JPH0298629U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0298629U JPH0298629U JP665889U JP665889U JPH0298629U JP H0298629 U JPH0298629 U JP H0298629U JP 665889 U JP665889 U JP 665889U JP 665889 U JP665889 U JP 665889U JP H0298629 U JPH0298629 U JP H0298629U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum container
- gas introduction
- introduction tube
- ashing
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004380 ashing Methods 0.000 claims description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 2
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
第１図は、本考案の一実施例を示す断面図、第
２図ａ，ｂは、従来のガス導入管の接続構造を示
す斜視図、第３図は、第２図ｂの例の部分拡大断
面図である。 尚、図中１０は真空容器、１１は排気口、１２
はアツシングガス導入管、１３は分散ノズル、１
４は電極、１５は高周波電源、１６はウエハステ
ージ、１７はウエハである。
２図ａ，ｂは、従来のガス導入管の接続構造を示
す斜視図、第３図は、第２図ｂの例の部分拡大断
面図である。 尚、図中１０は真空容器、１１は排気口、１２
はアツシングガス導入管、１３は分散ノズル、１
４は電極、１５は高周波電源、１６はウエハステ
ージ、１７はウエハである。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 真空容器内にガス導入管を介してアツシングガ
スを導入し、放電によりプラズマを発生させてレ
ジスト除去を行うプラズマアツシング装置におい
て、 前記ガス導入管を真空容器内まで延長し、その
端部に分散ノズルを装着してなることを特徴とす
るプラズマアツシング装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP665889U JPH0298629U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP665889U JPH0298629U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0298629U true JPH0298629U (ja) | 1990-08-06 |
Family
ID=31211010
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP665889U Pending JPH0298629U (ja) | 1989-01-24 | 1989-01-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0298629U (ja) |
-
1989
- 1989-01-24 JP JP665889U patent/JPH0298629U/ja active Pending