JPH0392771U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0392771U JPH0392771U JP15263589U JP15263589U JPH0392771U JP H0392771 U JPH0392771 U JP H0392771U JP 15263589 U JP15263589 U JP 15263589U JP 15263589 U JP15263589 U JP 15263589U JP H0392771 U JPH0392771 U JP H0392771U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- frequency
- processing apparatus
- plasma processing
- earth shield
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例による電極構造が適
用されたプラズマＣＶＤ装置の断面概略構成図、
第２図は前記電極構造部分の拡大図である。 １……チヤンバ、３……高周波電極、４……接
地電極、５……高周波電源、６……アースシール
ド、７……絶縁物。
用されたプラズマＣＶＤ装置の断面概略構成図、
第２図は前記電極構造部分の拡大図である。 １……チヤンバ、３……高周波電極、４……接
地電極、５……高周波電源、６……アースシール
ド、７……絶縁物。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 プラズマ処理装置に用いられる電極構造であつ
て、 高周波電源に接続される高周波電極と、前記高
周波電極の周囲に設けられたアースシールド部材
と、前記高周波電極とアースシールド部材との間
に充填された粒状の絶縁物とを備えたプラズマ処
理装置の電極構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15263589U JPH0392771U (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15263589U JPH0392771U (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0392771U true JPH0392771U (ja) | 1991-09-20 |
Family
ID=31698888
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15263589U Pending JPH0392771U (ja) | 1989-12-29 | 1989-12-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0392771U (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06333849A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2006237064A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Alps Electric Co Ltd | 面実装型電子回路ユニット |
| JP2006253506A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tdk Corp | 複合基板装置及び複合基板装置の製造方法 |
| JP2009158586A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Alps Electric Co Ltd | 高周波回路ユニット |
| JP2014533434A (ja) * | 2011-10-17 | 2014-12-11 | ノベラス・システムズ・インコーポレーテッドＮｏｖｅｌｌｕｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 基板処理チャンバ内の寄生プラズマの機械的抑制 |
-
1989
- 1989-12-29 JP JP15263589U patent/JPH0392771U/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06333849A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
| JP2006237064A (ja) * | 2005-02-22 | 2006-09-07 | Alps Electric Co Ltd | 面実装型電子回路ユニット |
| JP4555119B2 (ja) * | 2005-02-22 | 2010-09-29 | アルプス電気株式会社 | 面実装型電子回路ユニット |
| JP2006253506A (ja) * | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Tdk Corp | 複合基板装置及び複合基板装置の製造方法 |
| JP2009158586A (ja) * | 2007-12-25 | 2009-07-16 | Alps Electric Co Ltd | 高周波回路ユニット |
| JP2014533434A (ja) * | 2011-10-17 | 2014-12-11 | ノベラス・システムズ・インコーポレーテッドＮｏｖｅｌｌｕｓ Ｓｙｓｔｅｍｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 基板処理チャンバ内の寄生プラズマの機械的抑制 |