JPH029449A - 排ガス浄化用触媒体 - Google Patents
排ガス浄化用触媒体Info
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- JPH029449A JPH029449A JP63159977A JP15997788A JPH029449A JP H029449 A JPH029449 A JP H029449A JP 63159977 A JP63159977 A JP 63159977A JP 15997788 A JP15997788 A JP 15997788A JP H029449 A JPH029449 A JP H029449A
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Links
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Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は家庭用燃焼器（含調理器）、各種工業炉等の燃
焼装置より排出される排ガスを浄化する触媒体に関する
。
焼装置より排出される排ガスを浄化する触媒体に関する
。
従来の技術
近年、各種の燃焼機器により排出される排気ガスのクリ
ーン化の要望が強い、この要望を満たすために、各燃焼
機器に排ガス浄化装置が取付けられるようになってきた
。この排ガス浄化装置には一般に触媒が取付けられるが
、この触媒の排ガス浄化性能は第３図に示すように温度
に依存し、ある温度以上にならないとその性能は充分に
発揮されない、すなわち第３図はグリル用触媒の温度に
対するＧｏ（１度１％）のＣＯｚ変化率を示したもので
あり、実用的には触媒の温度が３００℃以上であること
が好ましいことがわかる。
ーン化の要望が強い、この要望を満たすために、各燃焼
機器に排ガス浄化装置が取付けられるようになってきた
。この排ガス浄化装置には一般に触媒が取付けられるが
、この触媒の排ガス浄化性能は第３図に示すように温度
に依存し、ある温度以上にならないとその性能は充分に
発揮されない、すなわち第３図はグリル用触媒の温度に
対するＧｏ（１度１％）のＣＯｚ変化率を示したもので
あり、実用的には触媒の温度が３００℃以上であること
が好ましいことがわかる。
したがって、燃焼機器の排ガスの温度が高く、かつ燃焼
部に近い所に触媒装置を設置することができる場合は問
題がないが、燃焼器の燃焼温度が低い場合、または装置
の構成上触媒装置を熱源の近くに設置できない場合があ
る。このような場合は排ガスの温度が低く触媒により充
分にクリーン化することができない、したがって排ガス
の温度が低い場合は、排ガスを再加熱したり、触媒を加
熱したりする方法がとられてきた。
部に近い所に触媒装置を設置することができる場合は問
題がないが、燃焼器の燃焼温度が低い場合、または装置
の構成上触媒装置を熱源の近くに設置できない場合があ
る。このような場合は排ガスの温度が低く触媒により充
分にクリーン化することができない、したがって排ガス
の温度が低い場合は、排ガスを再加熱したり、触媒を加
熱したりする方法がとられてきた。
発明が解決しようとする課題
前記説明のように、排ガスの温度が低い場合、排ガスの
浄化効率をあげるため、排ガスの温度を再加熱により温
めるか、触媒の温度を加熱するかの手段が必要であった
。前者は再加熱するためのかなりの大きな空間が必要で
あり、かつ排ガス全体を必要温度以上にあげるのは困難
であった。また後者は実用的にはセラミックスからなる
ハニカム担体に触媒を担持させているが、このハニカム
担体にヒータをあてがい加熱してもハニカム担体全体が
−様な温度にならず、相当大きな温度差を生ずるため、
効率よく排ガスを浄化することができなかった。このた
め必要以上の能力のヒータを広面積にわたって設置せね
ばならず、触媒装置が必要以上に大きくなってしまうと
いう課題があった。
浄化効率をあげるため、排ガスの温度を再加熱により温
めるか、触媒の温度を加熱するかの手段が必要であった
。前者は再加熱するためのかなりの大きな空間が必要で
あり、かつ排ガス全体を必要温度以上にあげるのは困難
であった。また後者は実用的にはセラミックスからなる
ハニカム担体に触媒を担持させているが、このハニカム
担体にヒータをあてがい加熱してもハニカム担体全体が
−様な温度にならず、相当大きな温度差を生ずるため、
効率よく排ガスを浄化することができなかった。このた
め必要以上の能力のヒータを広面積にわたって設置せね
ばならず、触媒装置が必要以上に大きくなってしまうと
いう課題があった。
本発明は上記課題を解決し、容易にかつ均一に触媒が加
熱される排ガス浄化用触媒体を提供するものである。
熱される排ガス浄化用触媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段
本発明は上記課題を解決するために、ヒータを内蔵した
セラミックを担体とし、これに排ガスを浄化する触媒を
担持させたものである。
セラミックを担体とし、これに排ガスを浄化する触媒を
担持させたものである。
作用
上記構成において、触媒担持体としてヒータを内蔵した
セラミックを用いているため、徘ガス浄化が必要なとき
、通電により、触媒が排ガスを浄化する温度に容易にす
ることができる。
セラミックを用いているため、徘ガス浄化が必要なとき
、通電により、触媒が排ガスを浄化する温度に容易にす
ることができる。
実施例
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。第１図は本発明の触媒体１である。
る。第１図は本発明の触媒体１である。
触媒体１は中空円筒状のセラミック２の外表面に触媒３
を担持させ、前記中空部分にヒータを挿入した構成とな
っている。セラミック２としてはアルミナ、ジルコニア
、コーディエライト等耐熱性のあるものであればよい、
触媒３としては、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジ
ウム等の白金属元素、またはニッケル、コバルト、銅、
クロム等の遷移元素、あるいはランタン・セリウム・コ
バルトを有するペロブスカイト複合酸化物等からなる触
媒を用いる。触媒３の担持方法としては前記触媒３を単
独に担持してもよいが、前記触媒３を一旦Ｔ−アルミナ
等のセラミックス粉末に担持させた後、前記セラミック
粉末を前記円筒中空状セラミック２に担持させると表面
積の大きな触媒体を得ることができる。触媒を担持した
中空円筒状のセラミック２にニクロム、ステンレス等か
らなる耐熱性ヒータ４を挿入する。このようにして得ら
れた触媒体１を単位体とし、実際の使用にあたっては前
記触媒体を多数箇排ガスの流量に設置し、排ガスが中空
円筒状セラミックの表面で触媒により浄化されるように
する。
を担持させ、前記中空部分にヒータを挿入した構成とな
っている。セラミック２としてはアルミナ、ジルコニア
、コーディエライト等耐熱性のあるものであればよい、
触媒３としては、白金、パラジウム、ルテニウム、ロジ
ウム等の白金属元素、またはニッケル、コバルト、銅、
クロム等の遷移元素、あるいはランタン・セリウム・コ
バルトを有するペロブスカイト複合酸化物等からなる触
媒を用いる。触媒３の担持方法としては前記触媒３を単
独に担持してもよいが、前記触媒３を一旦Ｔ−アルミナ
等のセラミックス粉末に担持させた後、前記セラミック
粉末を前記円筒中空状セラミック２に担持させると表面
積の大きな触媒体を得ることができる。触媒を担持した
中空円筒状のセラミック２にニクロム、ステンレス等か
らなる耐熱性ヒータ４を挿入する。このようにして得ら
れた触媒体１を単位体とし、実際の使用にあたっては前
記触媒体を多数箇排ガスの流量に設置し、排ガスが中空
円筒状セラミックの表面で触媒により浄化されるように
する。
第２図は本発明の他の実施例である。アルミナからなる
セラミック２にタングステン等のヒータ４を封入し、セ
ラミック２の外表面に触媒３を担持させたものである。
セラミック２にタングステン等のヒータ４を封入し、セ
ラミック２の外表面に触媒３を担持させたものである。
触媒体Ｉを多数部組み合せ、浄化装置としこれを燃焼機
器に取付ける。浄化するために、ヒータ４に通電すると
、セラミック２は容易に加熱され全体かはｙ′同一の温
度になった０本実施例においては触媒は直接ヒータによ
り加熱されるため、触媒がその機能を充分に発揮するこ
とができる温度に短時間で到達し、排ガスの温度が低く
ても充分に浄化しクリーンなガスとすることができた。
器に取付ける。浄化するために、ヒータ４に通電すると
、セラミック２は容易に加熱され全体かはｙ′同一の温
度になった０本実施例においては触媒は直接ヒータによ
り加熱されるため、触媒がその機能を充分に発揮するこ
とができる温度に短時間で到達し、排ガスの温度が低く
ても充分に浄化しクリーンなガスとすることができた。
発明の効果
以上のように本発明の触媒体によれば次の効果が得られ
る。
る。
すなわち、本発明の触媒体はセラミックの内部にヒータ
が内蔵されているため、電圧印加により容易に全体を均
一に加熱することができる。したがって、たとえ燃焼機
器の排ガスが低温であっても効率よく排ガスを浄化しク
リーンなガスとすることができる。
が内蔵されているため、電圧印加により容易に全体を均
一に加熱することができる。したがって、たとえ燃焼機
器の排ガスが低温であっても効率よく排ガスを浄化しク
リーンなガスとすることができる。
第１図（ａ）は本発明の一実施例の触媒体の外観斜視図
、同図（ｂ）は同図（ａ）に示す触媒体の断面図、第２
図（ａ）は本発明の他の実施例の触媒体の外観斜視図、
同図（ｂ）は同図（ａ）に示す触媒体の断面図、第３図
は温度に対する触媒の活性度合を示す特性図である。 １・・・・・・触媒体、２・・・・・・セラミック、３
・・・・・・触媒、４・・・・・・ヒータ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第 第 図 図 触媒体 ゼ ラ ミ ツ ー 融 媒 ヒ − タ ク 第 図 温 及 （”ｃ）
、同図（ｂ）は同図（ａ）に示す触媒体の断面図、第２
図（ａ）は本発明の他の実施例の触媒体の外観斜視図、
同図（ｂ）は同図（ａ）に示す触媒体の断面図、第３図
は温度に対する触媒の活性度合を示す特性図である。 １・・・・・・触媒体、２・・・・・・セラミック、３
・・・・・・触媒、４・・・・・・ヒータ。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 はか１名第 第 図 図 触媒体 ゼ ラ ミ ツ ー 融 媒 ヒ − タ ク 第 図 温 及 （”ｃ）
Claims (1)
- ヒータを内蔵したセラミックを担体とし、これに排ガス
を浄化する触媒を担持させた排ガス浄化用触媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159977A JPH029449A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 排ガス浄化用触媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63159977A JPH029449A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 排ガス浄化用触媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH029449A true JPH029449A (ja) | 1990-01-12 |
Family
ID=15705308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63159977A Pending JPH029449A (ja) | 1988-06-28 | 1988-06-28 | 排ガス浄化用触媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH029449A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04258008A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-14 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置の製造方法 |
| JPH08103661A (ja) * | 1994-06-01 | 1996-04-23 | Hideo Kameyama | 自己再生可能な触媒体及びそれを用いた有機ハロゲン系ガスの処理方法 |
| JP2007134394A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2007175612A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 分解除去装置及びそれを用いた分解除去方法 |
-
1988
- 1988-06-28 JP JP63159977A patent/JPH029449A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04258008A (ja) * | 1991-02-12 | 1992-09-14 | Murata Mfg Co Ltd | 弾性表面波装置の製造方法 |
| JPH08103661A (ja) * | 1994-06-01 | 1996-04-23 | Hideo Kameyama | 自己再生可能な触媒体及びそれを用いた有機ハロゲン系ガスの処理方法 |
| JP2007134394A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Rohm Co Ltd | 半導体装置 |
| JP2007175612A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 分解除去装置及びそれを用いた分解除去方法 |
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