JPH0289683A - 情報記録媒体及びそれを用いた記録方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザーによる情報のどき込みおよび／また
は読み取りが可能な色素からなる記録層が設けられた情
報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景１ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモ
リーとして使用されうるものである。

一般のＤＲＡＷ型の情報記録媒体は、基本構造としてプ
ラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明基板と、こ
の上に設けられたＢｉ、５ｎＩｎ、Ｔｅ等の金属または
半金属からなる記録層とを有する。記録媒体への情報の
占き込みは、たとえばレーザービームを記録媒体に１原
射することにより行なわれ、記録層の照射部分がその光
を吸収して局所的に温度上昇する結果、ビット形成等の
物理的変化あるいは相変化等の化学的変化を生じてその
光学的特性を変えることにより情報が記録される。光デ
ィスクからの情報の読み取りもまた、レーザービームを
光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録層
の光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出
することにより情報が再生される。

記録層としては、上記低融点金属や半金属を用いた場合
、記録感度や保存性が充分でない、あるいは製造コスト
が高い等の欠点があった。近年、比較的長波長の光で物
性変化し得る色素層を記録層に用いることが提案され、
また実施されている。このような記Ｍ層から情報の記録
再生を行なうために用いられるレーザー光としては、一
般に半導体レーザーが利用されている。半導体レザーが
放射するレーザー光の波長は、近赤外領域あるいはこの
付近の波長領域に存在する。

このような、長波長側に吸収領域を持つ色素の代表的な
ものとして、シアニン系色素が良く知られている。シア
ニン系色素の場合、色素分子の中央にポリメチン基を有
し、このポリメチン基が長いほど吸収波長が長波長側に
移動する。上記半導体レーザーの一般的な波長である８
００ｎｍ前後に吸収極大波長を有するためには、上記メ
チン基が７個からなる共役メチン鎖を必要とする場合が
多い、しかしながら、このようにメチン鎖が長くなると
、シアニン系色素の共鳴構造が不安定なものとなり、色
素自体も熱や光に対しても極めて不安定なものとなる。

このため、比較的安定な短波長領域に吸収極大波長を有
するシアニン系色素を、会合体を形成させることによっ
て、その波長の吸収極大を長波長側に移動させることが
提案されている（特開昭５９−２２３９５７号公報）、
この技術により得られる色素記録層の吸収領域は元の色
素子ノで−（非会合体）に比べて長波長側に移るが、そ
の移動波長が５０ｎｍ程度と少ないため、充分に短波長
側に吸収極大を有する安定なシアニン系色素を用いて」
二足半導体レーザーの波長領域近辺に、この短波長色素
の吸収極大を移動させることは難しい。また、に記公報
には、色素塗布液の溶媒に木を使用し１会合状態を形成
させるのが良いと記載されているが、水溶性の色素は、
耐湿性に劣り、耐久性が不良との問題がある。

さらに、シアニン系色素の極大吸収波長を長波長側に移
動させる方法として、化学的に安定である短いメチン鎖
の両端のへテロ環の構造を変更することが行なわれてい
るが、これらのへテロ環は、合成が複雑になり、実用化
が難しいとの問題がある。

［発＋ＪＪの目的］ 本発明は、記録再生特性が優れ且つ耐久性が向トした色
素記録層を有する情報記録媒体を提供することを目的と
する。

また本発明は、半導体レーザーの発振波長である８００
ｎｍ前後に吸収極大波長を有し、そして化学的に安定な
色素記録層を有する情報記録媒体を提供することを目的
とする。

また本発明は、８００ｎｍ前後の半導体レーザーを用い
て高Ｃ／Ｎの記録を得るための情報の記録方法を提供す
ることを目的とする。

さらに、本発明は、上記色素記録層を有する情報記録媒
体を製造するための簡易な方法を提供することを目的と
する。

［発明の要旨１ 本発明は、基板上にレーザー光による情報の書き込みお
よび／または読み取りが可楽な色素からなる記録層が設
けられた情報記録媒体において該記録層が、水不溶性ま
たは水難溶性の色素の会合体からなり、且つ該色素の有
する吸収極大波長より８０ｎｍ以上長波長側の７４０〜
９００ｎｍの範囲の波長領域に吸収極大を有することを
特徴とする情報記録媒体、および； 上記情報記録媒体を回転させながら、該情報記録媒体に
７５０〜８６０ｎｍの範囲に発振波長を有する半導体レ
ーザーから放射されたレーザー光を照射することにより
情報を記録することからなる情報記録媒体の記録方法に
ある。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は下記の通り
である。

ｌ）該色素が、７３０ｎｍ以下の波長領域に吸収極大を
有することを特徴とする上記情報記録媒体。

２）該色素子ツマ−が下記の一般式（Ｉ）二［ただし　
１１７１およびＲ２は、炭素原子数８以下のアルキル基
、アリール基、アルケニル基または置換基を有するこれ
らの基を表わし、互いに同一でも異なっていても良く、
ＺｌおよびＺ２は、５〜７員の複素環を形成するための
原子団を表わし、Ｌｌ、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は
、メチン基また置換メチン基を表わし、Ｘ−は、陰イオ
ンを表わし、そして　ｊはＯまたは１を表わす、また、
Ｘ−は。

Ｒ１、Ｒ２、Ｚｌ、　Ｚ２．１１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４ま
たはＬ５上に結合して分子内塩を形成してもよく、さら
にＬｌとＬ３、Ｌ２とＬ４、Ｌ３とＬ５．　１ｌｉｌと
Ｌｌ、　Ｒ２とＬ５、Ｒ１と　２１および／またはＲ２
と　Ｚ２が結合して環を形成していてもよい、］ で表わされるシアニン系色素であることを特徴とする上
記情報記録媒体。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、上記特定の化学的に安定な色
素モノマーを、緻密に会合させることにより該色素モノ
マーの有する吸収極大波長を大幅に長波長側に移動した
色素記録層を有している。

これにより一般の半導体レーザーの発振波長より短波長
側に吸収極大を有する安定な色素子ツマ−を用いて、上
記半導体レーザーの発振波長とほぼ同じ波長領域に吸収
極大を有する色素記録層を得ることができる。従って、
未発［、＃］の情報記録媒体は、記Ｂ感度等の記録再生
特性に優れ、且つ耐久性も向上したものであるというこ
とができる。

また本発明は、上記情報記録媒体に８００ｎｍ前後の半
導体レーザーを用いて高Ｃ／Ｎの記録をを行なうことも
可能である。

さらに、特に、Ｌ記色素のモノマーおよびフッ素系溶剤
を含む塗布液を塗布乾燥することにより１本発明の色素
記録層を極めて筒便に製造することが可能である。

［発１！１の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、基板上にレーザーによる情報
の書き込みおよび／または読み取りが可能な色素記録層
が設けらた基本構造を有する。

未発ｌＪＩ者らは、半導体レーザーの一般的な発振波長
である８００ｎｍ前後に吸収極大波長を有し■１゜つ化
学的に安定な、すなわち耐久性に優れた色素記録層を得
るために鋭意検討を重ねてきた。その結果、特にシアニ
ン系色素のポリメチン基（メチン鎖）の比較的短い、吸
収極大波長が半導体レーザーの一般的な発振波長領域よ
り短波長側にあって化学的に安定な色素子ツマ−を、緻
密に会合させることにより該色素モノマーの有する吸収
極大波長を大幅に長波長側に移動させることができるこ
とを見出だした。さらに未発ｒＪＪ者らの検討によれば
、シアニン系色素以外であっても、基板上に色素記録層
を設ける際、色素の選択とその塗布条件の選択を最適に
行なうことにより、下記会合体を形成させて上記特定の
長波長領域に吸収極大を有する色素記録層を設けること
が可能であることも分かった。

すなわち、本発明の情報記録媒体の色素記録層は、水不
溶性または水難溶性の色素（色素モノマー）の会合体か
らなり、且つ該色素の有する吸収極大波長より８０ｎｍ
以上長波長側の７４０〜９００ｎｍの範囲の波長領域に
吸収極大を有することを特徴としている。該色、Ｊ：（
色素子ツマ−）は、７３０ｎｍ以下の波長領域に吸収極
大を有することが好ましい。

このような色素記録層を形成するために有利な方法は、
上記色素のモノマーおよびフッ素系溶剤を含む塗布液を
３１製した後、）＆板−Ｌに該塗布液を塗布乾燥するこ
とによって行なわれる。すなわち、フッ素系溶剤を含む
（適宜、他の有機溶剤、結合剤を含有される）色素塗布
液全塗布することが、該色素子ツマ−の会合体からなる
色素記録層を形成させるために極めて有効であることを
意味している。このような色素モノマーの会合状態は、
該色素の溶解できる臨界点付近で形成され易と推察され
ることから、フッ素系溶剤を含まない塗布液であっても
形成される場合もあるが、フッ素系溶剤を使用すること
により塗布液の調製が極めて容易で且つ会合状態も形成
され易いとの利シλがある。

これ以外にも、基板を一定方向に延伸したり、表１ｍを
Ｊ１！襖したすした後色素を塗布する方法、色素を塗布
する前に基板上にハロゲン化銀等蒸着等により層形成し
ておき、色素の配向を促進する方法、塗布液中で色素モ
ノマーを会合させるため塗布液の濃度を高くしたり、塗
布液に塩類、樹脂を添加したりする方法、あるいは色素
層形成後、該色素層に機械的または熱的刺激を付与して
色素モノマーを会合状態に変化させる方法等を利用する
ことができる。

末完１１の色素記録層は、上記方法を最適に利用するこ
とにより、短波長の吸収波長を有する色素に会合体を形
成させて上記特定の長波長領域を得たものである。この
ような色素記録層を効率良く設けるために好ましい色素
（色素モノマー）としては、シアニン色素、オギソノー
ル色素、メロシアニン色素、ビリリウム色素、チオピリ
リウム色２およびヘテロアヌレン系色素（例えばナフト
シアニン類）が挙げられる。特に好ましくは、Ｊ−会合
体を形成し易い下記の一般式（Ｉ）を有するシアニン系
色素（七ツマ−）が好ましい。

［ただし、Ｒ１およびＲ２は、炭素原子数８以−ドのア
ルキル基、アリール基、アルケニル基またはご検基を有
するこれらの基を表わし、互いに同一でも異なっていて
も良く、ＺｌおよびＺ２は、５〜７員の複素環を形成す
るための原子団を表わし、互いに同一でも異なっていて
も良く、ＬＩＬ２．１３、Ｌ４およびＬ５は、メチン基
また置換メチン基を表わし、互いに同一でも異なってい
ても良く、Ｘ−は、陰イオンを表わし、そしてｊはＯま
たは１を表わす。また、Ｘ−は、Ｒ１、Ｒ２，ＺＩＺ２
、Ｌｌ、Ｌ２、ＬＪ、Ｌ４またはＬＪ−に結合して分子
内塩を形成してもよく、さらにＬｌとＬＪ、Ｌ２とＬ４
、ＬＪとＬ５．　Ｒ１とＬｌ、　　Ｒ２とＬ５、Ｒ１と
　２１および／またはＲ２とＺ２が結合して環を形成し
ていてもよい。］ 上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１およびＲ２は、炭素原
子数８以下の置換基を有しないまたは置換基を有するア
ルキル基が好ましく、　Ｊは１を表わすことが好ましく
、ＺｌおよびＺ２により形成される５〜７員の複素環と
しては、ピリジン環、インドレニン環、ナフトラクタム
環、イミダゾール環、オギサゾール環、チアゾール環、
セレナゾール環およびこれらの環に芳香族環が縮合した
壕が好ましい。芳香族環としてはベンゼン環、ナフタレ
ン環、キノリン環およびキノキサリン環を挙げることが
できる。これらの複素環のうち、特に好ましくは、ナフ
タレン環、キノリン環およびキノキサリン環の２および
３位で縮合したイミダゾールでおよびチアゾール環であ
る。

［１，１２、ＬＪ、Ｌ４および！、５で表わされる、メ
チン基また置換基を有する Ｌ１〜Ｌ５で表わされる三価の基は、置換もしくは′１
！！置換のメチン基、または３もしくは５個の置換もし
くは無置換のメチン基が共役二重結合により連結されて
生じる三価の基を表わすが、特に一般式（ａ）〜（ｅ）
で表わされるものが好ましい。

（ａ） ｃＨ＝ｃｏ−ｃ＝ｃｏ−ｃｎ＝ （ｂ） Ｙ （ｃ） （ｄ） （ｅ） ＣＨ＝Ｃ−ＧＨ＝ 一般式（ａ）〜（ｅ）においてＹは水素原子または１価
の基を表わす。この場合、１価の基としては、メチル基
などの低級アルキル基、置換もしくは無置換フェニル基
、ベンジル基などのアラルキル基、メトキシ基などの低
級アルコキシ基、ジメチルアミノ基、ジフェニルアミノ
基、メチルフェニルアミノ基、モルフォリノ基、イミダ
ゾリジノ基、エトキシカルボニルピペラジノ基などのジ
置換アミン基、アセトキシ基などのアルキルカルボニル
オキシ基、メチルチオ基などのアルキルチオ基、シアノ
基、ニトロ基、Ｆ、ＣＪＩ、Ｂｒなどのハロゲン原子な
どであることが好ましい６Ｘ−で表わされる陰イオンは
、陽イオン部分の電荷を中和するのに必要な数の陰電荷
を供給するためのものであって、−価もしくは二価のイ
オンである。

Ｘ−で表わされる陰イオンの例としてはＣ１−、Ｂｒ−
、Ｉ−などノハロゲンイオン、ＳＯ４”　、Ｈ３Ｏ４−
、ＣＨ３０Ｓ０３−などのアルキル硫酸イオン、パラト
ルエンスルホン酸イオン、ナフタレン−１，５−ジスル
ホン酸イオン、メタンスルホン酸イオン、トリフルオロ
メタンスルホン酸イオン、オクタンスルホン酸イオンな
どのスルホン酸イオン、酢酸イオノン、ｐ−クロロ安息
香酸イオン、トリフル十口酢酸イオン、シュ酸イオン、
コハク酸イオンなどのカルボン酸イオン、ＰＦ６−、Ｂ
Ｆ４−、Ｃ１ａ−、ｌ０４−、タングステン酸イオン、
タングストリン酸イオンなどのへテロポリ酸イオン、Ｒ
２ＰＯ４−、ＮＯ３−、ピクリン酸イオンなどのフェノ
ラートイオンなどが挙げられる。

Ｘ−で表わされる陰イオンとして好ましいものは、Ｃ１
−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＨ３０ＳＯ３−、パラトルエンス
ルホン酸イオン、ｐ−クロロベンゼンスルホン酸イオン
、メタンスルホン酸イオン、ブタンスルホン酸イオン、
ナフタレン−１，５−ジスルホン酸イオン、トリフルオ
ロメタンスルホン酸イオンなどのパーフルオロスルホン
酸イオン、ＰＦｂ−、ＢＦ４−、ＣＮＯ４−なと゛であ
り、牛νに好ましいものは、トルフルオロメタンスルホ
ン酸イオン、ＢＦ６−、ＣＭＯｎ−であり、この中でも
、爆発の心配が無い点でトリフルオロメタンスルホン酸
イオンとＰＦ６−とが最も好ましい。

そして上記一般式（Ｉ）で表わされるシアニン系色素は
、特に下記の一般式（ｎ）を有することが好ましい。

１１１：ｌ　　　　　　　　Ｒ３ ［ただし、Ｒ３およびＲ４はアルキル基、アルケニル基
又はアリール基を表わし、これらは互いに同一でも異な
っていても良く、Ｌは５個のご換または無置換のメチン
基が共役二重結合により連結されて生じる二価の基を表
わし、Ｚは芳香族環を完成するための原子群を表わし、
Ｘ−は陰イオンを表わす、］ 上記一般式（ＩＩ）においてＲ３、Ｒ４およびＺは、さ
らに置換基を有していてもよい、これらの置換基のうち
好ましいものは、Ｃ，Ｈａｎｓｃｈらによって提唱され
ている疎水性パラメータ、π、が−１．０ないし１５の
範囲のイ４のものである。なお、疎水性パラメータは次
の文献に従って算出することができる。

１　）　Ｃ，ｔＪａｎｓｃｈら、Ｊ、Ｍｅｄ、Ｃｈｅｍ
、　　、　　第１６！！１２０７頁（１９７３年刊）、 ２　）　Ｃ，Ｈａｎｓｃｈら、同誌、第２０８．３０４
頁（１９７７年刊） Ｒ３またはＲ４で表わされる基として好ましいものは、
ご換もしくは無置換のフェニル基、置換もしくは無置換
の低級アルキル基（炭素原子数は１〜８）またはｌ換も
しくは無置換の低級アルケニル基（炭素原子数は２〜８
）であり、さらに上述のＣ，ｌ１ａｎｓｃｂらによって
提唱されている疎水性パラメータ、π、が−０，５ない
し１５の範囲の値のご換基を有していてもよい、　Ｒ５
もしくはＲ６が置換Ｌ（を有する場合において特に好ま
しい置換基は、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、
置換もしくハ無置換のフェニル、ｍ−グロフェニル、ｐ
−メチルフェニルなど）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ、ブチルチオなど）、置換もしくは無ｒ１換のフ
ェニルチオ基（例えばフェニルチオ、Ｐ−’７０ロフェ
ニルチオ、ｍ−メチルフェこルチオなど）である。

Ｒ３またはＲ４で表わされる基のうち特に好ましいもの
は、炭素原子数が２〜８の無置換アルギル基または炭素
原子数が２〜８の無首換アルケこル基であり、その中で
もＲ５とＲ６が同一のものが最も好ましい。

Ｚで表わされた原子群の例としては、ベンゼン環、ナフ
タレン環、アンスラセン環を完成するための原子群が挙
げられ、好ましいものはベンゼン環、ナフタレンを完成
するための原子群であり、されにＲ５およびＲ６上の置
換基として述べた′ｉ！ｉ換基を有してもよい、Ｚが置
換基を有する場合において、特に好ましい置換基は、ハ
ロゲン原子（Ｆ。

Ｃ見、Ｂｒ、Ｉ）、置換もしくは無置換のフェニルｇ　
（ｆｉｌ工ば、フェニル、ｍ−クロロフェこルｐ−メチ
ルフェニルなど）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ
、ブチルチオなど）、置換もしくは！＃、置換のフェニ
ルチオ基（例えばフェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチ
オ、ｍ−メチルフェこルチオなど）、置換もしくは無と
換のアルキル基（例えばメチル、トリフルオロメチル、
　ｔｅｒｔ−アミルなど）シアノ基、アルコキシカルボ
ニル基（例えばプロポキシカルボニル、ブトキシカルポ
ール、ヘンシルオキシカルボニル カルボニル、２−エチルへキシルオキシカルボニルなど
）、アルキルもしくはアリールスルホニル基（例えばブ
ダンスルホニル、フェニルスルホこル、オクタンスルホ
ニルなど）である。

２で表わされる原子群のうち特に好ましいものは，ハメ
ットのシグマ定数が−０．２ないし＋０．７であるよう
な比較的電子供与性が弱い置換基を有するベンゼン環を
形成するための原子群であり、その中でもＦ．Ｃｌ，Ｉ
などのハはゲン原子で置換されたベンゼン環を形成する
ための原子群が好ましい。

Ｌで表わされる三価の基は、５個の置換もしくは無置換
のメチン基が共役二π結合により連結されて生じる三価
の基を表わすが、特に上記一般式％式％） （ｄ）表わされるものが好ましい。

（ａ） −　ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ＝ｒ：Ａ１−ＣＨ＝（ｂ） （ｄ） 一般式（ａ）（ｂ）および（ｄ）において、Ｙは水素原
子または１価の基を表わす．この場合、１価の基として
は、メチル基などの低級アルキル基、ｉ？！換もしくは
無首換フェニル基、ベンジル基などのアラルキル基、メ
トキシ基などの低級アルコキシ基、ジメチルアミン基、
ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、モルフ
ォリノ基、イミタ゛シリジノ基、エトキシカルボニルピ
ペラジノ基なとのジ置換アミノ基、アセトキシ基などの
アルキルカルボニルオキシ基、メチルチオ基などのアル
キルチオ基、シアノ基、ニトロ基、Ｆ。

Ｃ１，Ｂｒなどのハロゲン原子などであることが好まし
い、上記一般式（ａ）（ｂ）および（ｄ）のうち特に好
ましいものは（ａ）で表わされる基である。

一般式（ＩＩ）におけるＸ−は、上記一般式ＣＩ）で示
した例と同じ陰イオン全表わす。

以下に本発明において用いられる一般式（Ｉ）で表わさ
れる化合物の具体例を挙げるが、本発明の範囲はこれら
のみに限定ξれるものではない。

２Ｈ５ ２Ｈ５ ｌ０ｓＯ ＣすＱ４Ｃ） Ｈ３ Ｈｔ Ｃ）Ｈ５ ２Ｈ５ ２Ｈ５ （４０４（：’ し２Ｈ５ Ｈ３ Ｉ３ ２Ｈ５ ７Ｈ５ Ｈ３ ｌｈ ３Ｇ Ｈ３ Ｈ３ ３Ｇ ２Ｈ５ ■０ １ニアＨ５ ＨＩ ２Ｈ５ ２Ｈ５ ｌｈ ■ ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ３）　２ ＣＨ２Ｃｌ（ＣＨＩ）２ ■ ２Ｈ５ ２Ｈ５ ＣＨ２ＣＨ２０Ｃ２Ｈ５ ＣＨ２Ｃｌ　２０ｃ７Ｈ５ ＣＨ２ＣＨ２０Ｃ２Ｈ５ ＣＨ２Ｃｌ　２０ｃ２８　ｓ Ｃ交０４゜ ■ ２Ｈ５ ２Ｈ５ ２Ｈ５ Ｃす０４゜ ２Ｈ５ Ｆ６Ｇ １−記一般式（Ｉ）で表わされない色素の例として以ド
の例を挙げることができる。

（ＯＨ］）　２ＨＧ ■０ ＯＨ（ＯＨ３）２ ＢＦ４゜ 本３？！ＩＪＩの情報記録媒体においては、一般式（Ｄ
で表わされる色素は単独で用いても、二種以上併用して
もよく、あるいは一般式ＣＩ）以外の色素と併用して用
いてもよい、また読取り耐久性向−Ｆのため種々の酸化
防止剤や一重項酸素クエンチャーを併用することも有効
である。また１種々の樹脂を併用してもよい。

あるいは遷移金属イオンを添加してキレートを形成させ
て用いることにより耐久性を増すことも可律である。

あるいは遷移金属イオンを添加してキレートを形成させ
て用いることにより耐久性を増すこともできる。

本発明の情報記録媒体に使用されるクエンチャ−として
は、種々のものを用いることができる。

このようなりエンチャーとしては、再生劣化を低下させ
、色素との相溶性が良好な遷移金属錯体が好ましい、こ
の場合、中心金属として好ましいものは、Ｎｉ、Ｇｏ、
　Ｃｕ、　Ｐｄ、　Ｐｔなどである。

クエンチャ−の例としては特開昭６２−１７４７４１号
公報に記・観された一般式［ｍｌまたは［Ｎ］　で示さ
れるものがあげられる。

・　・　８　［■］ 参　曇　・　［ＩＶ］ （式中、［Ｃａｔｌ］および［Ｇａｔ２］は筒体を中性
ならしめるために必要な陽イオンを示し、ＭｌおよびＭ
２はニッケル、銅、コバルト、パラジウムまたは白金を
示す、ｎは１または２を示す。）前記一般式［ｍｌおよ
び［＋７］で表わされる化合物において、［Ｇａｔｌｌ
または［Ｃａｔ２］で表わ５れる陽イオンのうち無機陽
イオンとしては、アルカリ金属（たとえば、Ｌｉ、　Ｎ
ａ、　Ｋなど）、アルカリ土類金属（Ｍｇ、Ｃａ、日ｄ
など）もしくはＮＨ４’をあげることができる。

また有機陽イオンとしては、第四級アンモニウムイオン
または第四級ホスホニウムイオンをあげることができる
。

前記一般式［Ｉ［ＩＩまたは［ｒＶ］で表わされる化合
物においてＭｌまたはＭ２を好ましい順にあげるとンケ
ル、コバルト、銅、パラジウム、白金の順である。

般式［ＩＩ［］または［１７］の金属錯体はト面四配位
の立体構造を有する。なお一般式［ＩＶ］の化合物では
チオケトン基が中心金属に関して対称又は非対称にある
かは一義的に決らないが１本発明では便宜的に一般式［
ＩＶ］のように表わす。

前記一般式［ＩＩＩ］または［ＩＶ］で表わされる化合
物は次のようにして合成することができる。

一般式［［］　（ｎ＝２）の化合物は二硫化炭素とナト
リウムを反応させて得られるジンデイラム１．３−ジチ
オール−２−チオン−４，５−ジチオレートをまず、亜
鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイルを反応させ、ビスベ
ンゾイルチオ体とする。これをアルカリで分解した後、
金属塩を反応させて得られる。

また、一般式［ＩＩＩ］　（ｎ＝１）の化合物は、上で
得られた錯体（ｎ＝２）を適当な酸化剤で酸化して得ら
れる。

一般式［ＩＶ］　（ｎ＝２）の化合物は、まず、二硫化
炭素とナトリウムを反応させて得られるジンデイラム−
１，３−ジチオール−２−チオン−４，５−ジチオート
を、約１３０℃に加熱してジンデイラム−１，２−ジチ
オール−３−チオン−４゜５−ジチオレートに異性化さ
せる。これを亜鉛錯体とし、これに塩化ベンゾイルを反
応させ、ビスベンゾイルチオ体とする。これをアルカリ
で分解した後、金属塩を反応させて得られる。

また、一般式［■］　（ｎ＝１）は上で得られた錯体（
ｎ＝２）を適当な酸化剤で酸化して得られる。

一般式［１１１Ｆ　または［ＩＶ］の化合物を得るため
の中間体である１、３−ジチオール−２−チオン−４，
５−ジチオレートアニオンは、上記の如くＮａによる還
元法の他に電気化学的な還元によっても得られる。

前記一般式［ＩＩＩ］で表わされる化合物のうち好まし
いものを例示すれば次の通りである。

その他のクエンチャ−としては特開昭５９７８２９５号
公報に記載されている化合物などの以下の化合物があげ
られる。

（りビスジチオ−α−ジケトン系 Ｒ１〜Ｒ４はアルキル基、アリール基、アルキルチオ基
、またはシアン基を表わし、Ｍは２価の遷移金属原子を
表わす。

（ｉｉ）ビスフエニルジチオール系 Ｒ５，Ｒ６はアルキル基、シアン基またはハロゲン原子
を表わし、Ｍは２価の遷移金属子を表わす。

（ｉｉｉ）アセチルアセトナートキレート系（ｉｉ）　
ジチオカルバミン酸キレート系（Ｖ）　　ビスフェニル
チオール系 （ｖｉ）　　チオカテコールキレート系（マｉｉ）サル
チルアルデヒドオキシム系（ｖｉｉｉ）チオビスフェル
−トキレート系（ｉｔ）　　亜ホスホン酸キレート系 輸）　ベンツエート系 （！１）　　ヒンダードアミン系 （！目）５移金属用 この他次式で表わされるアルミニウム系もしくはジイモ
ニウム系イオンを含む化合物があげられ、几体例として
は目本化薬株式会社製Ｉ　ＲＧ−００２、Ｉ　ＲＧ−０
０３、Ｉ　ＲＧ−０２２、Ｉ　ＲＧ０２３があげられる
。

Ｒ２ （式中Ｒはアルキル基またはアリール基を表わす。） 未発１」において、前記色素のカチオンと、クエンチャ
−のアニオンとの結合体を使用することもできる。

クエンチャ−は前記色素１モルあたり、一般に０．０５
〜１２モル、好ましくは０．１〜１．２モル使用される
。

クエンチャ−は色素薄１漠記録層に含有させることが好
ましいが、記録層とは別の層に含有させてもよい。

Ｌ配本発明の情報記録媒体は、たとえば以下のような方
法により製造することができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経蒔安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス；セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹１指；ポリ塩化ビニ
ル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エボキ
シ樹脂；およびポリカーボネートを挙げることができる
。これらのうちです度安定性、透明性および平面性など
の点から、好ましいものはポリメチルメタクリレート、
ポリカーボネート、エポキシ樹脂およびガラスである。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の４片、
接着力の向」−および記録層の変質の防止の目的で、下
塗層が設けられていてもよい、下塗層の材ネ１としては
、たとえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・
メタクリル酸共を合体、−トロセルロース、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質
；シランカンプリング剤などの有機物質；および無機酸
化物（Ｓｉ０２、Ａ文２０１等）、無機弗化物（ＭｇＦ
２）などの無機物質を挙げることができる。

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防１１−するために、スチレン・無水マレイン酸
共重合体などの親木性基および７／または無水マレイン
酸基を有するポリマーからなるド塗層が設けられている
のが望ましい。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。

また、基板−ヒにはトラッキング用溝またはアドレス信
号等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグルーブ
層が設けられてもよい、プレグルーブ層の材料としては
、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステ
ルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノ
マー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を
用いることかでＪる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）ｈに」−記のアクリル酸エステルおよび申合
開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上
に基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の
燕射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる
０次いで、基板をｌｆｌ型から剥離することにより、プ
レグルーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルー
ブ層の層厚は、一般に０．０５〜１１００８Ｌの範囲に
あり、好ましくは０．１〜５０ｇｍの範囲にある。

また、プラスチック基板の場合は直接基板表面にプレグ
ルーブを設けてもよい。

本発明の情報記録媒体は、基板上に（所望により下塗層
および／またはプレグルーブ層を介して）中間層が設け
られても良い。

基板表面への中間層の形成は、公知の塗布方法により行
なうことができる。公知の塗布方法の例としてはスピン
コード法、デイツプコート法などを挙げることができる
。

なお、塗布法により形成される中間層の例としては、接
着層、断熱層、反射層、感度強化層（ガス発生層）など
を挙げることができる。

中間層が断熱層である場合には、例えばポリメチルメタ
クリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチ
レン・無水マレイン酸共重合体ポリビニルアルコール、
Ｎ−メチロールアクリルアミド共重合体、スチレンスル
ホン酸共重合体スチレン・ビニルトルエン共重合体、塩
素化ポリエチレン、グロルスルホン化ポリエチレン、ニ
トロセルロース、ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・
塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、
ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング
剤などの高分子物質を溶剤に溶解させた塗布液を用いて
形成することができる。

好ましくは、塩素化ポリエチレンまたはニトロセルロー
スを用いた塗布液であり、特に好ましくは塩素化ポリエ
チレンである。

これにより、レーザービームの照射による熱エネルギー
が記録層から基板等へ熱伝導によって損失するのを低減
することができ、かつ中間層の被照射部分からガスが発
生してピットの形成が容易となり、従って記録感度を高
めるとともに読取誤差（ピットエラーレート）を低減す
ることができる。

」−上申間層の層厚は、一般にｌＯ〜１０００又の範囲
にあり、好ましくは１００〜５００Ｘの範囲にある。

」−上基板ト（所望により下塗層、プレグルーブ層およ
び／または中間層を介して）に、上記本発明の特定の色
素からなる色素記録層が設けられる。

末完１ｙ１の特定の波長領域に吸収極大を有し、水不溶
性または水難溶性の色素記録層は塗布により設けられる
。

記録層の形成は、−■二足色素（所望により上記クエン
チャ−１結合剤を加えて）を有機溶剤に溶解して塗布液
を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗膜
を形成したのち乾燥することにより行なうことができる
。

上記色素塗布液７Ａ製用の溶剤としては、酢酸エチル、
酢酸ブチル、セロソルブアセテートなどのエステル、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチ
ルケトンなどのケトン、ジクロルメタン、ｌ、２−ジク
ロルメタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサンなど
のエーテル　エタノール、ｎ−プロパツール、インプロ
パツール、ｎ−ブタノールなどのアルコール、ジメチル
ホルムアミドなどのアミド、２２３３、テトラフロロプ
ロパツール等フッソ系溶剤などを挙げることができる。

前記したように、本発明の色素記録層を設ける場合、そ
の塗布液に添加する有機溶剤にフッ素系溶剤を使用する
ことが好ましく、これにより色素子ツマ−の会合形成を
促進し、効率良くかつ容易に、長波長（色素モノマーの
有する吸収極大波長より８０ｎｍ以上長波艮に、好まし
くは１１００ｎ以上長波長に）に吸収極大を有する色素
記録層を形成することができる。

本発明に用いられるフッ素系溶剤（フッ素含有化合物）
の例としては、フッ素化アルコール、フッ素２１換ケト
ン、フッ素ｇ！を換エステル、フッ素化カルボン酸、フ
ッ素２Ｉ換アミド、フッ素２ｉ換ベンゼン、フッ素化ア
ルカンおよびフッ素化エーテルを挙げることができる。

ｌ）フッ素化アルコールとしてはたとえば、一般式（Ｖ
）： Ａ−ＣＴｏＯＨ（Ｖ　） （ただし、ＡはＦ　（Ｃｎ　Ｆ　２　ｎ　）　　ま　た
　はＨ（ＣｎＦ２ｎ）　　であり、ｎはｌ乃至６の整数
である） で表わされる化合物を挙げることができ、Ａは直鎖であ
っても分岐していてもどちらでもよい。その具体例とし
ては下記化合物が挙げられる。

Ｈ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＧＴｏＯＨ、Ｈ−ＣＦ２−ＣＦ２
−ＣＦ２−ＣＦ２−ＣＨ２０Ｈ１ＣＦ３−（Ｈ２０Ｈ、
Ｆ−ＣＦ２−ＣＦ２−ＧＨ２０ＨＦ−ＣＦ２−ＣＦ２−
ＣＦ２−ＣＦ２−ＧＨ２０Ｈ。

２）フッ素置換ケトンおよびエステルとしては、たとえ
ば一般式（■）： Ａ−Ｃ−Ｂ　　　　　　　　　　　　　　（ＶＩ　）（
ただし、ＡおよびＢはそれぞれ置換または無を換のアル
キル基、フェニル基、アルコキシ基またはフェノキシ基
であり、かつＡおよびＢのうち少なくとも一方は少なく
とも一つのフッ素原子で置換されている） で表わされる化合物を挙げることができる。ヒ記一般式
（Ｖｌ）において、ＡもしくはＢ上のｎ換基としては塩
素原子、臭素原子、ニトロ基、水酸基、置換または無置
換のアルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキ
シ基、カルボアルコキシ基、カルボフェノキシ基、アル
コキシカルボニル ＡおよびＢはそれぞれ好ましくは，−ＣＦ３　、　ＣＦ
３（ＣＦ２０Ｆ２）ｈ−、　Ｈ−（ＣＦ２０Ｆ２）＋−
、Ｈ−（ＣＦ２０Ｆ２）４−ＣＨど、ＯＣＦ　３、ＯＦ
　３−　（ＯＦ　２０Ｆ　２）　ｈ−０−、Ｈ−（ＣＦ
２ＣＦ２）　＋−０−またはＨ−（ＣＦ２０Ｆ２）　；
−ＧｔｈＯ−であり、ここでり、！およびｊはそれぞれ
１〜３の整数である．また、該化合物の分子量は４００
以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

ＣＦ３ＧＯＣ：Ｆｚ　、　　ＣＦ３ＣＯＯＧＨ：＋　、
　ＣＦ：＋ＧＯＯＣ２Ｈｓ、ＣＦ３ＧＯＣＩ２ＧＯＣＦ
３．　ＣＦ３ＧＯＣＩ２ＣＯＧＨ３、ＣＩ３ＣＯＯＣＨ
２０Ｆ３．　ＣＦ３ＧＯＯＣＨ２Ｃ：Ｆ３。

ＣＦｑＧＦ２ＣＦｚＣＯＯＣ２Ｈｓ　　、ＣＦ３（ＣＦ
２）ＲｃＯＯ（Ｊｈ３）フッ素置換ベンゼンとしてはた
とえば、一般式（■）： （ただし、Ｒ１はフッ素原子であり、Ｒ２−Ｒ６はそれ
ぞれ水素原子、フッ素原子、１′！！素原子、臭素原子
、ニトロ基、水酸基、シアノ基、置換または無置換のア
ルキル基、フェニル基、アルコキシ基、フェノキシ基、
アシル基またはアシルオキシ基である） で表わされる化合物を挙げることができる．」−記一般
式（■）において、Ｒ２−Ｒ６は好ましくは水，鉛原子
、フッ素原子，塩素原子またはシアノ基である。また、
該化合物の分子には４００以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

Ｆ　　　　　　　　　　　ＯＣ：Ｈ　：１４）フッ素化
アルカンおよびエーテルとしては、炭素数１〜８のアル
カンおよびエーテルであって、かつ少なくとも一つのフ
ッ素原子で置換ぎれている化合物を挙げることができる
．これらの化合物には直鎖状、環状および分枝状のもの
が含まれる．また、該化合物はフッ素原子の他にさらに
、塩Ｊ　Ｈ子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、置換ま
たは無置換のアルコキシ基、アルキルスルホニル基、ア
ルキルフィニル基でと検されていてもよい、ご換基は好
ましくは塩素原子、炭素数１〜４の置換または無２！換
のアルコキシ基である。また、１核化合物の分子値は４
００以下であるのが好ましい。

その具体例としては下記化合物が挙げられる。

ＣＧ１２Ｆ２　、　ＣＣＩ　３Ｆ　、　ＣＩ　Ｆ２Ｏ−
００文Ｆ２、Ｆ２ＧＨＣ１ｈ、ＣＨＣ党２ＣＦ２０ｃＨ
３，Ｈ（Ｌｌ：Ｆ２）　ｎ０ＧＨ３Ｈ ＣＦ２Ｏ）ＩＯＣ２Ｈ５，ＣＦ１ＧＨ２０Ｃ２Ｈ５，Ｇ
Ｆ２Ｈ−ＣＣＣＦ　−０ＧＨ３、２ン　／ Ｆ−亡　゛イーＦ Ｆ　　　Ｆ）ｌ　　　Ｆ ５）フッ十化カルボン酸としてはたとえば般式（Ｖｌ）
　　： ＣＦ、（ＣＦ２）。Ｃ０ＯＨ（■） （ただし、ｎは２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることができる。

６）フ２素化カルボンアミドとしてはたとえば、　一般
式（■）： ＣＦ３（Ｃ：Ｆ２）。ＧＯＮＨ２（ＩＸ）（ただし、ｎ
は２〜４の整数である） で表わされる化合物を挙げることがでｊる。

これらの中で好ましくは、フッ素化アルコールである。

また、本発明に用いられるフッ素含有化合物は上記化合
物に限定されるものではなく、分子中に少なくとも一つ
のフッ素原子を含む有機化合物であって、色素に対して
溶剤として機能しうる限り任意の化合物を用いることが
できる。

本発明において、上記フッ素含有化合物は巾独で溶剤と
して用いてもよいが、あるいは他の溶剤を併用すること
により混合溶剤として用いてもよい。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化どニル・ポ
リ酢酸ヒニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル
醜メチル、ポリメタグリル酸メチル副のアクリル樹脂、
ポリビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、１ポキ
シ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物など
の合成有機高分子物質を挙げることができる。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤に
対する色素の比率は一般に０．０１〜９９％（重ｉ　ｉ
ｔ　）の範囲にあり、好ましくは１．０〜９５％（重漬
比）の範囲にある。

記録層は中層でも重層でもよいが、その層ＪＶ−は一般
に０．０１ｇｍ〜２ｇｍの範囲にあり、好ましくは０．
０２〜０．８ｇｍの範囲にある。また、記録層は基板の
片面のみならず両面に設けられていてもよい。

記録層内またはこれに隣接する層内には、色素の劣化を
防ぐため、酸化防止剤もしくは褪色防１に剤を存在させ
てもよい。

半導体レーザまたはＨｅ−Ｍｅレーザなどの反射層を設
ける場合は、基板に反射層を設は次にこの反射層の上に
前述したような方式によって記録層先膜けることによる
か、あるいは基板に記録層を設け、ついでこの上に反射
層を設けるかのいずれかの方法がある。

反射層の材料である光反射性物質はレーザー光に対する
反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍｇ、Ｓｅ
、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ
、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐ
ｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ
Ｍ。

Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｔ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐａ、Ｓｎ、Ｂ
ｉなどの金属および゛ト金Ａｆｔを挙げることがでＪる
。これらのうらで好ましいものはＡ９、ＣｒおよびＮｉ
である。これらの物質は中独で用いてもよいし、あるい
は二種以り、の組合ゼでまたは合金として用いてもよい
。

反射層は、たとえば上記光反射性物質を７Ｎ、７７スパ
ツタリングまたはイオンブレーティングすることにより
記録層のＬに形成することができる。

反射層の層厚は一般には１００〜３０００又の範囲にあ
る。

反射層は上記ノん着法、スパッタリング法、イオンブレ
−ティング法などの他、次のような方法によって作るこ
とがで還る。

例えば水溶性樹脂（ＰＶＰ、ＰＶＡなと）に金属用また
は金属錯塩を溶解ネせ、さらに、還元剤を加えた溶液を
ノ＾板に塗布し、５０℃〜１５０℃好ましくは６０℃〜
１００℃で加熱乾帰させることによって形成される。

樹脂に対する金属塩または金属錯塩の酸は重＋１比で０
．１〜１０好ましくは０．５〜１．５である。この際、
記録層の膜厚は金属粒子反射層が０．０１〜０．１ｇｍ
でありそして光吸収層が０．０１〜ＩＪＬｍの範囲が適
当である。

金属塩または金属錯塩としては、硝酸銀、シアン化銀カ
リウム、シアン化金カリウム、銀アンミン錯体、銀シア
ン錯体、金用または金シアン語体などを使用できる。還
元剤としてはホルマリン酒石酸、酒石酸塩、還元剤、次
亜燐酸塩、水素化硼素ナトリウム、ジメチルアミノポラ
ンなどを使用できる。還元剤は金属塩または金属錯１！
！１モルに対し０．２〜ｌＯモル好ましくは０．５〜４
モルの範囲で使用できる。

本発明の色素記録層の１−には記録層および情報記録媒
体全体を物理的および化学的に保護する１］的で保護層
が設けられても良い。また、この保護層は、基板の記録
層が設けられていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目
的で設けられてもよい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１Ｓｉ０２．５ＩＮ４．ＭｇＦ２、Ｓ　ｎ　
Ｏ２’９を挙げることができる。また、有機物質として
は、熟ｊｊ（塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂
等を挙げることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂であ
る。

保護層は、たとえばプラスチックの押出加工で得られた
フィルムを接着層を介して色素記録層の１、にラミネー
トすることにより形成することができる。あるいは真空
蒸着、スパー２タリング、塗４１等の方法により、没け
られてもよい、また、８可塑刊樹脂、Ｓ硬化性樹脂の場
合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調型し
たのち、この塗ａ液を塗布し、乾繰することによっても
形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そ
のままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を、１ｌＩ
ｌ製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射してｔ
す化させることによっても形成することができる。ＵＶ
硬化性樹脂としては、ウレタン（メタ）７クリし・−ト
、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ
）アクリレート等の（メタ）アクリ１／−トのオリゴマ
ー類、（ツタ）アクリル醜エステル等のモノマー類等さ
らに光重合開始剤等の通常のＵＶ硬化性樹脂を使用する
ことがで還る。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤
、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じ
て添加してもよい。

保護層の層厚は一般にはｏ、１−ｔｏｏμｍの範囲にあ
る。

未発ＩＩにおいて、情報記録媒体はＬ述した構成からな
る単板であってもよいが、あるいは更に上記構成を有す
る二枚の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、
接着剤等を用いて接合することにより、貼合せタイプの
記録媒体を製造することもできる。あるいはまた、二枚
の円盤状基板のうちの少なくとも一方に４−記Ｍ１１成
を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリング
状外側スペーサとを介して接合することにより、エアー
サンドイッチタイプの記録媒体を製造することもできる
。

情報の記録は、一般にレーザ（例えば半導体レーザ、ｌ
ｉｅ−Ｍｅレーザなど）などのスポット状の高エネルギ
ービームをノ、（板を通しであるいは）、（板と反対側
より記録層に照射することにより行なわれ、記録層に吸
収された光が熱に変換され、記録層にビット（穴）が形
成される。未発ＩＪＩにおいては、レーザー光は７５０
〜８６０ｎｍの範囲に発振波長を有する半導体レーザー
から放射される光を使用し、記録は回転下の上記本発明
の情報記録媒体に該レーザー光を照射することによって
行なわれる。

また情報の読み出しはレーザ光を記録の閾値エネルギー
以下の低出力で照射し、ビット部とビットが形成されて
いない部分の反射光間もしくは透過光量の変化を検出す
ることにより行なわれる。

以下に、本発明の実施例および比較例を記載する。ただ
し、これらの各個は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 前記化合物１４： ＣＨ２ＣＨｚＯＣ２Ｈ５ＣＨｚＣＨ２０ＣｚＨ５Ｃ交０
４゜ １．４ｇ、ポリメチルメタクリレート０゜２８ｇおよび
ジインモニウム系化合物（商品名：ＩＲＧ−０２３、Ｈ
本化薬ｎ）０．０１４ｇを、２．２，３．３−テトラフ
ロロプロパツール１００ｃｃに溶解して色素記録層塗布
液を調製した。

トラッキングガイドが設けられた円盤状のポリカーボネ
ート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５　ｍ　ｍ、厚
さ：１．２ｍｍ、トラックＩｆＪ＋１．０ｇｍ：）ラー
、クピッチ：１．６ｇｍ、グループの深さ：８００Ｘ）
ｈに、上記塗布液をスピンコード法により回転数８５０
　ｒｐ層の速度で塗布した後、７０℃の温度で１０分間
乾燥して膜厚が６００λの記録層を形成した。

このようにして、基板および色素記録層からなる情報記
録媒体を！２造した。

［実施例２Ｊ 実施例１において１Ｆ）カ記化合物１４の代わりに、前
記化合物１７： ［実施例３Ｊ 実施例１において、前記化合物１４の代わりに、前記化
合物４： Ｇ）Ｉ３　　　ＣＨ３ ＣＬＣＩ＋（Ｃ１ｈ）ｚ　　　　　　ＧＨ７ＧＨ（ＣＨ
３）２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２　　　　　　　ＧＬＧＨ
（［Ｊ３）７Ｃ又０４゜ を使用した以外は実施例１と同様にして、基板および色
素記録層からなる情報記録媒体を装造した。

Ｏ を使用した以外は実施例１と同様にして、基板および色
よ２８層からなる情報記録媒体を装造した。

［比較例１］ 実施例１において、前記化合物１４の代わりに従来の会
合体を形成し易いド記の色素：Ｃ！１ Ｃ１１：＋ Ｈ３ Ｈ３ ｌｈ 吋 記録周ＰＩＪ、数：２．５ＭＨｚ 記録デユーティー−５０％ Ｈ３ Ｃす０４０ を使用した以外は実施例１と同様にして、基板および色
素記録層からなる情報記録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価］ １−記情報記録媒体の記録層に、ディスクｉ；！　ｉｆ
ｆ装ｇｌ　（Ｎａｋａｉ＋１ｃｈｉ　ＤｉＳｋ、ｉ＋価
装置０ＭＳ−１０００）およびＥＦＭエンコ−’！’　
−（ＫＥＮ−ＷＯＯＤ）　ヲ用イテ、下記ノ条件にて情
報を記録した。

レーザー　：半導体レーザー（ＧａＡ交ＡＳ）レーザー
の波長：８３０ｎｍ （但し、実施例３は７８０ｎ層） ビーム径　：１．６ｇｍ 記録パワー：　８　、　ＯｍＷ 定線速度　：　１．２ｍ／秒 また、記録された情報を下記の条件で再生し、Ｃ／Ｎを
測定し、モしてＣ／Ｎが５ｄＢ低下するまでの再生回数
を測定した。

５らに、耐湿性のテストを行なうため、６０℃８０％Ｒ
Ｈの雰囲気に７２時間放δした後のＣ／Ｎを測定した。

レーザー　二半導体レーザー（ＧａＡＭ　Ａｓ）レーザ
ーの波長：８３０ｎｍ （但し、実施例３は７８０ｎ層） ビーム径　：１．６牌ｍ 定線速ＩＪＩ：５ｍ／秒 記録パワー＋０．８ｍＷ Ｌ記測定結果を第１表に示す。

第１表 色素モノマー　色粛層　記録層　再生　耐湿入、。　入
ｌａＸ　　後Ｇ／Ｎ　　回数　性（ｄＢ）　　　　　（
ｄＢ） ができる。

比較例１は１色素モノマーの極太吸収が短波長であるた
め、（１生回数が少なく耐湿性も劣っている。

実施例１　６９２　　８３０　　　５＋　　　１０６＜
　　５０実施例２　６９３　　８４５　　　５０　　１
０６＜　　５０実施例３　６５３　　７５２　　　５０
　　　＋０６＜　　４９比較例１　７４５　　８００　
　　５２　　２ＸＩ０５５０尚、色素子ツマ−の吸収極
大波長（入０．）はメタノール溶液にて測定した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上にレーザー光による情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な色素からなる記録層が設けられ
   た情報記録媒体において、 該記録層が、水不溶性または水難溶性の色素の会合体か
   らなり、且つ該色素の有する吸収極大波長より８０ｎｍ
   以上長波長側の７４０〜９００ｎｍの範囲の波長領域に
   吸収極大を有することを特徴とする情報記録媒体。 ２、基板上に、水不溶性または水難溶性の色素の会合体
   からなり且つ該色素の有する吸収極大波長より８０ｎｍ
   以上長波長側の７４０〜９００ｎｍの範囲の波長領域に
   吸収極大を有する記録層が設けられた情報記録媒体を回
   転させながら、該情報記録媒体に７５０〜８６０ｎｍの
   範囲に発振波長を有する半導体レーザーから放射された
   レーザー光を照射することにより情報を記録することか
   らなる情報記録媒体の情報の記録方法。