JP2901672B2 - 複数真空処理装置 - Google Patents
複数真空処理装置Info
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- JP2901672B2 JP2901672B2 JP32144189A JP32144189A JP2901672B2 JP 2901672 B2 JP2901672 B2 JP 2901672B2 JP 32144189 A JP32144189 A JP 32144189A JP 32144189 A JP32144189 A JP 32144189A JP 2901672 B2 JP2901672 B2 JP 2901672B2
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- Japan
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- vacuum
- sample
- chamber
- processing
- vacuum processing
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J3/00—Processes of utilising sub-atmospheric or super-atmospheric pressure to effect chemical or physical change of matter; Apparatus therefor
- B01J3/006—Processes utilising sub-atmospheric pressure; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、試料を真空で連続して複数処理する真空処
理装置に係り、特に半導体製造装置に関するものであ
る。
理装置に係り、特に半導体製造装置に関するものであ
る。
従来の複数処理装置は、例えば、セミ・コンダクタ・
ワールド（Semi Conductor Wold）1989 ８ 38〜40頁
に記載されているように各処理室は、真空にされた搬送
室等で連結されていた。
ワールド（Semi Conductor Wold）1989 ８ 38〜40頁
に記載されているように各処理室は、真空にされた搬送
室等で連結されていた。
上記従来技術の放射状連結は、各処理室が放射状に連
結されているため、試料の大口径化に伴う設置場所の拡
がり、又は、連結される処理室の数にも制限があった。
結されているため、試料の大口径化に伴う設置場所の拡
がり、又は、連結される処理室の数にも制限があった。
また、上記従来技術の直線状連結は、各処理室が放射
状に連結されているため、処理前後の試料の位置が離れ
操作性が悪く、各処理室の大きさにより、各室の標準化
が困難であった。
状に連結されているため、処理前後の試料の位置が離れ
操作性が悪く、各処理室の大きさにより、各室の標準化
が困難であった。
さらに、上記従来技術は、各処理室が真空の搬送室等
で常に連結されているため、各処理椎の保守スペースが
不十分で移動等も困難であり、また、各真空処理空間が
連結されるための相互汚染も問題があった。
で常に連結されているため、各処理椎の保守スペースが
不十分で移動等も困難であり、また、各真空処理空間が
連結されるための相互汚染も問題があった。
本発明の目的は、各処理室の相互汚染がなく、保守性
が良好で、連続で複数の処理が行え、しかも装置全体を
安価で、容易に構成することができる複数真空処理装置
を得ることにある。
が良好で、連続で複数の処理が行え、しかも装置全体を
安価で、容易に構成することができる複数真空処理装置
を得ることにある。
上記の目的を達成するため、本発明の特徴とするとこ
ろは、各々が、試料を処理する真空室と当該真空室に対
し前記試料を搬出入する搬送アームを収納したバッファ
室とを有する独立した複数の真空処理装置と、前記試料
を収納可能で前記複数の真空処理装置の各々との間で前
記試料を搬出入可能な真空移動装置と、前記真空移動装
置を前記複数の真空処理装置の各々の真空処理装置との
間で前記試料を搬出入可能な位置に移動する移動装置
と、前記移動装置により、前記複数の真空処理装置の任
意の一つの真空処理装置との間で前記試料を搬出入可能
な位置に移動した前記真空移動装置を、当該一つの真空
処理装置に結合する結合装置と、前記結合装置により結
合した前記真空移動装置と前記任意の一つの真空処理装
置との間で、前記試料を搬出入するに際し、当該真空移
動装置と当該任意の一つの真空処理装置との間の空間を
真空にする真空手段とを具備し、前記真空手段によって
前記真空移動装置と前記任意の一つの真空処理装置との
間の空間を真空にした後、前記真空移動装置と前記任意
の一つの真空処理装置とを前記空間を介して連通し、前
記バッファ室に収納した搬送アームを介して前記真空室
との間で前記試料を搬出入する複数真空処理装置にあ
る。
ろは、各々が、試料を処理する真空室と当該真空室に対
し前記試料を搬出入する搬送アームを収納したバッファ
室とを有する独立した複数の真空処理装置と、前記試料
を収納可能で前記複数の真空処理装置の各々との間で前
記試料を搬出入可能な真空移動装置と、前記真空移動装
置を前記複数の真空処理装置の各々の真空処理装置との
間で前記試料を搬出入可能な位置に移動する移動装置
と、前記移動装置により、前記複数の真空処理装置の任
意の一つの真空処理装置との間で前記試料を搬出入可能
な位置に移動した前記真空移動装置を、当該一つの真空
処理装置に結合する結合装置と、前記結合装置により結
合した前記真空移動装置と前記任意の一つの真空処理装
置との間で、前記試料を搬出入するに際し、当該真空移
動装置と当該任意の一つの真空処理装置との間の空間を
真空にする真空手段とを具備し、前記真空手段によって
前記真空移動装置と前記任意の一つの真空処理装置との
間の空間を真空にした後、前記真空移動装置と前記任意
の一つの真空処理装置とを前記空間を介して連通し、前
記バッファ室に収納した搬送アームを介して前記真空室
との間で前記試料を搬出入する複数真空処理装置にあ
る。
真空に保持された各真空室を独立させ、その間を移動
可能な真空室により、試料を必要な時、真空に保持し搬
出入できるようになるので、各処理室の保守性が向上
し、各真空処理室の真空レベルを単独に構成，制御可能
であるため、各処理室間の相互汚染を防止することがで
きる。
可能な真空室により、試料を必要な時、真空に保持し搬
出入できるようになるので、各処理室の保守性が向上
し、各真空処理室の真空レベルを単独に構成，制御可能
であるため、各処理室間の相互汚染を防止することがで
きる。
しかも、試料は真空移動装置の内部に収納されて、こ
の真空移動装置ごと各真空処理室へ搬送されるため、真
空移動装置を移動する移動装置は真空内に配置する必要
はなく、装置全体を安価で、容易に構成することができ
る。
の真空移動装置ごと各真空処理室へ搬送されるため、真
空移動装置を移動する移動装置は真空内に配置する必要
はなく、装置全体を安価で、容易に構成することができ
る。
また、真空処理装置は、試料を処理する真空室と当該
真空室に対し前記試料を搬出入する搬送アームを収納し
たバッファ室とからなる。そして、真空移動装置との試
料の搬出入はバッファ室に設けた搬送アームを介して行
う。したがって、試料を真空移動装置で搬送しても、バ
ッファ室と真空室とは予め位置決めされているため、試
料の搬送アームへの受け渡しのみを考慮すれば、搬送ア
ームから真空室へは試料を正確に搬出入することがで
き、この点からも装置を容易に構成することができる。
さらに、搬送アームはバッファ室により真空室からは独
立して収納されるため、真空室での試料の処理に影響さ
れることはなく、また影響を与えることもない。
真空室に対し前記試料を搬出入する搬送アームを収納し
たバッファ室とからなる。そして、真空移動装置との試
料の搬出入はバッファ室に設けた搬送アームを介して行
う。したがって、試料を真空移動装置で搬送しても、バ
ッファ室と真空室とは予め位置決めされているため、試
料の搬送アームへの受け渡しのみを考慮すれば、搬送ア
ームから真空室へは試料を正確に搬出入することがで
き、この点からも装置を容易に構成することができる。
さらに、搬送アームはバッファ室により真空室からは独
立して収納されるため、真空室での試料の処理に影響さ
れることはなく、また影響を与えることもない。
以下、本発明の一実施例を第１図および第２図により
説明する。
説明する。
第１図において、システムの構成は、試料を大気中か
ら真空中へ、および真空中から大気中へ戻すため、ロー
ドアンロード装置１と、そこから試料を真空保持の状態
で受け取り又は受け渡し可能な真空移動装置２と、その
真空移動装置２との間で試料を真空保持状態で搬出入可
能な一つ以上の処理モジュール3a〜3cでなる。
ら真空中へ、および真空中から大気中へ戻すため、ロー
ドアンロード装置１と、そこから試料を真空保持の状態
で受け取り又は受け渡し可能な真空移動装置２と、その
真空移動装置２との間で試料を真空保持状態で搬出入可
能な一つ以上の処理モジュール3a〜3cでなる。
第２図において、真空移動装置２と一つの処理モジュ
ールの構成について説明する。
ールの構成について説明する。
まず、真空移動装置２は、試料を真空状態に保持する
移動真空室４と、試料搬出入時開くゲートバルブ5aとで
真空室を形成する。その移動真空室４には、試料の搬出
入時に稼働する試料搭載装置10が取り付けられている。
また、真空移動装置２がロードアンロード装置１および
各処理モジュール3a〜3c間を移動するために移動装置11
が設けられると共に、移動真空室４に設けられたロック
室ａを処理モジュール３又はロードアンロード装置の真
空室のロック室6bと連結する結合装置９が設けられてい
る。
移動真空室４と、試料搬出入時開くゲートバルブ5aとで
真空室を形成する。その移動真空室４には、試料の搬出
入時に稼働する試料搭載装置10が取り付けられている。
また、真空移動装置２がロードアンロード装置１および
各処理モジュール3a〜3c間を移動するために移動装置11
が設けられると共に、移動真空室４に設けられたロック
室ａを処理モジュール３又はロードアンロード装置の真
空室のロック室6bと連結する結合装置９が設けられてい
る。
各処理モジュール３は、試料の処理を行う処理室８
と、搬送アーム16の収納される真空保持のバッファ室７
と、真空移動装置２のロック室6aと連結されるロック室
6bより真空室が形成され、各室は、ゲートバルブ5bおよ
び5cにより連通となる。ロック室6bには、ロック室6aお
よび6bを大気に戻すためにN2ガス元14がバルブ15を介し
て接続され、また、真空引きをするために真空ポンプ12
がバルブ13を介して接続されている。またロードアンロ
ード装置１にも上記の処理モジュール３と同様の機構が
設けられる。
と、搬送アーム16の収納される真空保持のバッファ室７
と、真空移動装置２のロック室6aと連結されるロック室
6bより真空室が形成され、各室は、ゲートバルブ5bおよ
び5cにより連通となる。ロック室6bには、ロック室6aお
よび6bを大気に戻すためにN2ガス元14がバルブ15を介し
て接続され、また、真空引きをするために真空ポンプ12
がバルブ13を介して接続されている。またロードアンロ
ード装置１にも上記の処理モジュール３と同様の機構が
設けられる。
以上、本実施例によれば、ロードアンロード装置およ
び各処理モジュールの真空室を単独で切り離して配置し
ていても、試料は、各処理の開始から終了まで真空状態
で連続で処理することができる。
び各処理モジュールの真空室を単独で切り離して配置し
ていても、試料は、各処理の開始から終了まで真空状態
で連続で処理することができる。
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、真
空に保持された各真空処理装置の真空処理室を独立さ
せ、その間を移動可能な真空移動装置の真空室により、
試料を必要な時に真空に保持して搬出入できるので、各
真空処理装置の保守性が向上し、各真空処理装置の真空
処理室の真空レベルを単独に構成でき、また単独に制御
可能であるため、各真空処理室間の相互汚染を防止する
ことができる。
空に保持された各真空処理装置の真空処理室を独立さ
せ、その間を移動可能な真空移動装置の真空室により、
試料を必要な時に真空に保持して搬出入できるので、各
真空処理装置の保守性が向上し、各真空処理装置の真空
処理室の真空レベルを単独に構成でき、また単独に制御
可能であるため、各真空処理室間の相互汚染を防止する
ことができる。
また、試料は真空移動装置の内部に収納されて、この
真空移動装置ごと各真空処理室へ搬送されるため、真空
移動装置を移動する移動装置は真空内に配置する必要は
なく、装置全体を安価で、容易に構成することができ
る。
真空移動装置ごと各真空処理室へ搬送されるため、真空
移動装置を移動する移動装置は真空内に配置する必要は
なく、装置全体を安価で、容易に構成することができ
る。
更に、真空処理装置は、試料を処理する真空室と当該
真空室に対し前記試料を搬出入する搬送アームを収納し
たバッファ室とからなる。そして、真空移動装置との試
料の搬出入はバッファ室に設けた搬送アームを介して行
う。試料を真空移動装置で搬送しても、バッファ室と真
空室とは予め位置決めされているため、試料の搬送アー
ムへの受け渡しのみを考慮すれば、搬送アームから真空
室へは試料を正確に搬出入することができ、この点から
も装置を容易に構成することができる。さらに、搬送ア
ームはバッファ室により真空室からは独立して収納され
るため、真空室での試料の処理に影響されることはな
く、また影響を与えることもない。
真空室に対し前記試料を搬出入する搬送アームを収納し
たバッファ室とからなる。そして、真空移動装置との試
料の搬出入はバッファ室に設けた搬送アームを介して行
う。試料を真空移動装置で搬送しても、バッファ室と真
空室とは予め位置決めされているため、試料の搬送アー
ムへの受け渡しのみを考慮すれば、搬送アームから真空
室へは試料を正確に搬出入することができ、この点から
も装置を容易に構成することができる。さらに、搬送ア
ームはバッファ室により真空室からは独立して収納され
るため、真空室での試料の処理に影響されることはな
く、また影響を与えることもない。
第１図は、本発明の一実施例の複数真空処理装置の構成
を表わした平面図、第２図は、第１図の処理モジュール
部の縦断面図である。 １……ロードアンロード装置、２……真空移動装置、３
……処理モジュール、４……移動真空室、5a〜5c……ゲ
ートバルブ、６……ロック室、７……バッファ室、８…
…処理室、９……結合装置、10……試料搭載装置、11…
…移動装置、12……真空ポンプ、13……バルブ、14……
N2ガス元、15……バルブ、16……搬送アーム
を表わした平面図、第２図は、第１図の処理モジュール
部の縦断面図である。 １……ロードアンロード装置、２……真空移動装置、３
……処理モジュール、４……移動真空室、5a〜5c……ゲ
ートバルブ、６……ロック室、７……バッファ室、８…
…処理室、９……結合装置、10……試料搭載装置、11…
…移動装置、12……真空ポンプ、13……バルブ、14……
N2ガス元、15……バルブ、16……搬送アーム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西畑 廣治 山口県下松市大字東豊井794番地 株式 会社日立製作所笠戸工場内 (72)発明者 伊藤 温司 山口県下松市大字東豊井794番地 株式 会社日立製作所笠戸工場内 (56)参考文献 特開 昭63−28047（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−87749（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.6，ＤＢ名) H01L 21/68
Claims (1)
- 【請求項１】各々が、試料を処理する真空室と当該真空
室に対し前記試料を搬出入する搬送アームを収納したバ
ッファ室とを有する独立した複数の真空処理装置と、 前記試料を収納可能で前記複数の真空処理装置の各々と
の間で前記試料を搬出入可能な真空移動装置と、 前記真空移動装置を前記複数の真空処理装置の各々の真
空処理装置との間で前記試料を搬出入可能な位置に移動
する移動装置と、 前記移動装置により、前記複数の真空処理装置の任意の
一つの真空処理装置との間で前記試料を搬出入可能な位
置に移動した前記真空移動装置を、当該一つの真空処理
装置に結合する結合装置と、 前記結合装置により結合した前記真空移動装置と前記任
意の一つの真空処理装置との間で、前記試料を搬出入す
るに際し、当該真空移動装置と当該任意の一つの真空処
理装置との間の空間を真空にする真空手段とを具備し、 前記真空手段によって前記真空移動装置と前記任意の一
つの真空処理装置との間の空間を真空にした後、前記真
空移動装置と前記任意の一つの真空処理装置とを前記空
間を介して連通し、前記バッファ室に収納した搬送アー
ムを介して前記真空室との間で前記試料を搬出入する複
数真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32144189A JP2901672B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 複数真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32144189A JP2901672B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 複数真空処理装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6496998A Division JP2974995B2 (ja) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | 試料搬出入装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03184331A JPH03184331A (ja) | 1991-08-12 |
| JP2901672B2 true JP2901672B2 (ja) | 1999-06-07 |
Family
ID=18132596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32144189A Expired - Fee Related JP2901672B2 (ja) | 1989-12-13 | 1989-12-13 | 複数真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2901672B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4493955B2 (ja) | 2003-09-01 | 2010-06-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び搬送ケース |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57134946A (en) * | 1981-02-16 | 1982-08-20 | Toshiba Corp | Carrying device for semiconductor substrate |
| JPS60238134A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-27 | Tokuda Seisakusho Ltd | 真空処理装置 |
| JPS61231166A (ja) * | 1985-04-08 | 1986-10-15 | Hitachi Ltd | 複合超高真空装置 |
-
1989
- 1989-12-13 JP JP32144189A patent/JP2901672B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03184331A (ja) | 1991-08-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |