JPH028671B2 - - Google Patents
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- JPH028671B2 JPH028671B2 JP59132781A JP13278184A JPH028671B2 JP H028671 B2 JPH028671 B2 JP H028671B2 JP 59132781 A JP59132781 A JP 59132781A JP 13278184 A JP13278184 A JP 13278184A JP H028671 B2 JPH028671 B2 JP H028671B2
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
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- Remote Sensing (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Radar Systems Or Details Thereof (AREA)
- Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
本発明は、光学式表面変位検出回路に係り、特
に、遠隔物体の厚さや変位等を非接触で測定する
ことができる光学式表面変位検出装置に用いるの
に好適な、ビーム走査範囲の基準位置に対応して
配設された基準光検出素子から出力される基準信
号と、測定対象面によるビーム反射光のうち、ビ
ーム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみを
受光するようにされた反射光検出素子から出力さ
れる反射信号の発生時間間隔から、測定対象面の
設定方向変位を求めるための光学式表面変位検出
回路の改良に関する。
に、遠隔物体の厚さや変位等を非接触で測定する
ことができる光学式表面変位検出装置に用いるの
に好適な、ビーム走査範囲の基準位置に対応して
配設された基準光検出素子から出力される基準信
号と、測定対象面によるビーム反射光のうち、ビ
ーム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみを
受光するようにされた反射光検出素子から出力さ
れる反射信号の発生時間間隔から、測定対象面の
設定方向変位を求めるための光学式表面変位検出
回路の改良に関する。
産業界における生産の自動化、ロボツト導入等
に伴ない、計測のイソプロセス化、高速度化、高
精度化が急速に要請されており、赤熱した鉄板の
圧延工程における厚さのイソプロセス測定のよう
に、遠隔物体の厚さや変位等を非接触で測定でき
る表面変位検出装置の必要性も大となつている。 このような非接触式の表面変位検出装置として
は、被測定物体に投射した光の反射光や散乱光を
変位に関する信号とする光学的変位方式を利用し
たもの、磁速変化、渦電流、容量変化等、電磁気
的場の効果を利用したもの、放射線の吸収度を利
用したもの、超音波を利用したもの等が提案され
ているが、被測定物体との設定範囲を大きく取れ
るという点では、光学的方式を利用したもの(以
下、光学式表面変位検出装置と称する)が有利で
である。 この光学式表面変位検出装置としては、種々の
方式が提案されているが、その1つに、例えば第
5図に示す如く、レーザビーム発生器20と、該
レーザビーム発生器20から発生されたスポツト
状のレーザビーム21を、等角速度で回転走査す
るための回転ミラー22と、該回転ミラー22に
よつて形成された回転走査ビーム23が、基準位
置を走査したことを検出するための基準光検出素
子24と、回転走査ビーム23の測定対象面10
による反射光のうち、測定対象面10と垂直な方
向(変位測定方向)の反射光のみを通過させるス
リツト26と、該スリツト26を通過した反射光
の有無を検出するための反射光検出素子28とを
備え、変位検出回路29により測定される、前記
基準光検出素子24から出力される基準信号と前
記反射光検出素子28から出力される反射信号の
発生時間間隔、即ち、回転走査ビーム23の走査
角度θから、測定対象面10の上下方向変位xを
求めるようにした、いわゆる、投射ビーム回転走
査方式によるものがある。 又、前出第5図に示した投射ビーム回転走査方
式における、回転走査ビーム23の走査角度θと
変位量xの関係が光学的に非線形となり、複雑な
補正が必要となるだけでなく、回転ミラー22と
測定対象面10間の距離l1、l2、l3等を計算する
必要があるという問題点を解消するものとして、
出願人は既に実願昭58−139708(実開昭60−48104
号公報)において、第6図に示す如く、前記回転
ミラー22と測定対象面10の間に、前記回転ミ
ラー22により扇状に回転走査される回転走査ビ
ーム23を互いに平行な平行走査ビーム31とす
るためのコリメータレンズ30を挿入することに
よつて、回転走査ビーム23の走査角度θと測定
対象面10の変位量xの間に光学的な線形関係が
成立するようにして、精度の高い測定を簡単に行
うことができるようにした、投射ビーム平行走査
方式によるものを提案している。 しかしながら、前出第5図あるいは第6図に示
した光学式表面変位検出装置のいずれにおいて
も、測定精度を高精度とするためには、変位検出
回路29で基準信号と反射信号の発生時間間隔を
精度よく測定する必要があり、そのためには、前
記基準信号及び反射信号のエツジ位置あるいは中
心位置を精度よく求める必要がある。 一方、光学式測定機器におけるエツジ検出装置
としては、出願人が既に特開昭58−173408、特願
昭58−102477(特開昭59−226802号公報)、実願昭
58−87424(実開昭59−194006号公報)等におい
て、種々の方法を提案しているが、特開昭58−
173408で提案したような、測定対象物との相対移
動時に生ずる明暗に基づき、少なくとも2組の位
相ずれ信号を発生するよう移動面と略平行な面内
に配設された4個の受光素子からなるセンサと、
前記各組の位相ずれ信号の差を演算する第1及び
第2の演算手段と、これら第1及び第2の演算手
段の出力信号の差を演算する第3の演算手段及び
和を演算する第4の演算手段と、この第4の演算
手段の出力信号が所定レベルにある間に生じる、
前記第3の演算手段の出力信号と基準レベルのク
ロス信号を出力する検知手段と、を含むエツジ検
出装置は、投影機には適しているものの、そのま
ま光学式表面変位検出装置に用いるには、構成が
非常に複雑である。又、特願昭58−102477で提案
したような、受光器を、被測定物の映像が進む方
向に二分割された2つの受光要素から形成すると
共に、これらの受光要素の出力信号を各々微分す
る微分回路と、これら微分回路の出力信号の差を
演算する差動回路と、この差動回路からの出力信
号を参照信号と比較して、被測定物のエツジとな
る一点を判別する判定回路と、を含むエツジ検出
装置は、2つの出力信号の波形がほぼ同じである
高速度走査型レーザ測長機には適しているもの
の、一般に、散乱光の関係で見掛上の反射光径が
異なるため、基準信号と反射信号の波形が大幅に
異なり、特に反射信号が非対称波形になり易い光
学式表面変位検出装置にそのまま用いるのには適
していない。更に、実願昭58−87424で提案した
ような、光線ビームの一部を被測定物の直前で検
知して、その光量変動を電気信号に変換して出力
する光量検知手段を設けると共に、この光量検知
手段を、その出力装置が判定装置における基準信
号又は受光器出力信号の補正信号となるように光
量検知手段に接続したエツジ検出装置も、やは
り、光学式表面変位検出装置にそのまま用いるの
には適していないという問題点を有していた。 又、基準信号と反射信号の波形の違いを克服す
るべく、各出力信号の中間点を直接捉え、それら
の間隔から時間間隔を決定することが考えられる
が、各出力信号の中間点を検出するに際して、例
えば2階微分を用いる方法は、回路が複雑になる
だけでなく、正確な中間点を求めるのが困難であ
るという問題点を有していた。 このような問題点を解消するものとして、出願
人は既に特願昭59−26827(特開昭60−170706号公
報)で、ビーム走査範囲の基準位置に対応して配
設された基準光検出素子から出力される基準信号
と、測定対象面によるビーム反射光のうち、ビー
ム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみを受
光するようにされた反射光検出素子から出力され
る反射信号の発生時間間隔から、測定対象面の設
定方向変位を求めるための光学式表面変位検出回
路において、前記基準信号と2つの位置で交差す
る第1閾値を発生する第1設定器と、前記反射信
号と2つの位置で交差する第2閾値を発生する第
2設定器と、前記基準信号と第1閾値の2つの交
差位置を検出する第1検出器と、前記反射信号と
第2閾値の2つの交差位置を検出する第2検出器
と、各検出器で検出される、対応づけられた一対
の交差位置間に発生するクロツクパルスを計数す
る第1カウンタと、各検出器で検出される、対応
づけられた他の一対の交差位置間に発生するクロ
ツクパルスを計数する第2カウンタと、両カウン
タで計数された両パルス数を演算して、前記基準
信号と反射信号の発生時間間隔を求める演算器
と、を備えたものを提案している。 このような光学式表面変位検出回路によれば、
基準信号と反射信号の中間点を直接求めることな
く、該中間点に対応する時間間隔を、簡単な回路
で精度良く求めることができる。
に伴ない、計測のイソプロセス化、高速度化、高
精度化が急速に要請されており、赤熱した鉄板の
圧延工程における厚さのイソプロセス測定のよう
に、遠隔物体の厚さや変位等を非接触で測定でき
る表面変位検出装置の必要性も大となつている。 このような非接触式の表面変位検出装置として
は、被測定物体に投射した光の反射光や散乱光を
変位に関する信号とする光学的変位方式を利用し
たもの、磁速変化、渦電流、容量変化等、電磁気
的場の効果を利用したもの、放射線の吸収度を利
用したもの、超音波を利用したもの等が提案され
ているが、被測定物体との設定範囲を大きく取れ
るという点では、光学的方式を利用したもの(以
下、光学式表面変位検出装置と称する)が有利で
である。 この光学式表面変位検出装置としては、種々の
方式が提案されているが、その1つに、例えば第
5図に示す如く、レーザビーム発生器20と、該
レーザビーム発生器20から発生されたスポツト
状のレーザビーム21を、等角速度で回転走査す
るための回転ミラー22と、該回転ミラー22に
よつて形成された回転走査ビーム23が、基準位
置を走査したことを検出するための基準光検出素
子24と、回転走査ビーム23の測定対象面10
による反射光のうち、測定対象面10と垂直な方
向(変位測定方向)の反射光のみを通過させるス
リツト26と、該スリツト26を通過した反射光
の有無を検出するための反射光検出素子28とを
備え、変位検出回路29により測定される、前記
基準光検出素子24から出力される基準信号と前
記反射光検出素子28から出力される反射信号の
発生時間間隔、即ち、回転走査ビーム23の走査
角度θから、測定対象面10の上下方向変位xを
求めるようにした、いわゆる、投射ビーム回転走
査方式によるものがある。 又、前出第5図に示した投射ビーム回転走査方
式における、回転走査ビーム23の走査角度θと
変位量xの関係が光学的に非線形となり、複雑な
補正が必要となるだけでなく、回転ミラー22と
測定対象面10間の距離l1、l2、l3等を計算する
必要があるという問題点を解消するものとして、
出願人は既に実願昭58−139708(実開昭60−48104
号公報)において、第6図に示す如く、前記回転
ミラー22と測定対象面10の間に、前記回転ミ
ラー22により扇状に回転走査される回転走査ビ
ーム23を互いに平行な平行走査ビーム31とす
るためのコリメータレンズ30を挿入することに
よつて、回転走査ビーム23の走査角度θと測定
対象面10の変位量xの間に光学的な線形関係が
成立するようにして、精度の高い測定を簡単に行
うことができるようにした、投射ビーム平行走査
方式によるものを提案している。 しかしながら、前出第5図あるいは第6図に示
した光学式表面変位検出装置のいずれにおいて
も、測定精度を高精度とするためには、変位検出
回路29で基準信号と反射信号の発生時間間隔を
精度よく測定する必要があり、そのためには、前
記基準信号及び反射信号のエツジ位置あるいは中
心位置を精度よく求める必要がある。 一方、光学式測定機器におけるエツジ検出装置
としては、出願人が既に特開昭58−173408、特願
昭58−102477(特開昭59−226802号公報)、実願昭
58−87424(実開昭59−194006号公報)等におい
て、種々の方法を提案しているが、特開昭58−
173408で提案したような、測定対象物との相対移
動時に生ずる明暗に基づき、少なくとも2組の位
相ずれ信号を発生するよう移動面と略平行な面内
に配設された4個の受光素子からなるセンサと、
前記各組の位相ずれ信号の差を演算する第1及び
第2の演算手段と、これら第1及び第2の演算手
段の出力信号の差を演算する第3の演算手段及び
和を演算する第4の演算手段と、この第4の演算
手段の出力信号が所定レベルにある間に生じる、
前記第3の演算手段の出力信号と基準レベルのク
ロス信号を出力する検知手段と、を含むエツジ検
出装置は、投影機には適しているものの、そのま
ま光学式表面変位検出装置に用いるには、構成が
非常に複雑である。又、特願昭58−102477で提案
したような、受光器を、被測定物の映像が進む方
向に二分割された2つの受光要素から形成すると
共に、これらの受光要素の出力信号を各々微分す
る微分回路と、これら微分回路の出力信号の差を
演算する差動回路と、この差動回路からの出力信
号を参照信号と比較して、被測定物のエツジとな
る一点を判別する判定回路と、を含むエツジ検出
装置は、2つの出力信号の波形がほぼ同じである
高速度走査型レーザ測長機には適しているもの
の、一般に、散乱光の関係で見掛上の反射光径が
異なるため、基準信号と反射信号の波形が大幅に
異なり、特に反射信号が非対称波形になり易い光
学式表面変位検出装置にそのまま用いるのには適
していない。更に、実願昭58−87424で提案した
ような、光線ビームの一部を被測定物の直前で検
知して、その光量変動を電気信号に変換して出力
する光量検知手段を設けると共に、この光量検知
手段を、その出力装置が判定装置における基準信
号又は受光器出力信号の補正信号となるように光
量検知手段に接続したエツジ検出装置も、やは
り、光学式表面変位検出装置にそのまま用いるの
には適していないという問題点を有していた。 又、基準信号と反射信号の波形の違いを克服す
るべく、各出力信号の中間点を直接捉え、それら
の間隔から時間間隔を決定することが考えられる
が、各出力信号の中間点を検出するに際して、例
えば2階微分を用いる方法は、回路が複雑になる
だけでなく、正確な中間点を求めるのが困難であ
るという問題点を有していた。 このような問題点を解消するものとして、出願
人は既に特願昭59−26827(特開昭60−170706号公
報)で、ビーム走査範囲の基準位置に対応して配
設された基準光検出素子から出力される基準信号
と、測定対象面によるビーム反射光のうち、ビー
ム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみを受
光するようにされた反射光検出素子から出力され
る反射信号の発生時間間隔から、測定対象面の設
定方向変位を求めるための光学式表面変位検出回
路において、前記基準信号と2つの位置で交差す
る第1閾値を発生する第1設定器と、前記反射信
号と2つの位置で交差する第2閾値を発生する第
2設定器と、前記基準信号と第1閾値の2つの交
差位置を検出する第1検出器と、前記反射信号と
第2閾値の2つの交差位置を検出する第2検出器
と、各検出器で検出される、対応づけられた一対
の交差位置間に発生するクロツクパルスを計数す
る第1カウンタと、各検出器で検出される、対応
づけられた他の一対の交差位置間に発生するクロ
ツクパルスを計数する第2カウンタと、両カウン
タで計数された両パルス数を演算して、前記基準
信号と反射信号の発生時間間隔を求める演算器
と、を備えたものを提案している。 このような光学式表面変位検出回路によれば、
基準信号と反射信号の中間点を直接求めることな
く、該中間点に対応する時間間隔を、簡単な回路
で精度良く求めることができる。
しかしながら、前記のような光学式表面変位検
出回路において、例えば走査ビーム中の所定位置
に配設されたミラーによる反射光を基準光検出素
子で受光することによつて形成される基準信号
は、走査ビームの光強度分布そのままを光電変換
したものとなり、その波形の対称性が保証され、
高精度のエツジ検出が容易であるのに対し、反射
光検出素子で受光される測定対象面からの反射光
は、ミラーによる反射光と性質が異なり、測定対
象面の表面状態、面傾き等によつて拡散され、更
に、反射信号の増幅系における立上り、立下りの
非対称性も加わるので、第7図に示す如く、反射
信号の波形の対称性が保証されず、そのエツジを
高精度で検出するのは困難であつた。従つて、同
一閾値でエツジを検出しても、波形の非対称性か
ら基準信号側エツジに対して反射信号側エツジは
偏位することになる。この傾向は、特に、装置構
成上、測定対象面に対する入射角と反射角が等し
くなるような反射光検出素子が配設されることが
少ないので、なおさらである。 従つて、基準信号及び反射信号の所定位置、即
ち基準位置と測定位置とのエツジ間を捉えようと
するこの種の検出回路においては、とりわけ反射
信号の所定位置を特定することが重要であり、高
精度化にあつて、その影響を除去することは必須
であつた。
出回路において、例えば走査ビーム中の所定位置
に配設されたミラーによる反射光を基準光検出素
子で受光することによつて形成される基準信号
は、走査ビームの光強度分布そのままを光電変換
したものとなり、その波形の対称性が保証され、
高精度のエツジ検出が容易であるのに対し、反射
光検出素子で受光される測定対象面からの反射光
は、ミラーによる反射光と性質が異なり、測定対
象面の表面状態、面傾き等によつて拡散され、更
に、反射信号の増幅系における立上り、立下りの
非対称性も加わるので、第7図に示す如く、反射
信号の波形の対称性が保証されず、そのエツジを
高精度で検出するのは困難であつた。従つて、同
一閾値でエツジを検出しても、波形の非対称性か
ら基準信号側エツジに対して反射信号側エツジは
偏位することになる。この傾向は、特に、装置構
成上、測定対象面に対する入射角と反射角が等し
くなるような反射光検出素子が配設されることが
少ないので、なおさらである。 従つて、基準信号及び反射信号の所定位置、即
ち基準位置と測定位置とのエツジ間を捉えようと
するこの種の検出回路においては、とりわけ反射
信号の所定位置を特定することが重要であり、高
精度化にあつて、その影響を除去することは必須
であつた。
本発明は、前記従来の問題点を解消するべくな
されたものであつて、反射信号の波形の非対称性
に拘らず、基準信号と反射信号の発生時間間隔、
即ち、表面変位を高精度で検出することができる
光学式表面変位検出回路を提供することを目的と
する。
されたものであつて、反射信号の波形の非対称性
に拘らず、基準信号と反射信号の発生時間間隔、
即ち、表面変位を高精度で検出することができる
光学式表面変位検出回路を提供することを目的と
する。
本発明は、ビーム走査範囲の基準位置に対応し
て配設された基準光検出素子から出力される基準
信号と、測定対象面によるビーム反射光のうち、
ビーム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみ
を受光するようにされた反射光検出素子から出力
される反射信号の発生時間間隔から、測定対象面
の設定方向変位を求めるための光学式表面変位検
出回路において、前記基準信号と2つの位置で交
差する第1閾値を発生する第1設定器と、前記基
準信号と第1閾値の2つの交差位置を検出する第
1検出器と、前記反射信号と各々2つの位置で交
差する複数の第2閾値を発生する第2設定器と、
前記反射信号と各第2閾値毎の2つの交差位置を
検出する第2検出器と、前記基準信号と第1閾値
の2つの交差位置と前記反射信号と各第2閾値毎
の2つの交差位置の発生時間間隔から、前記基準
信号と反射信号の発生時間間隔の第2閾値種数に
よる平均値を求める処理回路とを備え、前記平均
値から測定対象面の設定方向変位を検出するよう
にして、前記目的を達成したものである。 又、本発明の実施態様は、前記第2設定器を、
前記反射光検出素子出力の平均的ピーク値を分圧
して前記第2閾値を発生するものとして、散乱光
や電源変動等による基準信号や反射信号の波高値
変動の影響を受けることなく、精度の高い測定が
行えるようにしたものである。 更に、本発明の他の実施態様は、前記基準信号
と反射信号の発生時間間隔を、前記基準信号及び
反射信号内の各交差位置間では、設定周波数の第
1クロツクパルスを計数し、前記基準信号と反射
信号の対向内側交差位置間では、前記設定周波数
の2倍の周波数の第2クロツクパルスを計数し、
両クロツクパルスを加算することによつて求める
ようにして、非常に簡単な回路で測定が行えるよ
うにしたものである。 又、本発明の他の実施態様は、前記設定周波数
を、前記第2閾値の種数に反比例するように選択
して、前記基準信号と反射信号の発生時間間隔の
第2閾値種数による平均値が極めて容易に求めら
れるようにしたものである。
て配設された基準光検出素子から出力される基準
信号と、測定対象面によるビーム反射光のうち、
ビーム照射方向とは異なる設定方向の反射光のみ
を受光するようにされた反射光検出素子から出力
される反射信号の発生時間間隔から、測定対象面
の設定方向変位を求めるための光学式表面変位検
出回路において、前記基準信号と2つの位置で交
差する第1閾値を発生する第1設定器と、前記基
準信号と第1閾値の2つの交差位置を検出する第
1検出器と、前記反射信号と各々2つの位置で交
差する複数の第2閾値を発生する第2設定器と、
前記反射信号と各第2閾値毎の2つの交差位置を
検出する第2検出器と、前記基準信号と第1閾値
の2つの交差位置と前記反射信号と各第2閾値毎
の2つの交差位置の発生時間間隔から、前記基準
信号と反射信号の発生時間間隔の第2閾値種数に
よる平均値を求める処理回路とを備え、前記平均
値から測定対象面の設定方向変位を検出するよう
にして、前記目的を達成したものである。 又、本発明の実施態様は、前記第2設定器を、
前記反射光検出素子出力の平均的ピーク値を分圧
して前記第2閾値を発生するものとして、散乱光
や電源変動等による基準信号や反射信号の波高値
変動の影響を受けることなく、精度の高い測定が
行えるようにしたものである。 更に、本発明の他の実施態様は、前記基準信号
と反射信号の発生時間間隔を、前記基準信号及び
反射信号内の各交差位置間では、設定周波数の第
1クロツクパルスを計数し、前記基準信号と反射
信号の対向内側交差位置間では、前記設定周波数
の2倍の周波数の第2クロツクパルスを計数し、
両クロツクパルスを加算することによつて求める
ようにして、非常に簡単な回路で測定が行えるよ
うにしたものである。 又、本発明の他の実施態様は、前記設定周波数
を、前記第2閾値の種数に反比例するように選択
して、前記基準信号と反射信号の発生時間間隔の
第2閾値種数による平均値が極めて容易に求めら
れるようにしたものである。
本発明においては、基準信号と第1閾値の2つ
の交差位置、及び、反射信号と複数の第2閾値の
各々2つの交差位置をそれぞれ検出し、前記基準
信号と第1閾値の2つの交差位置と前記反射信号
と各第2閾値毎の2つの交差位置の発生時間間隔
から、前記基準信号と反射信号の発生時間間隔の
第2閾値種数による平均値を求め、該平均値から
測定対象面の設定方向変位を検出するようにした
ので、反射信号の波形の非対称性が補正され、該
非対称性に拘らず、表面変位を高精度で検出する
ことができる。
の交差位置、及び、反射信号と複数の第2閾値の
各々2つの交差位置をそれぞれ検出し、前記基準
信号と第1閾値の2つの交差位置と前記反射信号
と各第2閾値毎の2つの交差位置の発生時間間隔
から、前記基準信号と反射信号の発生時間間隔の
第2閾値種数による平均値を求め、該平均値から
測定対象面の設定方向変位を検出するようにした
ので、反射信号の波形の非対称性が補正され、該
非対称性に拘らず、表面変位を高精度で検出する
ことができる。
以下図面を参照して、本発明の実施例を詳細に
説明する。 本実施例は、第1図に示す如く、前出第6図に
示した従来例と同様の、レーザビーム発生器20
と、回転ミラー22と、例えばフオトダイオード
からなる基準光検出素子24と、スリツト26
と、例えばフオトダイオードからなる反射光検出
素子28と、変位検出回路29と、コリメータレ
ンズ30とを有する光学式表面変位検出装置にお
いて、平行走査ビーム31中の基準位置にミラー
40を設け、該ミラー40により前記基準光検出
素子28にレンズ41及びスリツト42を介して
レーザビームを入射するように構成すると共に、
前記変位検出回路29を、前記基準光検出素子2
4出力の基準信号Sa及び前記反射光検出素子2
8出力の反射信号Sbを各々増幅するアンプ46,
48と、前記基準信号Saと2つの位置で交差す
る第1閾値Vaを発生する第1設定器50と、前
記基準信号Saと第1閾値Vaの2つの交差位置
Pa1,Pa2を検出する第1検出器52と、前記反
射信号Sbと各々2つの位置で交差する複数(実
施例では3つ)の第2閾値Vb1,Vb2,Vb3を発
生する第2設定器54と、前記反射信号Sbと各
第2閾値Vb1,Vb2,Vb3毎の2つの交差位置
Pb11,Pb12、Pb21,Pb22、Pb31,Pb32を検出する
第2検出器56と、第2閾値の種数(実施例では
3つ)に反比例するように選択された設定周波数
f/2の第1クロツクパルスを発生する第1発振
器59と、前記設定周波数f/2の2倍の周波
数、即ち周波数fの第2クロツクパルスを発生す
る第2発振器60と、前記第1検出器52で検出
される2つの交差位置Pa1〜Pa2内で、前記第1
クロツクパルスを選択するための第1シフトレジ
スタ621,622,623及び第1ANDゲート6
41,642,643と、前記第2検出器56で検
出される各第2閾値Vb1,Vb2,Vb3毎の2つの
交差位置Pb11〜Pb12,Pb21〜Pb22,Pb31〜Pb32内
で、やはり前記第1クロツクパルスを選択するた
めの第2シフトレジスタ661,662,663及
び第2ANDゲート681,682,683と、両検
出器52,56の対向内側交差位置Pa2〜Pb11,
Pa2〜Pb21,Pa2〜Pb31間で前記第2クロツクパ
ルスを選択するための第3シフトレジスタ701,
702,703及び第3ANDゲート721,722,
723と、ORゲート741,742,743を介し
て前記ANDゲート641,642,643,681,
682,683,721,722,723から入力され
るクロツクパルスを各々計数するカウンタ761,
762,763と、該カウンタ761,762,763
のカウント数を合算する加算器78と、該加算器
78出力により、測定対象面10の設定方向変位
量xを表示する変位表示器80とから構成したも
のである。 第1図において、44は、反射光検出素子28
に入射される反射光を集光するためのレンズであ
る。 前記第1設定器50は、前記アンプ46を介し
て入力される基準光検出素子24出力の平均的ピ
ーク値を保持するためのピークホールド回路50
Aと、該ピークホールド回路50Aによる保持電
圧を、例えば1/2に分圧して前記第1閾値Vaを発
生する分圧抵抗50Bとから構成されている。 又、前記第2設定器54は、前記アンプ48を
介して入力される反射光検出素子28出力の平均
的ピーク値を保持するためのピークホールド回路
54Aと、該ピークホールド回路54Aによる保
持電圧を分圧して複数(実施例では3つ)の前記
第2閾値Vb1,Vb2,Vb3を発生する分圧抵抗5
4Bとから構成されている。 前記第1検出器52及び第2検出器56は、一
部共用化されており、主として前記第1検出器5
2を構成する、前記アンプ46を介して入力され
る基準光検出素子24出力と前記第1閾値Vaを
比較する第1比較器52Aと、主として前記第2
検出器56を構成する、前記アンプ48を介して
入力される反射光検出素子28出力と前記第2閾
値Vb1,Vb2,Vb3をそれぞれ比較する第2比較
器56A1,56A2,56A3と、該第2比較器5
6A1,56A2,56A3出力と前記第1比較器5
2A出力を加えるためのORゲート571,572,
573と、該ORゲート571,572,573を介
して入力される前記第1比較器52A及び第2比
較器56A1,56A2,56A3出力の矩形波信号
を、第2図に示す如く微分し、一方を反転して論
理和を取ることによつて、又は第3図に示す如
く、矩形波信号を微小時間だけ遅延し、元の信号
との排他的論理和を取ることによつて、基準信号
Sa又は反射信号Sbの立上り及び立下り、即ち、
2つの交差位置に対応するパルス信号Pa1,Pa2
及びPb11,Pb12、Pb21,Pb22、Pb31,Pb32を発生
するデジタルル微分回路581,582,583と
から構成されている。 本実施例における各部信号波形の例を第4図に
示す。図から明らかな如く、基準信号Saの立上
りPa1とPa2の間の区間Aでは、周波数f/2の
第1クロツクパルスを計数し、基準信号Saの立
下りPa2と反射信号Sbの立上りPb11,Pb21,Pb31
の間の区間B1、B2、B3では、周波数fの第2ク
ロツクパルスを計数し、反射信号Sbの立上り
Pb11,Pb21,Pb31と立下りPb12,Pb22,Pb32の間
の区間C1、C2、C3では、再び周波数f/2の第
1クロツクパルスを計数し、これらを加算器78
で合算することによつて、反射光の波形の非対称
性に拘らず、基準信号Saの中間点と反射信号Sb
の中間点に対応するパルス数、即ち表面変位を、
直ちに精度良く求めることができる。 本実施例においては、第1閾値Va及び第2閾
値Vb1,Vb2,Vb3を、いずれも、基準信号Sa又
は反射信号Sbのピーク値に応じて変動させるよ
うにしているので、散乱光や電源変動等による出
力信号の波高値変動に拘らず、精度の良い測定を
行うことができる。なお、第1閾値Va及び第2
閾値Vb1,Vb2,Vb3を定電圧設定とすることも
可能である。 又、本実施例においては、基準信号Saと反射
信号Sbの発生時間間隔を、基準信号Sa及び反射
信号Sbの各交差位置内(第4図の区間A、C1、
C2、C3)では、設定周波数f/2の第1クロツ
クパルスを計数し、前記基準信号Saと反射信号
Sbの対向内側交差位置間(第4図の区間B1、B2、
B3)では、前記設定周波数f/2の2倍の周波
数、即ちfの第2クロツクパルスを計数し、その
後クロツクパルスを加算することによつて求める
ようにしたので、除算器を用いることなく小数の
カウンタで、基準信号と反射信号の発生時間間隔
を直接求めることができ、高精度を確保するため
の多数スキヤンを可能とする高速処理を安価な回
路で行うことができる。なお、基準信号Saと反
射信号Sbの発生時間間隔を求める方法はこれに
限定されず、例えば各検出器で検出される、対応
づけられた3対の交差位置間に発生するクロツク
パルスを各々計数する3個のカウンタを各々設け
て、各カウンタ群で計数されたパルス数を演算し
て求めることも可能である。 更に、本実施例においては、設定周波数fを、
第2閾値の種数に反比例するように選択している
ので、第2閾値種数による平均値を求める際の割
算器が不要である。なお設定周波数fと第2閾値
の種数の関係はこれに限定されず、割算器を設け
ることによつて、任意の関係とすることができ
る。又、第2閾値の種数も3に限定されず、2又
は4以上とすることができる。 なお前記実施例においては、第1クロツクパル
スを発生する第1発振器59と第2クロツクパル
スを発生する第2発振器60とが独立とされてい
たが、分周回路を用いて、両者を共通化すること
も可能である。 又、前記実施例においては、第1及び第2検出
器52,54の出力から必要なクロツクパルスを
選択するに際して、各3個のシフトレジスタ62
1,622,623,661,662,663,701,
702,703が用いられていたが、必要なクロツ
クパルスを選択する構成はこれに限定されない。 本発明は、実施例で示したような投射ビーム平
行走査方式の光学式表面変位検出装置に用いるの
に特に好適なものであるが、本考案の適用範囲は
これに限定されず、前出第5図に示したような投
射ビーム回転走査方式の光学式表面変位検出装置
や、他の方式の光学式表面変位検出装置、更に
は、一般の光学式測定機器にも同様に適用できる
ことは明らかである。
説明する。 本実施例は、第1図に示す如く、前出第6図に
示した従来例と同様の、レーザビーム発生器20
と、回転ミラー22と、例えばフオトダイオード
からなる基準光検出素子24と、スリツト26
と、例えばフオトダイオードからなる反射光検出
素子28と、変位検出回路29と、コリメータレ
ンズ30とを有する光学式表面変位検出装置にお
いて、平行走査ビーム31中の基準位置にミラー
40を設け、該ミラー40により前記基準光検出
素子28にレンズ41及びスリツト42を介して
レーザビームを入射するように構成すると共に、
前記変位検出回路29を、前記基準光検出素子2
4出力の基準信号Sa及び前記反射光検出素子2
8出力の反射信号Sbを各々増幅するアンプ46,
48と、前記基準信号Saと2つの位置で交差す
る第1閾値Vaを発生する第1設定器50と、前
記基準信号Saと第1閾値Vaの2つの交差位置
Pa1,Pa2を検出する第1検出器52と、前記反
射信号Sbと各々2つの位置で交差する複数(実
施例では3つ)の第2閾値Vb1,Vb2,Vb3を発
生する第2設定器54と、前記反射信号Sbと各
第2閾値Vb1,Vb2,Vb3毎の2つの交差位置
Pb11,Pb12、Pb21,Pb22、Pb31,Pb32を検出する
第2検出器56と、第2閾値の種数(実施例では
3つ)に反比例するように選択された設定周波数
f/2の第1クロツクパルスを発生する第1発振
器59と、前記設定周波数f/2の2倍の周波
数、即ち周波数fの第2クロツクパルスを発生す
る第2発振器60と、前記第1検出器52で検出
される2つの交差位置Pa1〜Pa2内で、前記第1
クロツクパルスを選択するための第1シフトレジ
スタ621,622,623及び第1ANDゲート6
41,642,643と、前記第2検出器56で検
出される各第2閾値Vb1,Vb2,Vb3毎の2つの
交差位置Pb11〜Pb12,Pb21〜Pb22,Pb31〜Pb32内
で、やはり前記第1クロツクパルスを選択するた
めの第2シフトレジスタ661,662,663及
び第2ANDゲート681,682,683と、両検
出器52,56の対向内側交差位置Pa2〜Pb11,
Pa2〜Pb21,Pa2〜Pb31間で前記第2クロツクパ
ルスを選択するための第3シフトレジスタ701,
702,703及び第3ANDゲート721,722,
723と、ORゲート741,742,743を介し
て前記ANDゲート641,642,643,681,
682,683,721,722,723から入力され
るクロツクパルスを各々計数するカウンタ761,
762,763と、該カウンタ761,762,763
のカウント数を合算する加算器78と、該加算器
78出力により、測定対象面10の設定方向変位
量xを表示する変位表示器80とから構成したも
のである。 第1図において、44は、反射光検出素子28
に入射される反射光を集光するためのレンズであ
る。 前記第1設定器50は、前記アンプ46を介し
て入力される基準光検出素子24出力の平均的ピ
ーク値を保持するためのピークホールド回路50
Aと、該ピークホールド回路50Aによる保持電
圧を、例えば1/2に分圧して前記第1閾値Vaを発
生する分圧抵抗50Bとから構成されている。 又、前記第2設定器54は、前記アンプ48を
介して入力される反射光検出素子28出力の平均
的ピーク値を保持するためのピークホールド回路
54Aと、該ピークホールド回路54Aによる保
持電圧を分圧して複数(実施例では3つ)の前記
第2閾値Vb1,Vb2,Vb3を発生する分圧抵抗5
4Bとから構成されている。 前記第1検出器52及び第2検出器56は、一
部共用化されており、主として前記第1検出器5
2を構成する、前記アンプ46を介して入力され
る基準光検出素子24出力と前記第1閾値Vaを
比較する第1比較器52Aと、主として前記第2
検出器56を構成する、前記アンプ48を介して
入力される反射光検出素子28出力と前記第2閾
値Vb1,Vb2,Vb3をそれぞれ比較する第2比較
器56A1,56A2,56A3と、該第2比較器5
6A1,56A2,56A3出力と前記第1比較器5
2A出力を加えるためのORゲート571,572,
573と、該ORゲート571,572,573を介
して入力される前記第1比較器52A及び第2比
較器56A1,56A2,56A3出力の矩形波信号
を、第2図に示す如く微分し、一方を反転して論
理和を取ることによつて、又は第3図に示す如
く、矩形波信号を微小時間だけ遅延し、元の信号
との排他的論理和を取ることによつて、基準信号
Sa又は反射信号Sbの立上り及び立下り、即ち、
2つの交差位置に対応するパルス信号Pa1,Pa2
及びPb11,Pb12、Pb21,Pb22、Pb31,Pb32を発生
するデジタルル微分回路581,582,583と
から構成されている。 本実施例における各部信号波形の例を第4図に
示す。図から明らかな如く、基準信号Saの立上
りPa1とPa2の間の区間Aでは、周波数f/2の
第1クロツクパルスを計数し、基準信号Saの立
下りPa2と反射信号Sbの立上りPb11,Pb21,Pb31
の間の区間B1、B2、B3では、周波数fの第2ク
ロツクパルスを計数し、反射信号Sbの立上り
Pb11,Pb21,Pb31と立下りPb12,Pb22,Pb32の間
の区間C1、C2、C3では、再び周波数f/2の第
1クロツクパルスを計数し、これらを加算器78
で合算することによつて、反射光の波形の非対称
性に拘らず、基準信号Saの中間点と反射信号Sb
の中間点に対応するパルス数、即ち表面変位を、
直ちに精度良く求めることができる。 本実施例においては、第1閾値Va及び第2閾
値Vb1,Vb2,Vb3を、いずれも、基準信号Sa又
は反射信号Sbのピーク値に応じて変動させるよ
うにしているので、散乱光や電源変動等による出
力信号の波高値変動に拘らず、精度の良い測定を
行うことができる。なお、第1閾値Va及び第2
閾値Vb1,Vb2,Vb3を定電圧設定とすることも
可能である。 又、本実施例においては、基準信号Saと反射
信号Sbの発生時間間隔を、基準信号Sa及び反射
信号Sbの各交差位置内(第4図の区間A、C1、
C2、C3)では、設定周波数f/2の第1クロツ
クパルスを計数し、前記基準信号Saと反射信号
Sbの対向内側交差位置間(第4図の区間B1、B2、
B3)では、前記設定周波数f/2の2倍の周波
数、即ちfの第2クロツクパルスを計数し、その
後クロツクパルスを加算することによつて求める
ようにしたので、除算器を用いることなく小数の
カウンタで、基準信号と反射信号の発生時間間隔
を直接求めることができ、高精度を確保するため
の多数スキヤンを可能とする高速処理を安価な回
路で行うことができる。なお、基準信号Saと反
射信号Sbの発生時間間隔を求める方法はこれに
限定されず、例えば各検出器で検出される、対応
づけられた3対の交差位置間に発生するクロツク
パルスを各々計数する3個のカウンタを各々設け
て、各カウンタ群で計数されたパルス数を演算し
て求めることも可能である。 更に、本実施例においては、設定周波数fを、
第2閾値の種数に反比例するように選択している
ので、第2閾値種数による平均値を求める際の割
算器が不要である。なお設定周波数fと第2閾値
の種数の関係はこれに限定されず、割算器を設け
ることによつて、任意の関係とすることができ
る。又、第2閾値の種数も3に限定されず、2又
は4以上とすることができる。 なお前記実施例においては、第1クロツクパル
スを発生する第1発振器59と第2クロツクパル
スを発生する第2発振器60とが独立とされてい
たが、分周回路を用いて、両者を共通化すること
も可能である。 又、前記実施例においては、第1及び第2検出
器52,54の出力から必要なクロツクパルスを
選択するに際して、各3個のシフトレジスタ62
1,622,623,661,662,663,701,
702,703が用いられていたが、必要なクロツ
クパルスを選択する構成はこれに限定されない。 本発明は、実施例で示したような投射ビーム平
行走査方式の光学式表面変位検出装置に用いるの
に特に好適なものであるが、本考案の適用範囲は
これに限定されず、前出第5図に示したような投
射ビーム回転走査方式の光学式表面変位検出装置
や、他の方式の光学式表面変位検出装置、更に
は、一般の光学式測定機器にも同様に適用できる
ことは明らかである。
以上説明した通り、本発明によれば、反射光の
波形の非対称性に拘らず、基準信号と反射信号の
発生時間間隔、即ち表面変位を精度良く求めるこ
とができるという優れた効果を有する。
波形の非対称性に拘らず、基準信号と反射信号の
発生時間間隔、即ち表面変位を精度良く求めるこ
とができるという優れた効果を有する。
第1図は、本発明に係る光学式表面変位検出回
路の実施例が採用された、光学式表示変位検出装
置の構成を示すブロツク線図、第2図は、前記実
施例で用いられているデジタル微分回路の作用の
一例を示す線図、第3図は、同じくデジタル微分
回路の作用の他の例を示す線図、第4図は、前記
実施例の各部動作波形を示す線図、第5図は、従
来の投射ビーム回転走査方式による光学式表面変
位検出装置の一例の構成を示すブロツク線図、第
6図は、出願人が既に提案した、投射ビーム平行
走査方式により光学式表面変位検出装置の構成を
示すブロツク線図、第7図は、反射光の信号波形
の一例を示す線図である。 10……測定対象面、20……レーザビーム発
生器、22……回転ミラー、24……基準光検出
素子、28……反射光検出素子、50,54……
設定器、52,56……検出器、59,60……
発振器、621,622,623,661,662,6
63,701,702,703……シフトレジスタ、
641,642,643,681,682,683,7
21,722,723……ANDゲート、761,76
2,763……カウンタ、78……加算器、Sa……
基準信号、Sb……反射信号、Va……第1閾値、
Vb1,Vb2,Vb3……第2閾値、Pa1,Pa2,
Pb11,Pb12,Pb21,Pb22,Pb31,Pb32……交差位
置。
路の実施例が採用された、光学式表示変位検出装
置の構成を示すブロツク線図、第2図は、前記実
施例で用いられているデジタル微分回路の作用の
一例を示す線図、第3図は、同じくデジタル微分
回路の作用の他の例を示す線図、第4図は、前記
実施例の各部動作波形を示す線図、第5図は、従
来の投射ビーム回転走査方式による光学式表面変
位検出装置の一例の構成を示すブロツク線図、第
6図は、出願人が既に提案した、投射ビーム平行
走査方式により光学式表面変位検出装置の構成を
示すブロツク線図、第7図は、反射光の信号波形
の一例を示す線図である。 10……測定対象面、20……レーザビーム発
生器、22……回転ミラー、24……基準光検出
素子、28……反射光検出素子、50,54……
設定器、52,56……検出器、59,60……
発振器、621,622,623,661,662,6
63,701,702,703……シフトレジスタ、
641,642,643,681,682,683,7
21,722,723……ANDゲート、761,76
2,763……カウンタ、78……加算器、Sa……
基準信号、Sb……反射信号、Va……第1閾値、
Vb1,Vb2,Vb3……第2閾値、Pa1,Pa2,
Pb11,Pb12,Pb21,Pb22,Pb31,Pb32……交差位
置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 ビーム走査範囲の基準位置に対応して配設さ
れた基準光検出素子から出力される基準信号と、
測定対象面によるビーム反射光のうち、ビーム照
射方向とは異なる設定方向の反射光のみを受光す
るようにされた反射光検出素子から出力される反
射信号の発生時間間隔から、測定対象面の設定方
向変位を求めるための光学式表面変位検出回路に
おいて、 前記基準信号と2つの位置で交差する第1閾値
を発生する第1設定器と、 前記基準信号と第1閾値の2つの交差位置を検
出する第1検出器と、 前記反射信号と各々2つの位置で交差する複数
の第2閾値を発生する第2設定器と、 前記反射信号と各第2閾値毎の2つの交差位置
を検出する第2検出器と、 前記基準信号と第1閾値の2つの交差位置と前
記反射信号と各第2閾値毎の2つの交差位置の発
生時間間隔から、前記基準信号と反射信号の発生
時間間隔の第2閾値種数による平均値を求める処
理回路とを備え、 前記平均値から測定対象面の設定方向変位を検
出するようにしたことを特徴とする光学式表面変
位検出回路。 2 前記第2設定器が、前記反射光検出素子出力
の平均的ピーク値を分圧して前記第2閾値を発生
するものとされている特許請求の範囲第1項記載
の光学式表面変位検出回路。 3 前記基準信号と反射信号の発生時間間隔が、
前記基準信号及び反射信号内の各交差位置間で
は、設定周波数の第1クロツクパルスを計数し、
前記基準信号と反射信号の対向内側交差位置間で
は、前記設定周波数の2倍の周波数の第2クロツ
クパルスを計数し、両クロツクパルスを加算する
ことによつて求められている特許請求の範囲第1
項記載の光学式表面変位検出回路。 4 前記設定周波数が、前記第2閾値の種数に反
比例するように選択されたものである特許請求の
範囲第3項記載の光学式表面変位検出回路。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59132781A JPS6111684A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 光学式表面変位検出回路 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59132781A JPS6111684A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 光学式表面変位検出回路 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6111684A JPS6111684A (ja) | 1986-01-20 |
JPH028671B2 true JPH028671B2 (ja) | 1990-02-26 |
Family
ID=15089392
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59132781A Granted JPS6111684A (ja) | 1984-06-27 | 1984-06-27 | 光学式表面変位検出回路 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6111684A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6531502B2 (ja) * | 2015-06-11 | 2019-06-19 | 株式会社リコー | 光走査装置、物体検出装置及びセンシング装置 |
-
1984
- 1984-06-27 JP JP59132781A patent/JPS6111684A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6111684A (ja) | 1986-01-20 |
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