JPH0286037A - 検査装置 - Google Patents

検査装置

Info

Publication number
JPH0286037A
JPH0286037A JP63236462A JP23646288A JPH0286037A JP H0286037 A JPH0286037 A JP H0286037A JP 63236462 A JP63236462 A JP 63236462A JP 23646288 A JP23646288 A JP 23646288A JP H0286037 A JPH0286037 A JP H0286037A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
chamber
exchange
exchange chamber
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63236462A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Ozaki
尾崎 勝美
Kenji Yamamoto
賢治 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Microcomputer Engineering Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP63236462A priority Critical patent/JPH0286037A/ja
Publication of JPH0286037A publication Critical patent/JPH0286037A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野コ 本発明は、検査技術に関し、特に、半導体装置の製造に
おけるウェハ処理工程で、半導体ウェハの表面に形成さ
れた回路パターンなどを検査する走査型電子顕微鏡の検
査技術などに適用して有効な技術に関する。
[従来の技術] 走査型電子u微鏡の検査に関する技術としては、たとえ
ば総研出版株式会社、昭和60年6月1日発行、「超L
SIテクノロジー、P544〜P549に記載されてい
るものがある。
その概要としては、回路パターンなどが形成された半導
体ウェハの目的の部位を電子線によって走査し、電子線
の入射部位から発生され検出器によって捕捉された二次
電子の強度とその時の走査位置とに基づいて、電子線の
走査に同期して接続された陰極線管などに走査部位の拡
大像を構成し、回路パターンの外観や寸法などの検査を
行うことが記載されている。
ところで、このような走査型1子顕微鏡において、所定
の真空度に保持されて試料が観察される試料室には、真
空排気が可能な試料交換室が単数接続され、この単数の
試料交換室を経て試料の試料室への搬入および試料の試
料室からの搬出がなされて試料の検査作業が順次行われ
る。
すなわち、この走査型電子顕微鏡による試料の検査作業
は、次のようにして行われる。
先ず、試料交換室に試料を収容させた後に、大気圧中に
開放されていた試料交換室を真空排気し、この真空排気
された試料交換室から試料を試料室に搬入させ、その試
料室の試料を観察する。
次いで、この試料観察後の試料室の試料を真空状態とさ
れた試料交換室に戻した後に、試料交換室のみを大気圧
中に開放して試料交換室から試料を取り出すことにより
、一つの試料の検査作業が終了する。
そして、このような作業工程の繰り返しにより、試料の
検査が順次行われる。
[発明が解決しようとする課M1 しかしながら、前記した走査型電子顕微鏡によると、試
料交換室が単数とされているため、真空状態の試料交換
室を大気圧に開放させて観察後の試料を取り出し、次に
観察すべき試料を試料交換室に収容させた後に、再び、
試料交換室を真空排気し、試料交換室から試料を試料室
に搬入させて観察しなければならない。
このため、多くの時間を費やす試料交換室の真空排気と
試料室内の試料の観察とを並行して行うことができず、
検査作業に多くの時間が費やされ、走査型電子顕微鏡の
スルーブツトの向上が妨げられている。
本発明の目的は、スループットの向上を図ることができ
る検査装置を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
[課題を解決するための手段] 本願において開示される発明のうち、代表的なものの概
要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
すなわち、真空排気が可能な試料交換室が所定の真空度
に保持される試料室に複数接続されている構造としたも
のである。
口作用] 前記した手段によれば、真空排気が可能な試料交換室を
復数備えていることにより、試料室での試料の観察中に
おいて、試料交換室の真空排気と、試料交換室への試料
の収容および試料交換室からの試料の取り出しとを行う
ことができるので、検査装置のスルーブツトの向上を図
ることができる。
[実施例1] 第1図は本発明の一実施例である検査装置を示す部分的
横断面図、第2図は第1図のn−n線における一部省略
して示す断面図、第3図は第1図および第2図に示す検
査装置の全体的斜視図である。
本実施例の検査装置は、走査型電子顕微鏡として適用さ
れ、第3図に示すように、本体部1と、真空ポンプ部2
と、コントロール部3とから構成されている。
第1図および第2図に示すように、前記本体部1内の気
密構造の試料室4は、真空排気用配管5を介して前記真
空ポンプ部2に接続され、この真空排気用配管5を通じ
て真空排気されるようになっている。
前記試料室4には、本体部1内の一対の試料交換室6,
7が接続され、試料室4の略中央部には、その一方の試
料交換室6から搬入された、たとえば半導体ウェハなど
の試料8が載置された試料台9が搬入されている。。
試料交換室6.7は、夫々気密構造とされ、真空排気用
配管[3a、7aを介して前記真空ポンプ2に夫々接続
されていて、試料交換室6,7の予備真空排気が夫々独
立に可能とされている。
一方の試料交換室7には、試料室4に搬出され観察され
る次の試料8が載置された試料台10が収容されている
試料室4と試料交換室6.7との境界部位には、上下方
向に変位して開閉する開閉弁11.12が夫々配設され
ていて、この開閉弁11.12が夫々開くことにより、
試料台9.10が試料室4と試料交換室6.7との間を
夫々移動され、他方、開閉弁11.12が夫々閉じるこ
とにより、試料室4と試料交換室6,7との間の気密が
夫々保持される構造とされている。
試料交換室6.7は、試料収容用および試料取り出し用
の開口1ff16b、7bを上方に夫々有していて、試
料交換室6.7が試料室4への試料8の搬入用と試料室
4からの試料8の搬出用とを夫々併用するようになって
いる。
第2図に示すように、開口部6b、7bは、蝶番式の蓋
13によって夫々開閉自在とされている。
また、第1図に示すように、試料交換室6.7には、同
図の矢印方向に移動可能な、試料用搬送手段としての押
し棒14.15が本体部1の外部から本体部l内を気密
的に貫通して挿入されている。
押し棒14.15の先端側には、試料台9.10の雌ね
じa(S9a、10aに螺合する雄ねじ部14a、15
aが夫々形成され、両者の雌ねじ部91.10aと雄ね
じ部14a、15aとの螺合によって押し棒14,15
と試料台9,10とが夫々互いに着脱自在に結合される
ようになっている。
そして、たとえば、試料台10に結合された押し棒15
を本体部1の外部から手動操作して、試料交換室7側か
ら試料室4側に押し出すことにより、試料交換室7に収
容された試料台10および試料台10上の試料8が試料
室4に搬入され、逆に、押し棒15を試料室4側から試
料交換室7側に引き出すことによって試料室4に搬入さ
れた試料台10ふよび試料台10上の試料8が試料室4
から試料交換室7に搬出されるようになっている。
次に、本実施例の作用について説明する。
先ず、第1図に示す状態において、試料室4と試料交換
室6.7との間の境界部位は、開閉弁11.12によっ
て夫々間じられ、高真空度が保持されている試料室4の
試料台9上の試料8の観察、すなわち、たとえば試料8
に電子走査が行われ、コントロール部3において寸法が
測定されるなど、試料台9上の試料8の観察が行われて
いる。
この観察中の試料8は、押し棒14の押し出しによって
試料交換室6から試料台9とともに、試料室4に搬入さ
れたもので、試料交換室6は、その搬入時の真空度が保
持されている。
このような試料台9上の試料8の観察中において、他方
の試料交換室7は、蓋13が開けられ開口部7aから次
に観察すべき試料8が収容されて試料台10上に載置さ
れた後に、その試料8の収容により大気圧に開放された
試料交換室7が配管7aを通じて真空排気される。
そして、試料交換室7が所定の真空度とされる。
次いで、前記した試料室4の試料台9の試料8の観察が
終了すると、開閉弁11を開いて夫々真空状態の試料室
4と試料交換室6とを連通させる。
そして、押し棒14を押し出し雄ねじ19’l<14a
を試料台9の雌ねじ部9aに螺合させて押し棒14と試
料台9とを結合させた後に、押し棒14を引き出して試
料台9およびその試料8を試料室4から試料交換室6に
搬出させ、開閉弁11を閉じる。
その後、開閉弁12を開いた後に、真空状態の試料交換
室7に収容され雌ねじ部10aに押し棒15の雄ねじ部
15aが螺合されている試料台10およびその試料8を
押し棒15の押し出しにょって試料交換室7から試料室
4に浸入させて、試料台10上の試料8を観察する。
一方、この試料台10の試料8の観察中に、試料交換室
6の蓋13を開けて試料台9上の観察後の試料8を外部
に取り出し、再び、次の試料8を試料台9に載置した後
に、前記試料8の取り出しにより大気圧に開放された試
料交換室6を配管6aを通じて真空排気する。
以下、前記した作業の繰り返しにより、順次、試料8の
検査を行う。
このように、本実施例によれば、真空排気が可能な一対
の試料交換室6.7が試料室4に接続されていることに
より、試料交換室6.7の真空排気と、試料交換室6.
7の一方への試料8の収容および他方からの試料8の取
り出しとを行うことができるので、検査作業の時間の短
縮化を図ることができ、走査型電子顕微鏡のスルーブツ
トの向上を図ることができる。
特に、このような効果は、この種の走査型電子顕微鏡に
おいて、試料交換室6,7の真空排気に多くの時間が費
やされるだけに有意義である。
[実施例2コ 第4図は本発明の他の実施例を示す部分的横断面図であ
る。
試料室4の両側には、試料室4への試料8の搬入専用の
試料交換室6および試料室4からの試料8の搬出専用の
試料交換室7が夫々接続され、これらの試料室4および
試料交換室6.7には、搬送手段としての無端走行ベル
)16が延設されている。
また、試料室4と試料交換室6,7との境界部位に夫々
配設されている開閉弁l・1.12は、無端走行ベル)
16の上側および下側が互いに気密的に密接し合うよう
に無端走行ベルト16を上下側から挟圧して閉じ合う一
対の弁体から夫々形成され、この開閉弁11.12が夫
々閉じることにより、試料室4と試料交換室6.7との
間の気密が夫々保持される構造とされている。
なお、図中、符号17は、無端走行ベルト16のローラ
を示すものである。
次に、本実施例の作用について説明する。
先ず、第4図に示す状態において、試料室4と試料交換
室6.7との間の境界部位は、開閉弁11.12によっ
て夫々閉じられ、真空度が保持されている試料室4の無
端走行ベルト16上の試料8の観察が行われている。
この無端走行ベルト16上の試料8の観察中において、
試料交換室6には、次に観察すべき試料8が収容され試
料交換室6の無端走行ベルト16上に載置された後に、
その試料8の収容により大気圧に開放された試料交換室
6が配管6aを通じて真空排気される。
そして、試料交換室6が所定の真空度とされる。
他方、先に、試料室4で観察され試料室4から搬出され
た試料交換室7の無端走行ベル)16上の試料8が、試
料交換室7から外部に取り出された後に、その試料8の
取り出しにより大気圧中に開放された試料交換室7が配
管7aを通じて真空排気される。
そして、試料交換室7が所定の真空度とされる。
次いで、前記した試料室4の無端走行ベル)16上の試
料8の観察が終了すると、開閉弁11゜12を開いて夫
々真空状態の試料室4と試料交換室6.7とを互いに連
通させる。
そして、搬送ベルト16を第4図の矢印方向に搬送させ
ることにより、次に観察すべき試料交換室6の搬送ベル
ト16上の試料8を試料室4に搬入させ、また試料室4
の搬送ベルト16上の観察後の試料8を試料室4から試
料交換室6に搬出させる。
その後、開閉弁11.12を閉じ、試料室4の搬送ベル
ト16上の試料8を観察する。
この試料8の観察中において、前記と同様に、試料交換
室6.7を大気圧中に開放して、試料交換室6への観察
前の試料8の収容および試料交換室7からの観察後の試
料8の取り出しを行った後に、試料交換室6.7を夫々
真空排気する。
以後、前記した作業の繰り返しにより、試料8の検査を
順次行う。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき
具体的に説明したが、本発明は前記実施例1.2に限定
されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々
変更可能であることはいうまでもない。
たとえば、本実施例1においては、試料交換室6.7は
、試料室4への試料8の搬入および試料室4からの試料
8の搬出が夫々併用される構造とされているが、たとえ
ば試料台9に雌ねじt19aを一対、試料台10にも雌
ねじ部10aを一対夫々形成して、試料台9に押し棒1
4.15の双方、試料台10にも押し棒14,15の双
方が夫々結合される構造とすることにより、前記した実
施例2と同様に、試料交換室6.7の一方が試料室4へ
の試料8の搬入専用とし、他方が試料室4からの試料8
の搬出専用とすることも可能である。
この場合には、たとえば試料交換室6の試料台9の一方
の雌ねじ部9aに押し棒14の雄ねじ部14aが螺合さ
れ、この試料台6が押し棒14によって試料交換室6か
ら試料室4に搬入されて観察された後に、試料台9の他
方の雌ねじ部9aに押し棒15の雄ねじ部15aが螺合
され、試料台9が押し棒15によって試料室4から試料
交換室7に搬出されることととなる。
また、前記実施例1において、試料室4と試料交換室6
.7との間に中間室を介在させ、この中間室を試料台9
.10が夫々通過される構造とすることも可能である。
更に、前記実施例1においては、押し棒14゜15は本
体部lの外部からの手動操作によって操作されるように
なっているが、たとえば押し棒14.15が機械的駆動
手段によって操作される構造とすることも可能である。
以上の説明では、主として本発明者によってなされた発
明をその利用分野である半導体ウェハの検査技術に適用
した場合について説明したが、本発明はこれに限定され
るものではなく、一般の検査技術に広く適用することが
できる。
[発明の効果] 本願において開示される発明のうち、代表的なものによ
って得られる効果を簡単に説明すれば、次のとおりであ
る。
すなわち、真空排気が可能な試料交換室が所定の真空度
とされて試料が観察される試料室に複数接続されている
ことにより、試料室での試料の観察中において、試料交
換室の真空排気と、試料交換室への試料の収容および試
料交換室からの試料の取り出しとを行うことができるの
で、検査時間の短縮化を図ることができ、検査装置のス
ルーブツトの向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である検査装置を示す部分的
横断面図、 第2図は第1図の■−■線における一部省略して示す断
面図、 第3図は第1図および第2図に示す検査装置の全体的斜
視図 第4図は本発明の他の実施例を示す部分的横断面図であ
る。 l・・・本体部、2・・・真空ポンプ部、3・・・コン
トロールIIm、4・・・試料!、5・・・配管、6゜ ・配管、6 9、lO・ じ部、11 14.15 雄ねじ部、 一部。 7・・・試料交換室、6 b、71)・・・開口部、 ・・試料台、9a、10 12・・・開閉弁、■ ・・・押し棒、14a 16・・・搬送ベルト、1 a  −・ ・試料、 ・雌ね ・蓋、 第1図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、真空排気が可能な試料交換室が所定の真空度に保持
    されて試料が観察される試料室に複数接続されているこ
    とを特徴とする検査装置。 2、前記試料交換室が夫々前記試料室への試料の搬入用
    および前記試料室からの試料の搬出用とされていること
    を特徴とする請求項1記載の検査装置。 3、前記試料交換室の一方が前記試料室への試料の搬入
    用、前記試料交換室の他方が前記試料室からの試料の搬
    出用とされていることを特徴とする請求項1記載の検査
    装置。
JP63236462A 1988-09-22 1988-09-22 検査装置 Pending JPH0286037A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63236462A JPH0286037A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 検査装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63236462A JPH0286037A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 検査装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0286037A true JPH0286037A (ja) 1990-03-27

Family

ID=17001103

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63236462A Pending JPH0286037A (ja) 1988-09-22 1988-09-22 検査装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0286037A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007207673A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007207673A (ja) * 2006-02-03 2007-08-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 電子顕微鏡

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH01163951A (ja) 真空装置及びそれを用いてプロセスを行う方法
TW200603196A (en) Inspecting device using an electron ebam and method for making semiconductor devices with such inspection device
JPH01158329A (ja) 不純物検出分析方法
JPH0286037A (ja) 検査装置
JPS6322610B2 (ja)
JP3946602B2 (ja) 荷電粒子線装置
CN114284182A (zh) 刻蚀系统
JP2007292641A (ja) 外観検査装置
US20050054115A1 (en) Method of expeditiously using a focused-beam apparatus to extract samples for analysis from workpieces
JPH11340199A (ja) 半導体製造装置、走査型電子顕微鏡およびウェーハの検査方法
JPS6328863A (ja) 真空処理装置
JP6588303B2 (ja) 検査装置
JP4147587B2 (ja) 基板検査装置
JPH1098087A (ja) ウエハ搬送装置
JP2555973B2 (ja) 超高真空搬送装置
JP3119098U (ja) Tftアレイ検査装置
JP2011047770A (ja) Tftアレイ検査装置
JPH0394442A (ja) 半導体基板の検査方法
JP4537297B2 (ja) 走査型電子顕微鏡、及び走査型電子顕微鏡のフォーカス制御方法
JPS5679241A (en) Observation method by scanning electron microscope
JP2901672B2 (ja) 複数真空処理装置
KR101395261B1 (ko) 이동식 진공 챔버와 이를 구비한 전자현미경 및 시편을 검사하는 방법
KR0139726B1 (ko) 표면분석을 위한 시료 이송장치
JPS62142320A (ja) 真空処理装置
JPH04326007A (ja) 大気圧中における固体表面変化の観察・分析方法およびその装置