JPH03100195A - 金属表面の耐酸化処理方法 - Google Patents
金属表面の耐酸化処理方法Info
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- JPH03100195A JPH03100195A JP1237888A JP23788889A JPH03100195A JP H03100195 A JPH03100195 A JP H03100195A JP 1237888 A JP1237888 A JP 1237888A JP 23788889 A JP23788889 A JP 23788889A JP H03100195 A JPH03100195 A JP H03100195A
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- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/10—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals
- C25D5/12—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium
-
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- C25D5/14—Electroplating with more than one layer of the same or of different metals at least one layer being of nickel or chromium two or more layers being of nickel or chromium, e.g. duplex or triplex layers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、金属の酸化腐食を防止するための表面処理方
法に関する。
法に関する。
［従来の技術］
金属に耐酸化腐食性を付与するための処理法としては、
金属表面への有機化合物の吸着による防錆処理やクロメ
ート処理、樹脂被覆等の方法が知られている。しかしな
がら、これらの方法によっては、５００℃のような高温
でも処理された金属が充分な耐酸化腐食効果を示すよう
にするということは期待できない。
金属表面への有機化合物の吸着による防錆処理やクロメ
ート処理、樹脂被覆等の方法が知られている。しかしな
がら、これらの方法によっては、５００℃のような高温
でも処理された金属が充分な耐酸化腐食効果を示すよう
にするということは期待できない。
一方、金属にニッケルメッキをすることによって、処理
された金属が５００℃のような高温でも充分な酸化防止
効果を示すようにすることができるということは知られ
ている。しかしながら、この場合、メツキしたニッケル
の表面が酸化して黒色化し、美観が損われるばかりでな
く、これを高温下に長期間保持するとニッケルの酸化が
さらに進行し、遂にはメツキされた金属の折り曲げ等に
より金属表面にクラックが発生し、ニッケルメッキした
表面層が剥離脱落するようになる。
された金属が５００℃のような高温でも充分な酸化防止
効果を示すようにすることができるということは知られ
ている。しかしながら、この場合、メツキしたニッケル
の表面が酸化して黒色化し、美観が損われるばかりでな
く、これを高温下に長期間保持するとニッケルの酸化が
さらに進行し、遂にはメツキされた金属の折り曲げ等に
より金属表面にクラックが発生し、ニッケルメッキした
表面層が剥離脱落するようになる。
［発明が解決しようとする問題点］
そこで、５００℃のような高温下においても、目的金属
の酸化腐食を充分に防止できると共に、処理後のものを
折り曲げても表面に形成したメツキ層等が剥離脱落する
ことのない金属表面の耐酸化処理方法を見い出すことが
必要となっていた。
の酸化腐食を充分に防止できると共に、処理後のものを
折り曲げても表面に形成したメツキ層等が剥離脱落する
ことのない金属表面の耐酸化処理方法を見い出すことが
必要となっていた。
［問題点を解決するための手段］
金属表面にインジウムのメツキ層を形成した後、該イン
ジウムメッキ層の上にニッケルのメツキ層を形成するこ
とによって、上記の問題点を解決することができた。こ
の場合のインジウムメッキ層の厚さは０．０５（至）〜
５血とするのが適切である。
ジウムメッキ層の上にニッケルのメツキ層を形成するこ
とによって、上記の問題点を解決することができた。こ
の場合のインジウムメッキ層の厚さは０．０５（至）〜
５血とするのが適切である。
０．０５ｍ未満の厚さでは上記２層メツキの効果が充分
ではなく、また厚さが５Ｉｔｍに達するとその効果は飽
和し、それ以上厚くすることは単にコストを高くするに
過ぎないからである。また、インジウムメッキ層の上に
設けるニッケルメッキ層の厚さも０． ０５ｚｃａ〜５
Ｉ１１ａとするのが適切である。
ではなく、また厚さが５Ｉｔｍに達するとその効果は飽
和し、それ以上厚くすることは単にコストを高くするに
過ぎないからである。また、インジウムメッキ層の上に
設けるニッケルメッキ層の厚さも０． ０５ｚｃａ〜５
Ｉ１１ａとするのが適切である。
理由はインジウムメッキ層の厚さについて述べた理由と
全く同じである。
全く同じである。
本発明方法によって表面処理することのできる金属はイ
ンジウムあるいはニッケルのメツキ層を安定に形成でき
るものであれば特に制限はないが、主として、銅、鉄等
である。保護すべき金属の表面に直接インジウムをメツ
キし、その上にニッケルをメツキすることもできるが、
金属表面にニッケルメッキの下引き層を形成した後にイ
ンジウムメッキ層を形成し、さらにその上にニッケルメ
ッキすると、より改善された効果が得られる。下引きす
るニッケルメッキ層の厚さに特に制限はないが、その上
にメツキされる層の厚さについて説明したのと同様の理
由で０．０５ｍ〜５伽の範囲の厚さとするのが適切であ
る。
ンジウムあるいはニッケルのメツキ層を安定に形成でき
るものであれば特に制限はないが、主として、銅、鉄等
である。保護すべき金属の表面に直接インジウムをメツ
キし、その上にニッケルをメツキすることもできるが、
金属表面にニッケルメッキの下引き層を形成した後にイ
ンジウムメッキ層を形成し、さらにその上にニッケルメ
ッキすると、より改善された効果が得られる。下引きす
るニッケルメッキ層の厚さに特に制限はないが、その上
にメツキされる層の厚さについて説明したのと同様の理
由で０．０５ｍ〜５伽の範囲の厚さとするのが適切であ
る。
［作 用］
本発明に従って、上述の如く、金属表面にニッケルメッ
キの下引き層を設けまたは設けずその上にインジウムメ
ッキ層を設け、さらにその上にニッケルメッキ層を設け
て２層または３層構成の保護メツキ層を形成すると、該
２層または３層構成メツキ層を持つ金属が５００℃とい
うような高温雰囲気にさらされた場合に、インジウムメ
ッキ層とニッケルメッキ層との間に熱拡散が生じて両者
の界面にインジウムとニッケルとの金属間化合物が形成
され、この金属間化合物が優れた耐酸化特性を示すため
に、５００℃のような高温でも充分な酸化防止効果を持
つ被覆金属が得られるのであることが理解される。イン
ジウム単味ではその融点が１５６．６℃と低いが、金属
間化合物が形成されることにより、５５０℃でも溶融し
ない高い融点をもつ金属間化合物の保護層が形成されて
いることが確認された。
キの下引き層を設けまたは設けずその上にインジウムメ
ッキ層を設け、さらにその上にニッケルメッキ層を設け
て２層または３層構成の保護メツキ層を形成すると、該
２層または３層構成メツキ層を持つ金属が５００℃とい
うような高温雰囲気にさらされた場合に、インジウムメ
ッキ層とニッケルメッキ層との間に熱拡散が生じて両者
の界面にインジウムとニッケルとの金属間化合物が形成
され、この金属間化合物が優れた耐酸化特性を示すため
に、５００℃のような高温でも充分な酸化防止効果を持
つ被覆金属が得られるのであることが理解される。イン
ジウム単味ではその融点が１５６．６℃と低いが、金属
間化合物が形成されることにより、５５０℃でも溶融し
ない高い融点をもつ金属間化合物の保護層が形成されて
いることが確認された。
［実施例］
本発明に従って、直径５１−の銅線の周囲に厚さ２ｉｎ
ｓのニッケルメッキ層を設けた後、その上に厚さ０．５
Ｉｌ！ａのインジウムメッキ層を形成し、さらにその上
に厚さ０．５−のニッケルメッキ層を設けた。上記各メ
ツキ層は電気メツキ法によって形成した。
ｓのニッケルメッキ層を設けた後、その上に厚さ０．５
Ｉｌ！ａのインジウムメッキ層を形成し、さらにその上
に厚さ０．５−のニッケルメッキ層を設けた。上記各メ
ツキ層は電気メツキ法によって形成した。
一方、比較のため、上記と同じ直径５−一の銅線の周囲
に、厚さ３伽のニッケルメッキ層を電気メツキ法によっ
て形成した。
に、厚さ３伽のニッケルメッキ層を電気メツキ法によっ
て形成した。
上記２種の互いに異なる表面処理をした銅線について耐
酸化性評価のための試験を行った結果は第１図に示す通
りであった。すなわち、各銅線試料を大気中５５０℃の
温度で、それぞれ５日間、１０日間、１５日問および２
０日間保持した後に測定した各銅線試料１０ｃｍ当りの
重量増加量は図示の通りであり、インジウムメッキの上
にニッケルメッキした本発明の被覆銅線は、ニッケルメ
ッキしただけの比較用被覆銅線に比し、重量増加量が小
さく、酸化される速度が小さいことがわかる。
酸化性評価のための試験を行った結果は第１図に示す通
りであった。すなわち、各銅線試料を大気中５５０℃の
温度で、それぞれ５日間、１０日間、１５日問および２
０日間保持した後に測定した各銅線試料１０ｃｍ当りの
重量増加量は図示の通りであり、インジウムメッキの上
にニッケルメッキした本発明の被覆銅線は、ニッケルメ
ッキしただけの比較用被覆銅線に比し、重量増加量が小
さく、酸化される速度が小さいことがわかる。
また、５５０℃で２０日間保持した後、銅線試料を折り
曲げてみたところ、本発明の方法で処理したものは剥離
が生じなかったが、比較例の銅線試料は折り曲げにより
表面の一部が剥離した。
曲げてみたところ、本発明の方法で処理したものは剥離
が生じなかったが、比較例の銅線試料は折り曲げにより
表面の一部が剥離した。
また、大気雰囲気中５５０℃でそれぞれ５日間、１０日
間、１５日問および２０日間保持した後に測定した各銅
線試料の抵抗値の変化の模様は第２図に示す通りであり
、本発明の方法で処理した銅線試料は比較用の銅線試料
に比し、抵抗の増加が小さく、銅線の耐酸化性が向上し
ていることが明らかである。尚、第２図において、抵抗
値は５５０℃の雰囲気に入れる前の抵抗値を１００％と
する相対値で示した。また抵抗値は５５０℃の雰囲気中
に保持した後、２５℃中の雰囲気において測定したもの
である。
間、１５日問および２０日間保持した後に測定した各銅
線試料の抵抗値の変化の模様は第２図に示す通りであり
、本発明の方法で処理した銅線試料は比較用の銅線試料
に比し、抵抗の増加が小さく、銅線の耐酸化性が向上し
ていることが明らかである。尚、第２図において、抵抗
値は５５０℃の雰囲気に入れる前の抵抗値を１００％と
する相対値で示した。また抵抗値は５５０℃の雰囲気中
に保持した後、２５℃中の雰囲気において測定したもの
である。
上記の比較試験の結果は、本発明方法で表面処理した銅
線は抵抗の増加が小さく、銅線に耐酸化性があることを
明らかに示している。
線は抵抗の増加が小さく、銅線に耐酸化性があることを
明らかに示している。
第１図は、銅線試料を５５０℃の大気雰囲気中に保持し
た日数と、銅線の重量増加との関係を示すグラフである
。 第２図は、銅線試料を５５０℃の大気雰囲気中に保持し
た日数と銅線の抵抗値との関係を示すグラフである。 第３図は、本発明の方法によってニッケル、インジウム
およびニッケルの各メツキ層で被覆した銅線の断面図（
ａ）およびニッケルメッキ層だけで被覆した従来の銅線
の断面図（ｂ）である。 銅線の１坑（ｏ／、）
た日数と、銅線の重量増加との関係を示すグラフである
。 第２図は、銅線試料を５５０℃の大気雰囲気中に保持し
た日数と銅線の抵抗値との関係を示すグラフである。 第３図は、本発明の方法によってニッケル、インジウム
およびニッケルの各メツキ層で被覆した銅線の断面図（
ａ）およびニッケルメッキ層だけで被覆した従来の銅線
の断面図（ｂ）である。 銅線の１坑（ｏ／、）
Claims (3)
- （１）金属表面にインジウムメッキ層を形成した後、該
インジウムメッキ層の上にニッケルメッキ層を形成する
ことからなる金属表面の耐酸化処理方法。 - （２）金属表面にニッケルメッキ層を形成した後、その
上にインジウムメッキ層を形成し、さらにその上にニッ
ケルメッキ層を形成することからなる金属表面の耐酸化
処理方法。 - （３）前記インジウムメッキ層の厚みが０．０５μｍ〜
５μｍの範囲の厚みであり、かつその上に形成する前記
ニッケルメッキ層の厚みが０．０５μｍ〜５μｍの範囲
の厚みである請求項１または２に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237888A JP2857775B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | 金属表面の耐酸化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1237888A JP2857775B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | 金属表面の耐酸化処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03100195A true JPH03100195A (ja) | 1991-04-25 |
| JP2857775B2 JP2857775B2 (ja) | 1999-02-17 |
Family
ID=17021911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1237888A Expired - Fee Related JP2857775B2 (ja) | 1989-09-13 | 1989-09-13 | 金属表面の耐酸化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2857775B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017060216A1 (en) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for indium or indium alloy deposition and article |
-
1989
- 1989-09-13 JP JP1237888A patent/JP2857775B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017060216A1 (en) * | 2015-10-06 | 2017-04-13 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for indium or indium alloy deposition and article |
| CN108138348A (zh) * | 2015-10-06 | 2018-06-08 | 埃托特克德国有限公司 | 用于铟或铟合金沉积的方法和制品 |
| CN108138348B (zh) * | 2015-10-06 | 2020-04-24 | 埃托特克德国有限公司 | 用于铟或铟合金沉积的方法和制品 |
| US10753007B2 (en) | 2015-10-06 | 2020-08-25 | Atotech Deutschland Gmbh | Process for indium or indium alloy deposition and article |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2857775B2 (ja) | 1999-02-17 |
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