JPH0283521U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0283521U JPH0283521U JP16209488U JP16209488U JPH0283521U JP H0283521 U JPH0283521 U JP H0283521U JP 16209488 U JP16209488 U JP 16209488U JP 16209488 U JP16209488 U JP 16209488U JP H0283521 U JPH0283521 U JP H0283521U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- exposed
- mounting table
- slope
- guide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 claims 6
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Holders For Sensitive Materials And Originals (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
Description
第1図はこの考案の一実施例を示す正面図、第
2図は載置テーブルの平面図、第3図及び第4図
は第2図の平面図及び右側面図、第5図は第3図
の―線断面図、第6図、第7図及び第8図は
夫々第5図の―線断面図、―線断面図及
び―線断面図、第9図は第2図の―線断
面図、第10図a〜cはそれぞれリニアボールベ
アリングと案内レールとの関係を示す拡大平面図
、一部を断面とした正面図及び右側面図、第11
図はボール保持器の拡大断面図、第12図a及び
bは直線駆動機構の拡大正面図及び端面図、第1
3図は回転駆動源の拡大断面図である。 図中、1は基台、2は被露光部材、3は載置テ
ーブル、5は円筒体、6は縮小レンズ、10はレ
チクルステージ、11はコンデンサレンズ、24
L、24Rは案内レール、25は斜面スライダ、
27a〜27fはリニアボールベアリング(転動
部材)、37は方形枠体、37g1〜37g4は
開口、37h1,37h2,37i1,37i2
は、吸引通路、37kはフレキシブル配管、37
lは真空吸引源、37pは真空ポンプ、43は直
線駆動機構、43はステツピングモータ、45は
ボールねじ、46はボールナツト、47はブラケ
ツト、48a,48bは板部、47b,48e,
48fは吸引通路、50は載置台、51は真空チ
ヤツク、54は微動機構、57L,57RはX方
向微動体、59はXY方向微動体、64L,64
R,65F,65Rは電磁石、81はボールベア
リング、82は歯車、83は旋回テーブル、84
は回転駆動源、87は微動ステージ、88はレチ
クルホルダ、92は駆動モータ、93は減速機、
97はピニオン、98,101a,101b,1
02は吸引通路、100は配管である。
2図は載置テーブルの平面図、第3図及び第4図
は第2図の平面図及び右側面図、第5図は第3図
の―線断面図、第6図、第7図及び第8図は
夫々第5図の―線断面図、―線断面図及
び―線断面図、第9図は第2図の―線断
面図、第10図a〜cはそれぞれリニアボールベ
アリングと案内レールとの関係を示す拡大平面図
、一部を断面とした正面図及び右側面図、第11
図はボール保持器の拡大断面図、第12図a及び
bは直線駆動機構の拡大正面図及び端面図、第1
3図は回転駆動源の拡大断面図である。 図中、1は基台、2は被露光部材、3は載置テ
ーブル、5は円筒体、6は縮小レンズ、10はレ
チクルステージ、11はコンデンサレンズ、24
L、24Rは案内レール、25は斜面スライダ、
27a〜27fはリニアボールベアリング(転動
部材)、37は方形枠体、37g1〜37g4は
開口、37h1,37h2,37i1,37i2
は、吸引通路、37kはフレキシブル配管、37
lは真空吸引源、37pは真空ポンプ、43は直
線駆動機構、43はステツピングモータ、45は
ボールねじ、46はボールナツト、47はブラケ
ツト、48a,48bは板部、47b,48e,
48fは吸引通路、50は載置台、51は真空チ
ヤツク、54は微動機構、57L,57RはX方
向微動体、59はXY方向微動体、64L,64
R,65F,65Rは電磁石、81はボールベア
リング、82は歯車、83は旋回テーブル、84
は回転駆動源、87は微動ステージ、88はレチ
クルホルダ、92は駆動モータ、93は減速機、
97はピニオン、98,101a,101b,1
02は吸引通路、100は配管である。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 被露光部材を載置して当該被露光部材をX
YZ方向に位置調整可能な載置テーブルと、該載
置テーブルに載置された被露光部材に対向する位
置に配設されたマスクを少なくともXY方向に移
動可能に保持するマスクステージとを備え、マス
クからの透過光を被露光部材に露光する露光装置
において、前記マスク及び被露光部材周辺におけ
る当該マスク及び被露光部材を位置調整するため
の可動部に対して塵埃吸引手段を設けたことを特
徴とする露光装置の除塵装置。 (2) 前記載置テーブルは、前記載置台を転動体
を介して載置する水平面を有する斜面スライダと
、前記斜面スライダを斜動案内する複数の傾斜案
内部及び該傾斜案内部に係合する転動部材を有し
、当該傾斜案内部及び転動部材の何れか一方が前
記粗動テーブルに、他方が前記斜面スライダに夫
々配設された斜動案内機構と、前記斜面スライダ
を前記斜動案内方向に進退駆動するボールねじと
を備えたZ方向移動手段を有し、当該Z方向移動
手段の転動部材及びボールねじに塵埃吸引手段が
設けられている請求項(1)記載の露光装置の除塵
装置。 (3) 前記マスクステージは、XY方向移動手段
及び歯車を使用した角度調整手段を有し、該角度
調整手段の歯車近傍に塵埃吸引手段を設けた請求
項(1)又は(2)記載の露光装置の除塵装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16209488U JPH0283521U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16209488U JPH0283521U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0283521U true JPH0283521U (ja) | 1990-06-28 |
Family
ID=31445610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16209488U Pending JPH0283521U (ja) | 1988-12-14 | 1988-12-14 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0283521U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002139825A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクの清掃方法および露光用マスクの清掃装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5386169A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-29 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
-
1988
- 1988-12-14 JP JP16209488U patent/JPH0283521U/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5386169A (en) * | 1977-01-07 | 1978-07-29 | Hitachi Ltd | Exposure apparatus |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002139825A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Ibiden Co Ltd | 露光用マスクの清掃方法および露光用マスクの清掃装置 |
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