JPH0291120A - ポリカーボネートの精製方法 - Google Patents
ポリカーボネートの精製方法Info
- Publication number
- JPH0291120A JPH0291120A JP1204556A JP20455689A JPH0291120A JP H0291120 A JPH0291120 A JP H0291120A JP 1204556 A JP1204556 A JP 1204556A JP 20455689 A JP20455689 A JP 20455689A JP H0291120 A JPH0291120 A JP H0291120A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polycarbonate
- titanium
- polymer
- water
- mixture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 title claims abstract description 69
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 title claims abstract description 69
- 238000000746 purification Methods 0.000 title description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 34
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 33
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 17
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 56
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 claims description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 45
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 abstract description 10
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 abstract description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 abstract description 7
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 16
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 15
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 13
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- -1 zirconium alkoxide Chemical class 0.000 description 6
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 5
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 4
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 229940061720 alpha hydroxy acid Drugs 0.000 description 3
- 150000001280 alpha hydroxy acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 150000001495 arsenic compounds Chemical class 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 229940093920 gynecological arsenic compound Drugs 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 3
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000001443 photoexcitation Effects 0.000 description 3
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 3
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N Butyl carbitol 6-propylpiperonyl ether Chemical group C1=C(CCC)C(COCCOCCOCCCC)=CC2=C1OCO2 FIPWRIJSWJWJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 235000008206 alpha-amino acids Nutrition 0.000 description 2
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 2
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000003997 cyclic ketones Chemical class 0.000 description 2
- 230000001351 cycling effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 2
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004475 Arginine Substances 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P L-argininium(2+) Chemical compound NC(=[NH2+])NCCC[C@H]([NH3+])C(O)=O ODKSFYDXXFIFQN-BYPYZUCNSA-P 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N L-histidine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-YFKPBYRVSA-N 0.000 description 1
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N Titanium ion Chemical compound [Ti+4] LCKIEQZJEYYRIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004847 absorption spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001370 alpha-amino acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001371 alpha-amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N arginine Natural products OC(=O)C(N)CCCNC(N)=N ODKSFYDXXFIFQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000007600 charging Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000002939 deleterious effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- FPDLLPXYRWELCU-UHFFFAOYSA-M dimethyl(dioctadecyl)azanium;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC FPDLLPXYRWELCU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000007786 electrostatic charging Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 125000005059 halophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N histidine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CN=CN1 HNDVDQJCIGZPNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000003760 magnetic stirring Methods 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000010907 mechanical stirring Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N methoxide Chemical compound [O-]C NBTOZLQBSIZIKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- DTPZJXALAREFEY-UHFFFAOYSA-N n-methyl-3-triethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC DTPZJXALAREFEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 229960005235 piperonyl butoxide Drugs 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002574 poison Substances 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000000710 polymer precipitation Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical class 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 231100000167 toxic agent Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003440 toxic substance Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
- C08G64/40—Post-polymerisation treatment
- C08G64/406—Purifying; Drying
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
光皿至丘量
本発明は一般にゲムービス(ヒドロキシアリール)アル
カンのようなビスフェノールから得られたポリカーボネ
ート(” Process for B15pheno
lsなる名称の米国特許出願第067.588号参照、
該米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書に引
用する)を包含するポリカーボネートの精製方法に関す
る。さらに詳細には、本発明はポリカーボネート、特に
、ポリカーボネート(A)、ポリカーボネート(Z)、
およびこれらのコポリマー等の精製方法に関し、その調
製において用いた触媒のような望ましくない不純物を除
去することを含む。本発明の1つの実施態様においては
、例えば、公知の溶融ポリエステル化反応から得られた
ポリカーボネートの精製方法が提供され、この精製方法
はチタン触媒との錯体を形成しそれを除去して改良され
た特性を有するポリカーボネートを得ることを含む。従
って、本発明方法によれば、ある場合にポリカーボネー
トの調製において使用するチタンブトキサイド触媒を実
質的に含まないポリカーボネートが得られる。本発明方
法によって得られた精製ポリカーボネートは、これらポ
リカーボネートを、例えば、米国特許第4,265,9
90号に例示されているような多層型像形成部材(該米
国特許の記載はすべて参考として本明細書に引用する)
における移送分子用のバインダーとして使用するときに
、低暗減衰値およびサイクルアップを伴う最小残留電位
を包含する改良された特性を有する。また、本発明の精
製ポリカーボネートによれば、上述の像形成部材を形成
するためにその中に分散させた了り−ルアミン分子の望
ましくない結晶化が排除される。さらに、有毒な化合物
ホスゲンは本発明方法によって回避される。また、本発
明の方法によれば、約25.000〜約100,000
好ましくは約26.000〜約55,000の重量平均
分子量を有するポリカーボネートが得られる。これらの
分子量は、チタンまたはジルコニウムアルコキシドを含
むより活性な触媒を先ずポリカーボネートの調製におい
て使用し、次いで、このポリカーボネートを本発明の方
法により精製することにより得られるものと考えられる
。活性の小さい酢酸マンガンをポリカーボネートの調製
に使用する場合、得られるポリカーボネートの重量平均
分子量は低く、即ち、約20.000〜16.000よ
り低い。約25.000〜約100.000の高分子量
ポリカーボネートは改善された強じん性を有し、多層型
像形成部材の樹脂バインダーとして用いたとき、より釣
り込み性(Lesting)がありかつより弾性のある
装置を与える。
カンのようなビスフェノールから得られたポリカーボネ
ート(” Process for B15pheno
lsなる名称の米国特許出願第067.588号参照、
該米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書に引
用する)を包含するポリカーボネートの精製方法に関す
る。さらに詳細には、本発明はポリカーボネート、特に
、ポリカーボネート(A)、ポリカーボネート(Z)、
およびこれらのコポリマー等の精製方法に関し、その調
製において用いた触媒のような望ましくない不純物を除
去することを含む。本発明の1つの実施態様においては
、例えば、公知の溶融ポリエステル化反応から得られた
ポリカーボネートの精製方法が提供され、この精製方法
はチタン触媒との錯体を形成しそれを除去して改良され
た特性を有するポリカーボネートを得ることを含む。従
って、本発明方法によれば、ある場合にポリカーボネー
トの調製において使用するチタンブトキサイド触媒を実
質的に含まないポリカーボネートが得られる。本発明方
法によって得られた精製ポリカーボネートは、これらポ
リカーボネートを、例えば、米国特許第4,265,9
90号に例示されているような多層型像形成部材(該米
国特許の記載はすべて参考として本明細書に引用する)
における移送分子用のバインダーとして使用するときに
、低暗減衰値およびサイクルアップを伴う最小残留電位
を包含する改良された特性を有する。また、本発明の精
製ポリカーボネートによれば、上述の像形成部材を形成
するためにその中に分散させた了り−ルアミン分子の望
ましくない結晶化が排除される。さらに、有毒な化合物
ホスゲンは本発明方法によって回避される。また、本発
明の方法によれば、約25.000〜約100,000
好ましくは約26.000〜約55,000の重量平均
分子量を有するポリカーボネートが得られる。これらの
分子量は、チタンまたはジルコニウムアルコキシドを含
むより活性な触媒を先ずポリカーボネートの調製におい
て使用し、次いで、このポリカーボネートを本発明の方
法により精製することにより得られるものと考えられる
。活性の小さい酢酸マンガンをポリカーボネートの調製
に使用する場合、得られるポリカーボネートの重量平均
分子量は低く、即ち、約20.000〜16.000よ
り低い。約25.000〜約100.000の高分子量
ポリカーボネートは改善された強じん性を有し、多層型
像形成部材の樹脂バインダーとして用いたとき、より釣
り込み性(Lesting)がありかつより弾性のある
装置を与える。
従来の技術
ビスフェノール類の調製方法は公知であり、般に、2モ
ル当量のフェノールと1モル当量のカルボニル化合物と
の酸触媒の存在下での縮合を含む。この縮合に用いる酸
触媒は濃塩酸、ガス状塩化水素、濃硫酸、フッ化水素、
臭化水素、トリフッ化はう素、はう酸、塩化第2鉄、塩
化リン、リンベントキシド、ベンゼンスルホン酸等であ
る。
ル当量のフェノールと1モル当量のカルボニル化合物と
の酸触媒の存在下での縮合を含む。この縮合に用いる酸
触媒は濃塩酸、ガス状塩化水素、濃硫酸、フッ化水素、
臭化水素、トリフッ化はう素、はう酸、塩化第2鉄、塩
化リン、リンベントキシド、ベンゼンスルホン酸等であ
る。
これらの酸触媒、特に、ガス状塩化水素はフェノールと
アセトンのような立体的に受は入れ可能なケトンとの縮
合を促進させるのには極めて有効であるけれども、ビス
フェノール、特に、シクロペンタノンまたはシクロヘキ
サノンのような立体要求性小環状ケトンから誘導される
ビスフェノール(Z)の調製においては有効でない。小
環状ケトンとの縮合は急速な形では通常進行せず、生成
物の収量は一般に所望するよりも小さい。上記の反応、
特に、触媒としての塩化水素の存在下で行うときの反応
は米国特許第4.304.899号に記載されている。
アセトンのような立体的に受は入れ可能なケトンとの縮
合を促進させるのには極めて有効であるけれども、ビス
フェノール、特に、シクロペンタノンまたはシクロヘキ
サノンのような立体要求性小環状ケトンから誘導される
ビスフェノール(Z)の調製においては有効でない。小
環状ケトンとの縮合は急速な形では通常進行せず、生成
物の収量は一般に所望するよりも小さい。上記の反応、
特に、触媒としての塩化水素の存在下で行うときの反応
は米国特許第4.304.899号に記載されている。
同様な教示は米国特許第1.760.758号、第2.
069.560号および第2.069.573号にも存
在し、これらの米国特許には塩化水素触媒によるビスフ
ェノールの調製方法が開示されている。これらのビスフ
ェノールから得られるポリカーボネートはアリールアミ
ン正孔移送化合物用の樹脂バインダーとして使用できる
。
069.560号および第2.069.573号にも存
在し、これらの米国特許には塩化水素触媒によるビスフ
ェノールの調製方法が開示されている。これらのビスフ
ェノールから得られるポリカーボネートはアリールアミ
ン正孔移送化合物用の樹脂バインダーとして使用できる
。
コスジウエノおよびS、ハセガワの日本特許出願第46
−61.342号は金属酢酸塩、主として、酢酸マンガ
ンを用いるポリカーボネー)Z生成物の調製方法を開示
している。これらの生成物はトルエンからメタノール中
への沈澱の後は許容し得る静電複写特性を有するけれど
も、酢酸マンガン触媒重合は前述したような高分子量ポ
リマーを与えない。前述したような約25.000〜約
100.000の高分子量ポリカーボネートによって感
光体用の強じんな材料が与えられる。また、チタンアル
コネート触媒を脱活性化する多くの方法が公知である。
−61.342号は金属酢酸塩、主として、酢酸マンガ
ンを用いるポリカーボネー)Z生成物の調製方法を開示
している。これらの生成物はトルエンからメタノール中
への沈澱の後は許容し得る静電複写特性を有するけれど
も、酢酸マンガン触媒重合は前述したような高分子量ポ
リマーを与えない。前述したような約25.000〜約
100.000の高分子量ポリカーボネートによって感
光体用の強じんな材料が与えられる。また、チタンアル
コネート触媒を脱活性化する多くの方法が公知である。
これらの方法は、使用するチタン化合物の触媒活性を抑
制するけれども、触媒残渣のポリマーの静電複写性能に
与える有害な影響を排除しない。
制するけれども、触媒残渣のポリマーの静電複写性能に
与える有害な影響を排除しない。
米国特許第3.483..157号においては、ひ素化
合物または水蒸気を使用する方法が開示されている。
合物または水蒸気を使用する方法が開示されている。
詳細には、該3.483.157号米国粋許に開示され
た方法は追加の処理工程が、特に混合工程において、重
合を触発しないように触媒不活性化を意図しており、従
って、上記のひ素化合物または水蒸気は触媒“毒”であ
り、例えば、触媒は水溶性でないのでポリマーから除去
されない。また、ひ素化合物は極めて有毒である。さら
に、仏国特許第2、343.778号(1977年)お
よびミラーの西独公開第2.506.353号(197
5年)には、触媒不活性化目的のリン錯体化が開示され
ているが、これら方法は共にポリマー中にポリマーの静
電複写性能にマイナスの効果を与える分子種を残存して
いる。水性塩基でチタン触媒ポリマーを処理する繊維工
業では無色のポリマーを得ているが、無色のチタン残留
物はポリマーに貧弱な静電複写性能を与える。
た方法は追加の処理工程が、特に混合工程において、重
合を触発しないように触媒不活性化を意図しており、従
って、上記のひ素化合物または水蒸気は触媒“毒”であ
り、例えば、触媒は水溶性でないのでポリマーから除去
されない。また、ひ素化合物は極めて有毒である。さら
に、仏国特許第2、343.778号(1977年)お
よびミラーの西独公開第2.506.353号(197
5年)には、触媒不活性化目的のリン錯体化が開示され
ているが、これら方法は共にポリマー中にポリマーの静
電複写性能にマイナスの効果を与える分子種を残存して
いる。水性塩基でチタン触媒ポリマーを処理する繊維工
業では無色のポリマーを得ているが、無色のチタン残留
物はポリマーに貧弱な静電複写性能を与える。
従って、ポリカーボネートの調製方法は公知であるけれ
ども、その改良された精製方法を必要としている。さら
に詳細には、得られたポリマーから望ましくない不純物
を除去することのできる方法が求められている。さらに
、チタン触媒を除去しそれによってポリカーボネート含
有多層型像形成部材に低暗減衰値を含む改良された電気
特性を保持させ得るポリカーボネート精製方法が求めら
れている。さらにまた、実質的にチタン不純物を含まず
、例えば、電子写真像形成部材のバインダーとしての使
用を可能にし、かつ使用する電荷移送分子が実質的に結
晶化しないポリカーボネートの精製方法が求められてい
る。さらに、ポリカーボネートの調製に用いたチタン触
媒を実質的に除去するポリカーボネートの精製を可能に
する経済的方法が求められている。また、低燃性または
不燃性の薬剤を用いてポリカーボネートの精製を可能に
する効果的な方法が求められている。また、チタン触媒
重合から無色のポリマーを得る方法も求められている。
ども、その改良された精製方法を必要としている。さら
に詳細には、得られたポリマーから望ましくない不純物
を除去することのできる方法が求められている。さらに
、チタン触媒を除去しそれによってポリカーボネート含
有多層型像形成部材に低暗減衰値を含む改良された電気
特性を保持させ得るポリカーボネート精製方法が求めら
れている。さらにまた、実質的にチタン不純物を含まず
、例えば、電子写真像形成部材のバインダーとしての使
用を可能にし、かつ使用する電荷移送分子が実質的に結
晶化しないポリカーボネートの精製方法が求められてい
る。さらに、ポリカーボネートの調製に用いたチタン触
媒を実質的に除去するポリカーボネートの精製を可能に
する経済的方法が求められている。また、低燃性または
不燃性の薬剤を用いてポリカーボネートの精製を可能に
する効果的な方法が求められている。また、チタン触媒
重合から無色のポリマーを得る方法も求められている。
発明の内容
従って、本発明の目的はポリカーボネートの精製方法を
提供することである。
提供することである。
本発明の上記および他の目的はポリカーボネートの精製
方法を提供することによって達成される。
方法を提供することによって達成される。
さらに詳細には、本発明方法はポリカーボネートから除
去することが望ましい不純物を含有する錯体を形成する
ことを含む。1つの特定の実施態様にふいては、本発明
は、溶媒に錯生成成分を加え、その溶媒は好ましくは酸
性水素を含ます;ポリカーボネートを、例えば、上記錯
体と溶媒混合物に溶解させ;その後、それより精製ポリ
カーボネート沈殿を分離し、錯体化不純物を含有する溶
液を廃棄することによるポリカーボネー) (A) 、
ポリカーボネート (Z)またはこれらのコポリマーを
包含するポリカーボネートの精製方法に関する。
去することが望ましい不純物を含有する錯体を形成する
ことを含む。1つの特定の実施態様にふいては、本発明
は、溶媒に錯生成成分を加え、その溶媒は好ましくは酸
性水素を含ます;ポリカーボネートを、例えば、上記錯
体と溶媒混合物に溶解させ;その後、それより精製ポリ
カーボネート沈殿を分離し、錯体化不純物を含有する溶
液を廃棄することによるポリカーボネー) (A) 、
ポリカーボネート (Z)またはこれらのコポリマーを
包含するポリカーボネートの精製方法に関する。
本発明の1つの実施態様においては、ポリカーボネート
を溶媒と混合し、生成した溶液混合物に錯形成成分を添
加し、得られた混合物を水と混合し、続いて、それより
ポリカーボネート生成物を分離するチタン触媒残留物を
含有するポリカーボネートの精製方法が提供される。本
発明の他の実施態様はポリカーボネートを溶媒と混合し
、生成した溶液を錯形成成分と混合し、得られた混合物
を水と混合し、続いて、それより精製したポリカーボネ
ート生成物を分離するチタン触媒残留物を含有するポリ
カーボネートの精製方法に関する。
を溶媒と混合し、生成した溶液混合物に錯形成成分を添
加し、得られた混合物を水と混合し、続いて、それより
ポリカーボネート生成物を分離するチタン触媒残留物を
含有するポリカーボネートの精製方法が提供される。本
発明の他の実施態様はポリカーボネートを溶媒と混合し
、生成した溶液を錯形成成分と混合し、得られた混合物
を水と混合し、続いて、それより精製したポリカーボネ
ート生成物を分離するチタン触媒残留物を含有するポリ
カーボネートの精製方法に関する。
混合工程順序は本発明の目的が達成される限り任意の順
序で実施できる、即ち、例えば、錯形成成分をポリカー
ボネートの混合前または後の溶媒に溶解させてもよい。
序で実施できる、即ち、例えば、錯形成成分をポリカー
ボネートの混合前または後の溶媒に溶解させてもよい。
錯形成成分を含有するポリカーボネート溶液は該溶液を
約30〜約240分間でゆっくりと100rdの溶液を
撹拌水中に滴下しながら添加するようにして、あいは1
00m1を約30秒〜約5分間で急速に添加するように
して加えることによって水と混合できる。溶液は約30
0〜1000スタラーrpmで撹拌しながらの水面下で
の散布チューブによりあるいは例えば約2秒〜約3日間
で急速にまたはゆっくりと水を撹拌ポリカーボネートに
加えることにより混合できる。
約30〜約240分間でゆっくりと100rdの溶液を
撹拌水中に滴下しながら添加するようにして、あいは1
00m1を約30秒〜約5分間で急速に添加するように
して加えることによって水と混合できる。溶液は約30
0〜1000スタラーrpmで撹拌しながらの水面下で
の散布チューブによりあるいは例えば約2秒〜約3日間
で急速にまたはゆっくりと水を撹拌ポリカーボネートに
加えることにより混合できる。
1つの実施態様における本発明方法はポリカーボネート
(A)またはポリカーボネート (Z)のようなチタン
触媒により調製したポリカーボネートを、好ましくは、
撹拌しながら、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド
等を包含する極性非プロトン性溶媒のような適当な溶媒
中に溶解し;生成した混合物に上記ポリカーボネート中
に含まれるチタン不純物、特に、チタンブトキシド触媒
と錯体(コンプレックス)を形成する酒石酸のような錯
形成成分を添加し;水を加え;精製したポリカーボネー
トを例えば濾過により分離し;そして錯体化チタン不純
物を含む水不純物混合物を廃棄することを含むポリカー
ボネートの精製方法に関する。
(A)またはポリカーボネート (Z)のようなチタン
触媒により調製したポリカーボネートを、好ましくは、
撹拌しながら、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド
等を包含する極性非プロトン性溶媒のような適当な溶媒
中に溶解し;生成した混合物に上記ポリカーボネート中
に含まれるチタン不純物、特に、チタンブトキシド触媒
と錯体(コンプレックス)を形成する酒石酸のような錯
形成成分を添加し;水を加え;精製したポリカーボネー
トを例えば濾過により分離し;そして錯体化チタン不純
物を含む水不純物混合物を廃棄することを含むポリカー
ボネートの精製方法に関する。
本発明の1つの好ましい実施態様においては、0、25
gの酒石酸を100mj!のジメチルホルムアミドに
溶解し、錯形成性酒石酸の完全な溶解後、チタンブトキ
シドを触媒として用いた溶融エステル交換により得た1
0gのポリカーボネートまたはコポリマー(90モル%
のビスフェノール(Z)と10モル%のビスフェノール
(A))を加えることを含むポリカーボネートの精製方
法が提供される。次にこの混合物を16時間攪拌し、そ
の間にコポリマーは溶解する。次いでコポリマーをこの
溶液を3.000mj+の急速に攪拌されている脱イオ
ン水に滴下することによって沈澱させる。その後、沈澱
させたコポリマーを濾過により集め真空炉中で100℃
、20時間乾燥させる。
gの酒石酸を100mj!のジメチルホルムアミドに
溶解し、錯形成性酒石酸の完全な溶解後、チタンブトキ
シドを触媒として用いた溶融エステル交換により得た1
0gのポリカーボネートまたはコポリマー(90モル%
のビスフェノール(Z)と10モル%のビスフェノール
(A))を加えることを含むポリカーボネートの精製方
法が提供される。次にこの混合物を16時間攪拌し、そ
の間にコポリマーは溶解する。次いでコポリマーをこの
溶液を3.000mj+の急速に攪拌されている脱イオ
ン水に滴下することによって沈澱させる。その後、沈澱
させたコポリマーを濾過により集め真空炉中で100℃
、20時間乾燥させる。
本発明の方法において使用するポリカーボネートの例に
は、4,4′−ジヒドロキシジフェニル−1,1−エタ
ン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル−1,1−イソ
ブタン、4.4′−ジヒドロキシジフェニル−2,2−
プロパン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル−4,4
−へブタン、4.4′−ジヒドロキシジフェノール−1
,1シクロヘキサン、4.4’−ジヒドロキシ−3゜3
′−ジメチルジフェニル−2,2−プロパン、4.4′
−ジヒドロキシ−3,3’、5.5’テトラクロロジフ
ェニル−2,2−プロパン、4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン、および4.4′−ジヒドロキシジフ
ェニルエーテルから得られたポリマー、これらのコポリ
マー、並びに前記の米国特許出願に開示されているポリ
カーボネートがある。それらの構造は” Herman
n 5chne11 ’ s Chemistry a
nd Physics of Po1ycarbona
tes。
は、4,4′−ジヒドロキシジフェニル−1,1−エタ
ン、4,4′−ジヒドロキシジフェニル−1,1−イソ
ブタン、4.4′−ジヒドロキシジフェニル−2,2−
プロパン、4.4’−ジヒドロキシジフェニル−4,4
−へブタン、4.4′−ジヒドロキシジフェノール−1
,1シクロヘキサン、4.4’−ジヒドロキシ−3゜3
′−ジメチルジフェニル−2,2−プロパン、4.4′
−ジヒドロキシ−3,3’、5.5’テトラクロロジフ
ェニル−2,2−プロパン、4゜4′−ジヒドロキシジ
フェニルスルホン、および4.4′−ジヒドロキシジフ
ェニルエーテルから得られたポリマー、これらのコポリ
マー、並びに前記の米国特許出願に開示されているポリ
カーボネートがある。それらの構造は” Herman
n 5chne11 ’ s Chemistry a
nd Physics of Po1ycarbona
tes。
Po1)n+er Reviews V、9jnter
science Publishersに記載されてお
り、主として、86〜90頁の表IV−1、さらには、
表rV−2、V−1、V−2、V−3、V−4、V−5
およびV−6において見い出される;この文献の記載は
すべて参考として本明細書に引用する。
science Publishersに記載されてお
り、主として、86〜90頁の表IV−1、さらには、
表rV−2、V−1、V−2、V−3、V−4、V−5
およびV−6において見い出される;この文献の記載は
すべて参考として本明細書に引用する。
本発明方法において使用する通常ポリマーに対して約1
0〜約20重量/水容量%の量で存在する溶媒の例には
、酸水素を有しない非プロトン溶媒、即ち、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルアセトアミド、スルホラン等のような中
高絶縁定数、即ち、例えば、約30〜約50の絶縁定数
を有する極性溶媒がある;文献” Morvison
and Boyd。
0〜約20重量/水容量%の量で存在する溶媒の例には
、酸水素を有しない非プロトン溶媒、即ち、ジメチルホ
ルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキ
シド、ジメチルアセトアミド、スルホラン等のような中
高絶縁定数、即ち、例えば、約30〜約50の絶縁定数
を有する極性溶媒がある;文献” Morvison
and Boyd。
Organic Chemistey、3rd I!d
、、 P、 31”参照、該文献の記載はすべて参考
として本明細書に引用する。使用する溶媒はポリカーボ
ネートを溶解せしめまた水に混和性であるべきである。
、、 P、 31”参照、該文献の記載はすべて参考
として本明細書に引用する。使用する溶媒はポリカーボ
ネートを溶解せしめまた水に混和性であるべきである。
本発明の方法で使用し通常ポリマーの約0.5〜約2.
5%(wt/wtポリマー)の量で存在する錯形成成分
には酒石酸、クエン酸、およびマレイン酸のようなα−
ヒ°ドロキシ酸;アスパラギン酸、グリシン、アルギニ
ンおよびヒスチジンのようなα−アミノ酸等がある。α
−ヒドロキシ酸は、主としてこれらがポリマー溶媒と水
により溶解性であることから、好ましい錯形成剤である
。本発明方法の重要な点は上記の錯形成剤とポリマー溶
媒の選択にある。
5%(wt/wtポリマー)の量で存在する錯形成成分
には酒石酸、クエン酸、およびマレイン酸のようなα−
ヒ°ドロキシ酸;アスパラギン酸、グリシン、アルギニ
ンおよびヒスチジンのようなα−アミノ酸等がある。α
−ヒドロキシ酸は、主としてこれらがポリマー溶媒と水
により溶解性であることから、好ましい錯形成剤である
。本発明方法の重要な点は上記の錯形成剤とポリマー溶
媒の選択にある。
チタニウム(IV)ブトキシド、チタニウム(TV)タ
レシレート、チタニウム(IV)エトキシド、チタニウ
ム(■)2−エチルヘキソキシド、チタニウム(rV)
イソブトキシド、チタニウム(IV)イソプロポキシド
、チタニウム(■)メトキシド、チタニウム(IV)
n−ノニレート、チタニウム(■)n−プロポキシド、
ジルコニウムアルコキシド等の実質的にすべてのチタン
アルコキシド触媒は本発明方法によって実質的に完全に
除去可能であるべきである。チタン錯体は本発明方法に
よって形成されるのみならず、該錯体は水溶性でありか
くして水中でのポリマー沈降中にポリマーマトリックス
から容易に抽出できる。理論によって拘束することは望
まないけれども、重合途中において、触媒中でチタンに
結合している原ブトキサイド基は重合中に生じたフェノ
キシト基によって置換されるものと考えられる。適当な
溶媒中で、酒石酸のようなα−ヒドロキシ酸はチタンに
結合したフェノキシト基をポリマーから分離し得る水溶
性錯体が形成される十分な程度まで置換し得る。
レシレート、チタニウム(IV)エトキシド、チタニウ
ム(■)2−エチルヘキソキシド、チタニウム(rV)
イソブトキシド、チタニウム(IV)イソプロポキシド
、チタニウム(■)メトキシド、チタニウム(IV)
n−ノニレート、チタニウム(■)n−プロポキシド、
ジルコニウムアルコキシド等の実質的にすべてのチタン
アルコキシド触媒は本発明方法によって実質的に完全に
除去可能であるべきである。チタン錯体は本発明方法に
よって形成されるのみならず、該錯体は水溶性でありか
くして水中でのポリマー沈降中にポリマーマトリックス
から容易に抽出できる。理論によって拘束することは望
まないけれども、重合途中において、触媒中でチタンに
結合している原ブトキサイド基は重合中に生じたフェノ
キシト基によって置換されるものと考えられる。適当な
溶媒中で、酒石酸のようなα−ヒドロキシ酸はチタンに
結合したフェノキシト基をポリマーから分離し得る水溶
性錯体が形成される十分な程度まで置換し得る。
溶媒中でのポリマーの溶解は通常約2〜約24時間を要
するが、その溶解速度は分子量および利用可能な表面積
を含む多くの要因による。触媒錯体の形成はこの同じ時
間内に起る。例えば、室温から約140℃まで加熱する
ことによりポリマーの溶解を促進させ得る。ポリマーの
攪拌も溶解を促進し、この攪拌は振盪、機械攪拌または
磁力攪拌により行い得る。精製ポリカーボネートの沈澱
は調製したポリマー溶液の水への添加を含む多くの方法
によって行い得る。−膜内には、激しい攪拌を沈澱工程
においては行う。
するが、その溶解速度は分子量および利用可能な表面積
を含む多くの要因による。触媒錯体の形成はこの同じ時
間内に起る。例えば、室温から約140℃まで加熱する
ことによりポリマーの溶解を促進させ得る。ポリマーの
攪拌も溶解を促進し、この攪拌は振盪、機械攪拌または
磁力攪拌により行い得る。精製ポリカーボネートの沈澱
は調製したポリマー溶液の水への添加を含む多くの方法
によって行い得る。−膜内には、激しい攪拌を沈澱工程
においては行う。
本発明方法で得た好ましくは約25,000〜約100
.000の重量平均分子量MWを有する精製ポリカーボ
ネートは、例えば、米国特許第4,265.990号に
例示されているような多層型感光性像形成部材の光励起
性顔料および電荷移送分子用の樹脂バインダーとして有
用である。さらに詳細には、これらの部材は支持基体;
約1〜約15重量%の量で存在する上記精製ポリカーボ
ネート樹脂バインダー中に必要に応じて分散させた約8
5〜約99重量%の三方晶セレン、金属フタロシアニン
または無金属フタロシアニンを含有する光励起層;およ
び本発明の方法により得た精製ポリカーボネート樹脂バ
インダー中に分散させた(50150) 、例えば、上
記4,265,990号米国粋許および有機光導電性像
形成部材に関する米国特許出願第851,051号(該
米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書に引用
する)に開示されているような了り−ルアミンを含む電
荷移送層を通常含む。これらの光導電性像形成部材は静
電複写像形成法を包含する多くの像形成複写方法および
装置において使用できる。
.000の重量平均分子量MWを有する精製ポリカーボ
ネートは、例えば、米国特許第4,265.990号に
例示されているような多層型感光性像形成部材の光励起
性顔料および電荷移送分子用の樹脂バインダーとして有
用である。さらに詳細には、これらの部材は支持基体;
約1〜約15重量%の量で存在する上記精製ポリカーボ
ネート樹脂バインダー中に必要に応じて分散させた約8
5〜約99重量%の三方晶セレン、金属フタロシアニン
または無金属フタロシアニンを含有する光励起層;およ
び本発明の方法により得た精製ポリカーボネート樹脂バ
インダー中に分散させた(50150) 、例えば、上
記4,265,990号米国粋許および有機光導電性像
形成部材に関する米国特許出願第851,051号(該
米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書に引用
する)に開示されているような了り−ルアミンを含む電
荷移送層を通常含む。これらの光導電性像形成部材は静
電複写像形成法を包含する多くの像形成複写方法および
装置において使用できる。
種々の適当な電荷移送層を上述の光導電性像形成部材に
おいて使用でき、この層は約5〜約50ミクロン好まし
くは約lO〜約40ミクロンの厚さを有する。好ましい
実施態様においては、この移送層は本発明方法によって
得た精製ポリカーボネート樹脂バインダー中に分散させ
た次式:〔式中、Xは(オルト)C1h、(メタ)CL
、(パラ)C1h<(オルト)CZ、 (メタ)C1お
よび(バラ)Cj2のようなアルキルおよびハロゲンか
らなる群より選ばれる〕 のアリールアミン分子を含む。
おいて使用でき、この層は約5〜約50ミクロン好まし
くは約lO〜約40ミクロンの厚さを有する。好ましい
実施態様においては、この移送層は本発明方法によって
得た精製ポリカーボネート樹脂バインダー中に分散させ
た次式:〔式中、Xは(オルト)C1h、(メタ)CL
、(パラ)C1h<(オルト)CZ、 (メタ)C1お
よび(バラ)Cj2のようなアルキルおよびハロゲンか
らなる群より選ばれる〕 のアリールアミン分子を含む。
上記式に相応する化合物には、例えば、N、N’−ジフ
ェニルーN、N’−ビス(アルキルフェニル)−(1,
1−ビフェニル:]−]4.4’−ビアミがあり、式中
、アルキルはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル等がある。ハロ置換におい・では、上記アミンはN
、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(ハロフェニル)
−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンであ
り、式中、ハロは2−クロロ、3−10ロマタハ4−
クロロである。
ェニルーN、N’−ビス(アルキルフェニル)−(1,
1−ビフェニル:]−]4.4’−ビアミがあり、式中
、アルキルはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキ
シル等がある。ハロ置換におい・では、上記アミンはN
、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(ハロフェニル)
−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンであ
り、式中、ハロは2−クロロ、3−10ロマタハ4−
クロロである。
また、本発明の範囲には、上述の感光性部材による像形
成方法も包含される。これらの方法は、一般に、上記像
形成部材上に静電潜像を形成し;次いで、この像を公知
の現像剤組成物(例えば、米国特許第3.590.00
0号、第4.469.770号、第4.560.635
号および第4,298,672号参照、これら米国特許
の記載はすべて参考として本明細書に引用する)で現像
し;その後、像を適当な基体に転写し、像を基体に永久
的に定着することを含む。
成方法も包含される。これらの方法は、一般に、上記像
形成部材上に静電潜像を形成し;次いで、この像を公知
の現像剤組成物(例えば、米国特許第3.590.00
0号、第4.469.770号、第4.560.635
号および第4,298,672号参照、これら米国特許
の記載はすべて参考として本明細書に引用する)で現像
し;その後、像を適当な基体に転写し、像を基体に永久
的に定着することを含む。
劣旌炭
実施例1
以下の実施例においては、螺旋コイル攪拌器および二重
機械的シールを備えた11のステンレススチール反応器
を用いた。攪拌器は30:1ギア減速を有する2馬カモ
−ターで駆動し、攪拌器駆動装置にはトルクメーターが
含まれていた。反応器は電気的に加熱し、圧力は圧力ト
ランジュサーおよびビラニ計の両方でモニターし、また
温度は白金RTDで測定した。特別設計のコンデンサー
よりフェノールとジフェニルカーボネートの効果的な縮
合を確立した。原料のいくつかは室温で固体であるので
、コンデンサー設計により、これら原料が固化したとき
反応器と真空ポンプ間の系を閉塞して反応を停止しない
ようにし、た。さらに、反応終了時の0.1〜100ミ
リバール以下の低圧において、フェノールは室温で十分
な蒸気圧を有し、さらに、フェノールは系によって達成
され得る最低圧を上昇させることにより、あるいはコン
デンサーの他の部分に昇華させ系を閉塞することによっ
て重合を阻止し得た。
機械的シールを備えた11のステンレススチール反応器
を用いた。攪拌器は30:1ギア減速を有する2馬カモ
−ターで駆動し、攪拌器駆動装置にはトルクメーターが
含まれていた。反応器は電気的に加熱し、圧力は圧力ト
ランジュサーおよびビラニ計の両方でモニターし、また
温度は白金RTDで測定した。特別設計のコンデンサー
よりフェノールとジフェニルカーボネートの効果的な縮
合を確立した。原料のいくつかは室温で固体であるので
、コンデンサー設計により、これら原料が固化したとき
反応器と真空ポンプ間の系を閉塞して反応を停止しない
ようにし、た。さらに、反応終了時の0.1〜100ミ
リバール以下の低圧において、フェノールは室温で十分
な蒸気圧を有し、さらに、フェノールは系によって達成
され得る最低圧を上昇させることにより、あるいはコン
デンサーの他の部分に昇華させ系を閉塞することによっ
て重合を阻止し得た。
このコンデンサーにおいては、反応器からコンデンサー
へのパイプの直径は0.95 am (3/8インチ)
であった。系の主要部分は可撓性のスチールパイプから
なり反応器とコンデンサーの両方を正確に位置付するこ
とはしなかった。加熱用マントルを用いて系を包み、熱
電対をマントルとパイプの間に挿入して温度をモニター
した。縮合は10.16cm(4インチ)径X19.0
5cm(約7.5インチ)長のステンレススチールパイ
プ中で起った。パイプの外側をシリコーンゴム加熱デー
プにより特に反応器からパイプが出る領域を加熱した。
へのパイプの直径は0.95 am (3/8インチ)
であった。系の主要部分は可撓性のスチールパイプから
なり反応器とコンデンサーの両方を正確に位置付するこ
とはしなかった。加熱用マントルを用いて系を包み、熱
電対をマントルとパイプの間に挿入して温度をモニター
した。縮合は10.16cm(4インチ)径X19.0
5cm(約7.5インチ)長のステンレススチールパイ
プ中で起った。パイプの外側をシリコーンゴム加熱デー
プにより特に反応器からパイプが出る領域を加熱した。
この領域をよく加熱しない場合、ジフェニルカーボネー
トは反応の後半部において系を閉塞することがあり得る
。フェノールは壁土および45℃のシリコーンオイルが
循環している螺旋コイル上で凝縮した。この方法で、フ
ェノールは液体としてパイトンシールを用いたフランジ
により上部ステンレススチール部分に連結されたコンデ
ンサーのガラス底部分に滴下する。このガラス片は50
0m1樹脂フラスコの底部である。このガラスにより、
フェノール凝縮の量および速度をモニターできる。コン
デンサーから真空ポンプに至る系は閉塞の機械をさらに
減じる1、27cffi(!4インチ)直径である。こ
の系のコンデンサーへの長い延伸より蒸気が排出し得る
前に蒸気をコンデンサーコイルを横切ってコンデンサー
の冷却ガラス部分に押下ぼる。フェノールのような移行
を回避するために、ドライアイスとイソプロパツールの
ジュア−フラスコを用いて反応器圧が100ミリバール
以下に低下したときのコンデンサーの下部ガラス部分を
囲った。重合はフェノールの除去により誘導し、フェノ
ールの除去は圧力と温度により誘導した。一連のパルプ
、回転オイルポンプおよびサージタンクは反応器圧に制
御された変化を与えた。
トは反応の後半部において系を閉塞することがあり得る
。フェノールは壁土および45℃のシリコーンオイルが
循環している螺旋コイル上で凝縮した。この方法で、フ
ェノールは液体としてパイトンシールを用いたフランジ
により上部ステンレススチール部分に連結されたコンデ
ンサーのガラス底部分に滴下する。このガラス片は50
0m1樹脂フラスコの底部である。このガラスにより、
フェノール凝縮の量および速度をモニターできる。コン
デンサーから真空ポンプに至る系は閉塞の機械をさらに
減じる1、27cffi(!4インチ)直径である。こ
の系のコンデンサーへの長い延伸より蒸気が排出し得る
前に蒸気をコンデンサーコイルを横切ってコンデンサー
の冷却ガラス部分に押下ぼる。フェノールのような移行
を回避するために、ドライアイスとイソプロパツールの
ジュア−フラスコを用いて反応器圧が100ミリバール
以下に低下したときのコンデンサーの下部ガラス部分を
囲った。重合はフェノールの除去により誘導し、フェノ
ールの除去は圧力と温度により誘導した。一連のパルプ
、回転オイルポンプおよびサージタンクは反応器圧に制
御された変化を与えた。
上記の特定のコンデンサーを有する反応器に、155.
5gの米国特許出願第067.588号に開示されてい
るような方法で得たビスフェノール(Z)(4,4’−
シクロヘキシリデンジフェノール)(該米国特許出願の
記載はすべて参考として本明細書に引用する)、138
gのジフェニルカーボネート、および0.25m1のチ
タン<IV)ブトキサイドを加えた。次いで、反応器を
密閉し、220°Cに加熱し、圧を1000ミリバール
(大気圧)から約500ミリバールに低下させた。約1
5分間で、フェノールはコンデンサー中に集まり始め、
その量をコンデンサーの下部ガラス部分で観察した。圧
力低下速度を遅くして約2時間で5ミリバールの圧力に
到達させた。この遅い圧力低下中に、約70〜80ml
のフェノールがコンデンサーの下部ガラス部分に集まる
のが観察された。圧力が約100ミリバールに達したと
き、イソプロパツールとドライアイスのジュア−フラス
コをコンデンサーの下部部分の周りに置いてフェノール
の蒸気圧を低下させた。220℃で3時間後、温度28
0℃に上昇させ、加熱を2時間続けた。その後、温度を
290℃に上げ、得られた溶融ポリマーを反応器から大
ピンセットにより乾燥した窒素雰囲気中に引き出し加熱
ポリマーの加水分解または酸化を防止した。このポリマ
ーは冷却後ポリカーボネート(Z)のGPCにより測定
したとき39000のポリスチレン当量の重量平均分子
量を有していた。続いて、生成物の精製を行うために、
10gの上記ポリカーボネートを0.25 gの酒石酸
を錯形成成分として含有する100m1のポリマー溶媒
としてのジメチルホルムアミドに加えた。
5gの米国特許出願第067.588号に開示されてい
るような方法で得たビスフェノール(Z)(4,4’−
シクロヘキシリデンジフェノール)(該米国特許出願の
記載はすべて参考として本明細書に引用する)、138
gのジフェニルカーボネート、および0.25m1のチ
タン<IV)ブトキサイドを加えた。次いで、反応器を
密閉し、220°Cに加熱し、圧を1000ミリバール
(大気圧)から約500ミリバールに低下させた。約1
5分間で、フェノールはコンデンサー中に集まり始め、
その量をコンデンサーの下部ガラス部分で観察した。圧
力低下速度を遅くして約2時間で5ミリバールの圧力に
到達させた。この遅い圧力低下中に、約70〜80ml
のフェノールがコンデンサーの下部ガラス部分に集まる
のが観察された。圧力が約100ミリバールに達したと
き、イソプロパツールとドライアイスのジュア−フラス
コをコンデンサーの下部部分の周りに置いてフェノール
の蒸気圧を低下させた。220℃で3時間後、温度28
0℃に上昇させ、加熱を2時間続けた。その後、温度を
290℃に上げ、得られた溶融ポリマーを反応器から大
ピンセットにより乾燥した窒素雰囲気中に引き出し加熱
ポリマーの加水分解または酸化を防止した。このポリマ
ーは冷却後ポリカーボネート(Z)のGPCにより測定
したとき39000のポリスチレン当量の重量平均分子
量を有していた。続いて、生成物の精製を行うために、
10gの上記ポリカーボネートを0.25 gの酒石酸
を錯形成成分として含有する100m1のポリマー溶媒
としてのジメチルホルムアミドに加えた。
16時間の混合物の攪拌後、得られたポリマー溶液を3
1の急速に攪拌されている脱イオン水中に沈澱させた。
1の急速に攪拌されている脱イオン水中に沈澱させた。
得られた精製ポリマーを濾過により回収し真空炉中で約
100℃で一夜乾燥させた。
100℃で一夜乾燥させた。
DCプラズマ発出吸光分光分析により測定したとき、未
処理ポリマーは160ggg−’ (μg/g、ppm
の旧来の標示)のチタンを含有しており、酒石酸含有ジ
メチルホルムアミド中での溶解およびその後の水中での
沈澱による精製ポリカーボネートは1.1ggg−1の
チタンを含有していた。
処理ポリマーは160ggg−’ (μg/g、ppm
の旧来の標示)のチタンを含有しており、酒石酸含有ジ
メチルホルムアミド中での溶解およびその後の水中での
沈澱による精製ポリカーボネートは1.1ggg−1の
チタンを含有していた。
実施例2
実施例1の方法を繰返したが、140gのビスフェノー
ル(Z)(4,4’−シクロへキシリデンジフェノール
) 、13.2gのビスフェノール(A)(4,4’−
イソプロピリデンジフェノール)および136.7gの
ジフェニルカーボネートを用いた。また、温度条件は2
20℃で2時間、260℃で1.5時間、280℃で1
時間および300℃で1時間であった。GPC重量平均
分子ff167000を有するポリカーボネートが得ら
れ、このポリカーボネートは220ggg−’のチタン
含有量および5.6μgg−’の精製後チタン含有量を
有していた。
ル(Z)(4,4’−シクロへキシリデンジフェノール
) 、13.2gのビスフェノール(A)(4,4’−
イソプロピリデンジフェノール)および136.7gの
ジフェニルカーボネートを用いた。また、温度条件は2
20℃で2時間、260℃で1.5時間、280℃で1
時間および300℃で1時間であった。GPC重量平均
分子ff167000を有するポリカーボネートが得ら
れ、このポリカーボネートは220ggg−’のチタン
含有量および5.6μgg−’の精製後チタン含有量を
有していた。
実施例3
実施例2の方法を繰返したが、280gのビスフェノー
ル(Z)(4,4’−シクロヘキシリデンジフェノール
)、26.4gのビスフェノール(A)(4,4’−イ
ソプロピリデンジフェノール)、273.4gのジフェ
ニルカーボネートおよびQ、 5 m lのチタン(I
V)ブトキサイドを用いた。
ル(Z)(4,4’−シクロヘキシリデンジフェノール
)、26.4gのビスフェノール(A)(4,4’−イ
ソプロピリデンジフェノール)、273.4gのジフェ
ニルカーボネートおよびQ、 5 m lのチタン(I
V)ブトキサイドを用いた。
得られたコポリマーカーボネートを実施例2のように精
製したところ、チタン量は未処理ポリマーの198gg
g−’から精製後1.8μgg−’に減少した。
製したところ、チタン量は未処理ポリマーの198gg
g−’から精製後1.8μgg−’に減少した。
実施例4
溶媒としてジメチルホルムアミドの代りにジメチルアセ
トアミドを用いた以外は実施例3の方法を繰返し実質的
に同様な結果を得た。精製ポリマーは5.6μgg−’
のチタン含有量を有していた。
トアミドを用いた以外は実施例3の方法を繰返し実質的
に同様な結果を得た。精製ポリマーは5.6μgg−’
のチタン含有量を有していた。
実施例5
溶媒としてジメチルホルムアミドの代りにN−メチルピ
ロリドンを用いた以外は実施例3の方法を繰返して、実
質的に同様な結果を得た。精製ポリカーボネートポリマ
ーは18μgg””のチタン含有量を有していた。
ロリドンを用いた以外は実施例3の方法を繰返して、実
質的に同様な結果を得た。精製ポリカーボネートポリマ
ーは18μgg””のチタン含有量を有していた。
実施例6
錯形成剤として酒石酸の代りにクエン酸を用いた以外は
実施例3の方法を繰返し、実質的に同様な結果を得た。
実施例3の方法を繰返し、実質的に同様な結果を得た。
精製ポリマーは10.3μgg−’のチタン含有量を有
していた。
していた。
実施例7
錯形成剤として酒石酸の代りにマレイン酸を用いた以外
は実施例3の方法を繰返して、実質的に同様な結果を得
た。精製ポリマーは6.6μgg−’のチタン含有量を
有していた。
は実施例3の方法を繰返して、実質的に同様な結果を得
た。精製ポリマーは6.6μgg−’のチタン含有量を
有していた。
実施例8
実施例3の方法を繰返したが、沈澱水の量をポリマー1
g当り300mlからポリマー1g当り50m1に減し
、散布チューブをポリマー溶液導入用に用い、また実施
例3におけるよりも高速攪拌を用いた。実質的に同様な
結果を得た。精製ポリカーボネートポリマーは3.1g
gg−’のチタン含有量を有していた。
g当り300mlからポリマー1g当り50m1に減し
、散布チューブをポリマー溶液導入用に用い、また実施
例3におけるよりも高速攪拌を用いた。実質的に同様な
結果を得た。精製ポリカーボネートポリマーは3.1g
gg−’のチタン含有量を有していた。
実施例9
実施例3の方法を繰返したが、10%溶液の代りに20
%ポリマー溶液を用い、中高速攪拌を用いてのポリマー
溶液の水への添加の代りに水を超高速攪拌条件下上記ポ
リマー溶液に加えた。水の量もポリマー1g当り300
mlの代りにポリマーIg当り25m1に減じて、実質
的に同様な結果を得た。精製ポリマーは1.9μgg−
’のチタン含有量を有していた。
%ポリマー溶液を用い、中高速攪拌を用いてのポリマー
溶液の水への添加の代りに水を超高速攪拌条件下上記ポ
リマー溶液に加えた。水の量もポリマー1g当り300
mlの代りにポリマーIg当り25m1に減じて、実質
的に同様な結果を得た。精製ポリマーは1.9μgg−
’のチタン含有量を有していた。
実施例10
実施例3の方法を繰返したがアスパラギン酸をα−アミ
ノ酸錯形成剤として酒石酸の代りに用い、ポリマー溶液
は沈澱前に濾過した。実質的に同様な結果を得た。
ノ酸錯形成剤として酒石酸の代りに用い、ポリマー溶液
は沈澱前に濾過した。実質的に同様な結果を得た。
実施例11
複数の感光性像形成部材を、各部材において、厚さO,
OSミクロンのN−メチル−3−アミノプロピルトリエ
チロキシシラン層とその上の厚さ0.05ミクロンのデ
ュポン49,000ポリ工ステル接着層を有する厚さ7
5ミクロンのチタン処理マイラー基体を用意し、その上
に、ポリ (ビニルカルバゾール)中に分散させた7容
量%の三方晶セレンからなる2ミクロンの光励起体層を
付着させることによって作製した。
OSミクロンのN−メチル−3−アミノプロピルトリエ
チロキシシラン層とその上の厚さ0.05ミクロンのデ
ュポン49,000ポリ工ステル接着層を有する厚さ7
5ミクロンのチタン処理マイラー基体を用意し、その上
に、ポリ (ビニルカルバゾール)中に分散させた7容
量%の三方晶セレンからなる2ミクロンの光励起体層を
付着させることによって作製した。
その後、上記光励起層を次のようにしてアミン電荷移送
層でオーバーコーテイングした。
層でオーバーコーテイングした。
実施例1〜10の方法で得られた本発明の各精製ポリカ
ーボネー)50重量%からなる移送層を10重量%の塩
化メチレン中のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビス
(3−メチルフェニル)(1,1’ビフエニル)−4,
4’−ジアミン50重量%とこはくびん中で混合した。
ーボネー)50重量%からなる移送層を10重量%の塩
化メチレン中のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビス
(3−メチルフェニル)(1,1’ビフエニル)−4,
4’−ジアミン50重量%とこはくびん中で混合した。
次いで、得られた各溶液を上記の各光励起層の上にマル
チプルクリアランスフィルムアプリケーターにより乾燥
厚24ミクロンでコーティングした。得られた各部材を
強制送風炉中で135℃、20分間乾燥させた。
チプルクリアランスフィルムアプリケーターにより乾燥
厚24ミクロンでコーティングした。得られた各部材を
強制送風炉中で135℃、20分間乾燥させた。
次に、これら10ケの部材の感光度を、それらの表面を
コロナ放電源によって、表面電位が電位計に接続した容
量結合プローブにより測定したとき、露光前に800
(VIIDP )ボルトになるまで、静電的に帯電させ
ることによって測定した。次いで、帯電部材の前表面を
150ワツトキセノンランプからの光に露光し400〜
700nm波長の光を部材表面に到達せしめた。その後
、表面電位をその初期値の半分に低減する露光E’Aお
よび種々の露光エネルギーによる表面電位の%放電を測
定した。感光度は部材を初期表面電位からその半分まで
放電するのに必要なエルグ/cfflでの露光に関して
測定し得る。感光度から高い程、層を表面電位の50%
まで放電するのに必要な露光エネルギーは小さい。これ
ら部材のサイクル操作安定性はVDDP%即ち、露光前
の表面電位;V□。、即ち、11エルグ/ ci白色光
露光0.25秒後の背景電位;およびvr*s %即ち
、140工ルグ/cd白色光露光後の残留電位を100
0サイクル以上に亘ってモニターすることによって測定
した。1000サイクル中での表面電位(デルタ) V
DflPs VIllKGおよびLesの変化が小さい
程、サイクル操作安定性は大きい。感光度およびサイク
ル操作試験結果を次表に要約する。
コロナ放電源によって、表面電位が電位計に接続した容
量結合プローブにより測定したとき、露光前に800
(VIIDP )ボルトになるまで、静電的に帯電させ
ることによって測定した。次いで、帯電部材の前表面を
150ワツトキセノンランプからの光に露光し400〜
700nm波長の光を部材表面に到達せしめた。その後
、表面電位をその初期値の半分に低減する露光E’Aお
よび種々の露光エネルギーによる表面電位の%放電を測
定した。感光度は部材を初期表面電位からその半分まで
放電するのに必要なエルグ/cfflでの露光に関して
測定し得る。感光度から高い程、層を表面電位の50%
まで放電するのに必要な露光エネルギーは小さい。これ
ら部材のサイクル操作安定性はVDDP%即ち、露光前
の表面電位;V□。、即ち、11エルグ/ ci白色光
露光0.25秒後の背景電位;およびvr*s %即ち
、140工ルグ/cd白色光露光後の残留電位を100
0サイクル以上に亘ってモニターすることによって測定
した。1000サイクル中での表面電位(デルタ) V
DflPs VIllKGおよびLesの変化が小さい
程、サイクル操作安定性は大きい。感光度およびサイク
ル操作試験結果を次表に要約する。
本実施例の各像形成部材の特性はこれら部材が実質的に
背景付着物のない優れた品質の現像を形成するのに使用
できることを示している。これらの像形成部材は、例え
ば、光励起層を正孔移送層と支持基体の間に存在させた
ときに負帯電させることができ、また正孔移送層を光励
起層と基体の間に存在させたときに正帯電させることが
できる。
背景付着物のない優れた品質の現像を形成するのに使用
できることを示している。これらの像形成部材は、例え
ば、光励起層を正孔移送層と支持基体の間に存在させた
ときに負帯電させることができ、また正孔移送層を光励
起層と基体の間に存在させたときに正帯電させることが
できる。
負帯電型像形成部材においては、正帯電現像剤組成物、
即ち、トナー組成物を正帯電させ、かつジステアリルジ
メチルアンモニウムメチルサルフェートのような帯電促
進添加剤を含有するものを用いる(米国特許第4,56
0,635号参照、その記載はすべて参考として本明細
書に引用する)。像形成部材を正帯電させたときには、
スチレンn−ブチルメタクリレートコポリマーとカーボ
ンブラックのような顔料粒子とを含む負帯電現像剤組成
物)を用いる(例えば、米国特許第4,469,770
号、その記載はすべて参考として本明細書に引用する)
。
即ち、トナー組成物を正帯電させ、かつジステアリルジ
メチルアンモニウムメチルサルフェートのような帯電促
進添加剤を含有するものを用いる(米国特許第4,56
0,635号参照、その記載はすべて参考として本明細
書に引用する)。像形成部材を正帯電させたときには、
スチレンn−ブチルメタクリレートコポリマーとカーボ
ンブラックのような顔料粒子とを含む負帯電現像剤組成
物)を用いる(例えば、米国特許第4,469,770
号、その記載はすべて参考として本明細書に引用する)
。
Claims (1)
- ポリカーボネートまたはそのコポリマーを溶媒と混合し
;生成した溶液混合物に錯生成成分を添加し;得られた
混合物を水と混合し;その後、ポリカーボネートまたは
コポリマー生成物を混合物から分離することを特徴とす
るチタン触媒残留物を含有するポリカーボネートまたは
そのコポリマーの精製方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US232089 | 1988-08-15 | ||
US07/232,089 US4921940A (en) | 1988-08-15 | 1988-08-15 | Process for the purification of Ti containing polycarbonate with solvent, complexing agent and water |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0291120A true JPH0291120A (ja) | 1990-03-30 |
Family
ID=22871833
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1204556A Pending JPH0291120A (ja) | 1988-08-15 | 1989-08-07 | ポリカーボネートの精製方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4921940A (ja) |
JP (1) | JPH0291120A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002182402A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジストのベースポリマーの精製方法 |
JP2017105996A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | 本州化学工業株式会社 | 芳香族ポリカーボネートオリゴマー |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5080987A (en) * | 1990-07-02 | 1992-01-14 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with polycarbonate binders |
US5166021A (en) * | 1991-04-29 | 1992-11-24 | Xerox Corporation | Photoconductive imaging members with polycarbonate fluorosiloxane polymer overcoatings |
GB201111928D0 (en) | 2011-07-12 | 2011-08-24 | Norner As | Process |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2923744A (en) * | 1960-02-02 | Preparation of bis-z | ||
US1760758A (en) * | 1927-01-20 | 1930-05-27 | Gen Aniline Works Inc | Process for manufacturing condensation products from hydroxy-benzenes and hydroaromatic ringketones |
US1977627A (en) * | 1932-01-21 | 1934-10-23 | Ici Ltd | Process of producing diphenylolpropane |
US2069560A (en) * | 1935-02-06 | 1937-02-02 | Du Pont | Tertiary alkyl-cyclohexyl phenols and process of preparing same |
US2069573A (en) * | 1935-02-06 | 1937-02-02 | Du Pont | Phenolic compounds |
US2762846A (en) * | 1954-03-08 | 1956-09-11 | Technical Tape Corp | Production of bis-phenols by condensation of phenols with ketones catalyzed by hydrogen selenide or hydrogen telluride |
US2858342A (en) * | 1955-06-27 | 1958-10-28 | Union Carbide Corp | Preparation of bis-phenols |
GB838977A (en) * | 1957-05-31 | 1960-06-22 | Ici Ltd | Improvements in and relating to the treatment of polymers |
US3492268A (en) * | 1967-01-13 | 1970-01-27 | Mobay Chemical Corp | Polycarbonates of improved color properties |
US3838102A (en) * | 1972-12-29 | 1974-09-24 | Gen Electric | Removal of metallic catalyst residue from polyphenylene ethers |
US3943101A (en) * | 1974-05-31 | 1976-03-09 | General Electric Company | Process for preparing polycarbonates with a metal chelating agent |
US4304899A (en) * | 1978-07-31 | 1981-12-08 | General Electric Company | Polycarbonate compositions having improved barrier properties |
US4423252A (en) * | 1980-08-07 | 1983-12-27 | Mitsubishi Chemical Industries Limited | Process for preparing bisphenols |
US4383092A (en) * | 1980-08-11 | 1983-05-10 | General Electric Company | Inhibition of discoloration of transesterification polymers with chromium, nickel, tantalum or glass lined reactor |
US4377684A (en) * | 1982-02-08 | 1983-03-22 | General Electric Company | Decolorization of polycarbonate resins |
-
1988
- 1988-08-15 US US07/232,089 patent/US4921940A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-07 JP JP1204556A patent/JPH0291120A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002182402A (ja) * | 2000-12-18 | 2002-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | レジストのベースポリマーの精製方法 |
JP2017105996A (ja) * | 2015-12-08 | 2017-06-15 | 本州化学工業株式会社 | 芳香族ポリカーボネートオリゴマー |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4921940A (en) | 1990-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5227449A (en) | Photoconductive imaging members with polycarbonate binders | |
CA1090368A (en) | Electron acceptor monomers and polymers: process of preparation and method of use | |
JPH011728A (ja) | アリールアミン含有ポリヒドロキシエーテル樹脂 | |
JPH1135551A (ja) | 新規なスルホニルジアゾメタン化合物 | |
JPH0291120A (ja) | ポリカーボネートの精製方法 | |
WO2007063994A1 (ja) | 制御された主鎖らせん構造を有するポリイソシアニド誘導体 | |
JP3139722B2 (ja) | 感光体マトリックスに有用なビスフェノールベースのポリエステル | |
TW553975B (en) | Method for making polyester carbonates | |
US5080987A (en) | Photoconductive imaging members with polycarbonate binders | |
US5039584A (en) | Charge transport layers containing purified polycarbonates | |
TW506961B (en) | Styrene derivatives | |
JPH08262698A (ja) | レジスト溶液の調製方法 | |
US5166021A (en) | Photoconductive imaging members with polycarbonate fluorosiloxane polymer overcoatings | |
US7094860B2 (en) | Maleimide group-containing polymer particles and method of producing the same | |
EP0562809B1 (en) | Photoconductive imaging members with fluorinated polycarbonates | |
JPH09176298A (ja) | ポリエステル樹脂製造装置 | |
JP3736199B2 (ja) | 電荷輸送性重合体の製造方法 | |
JP6853860B2 (ja) | ポリカーボネート−ポリエステル共重合樹脂およびポリカーボネート−ポリエステル共重合樹脂の製造方法 | |
Suh et al. | Polymethacrylates with benzylidenephthalimidine side chains, 1. Photochemical characteristics of model compounds and polymers | |
Brzozowski et al. | UV-sensitive modification of polyarylates | |
JP3120413B2 (ja) | 新規ポリヒドロキシ化合物およびそれを用いて得られたポリエステル | |
KR100455538B1 (ko) | 스티렌 유도체 | |
JPH02169671A (ja) | 結晶型オキシチタニウムフタロシアニンおよびそれを含む電子写真感光体の製造方法 | |
JPH0959389A (ja) | 有機電子デバイス用樹脂の精製方法 | |
JPH0469627B2 (ja) |