加工する。
さらに、Zステージ1とXステージ2とを移動させるこ
とにより、加工具5とワーク4とを相対移動させ、ワー
ク4の被加工面を任意の形状に精密加工する。
次に、この加工装置における被加工面形状測定装置につ
いて説明する. 本実施例には、Zスライド機構20と精密に平行(X軸
に垂直)&:配置したZ軸測定基準面9と、さらにZ軸
に精密に直角に配置したXスライド機構21と、Xスラ
イド機構21に精密に平行(Z軸に垂直)に配置したX
軸測定基準面10とを備えている. ここで、Zステージ1には2軸測定基準面9との間隔等
を測定するZ軸真直度測定器11が設けられている. また、Xステージ2に設けられた測定プローブ6は、測
定ブローブ6の先端の接触時における測定ブローブ6自
体の長さ(先端の沈み込みによる全体長さの変化量を含
む)と、測定ブローブ6とX軸測定基準面10との間隔
とから、ワーク4の測定位置とX軸測定基準面10との
間隔等の精密測定が可能である。
以上のZ軸レーザ干渉計7、X軸レーザ千渉計8、測定
ブローブ6、Z軸真直度測定器11からの計測データは
位置検出装置16に送られる。
次に、この装置における面形状測定方法を説明する。
まず、測定ブローブ6が測定すべきX座揮位置までXス
ライド機構駆動装置l4で送られる。
そして、Zステージ1がXスライド機構21方向に前進
するか、又は測定ブローブ6が自らXステージ2上をワ
ーク4方向に前進するかにより、ワーク4への測定プロ
ーブ6の接触が行なわれる。
このとき、測定ブローブ6はワーク4(測定ブローブ6
先端の当接位置)とX軸測定基準面10との間隔を読取
り、位置検出装置16へデータを送り、同時にZ軸レー
ザ干渉計7、X軸レーザ干渉計8のデータ、2軸真直度
測定器11のデータも位置検出装置16へ送られる。
ここで、位置検出装置16での上記データによる検出原
理を第4図を用いて説明する。
従来,の測定法では、Z軸レーザ干渉計の読み(2ステ
ージ1の移動量)Lz及び測定ブローブの検出値L2X
(先端の沈み込み後の全体長さ)からZ座標が、さらに
X軸レーザ干渉計の読み(Xステージ2の移動量)Lx
からX座標が計測され、測定面上の各点の検出座標によ
りワーク4の被加工面の形状が算出されていた。
しかしながら、これらのx.Z座標値にはX.Z両スラ
イド機構の真直誤差が含まれている。
本実施例においては、計測位置の座標を計測する際に、
先ずXステージ1を測定位置まで動かし(移動量Lx)
、接触位置までのZステージの移動量Lzを読取ると同
時に、この接触位置においてZ軸真直度測定器11によ
りZ軸測定基準面9とZステージ1との距l1tL+z
とこの位置における真直度誤差L2Zを読取り、夫々位
置検出装置16へ送る。
また、前記接触位置における測定ブローブ6の全体長さ
がL2Kの状態でワーク4に当接していることから、測
定ブロープ6の検出値L2Kと、測定ブローブ6とX軸
測定基準面10との間隔LIXとを読取り位置検出装置
16へ送る。
そして、位置検出装置16では、ここで計測したZ軸方
向の真直度誤差L22をXスライド機構21のレーザ干
渉計8の読みL×に加え補正しX座棉を算出する。
また、Z座標については、上記L2及びL2XにL−+
xを加え、Z座標を補正して算出する。
ここで、測定ブローブ6をZステージ1を動かしてワー
ク4に当接させる場合には、前記L 2X+LIXを一
体のデータとして取り込んでも、LAXとLIXとを別
々に取り込んでもよい. この図Cおいて、ワーク4の被加工面は回転対称面であ
るから、回転中心を通る一つの面(この実施例ではZ−
X平面)上の中心点を含む各点の座標値を求めることに
より、それらの相対位置関係から被加工面の形状が測定
できる。
以上のように、本実施例における被加工面形状測定にお
いては、Xスライド機構21及びZスライド機構20の
真直度は測定値に影響せず、上記のL IZ+  L2
2,L IX,L 2Xを求めることにより、被加工面
の精密測定の精度の向上を図ることができる。
即ち、この実施例における測定値の基本はzl[lI測
定基準面9、X@測定基準面10であるため、Xスライ
ド機構2l及びZスライド機構20は、ワーク4並びに
加工具5若しくは測定ブローブ6を相対移動させるため
の要素として機能するのみであり、測定位置計測データ
には全く関与しないことになる。
さらに、Z!Thlk及びX!Ik測定基準面の真直度
を○.lμm以下に抑えることが可能であるため、測定
誤差も同様に○.lμm以下に抑えることかできるため
、従来例に比べ誤差を微小に抑えることが容易である。
ここで、ワーク4と加工具5との相対移動手段は本実施
例の様なスライド機構の形式に限定されず、加えて移動
時の真直精度等も問題とならない さらに、X軸,Z軸方向に配置される各構成要素の関係
に関しては、ワーク4及びワークスピンドル3がXステ
ージ2に、測定ブローブ6、加工具5がZステージ1に
配置されても前記の利点は損なわれることはない。
また、このような測定装置の配置構成は、本実施例では
水平面内に配置しているが、垂直面内の配置でも可能で
あるとともに、例えばX,Y,Z軸方向の空間的に多軸
化した場合にも、各軸に対して測定基準面を設けること
で同様な結果が得られる。
そして、この測定装置で測定した面形状と、希望する面
形状との誤差を計測し、この計測データに基づき補正加
工を行なえば、さら社正確な面形状に精密加工を行うこ
とができる。
又、超精密加工測定機への応用のみでなく、測定機自体
にも応用できる。
尚、X.Z軸の各座標測定の為のレーザ干渉計は、光学
スケールなどの測定機器に置換えても何ら問題は生じな
い。
[発明の効果] 以上の様に本発明によれば、被加工面の面形状を測定す
る際に、精密な測定基準面と被測定物との相対位置計測
により行うため、測定誤差を従来に比較して微小に抑え
ることができる。
さらに、この測定結果に基いて加工装置により補正加工
を行なえば、被加工物の形状誤差は極少にできる利点が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例にかかる装置を示す構成図、
第2図は従来例にかかる装置を示す構或図、第3図(A
) . (B)は超精密スライド機構の真直度誤差を示
す線図、第4図は測定原理を示す説明図である。 [主要部分の符号の説明] 1:Zステージ、20:zスライド機構、1゛:反射鏡
、 2:xステージ、21;Xスライド機構2゛:反射鏡、 3:ワークスピンドル、3゛:ワーク保持軸4:被加工
物 5:加工具、6:測定ブローブ 7:Z軸レーザ干渉計、8:x軸レーザ干渉計9・Z軸
測定基準面、10:x軸測定基準面1:Z軸真直度測定
器、 3:zスライド機構駆動装置、 4:xスライド機構駆動装置、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  Z軸を回転軸として回転される被加工物に対しz軸並
    びにそれと直角なX軸方向に加工具を相対移動させるこ
    とにより被加工物の表面形状を加工する加工装置であつ
    て、 前記被加工物の被加工面に測定具の先端を当接させ、被
    加工面上の各位置における測定具の先端の当接位置を計
    測することにより被加工面の形状を精密測定する測定手
    段を備えた加工装置において、 前記X軸に対し平行でZ軸に対し垂直に精密に配置され
    たX軸測定基準面と、前記Z軸に対し平行でX軸に対し
    垂直に精密に配置されたZ軸測定基準面とを有し、 前記測定具の先端の位置が、前記両測定基準面からの相
    対位置計測により測定されることを特徴とする精密形状
    測定装置を備えた加工装置。
JP1240673A 1989-09-19 1989-09-19 精密形状測定装置を備えた加工装置 Pending JPH03104539A (ja)

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ID=17063003

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005240182A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Nanofilm Technologies Internatl Pte Ltd 複数の利用可能なターゲットによる連続的アーク蒸着の装置および方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005240182A (ja) * 2004-02-27 2005-09-08 Nanofilm Technologies Internatl Pte Ltd 複数の利用可能なターゲットによる連続的アーク蒸着の装置および方法

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