JPH0283238A - 液状被覆剤組成物 - Google Patents
液状被覆剤組成物Info
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- JPH0283238A JPH0283238A JP1209731A JP20973189A JPH0283238A JP H0283238 A JPH0283238 A JP H0283238A JP 1209731 A JP1209731 A JP 1209731A JP 20973189 A JP20973189 A JP 20973189A JP H0283238 A JPH0283238 A JP H0283238A
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- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims description 15
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 19
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- KIAMWXDBQPVOTF-UHFFFAOYSA-K [diacetyloxy(methyl)stannyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Sn](C)(OC(C)=O)OC(C)=O KIAMWXDBQPVOTF-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- DIVTWACHZOQOBF-UHFFFAOYSA-K diacetyloxy(butyl)stannanylium;acetate Chemical compound CCCC[Sn](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O DIVTWACHZOQOBF-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 2
- SDTDHTCWRNVNAJ-UHFFFAOYSA-L dimethyltin(2+);diacetate Chemical compound CC(=O)O[Sn](C)(C)OC(C)=O SDTDHTCWRNVNAJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- UNPUXJFMLVJYCD-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(propanoyloxy)stannyl] propanoate Chemical compound CCCC[Sn](CCCC)(OC(=O)CC)OC(=O)CC UNPUXJFMLVJYCD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- INESKUJQAULKSC-UHFFFAOYSA-L [dimethyl(propanoyloxy)stannyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)O[Sn](C)(C)OC(=O)CC INESKUJQAULKSC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- HSHYYXDWBJUHRV-UHFFFAOYSA-K [methyl-di(propanoyloxy)stannyl] propanoate Chemical compound CCC(=O)O[Sn](C)(OC(=O)CC)OC(=O)CC HSHYYXDWBJUHRV-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims 1
- DNMABHRFVTUDNR-UHFFFAOYSA-L bis(2-methylpropyl)tin(2+);diacetate Chemical compound CC(C)C[Sn](CC(C)C)(OC(C)=O)OC(C)=O DNMABHRFVTUDNR-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- UWGQCMMCFXSIEC-UHFFFAOYSA-L bis(3-oxobutyl)tin(2+);diacetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC(=O)CC[Sn+2]CCC(C)=O UWGQCMMCFXSIEC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 1
- -1 carbomethoxyethyl Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 19
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 14
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 11
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 239000003570 air Substances 0.000 description 3
- MVODTGURFNTEKX-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-n-(2-bromoethyl)-n-(thiophen-2-ylmethyl)ethanamine;hydrobromide Chemical compound Br.BrCCN(CCBr)CC1=CC=CS1 MVODTGURFNTEKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 2
- QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N trifluoroacetic anhydride Chemical compound FC(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)F QAEDZJGFFMLHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(Cl)(Cl)Cl BOSAWIQFTJIYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRMSQVBRUNSOJL-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanoic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)F LRMSQVBRUNSOJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XETRHNFRKCNWAJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropanoyl 2,2,3,3,3-pentafluoropropanoate Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(=O)OC(=O)C(F)(F)C(F)(F)F XETRHNFRKCNWAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAWAZQITIZDJRB-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-2,2-difluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)Cl OAWAZQITIZDJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I antimony(5+);pentachloride Chemical compound Cl[Sb](Cl)(Cl)(Cl)Cl VMPVEPPRYRXYNP-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHPWQKGHYNAWTF-UHFFFAOYSA-L bis(3-methoxy-3-oxopropyl)tin(2+);diacetate Chemical compound CC([O-])=O.CC([O-])=O.COC(=O)CC[Sn+2]CCC(=O)OC OHPWQKGHYNAWTF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N dibutylstannane Chemical compound CCCC[SnH2]CCCC WCRDXYSYPCEIAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBWZKZYHONABLN-UHFFFAOYSA-N difluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)F PBWZKZYHONABLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWEVMPIIOJUPRI-UHFFFAOYSA-N dimethyltin Chemical compound C[Sn]C PWEVMPIIOJUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- CSHCPECZJIEGJF-UHFFFAOYSA-N methyltin Chemical compound [Sn]C CSHCPECZJIEGJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M sodium;oxocalcium;hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+].[Ca]=O HUAUNKAZQWMVFY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- WROMPOXWARCANT-UHFFFAOYSA-N tfa trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F.OC(=O)C(F)(F)F WROMPOXWARCANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
- C03C17/2453—Coating containing SnO2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明はガラス上のドー７’ （ｄｏｐｅｄ ）酸化錫
塗膜に関する。特に本発明は、改善された電気的特性と
曇り（ｈａｚｅ ） ｔ￥ｆ性を有する弗素ドーグ（
ｆｌｕｏｒｉｎｅ −ｄｏｐｅｄ ） 酸化錫塗膜を
ガラス上に形成させるための組成物及び方法に関する。
塗膜に関する。特に本発明は、改善された電気的特性と
曇り（ｈａｚｅ ） ｔ￥ｆ性を有する弗素ドーグ（
ｆｌｕｏｒｉｎｅ −ｄｏｐｅｄ ） 酸化錫塗膜を
ガラス上に形成させるための組成物及び方法に関する。
酸化性・雰囲気中で担体ガス（ｅａｒｒｉｅｒ ｇａｓ
）として９素を使用してかつ４２０〜４５０°Ｃの支
持体温度で、ジブチル錫ジアセテートをドーパントとし
ての塩化アンチモン（Ｖ） （５ｂＣ１５）又はトリク
ロルトリフルオルエタン（ｃｃｔ３− ＣＦ３） ト
共に薬品蒸気蒸着（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄ
ｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ）させろことにより、ガラス支持
体上ＫＳｂ−ドーグ酸化錫被膜を形成させる方法はＢｅ
ｌａｎｇｅｒ 等により、Ｊ、 Ｃａｎ、 Ｃｅｒ、
Ｓｏｃ、 ５２．２８−３２ （１９８３） 及び
Ｊ、 Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、 ３２．１
３９８−１４０５ （１９ｇ５）に記載されている。し
かしながら、このｓｂ−ドープ被膜は１×１０ オーム
−αより大きい、比較的高い体積抵抗率（ｂｕｌｋ ｒ
ｅｓｌｓｔｉｖｌｔｙ ） を有する。
）として９素を使用してかつ４２０〜４５０°Ｃの支
持体温度で、ジブチル錫ジアセテートをドーパントとし
ての塩化アンチモン（Ｖ） （５ｂＣ１５）又はトリク
ロルトリフルオルエタン（ｃｃｔ３− ＣＦ３） ト
共に薬品蒸気蒸着（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄ
ｅｐｏｓｉｔｉｏｎ ）させろことにより、ガラス支持
体上ＫＳｂ−ドーグ酸化錫被膜を形成させる方法はＢｅ
ｌａｎｇｅｒ 等により、Ｊ、 Ｃａｎ、 Ｃｅｒ、
Ｓｏｃ、 ５２．２８−３２ （１９８３） 及び
Ｊ、 Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ、 Ｓｏｃ、 ３２．１
３９８−１４０５ （１９ｇ５）に記載されている。し
かしながら、このｓｂ−ドープ被膜は１×１０ オーム
−αより大きい、比較的高い体積抵抗率（ｂｕｌｋ ｒ
ｅｓｌｓｔｉｖｌｔｙ ） を有する。
溶剤としての２５〜６５重量％のトリクロルエタン中で
、ドーパントとしてのトリフルオル酢酸を使用して弗素
ドーグ酸化錫塗膜を形成させる方法はＡｂｅ等により特
開昭６１−１８８，８２１号公報記載されている。しか
しながら、この方法では１０−５オーム−αの比較的不
良な体積抵抗率しか得られない。
、ドーパントとしてのトリフルオル酢酸を使用して弗素
ドーグ酸化錫塗膜を形成させる方法はＡｂｅ等により特
開昭６１−１８８，８２１号公報記載されている。しか
しながら、この方法では１０−５オーム−αの比較的不
良な体積抵抗率しか得られない。
従って本発明の目的は約１０ オーム−αの体積抵抗高
と低い曇り度とを有する弗素−ドーグ酸化錫塗膜をガラ
ス上に形成させるための組成物と方法を提供することに
ある。
と低い曇り度とを有する弗素−ドーグ酸化錫塗膜をガラ
ス上に形成させるための組成物と方法を提供することに
ある。
本発明の別の目的はオルガノ錫ジ−又はトリカルボキシ
レートとフルオロ有機酸（有機フルオロ酸） （ｏｒｇ
ａｎｉｃ ｆｌｕｏｒｏａｃｉｄ ） とを含有する
液状被覆剤組成物であって、すぐれた体積抵抗高と曇り
度（ｈａｚｅ ｖａｌｕｅ ） とを有する、所定の
厚さの弗素−ドーグ酸化錫塗膜を薬品蒸気蒸着によりガ
ラス支持体上に形成させ得る被覆剤組成物を提供するこ
とにある。
レートとフルオロ有機酸（有機フルオロ酸） （ｏｒｇ
ａｎｉｃ ｆｌｕｏｒｏａｃｉｄ ） とを含有する
液状被覆剤組成物であって、すぐれた体積抵抗高と曇り
度（ｈａｚｅ ｖａｌｕｅ ） とを有する、所定の
厚さの弗素−ドーグ酸化錫塗膜を薬品蒸気蒸着によりガ
ラス支持体上に形成させ得る被覆剤組成物を提供するこ
とにある。
本発明の特定の目的はジブチル錫ジアセテートとトリフ
ルオル酢酸とを含有する液状被覆剤組成物であって、約
１０ オーム−αの体積抵抗率とチより小さいガードナ
ー曇り度と８０チより大きい可視透過率（ｖｉｓｉｂｌ
ｅ ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ ）と６５憾より大き
い赤外線反射能と？有する、約２００ＯＡの厚さの弗素
−ドープ酸化錫塗膜を薬品蒸気蒸着によりガラス支持体
上に形成し得る被覆剤組成物を提供することにある。
ルオル酢酸とを含有する液状被覆剤組成物であって、約
１０ オーム−αの体積抵抗率とチより小さいガードナ
ー曇り度と８０チより大きい可視透過率（ｖｉｓｉｂｌ
ｅ ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ ）と６５憾より大き
い赤外線反射能と？有する、約２００ＯＡの厚さの弗素
−ドープ酸化錫塗膜を薬品蒸気蒸着によりガラス支持体
上に形成し得る被覆剤組成物を提供することにある。
本発明のこれらの目的及び他の目的及び本発明の特徴は
以下に述べろ本発明についてのより詳細な説明から明ら
かになるであろう。
以下に述べろ本発明についてのより詳細な説明から明ら
かになるであろう。
本発明の液状被覆剤組成物は約５０〜６０重量％のオル
がノ錫ジ−又はトリカルボキシレートと約２０〜５０重
ｉ％のフルオロ有機酸とからなる。
がノ錫ジ−又はトリカルボキシレートと約２０〜５０重
ｉ％のフルオロ有機酸とからなる。
本発明の好ましい態様においては、液状被覆剤組成物は
約５０〜６０重量％のジブチル錫ジアセテートと約４０
〜５０重２％のトリフルオル酢酸とからなる。
約５０〜６０重量％のジブチル錫ジアセテートと約４０
〜５０重２％のトリフルオル酢酸とからなる。
本発明の方法は液状被覆剤組成物を気化させ、担体ガス
中の気化させた被覆剤組成物を、加熱したガラス支持体
に移行させそしてガラスと蒸気状組成物とを接触させて
、改善された体積抵抗率と曇り度とを有する。所定の厚
さの弗素−ドーグ酸化錫塗膜をガラス上に蒸着（ｄｅｐ
ｏｓｉｔ ）させることからなる。
中の気化させた被覆剤組成物を、加熱したガラス支持体
に移行させそしてガラスと蒸気状組成物とを接触させて
、改善された体積抵抗率と曇り度とを有する。所定の厚
さの弗素−ドーグ酸化錫塗膜をガラス上に蒸着（ｄｅｐ
ｏｓｉｔ ）させることからなる。
液状被覆剤組成物のオルガノ錫化合物は一般式％式％
〔上記式中、Ｒ１はＣ１〜Ｃ４直鎖又は分岐鎖アル＊
ルミ又ハＲｍＣＨ２ＣＨ２−（ＲＩｎＧ！ Ｒ”０２Ｃ
又ハＣＨ，Ｃ。
ルミ又ハＲｍＣＨ２ＣＨ２−（ＲＩｎＧ！ Ｒ”０２Ｃ
又ハＣＨ，Ｃ。
テアリ、ＨｒＶ はＣ１〜Ｃ４アルキル基である）であ
り、ＲＵ はＣ１〜Ｃ４直鎖又は分岐鎖アルキル基で
あり、Ｘは１又は２である〕で表わされ得る。
り、ＲＵ はＣ１〜Ｃ４直鎖又は分岐鎖アルキル基で
あり、Ｘは１又は２である〕で表わされ得る。
本発明で使用するのに適当なオルガノ錫化合物の例とし
ては下記のものが挙げられろニジブチル錫ジアセテート
、ブチル錫トリアセテート、メチル錫トリアセテート、
ジメチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジグロピオネート
、ジメチル錫ジプロビオネート、メチル錫トリグロピオ
ネート、ジインブチル錫ジアセテート、ビス（カルボメ
トキシエチル）錫ジアセテート及びビス（３−オキンプ
チル）錫ジアセテート。
ては下記のものが挙げられろニジブチル錫ジアセテート
、ブチル錫トリアセテート、メチル錫トリアセテート、
ジメチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジグロピオネート
、ジメチル錫ジプロビオネート、メチル錫トリグロピオ
ネート、ジインブチル錫ジアセテート、ビス（カルボメ
トキシエチル）錫ジアセテート及びビス（３−オキンプ
チル）錫ジアセテート。
本発明で使用するのく適当なオルガノフルオロ酸ドーパ
ントは、強酸である反応性弗素化合物であるか又は２５
０°Ｃ以下の沸点を有する化合物である。
ントは、強酸である反応性弗素化合物であるか又は２５
０°Ｃ以下の沸点を有する化合物である。
使用するのに適当なドーパントの例としては下記のもの
が挙げられるニトリフルオル酢酸、ジフルオル酢酸、パ
ーフルオルプロピオン酸、クロルジフルオル酢酸、無水
トリフルオル酢酸及び無水パーフルオルプロピオン酸。
が挙げられるニトリフルオル酢酸、ジフルオル酢酸、パ
ーフルオルプロピオン酸、クロルジフルオル酢酸、無水
トリフルオル酢酸及び無水パーフルオルプロピオン酸。
好ましいドーパントはトリフルオル酢酸である。
本発明の液状被覆剤組成物は約５０〜８０重量係の液状
又は低融点オルガノ錫カルボキシレートと、該オルガノ
錫化合物に可溶性であるか又は第３の薬剤により可溶化
させろことができるか又はオルガノ錫化合物とは別に気
化させることができる、約２０〜５０重量係の弗素ドー
パントとを含有している。好ましい液状被覆剤組成物は
約５０〜６０重！優のオルガノ錫化合物と約４０〜５０
重！優の弗素ドーパントとを含有している。
又は低融点オルガノ錫カルボキシレートと、該オルガノ
錫化合物に可溶性であるか又は第３の薬剤により可溶化
させろことができるか又はオルガノ錫化合物とは別に気
化させることができる、約２０〜５０重量係の弗素ドー
パントとを含有している。好ましい液状被覆剤組成物は
約５０〜６０重！優のオルガノ錫化合物と約４０〜５０
重！優の弗素ドーパントとを含有している。
弗素−ドーグ酸化錫塗膜は、好ましくは気化した液状被
覆剤組成物から、薬品蒸気蒸着により沈着させる；前記
２種の化合物は約１００〜３０００Ｃ１好ましくは１３
０〜２ｏｏ０ｃから、加熱室内で別々に気化させ得る。
覆剤組成物から、薬品蒸気蒸着により沈着させる；前記
２種の化合物は約１００〜３０００Ｃ１好ましくは１３
０〜２ｏｏ０ｃから、加熱室内で別々に気化させ得る。
予備加熱した担体ガスにより蒸気をノズルに移送し、こ
のノズルにより蒸ｆｉヲ、約４°５ｏ〜７５０’Ｃ％好
ましくは６００〜７００’Ｃの温度に加熱した支持体、
通常、ガラス上に均一に分散させる。
のノズルにより蒸ｆｉヲ、約４°５ｏ〜７５０’Ｃ％好
ましくは６００〜７００’Ｃの温度に加熱した支持体、
通常、ガラス上に均一に分散させる。
担体ガスは空気、酸素又は窒素であることができそし【
その温度は１００〜３００’Ｃ１好ましくは１３０〜２
００’Ｃであり得る。担体ガスの流率は〜１００４／分
、好ましくは２５〜７５ｔ／分の間で変動させることが
でき、その速度は０．２５〜５ｍ／秒、好ましくは、０
．５〜３ｍ／秒であり得る。担体ガス中の塗膜先駆物質
の濃度は約０．１〜１０モル嗟、好ましくは約０．１〜
２モルチであり得る。
その温度は１００〜３００’Ｃ１好ましくは１３０〜２
００’Ｃであり得る。担体ガスの流率は〜１００４／分
、好ましくは２５〜７５ｔ／分の間で変動させることが
でき、その速度は０．２５〜５ｍ／秒、好ましくは、０
．５〜３ｍ／秒であり得る。担体ガス中の塗膜先駆物質
の濃度は約０．１〜１０モル嗟、好ましくは約０．１〜
２モルチであり得る。
本発明に従って形成される弗累−ドーゾ酸化錫塗膜は２
０００ Ａの塗膜の厚さについて、く９×１０ オーム
ーエの体積抵抗率、〈１係の曇り度（ガードナーヘイズ
メーター）、ｇｏｃｓ又はそれ以上の可視透過高及び〉
６５チの赤外線反射能を有する。
０００ Ａの塗膜の厚さについて、く９×１０ オーム
ーエの体積抵抗率、〈１係の曇り度（ガードナーヘイズ
メーター）、ｇｏｃｓ又はそれ以上の可視透過高及び〉
６５チの赤外線反射能を有する。
以下に本発明の実施例を示す。
実施例
ａ）６０重量％のジブチル錫ジアセテート（ＤＢＴＡ
）と４０重量％のトリフルオル酢酸（ＴＦＡ ）からな
る液状被覆剤組成物をシリンジポンプを用いて７０ｔ／
分の流率で流動している１７０°Ｃの空気流中に注入し
た。空気中の気化させた溶液の濃度は０．２５モル係で
あった。蒸気を６００’Ｃの温度に保持したソーダ石灰
シリカプラス支持体に移行させた。約１９２０ ／ Ａ
の透明な、導電性の弗素−ドーグ酸化錫塗膜が蒸着し
た。体積抵抗率は６．３ＸＩＯオーム−儂であり、ガー
ドナー曇り度は１憾以下であった。被膜のシート抵抗率
（５ｈｅｅｔ ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ） を４点探
針法（ｆｏｕｒ ｐｏｉｎｔｐｒｏｂｅ ）に従って測
定して、３３オーム／平方であった。
）と４０重量％のトリフルオル酢酸（ＴＦＡ ）からな
る液状被覆剤組成物をシリンジポンプを用いて７０ｔ／
分の流率で流動している１７０°Ｃの空気流中に注入し
た。空気中の気化させた溶液の濃度は０．２５モル係で
あった。蒸気を６００’Ｃの温度に保持したソーダ石灰
シリカプラス支持体に移行させた。約１９２０ ／ Ａ
の透明な、導電性の弗素−ドーグ酸化錫塗膜が蒸着し
た。体積抵抗率は６．３ＸＩＯオーム−儂であり、ガー
ドナー曇り度は１憾以下であった。被膜のシート抵抗率
（５ｈｅｅｔ ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ ） を４点探
針法（ｆｏｕｒ ｐｏｉｎｔｐｒｏｂｅ ）に従って測
定して、３３オーム／平方であった。
ｂ）液状被覆剤組成物中のトリフルオル酢酸の濃度を変
化させた場合の体積抵抗率に対する影響を下記の表に示
す。
化させた場合の体積抵抗率に対する影響を下記の表に示
す。
表
液状被覆剤
Ｆ−ドープ酸化錫被膜
５０ ／ ５０
６０ ／ ４０
７０ ／ ３０
ｇｏ ／ ２０
８５／１５
９０／１０
６．３
６．３
７、Ｉ
Ｓ、Ｉ
９．４
１２．４
１９．２
表中に示す結果は１０−４オーム−αの所望の低い体積
抵抗率は約５０：５０重：１チのＤＢＴＡ／ＴＦ’Ａの
比率について得られること、一方、ＴＦＡ濃度の比較的
低い組成物においては体積抵抗率が非常に不良な弗素−
ドーグ酸化錫被膜が生ずることを示している。
抵抗率は約５０：５０重：１チのＤＢＴＡ／ＴＦ’Ａの
比率について得られること、一方、ＴＦＡ濃度の比較的
低い組成物においては体積抵抗率が非常に不良な弗素−
ドーグ酸化錫被膜が生ずることを示している。
本発明の好ましい液状被覆剤組成物は、比較的高い錫含
有量において低い体積抵抗率と低い曇り度を有する塗膜
を生ずる。これらのパラメーターは、好ましくは、約５
０〜６０重全幅のＤ Ｂ Ｔ Ａと約４０〜５ＯＮ量係
のＴＦＡを使用することにより得られる。
有量において低い体積抵抗率と低い曇り度を有する塗膜
を生ずる。これらのパラメーターは、好ましくは、約５
０〜６０重全幅のＤ Ｂ Ｔ Ａと約４０〜５ＯＮ量係
のＴＦＡを使用することにより得られる。
本発明で得られろ改善された塗膜は被覆剤組成物の成分
に対する溶剤の実質的な不存在下、例えば組成物のＩｏ
ｎ（ｆ％以下の溶剤の存在下で薬品蒸気蒸着により形成
させ得ろ。
に対する溶剤の実質的な不存在下、例えば組成物のＩｏ
ｎ（ｆ％以下の溶剤の存在下で薬品蒸気蒸着により形成
させ得ろ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、５０〜８０重量％のオルガノ錫ジ−又はトリカルボ
キシレートと２０〜５０重量％のフルオロ有機酸とから
なることを特徴とする液状被覆剤組成物。 ２、５０〜６０重量％のオルガノ錫ジ−又はトリカルボ
キシレートと４０〜５０重量％のフルオロ有機酸とから
なる、請求項１記載の組成物。 ３、オルガノ錫ジ−又はトリカルボキシレートは、 Ｒ＾ I ＿ｘＳｎ（Ｏ＿２ＣＲ＾II）＿４＿−＿ｘ〔上
記式中、Ｒ＾ I はＣ１〜Ｃ４直鎖又は分岐鎖アルキル
基又はＲ＾IIIＣＨ＿２ＣＨ＿２−（Ｒ＾IIIはＲ＾IVＯ
＿２Ｃ又はＣＨ＿３ＣＯであり、Ｒ＾IVはＣ＿１〜Ｃ＿
４アルキル基である）であり、Ｒ＾IIはＣ＿１〜Ｃ＿４
直鎖又は分岐鎖アルキル基であり、ｘは１又は２である
〕から選ばれ；そして、フルオロ有機酸はトリフルオル
酢酸、ジフルオル酢酸、パ−フルオルプロピオン酸、ク
ロルジフルオル酢酸、無水トリフルオル酢酸及び無水パ
−フルオルプロピオン酸から選ばれる、請求項１記載の
組成物。 ４、オルガノ錫ジ−又はトリカルボキシレートはジブチ
ル錫ジアセテート、ブチル錫トリアセテート、メチル錫
トリアセテート、ジメチル錫ジアセテート、ジブチル錫
ジプロピオネート、ジメチル錫ジプロピオネート、メチ
ル錫トリプロピオネート、ジイソブチル錫ジアセテート
、ビス（カルボメトキシエチル）錫ジアセテート及びビ
ス（３−オキソブチル）錫ジアセテートから選ばれる、
請求項１記載の組成物。 ５、オルガノ錫ジ−又はトリカルボキシレートはジブチ
ル錫ジアセテートであり、フルオロ有機酸はトリフルオ
ル酢酸である、請求項１記載の組成物。 ６、６０重量％のジブチル錫ジアセテートと４０重量％
のトリフルオル酢酸とからなる、請求項１記載の組成物
。 ７、実質的に溶剤を含有していない請求項１記載の組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US23296288A | 1988-08-16 | 1988-08-16 | |
| US232962 | 1988-08-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0283238A true JPH0283238A (ja) | 1990-03-23 |
| JP2530027B2 JP2530027B2 (ja) | 1996-09-04 |
Family
ID=22875281
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1209731A Expired - Lifetime JP2530027B2 (ja) | 1988-08-16 | 1989-08-15 | 液状被覆剤組成物 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0357263B1 (ja) |
| JP (1) | JP2530027B2 (ja) |
| KR (1) | KR960015222B1 (ja) |
| CN (1) | CN1029016C (ja) |
| AT (1) | ATE92014T1 (ja) |
| CA (1) | CA1333515C (ja) |
| DE (1) | DE68907822T2 (ja) |
| ES (1) | ES2043024T3 (ja) |
| MX (1) | MX171348B (ja) |
| TR (1) | TR24657A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4541462B2 (ja) * | 1998-06-19 | 2010-09-08 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラス基材上に金属酸化物を主成分とする層を堆積させる方法及びそれによってコーティングされたガラス基材 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3915232C2 (de) * | 1989-05-10 | 1995-09-21 | Goldschmidt Ag Th | Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender, IR-reflektierender fluordotierter Zinnoxidschichten auf der Oberfläche von Gegenständen aus Glas oder Keramik oder von Emailbeschichtungen und Zubereitung zum Aufbringen solcher Schichten |
| US5279851A (en) * | 1991-04-03 | 1994-01-18 | Nippon Sheet Glass Co., Ltd. | Method of manufacturing a conductive glass with high strength and wear resistance |
| NZ264561A (en) * | 1993-10-23 | 1995-07-26 | Goldschmidt Ag Th | Method for coating a glass object with tin oxide |
| DE4337986C2 (de) * | 1993-11-06 | 1996-06-05 | Schott Glaswerke | Verwendungen von Sn(IV)-Carboxylaten als Ausgangsverbindungen für Tauchlösungen zur Herstellung transparenter, elektrisch leitfähiger Einkomponentenschichten aus reinem oder dotiertem SnO¶2¶ auf Glassubstraten |
| GB201106553D0 (en) | 2011-04-19 | 2011-06-01 | Pilkington Glass Ltd | Mthod for coating substrates |
| CN104294992B (zh) * | 2014-10-17 | 2017-02-01 | 宁波华尔克应用材料有限公司 | 一种节能玻璃砖及其制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061415A (ja) * | 1973-10-02 | 1975-05-27 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3949146A (en) * | 1973-08-24 | 1976-04-06 | Rca Corporation | Process for depositing transparent electrically conductive tin oxide coatings on a substrate |
| IN164438B (ja) * | 1984-12-28 | 1989-03-18 | M & T Chemicals Inc |
-
1989
- 1989-08-08 CN CN89105600A patent/CN1029016C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-09 ES ES89308096T patent/ES2043024T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-09 DE DE89308096T patent/DE68907822T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-09 EP EP89308096A patent/EP0357263B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-09 AT AT89308096T patent/ATE92014T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-08-10 MX MX017155A patent/MX171348B/es unknown
- 1989-08-14 KR KR1019890011581A patent/KR960015222B1/ko active IP Right Grant
- 1989-08-15 JP JP1209731A patent/JP2530027B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-15 CA CA000608328A patent/CA1333515C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-08-16 TR TR89/0855A patent/TR24657A/xx unknown
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5061415A (ja) * | 1973-10-02 | 1975-05-27 |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2530027B2 (ja) | 1996-09-04 |
| TR24657A (tr) | 1992-01-09 |
| CN1029016C (zh) | 1995-06-21 |
| KR960015222B1 (ko) | 1996-11-04 |
| ATE92014T1 (de) | 1993-08-15 |
| DE68907822T2 (de) | 1994-01-05 |
| EP0357263B1 (en) | 1993-07-28 |
| KR900003400A (ko) | 1990-03-26 |
| ES2043024T3 (es) | 1993-12-16 |
| CA1333515C (en) | 1994-12-20 |
| CN1040397A (zh) | 1990-03-14 |
| DE68907822D1 (de) | 1993-09-02 |
| MX171348B (es) | 1993-10-20 |
| EP0357263A1 (en) | 1990-03-07 |
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