JPH0460556U - - Google Patents
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- JPH0460556U JPH0460556U JP10364090U JP10364090U JPH0460556U JP H0460556 U JPH0460556 U JP H0460556U JP 10364090 U JP10364090 U JP 10364090U JP 10364090 U JP10364090 U JP 10364090U JP H0460556 U JPH0460556 U JP H0460556U
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma
- raw material
- sample stage
- material gas
- supply pipe
- Prior art date
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- Pending
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 4
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図から第8図迄は、本考案によるプラズマ
処理装置を示すためのもので、第1図は全体構成
を示す断面図、第2図は環状ガス供給管を示す拡
大平面図、第3図は第2図の他の実施例を示す平
面図、第4図は第1図の要部の拡大断面図、第5
図は第4図の他の実施例を示す断面図、第6図、
第7図および第8図は成膜状態を示す特性図、第
6A図は試料の中心から距離を示す平面図、第9
図は従来のプラズマ処理装置を示す断面図である
。 1はプラズマ生成室、13はプラズマ引出窓、
14は原料ガス、17は第1環状ガス供給管、1
9は試料、20は試料台、30はノズル、30a
は放出口、Qは長手方向、40は第2環状ガス供
給管である。
処理装置を示すためのもので、第1図は全体構成
を示す断面図、第2図は環状ガス供給管を示す拡
大平面図、第3図は第2図の他の実施例を示す平
面図、第4図は第1図の要部の拡大断面図、第5
図は第4図の他の実施例を示す断面図、第6図、
第7図および第8図は成膜状態を示す特性図、第
6A図は試料の中心から距離を示す平面図、第9
図は従来のプラズマ処理装置を示す断面図である
。 1はプラズマ生成室、13はプラズマ引出窓、
14は原料ガス、17は第1環状ガス供給管、1
9は試料、20は試料台、30はノズル、30a
は放出口、Qは長手方向、40は第2環状ガス供
給管である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 電子サイクロトロン共鳴励起によりプラズマ生
成室1内で発生させたプラズマを用いて試料台2
0上の試料19に処理を施すようにしたプラズマ
処理装置において、 前記プラズマ生成室1のプラズマ引出窓13と
前記試料台20の間に配設され原料ガス14を供
給するための第1環状ガス供給管17と、前記試
料台20の下方に配設され原料ガス14を供給す
るための第2環状ガス供給管40とを備え、前記
各環状ガス供給管17,40から原料ガス14を
供給するようにしたことを特徴とするプラズマ処
理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10364090U JPH0460556U (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10364090U JPH0460556U (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0460556U true JPH0460556U (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=31848597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10364090U Pending JPH0460556U (ja) | 1990-10-03 | 1990-10-03 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0460556U (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999045585A1 (fr) * | 1998-03-05 | 1999-09-10 | Tokyo Electron Limited | Appareil et procede de traitement au plasma |
JP2009093711A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-04-30 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56155535A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Film forming device utilizing plasma |
JPH02228476A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマプロセス装置 |
-
1990
- 1990-10-03 JP JP10364090U patent/JPH0460556U/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56155535A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Film forming device utilizing plasma |
JPH02228476A (ja) * | 1989-02-28 | 1990-09-11 | Sumitomo Metal Ind Ltd | プラズマプロセス装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO1999045585A1 (fr) * | 1998-03-05 | 1999-09-10 | Tokyo Electron Limited | Appareil et procede de traitement au plasma |
JP2009093711A (ja) * | 2007-10-04 | 2009-04-30 | Hoya Corp | 磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 |