JPH0298952A - 半導体用プロービング装置 - Google Patents

半導体用プロービング装置

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Publication number
JPH0298952A
JPH0298952A JP25261988A JP25261988A JPH0298952A JP H0298952 A JPH0298952 A JP H0298952A JP 25261988 A JP25261988 A JP 25261988A JP 25261988 A JP25261988 A JP 25261988A JP H0298952 A JPH0298952 A JP H0298952A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
axis
alignment
pellet
wafer stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP25261988A
Other languages
English (en)
Inventor
Masahiro Uchida
内田 正浩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Yamagata Ltd
Original Assignee
NEC Yamagata Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Yamagata Ltd filed Critical NEC Yamagata Ltd
Priority to JP25261988A priority Critical patent/JPH0298952A/ja
Publication of JPH0298952A publication Critical patent/JPH0298952A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体を製造する際のP/Wチエツク(ペレッ
ト試験)時、ペレットとテスターを接続を行なうプロー
ビング装置に関し、特にペレットの目合わせ(ペレット
の平行合わせ及び位置決め)に関する。
〔従来の技術〕
従来、この種のプロービング装置は、ウェハーステージ
が1つしかなく、その為、ペレットの目合わせはP/W
チエツク直前に実施せざるを得なかった。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来のプロービング装置では、ウェハーステー
ジが一つしかない為、ペレットの目合わせは次のウェハ
ーのP/Wチエツク開始直前に、行なわなければならな
く、P/W終了なら次のウェハーのP/W開始までに目
合わせ時間という無駄があり、スルーブツトが低下する
という欠点がある。
〔課題を解決するための手段〕
従来のプロービング装置では、ウェハーステージが1つ
しかないのに対し、本発明のプロービング装置では、ウ
ェハーステージが2つあり、そのウェハーステージを入
れ換える為のレール、又はウェハーステージ交換用のア
ームを有している。
〔発明の従来技術に対する相違点〕
上述した従来のプロービング装置に対し、本発明ではウ
ェハーステージを2つにする事により、。
1枚のウェハーをP/Wチエツク中に次のウェハーの目
合わせを行ない待機するという相違点を有している。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の一実施例の正面図(A)と、側面図(
B)である。
1.2はウェハーステージで11.12のθ軸用モータ
にて回転、9,10の2軸用モータにより上下に動くよ
うになっている。さらに1,2のウェハーステージは6
,7のX軸周モータにより、16のX軸シール及び18
の目合わせ用X軸シールの上を自由に移動する事が出来
、16のX軸シールは、17のY軸シールの上を18の
目合わせ用X軸シールは、19の目合わせ用Y軸シール
の上を移動する。
動作手順としては、始めにウェハーステージ■1上にウ
ェハーをセットし、目合わせ用X軸シール18上でセッ
トしたウェハーの目合わせを行なう。その後X軸シール
16上に移動し、P/Wチエツクを行なう。ウェハース
テージ■1でP/Wチエツクを行なっている間、ウェハ
ーステージ■2上に次のウェハーをセットし、ウェハー
ステージ■と同様の手順にて目合わせを行ない、ウェハ
ーステージ■1上のウェハーのP/Wチエツクが終了す
るまで待機する。
ウェハーステージ■1のP/Wチエツクが終了したらウ
ェハーステージ■1は、目合わせ用X軸シール18上に
移動し、ウェハーステージ■2はX軸シール16上に移
動し、P/Wチエツクを行なう。その間、ウェハーステ
ージ■1は、ウェハーを交換し、最初と同様に目合わせ
を行ない待機するという手順になっている。
第2図は本発明の他の実施例の正面図(A)と側面図(
B)である。
1.2はウェハーステージで、1のウェハーステージ■
は11のθ軸用モータにより回転9の2軸用モータによ
り上下に動くようになっており、さらに6のX軸周モー
タにより16のX軸シール上を、8のYM用モータによ
り17のY軸シール上を自由に移動出来る。
2のウェハーステージ■は15の目合わせ用θ軸モータ
により回転、130目合わせ用X軸モータにより18の
目合わせ用X軸シール上を14の目合わせ用Y軸モータ
により19の目合わせ用Y軸シール上を自由に移動出来
る。
ウェハーステージ1と2の入れ換えは、24のウェハー
ステージ交換用のアームにより交換出来るようになって
いる。
この実施例ではウェハーステージの入れ換えをアームに
よって行なっている為、従来のプロービング装置にウェ
ハー交換用のアーム部及びウェハーステージ■の目合わ
せ部を追加する事により実行出来るという利点がある。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、ウェハーステージを2つ
有する事により1枚のウェハーをP/Wチエツク中に、
次のウェハーのペレットの目合わせを行ない、ウェハー
のローディング時間を短縮できるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す正面図と側面図である
。第2図は本発明のウェハーステージをアームで交換す
るようにした実施例を示す正面図と側面図である。 1・・・・・・ウェハーステージ■、2・・・・・・ウ
ェハーステージ■、3・・・・・・プローブカード、4
・・・・・・目合わせ用センサー 5・・・・・・ウェ
ハー、6・・・・・・X軸用モータ■、7・・・・・・
X軸層モータ■、8・・・・・Y軸層モータ、9・・・
・・Z軸層モータ■、10・・・・・・Z軸周モータ■
、11・・・・・・θ軸周モータ■、12・・・・・・
θ軸周モータ■、13・・・・・・目合わせ用X軸モー
タ、14・・・・・・目合わせ用Y軸モータ、15・・
・・・・目合わせ用θ軸モータ、16・・・・・・Xi
レール、17・・・・・・Y軸シール、18・・・・・
・目合わせ用X軸シール、19・・・・・・目合わせ用
Y軸シール、20・・・・・・Y軸移動用ネジ、21・
・・・・・目合わせ用Y軸移動ネジ、22・・・・・・
X軸移動用ネジ、23・・・・・・目合わせ用X軸移動
ネジ、 24・・・・・ ウェハーステージ交換用アーム、 25・・・・・・アーム動作用モータ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ウェハー内のペレット試験時においてウェハーを乗せる
    為のウェハーステージを複数台有す事により、ペレット
    の平行合わせ及び位置決めの時間を短縮する事を特徴と
    する半導体用プロービング装置。
JP25261988A 1988-10-05 1988-10-05 半導体用プロービング装置 Pending JPH0298952A (ja)

Priority Applications (1)

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JP25261988A JPH0298952A (ja) 1988-10-05 1988-10-05 半導体用プロービング装置

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JP25261988A JPH0298952A (ja) 1988-10-05 1988-10-05 半導体用プロービング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0298952A true JPH0298952A (ja) 1990-04-11

Family

ID=17239880

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25261988A Pending JPH0298952A (ja) 1988-10-05 1988-10-05 半導体用プロービング装置

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JP (1) JPH0298952A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0357974A (ja) * 1989-07-27 1991-03-13 Tokyo Electron Ltd 半導体検査装置及び検査方法
US7190764B2 (en) 2002-10-25 2007-03-13 Japan Science And Technology Agency Electron accelerator and radiotherapy apparatus using same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0357974A (ja) * 1989-07-27 1991-03-13 Tokyo Electron Ltd 半導体検査装置及び検査方法
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