JPH0278199A - パルスx線源駆動装置 - Google Patents
パルスx線源駆動装置Info
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- JPH0278199A JPH0278199A JP22738088A JP22738088A JPH0278199A JP H0278199 A JPH0278199 A JP H0278199A JP 22738088 A JP22738088 A JP 22738088A JP 22738088 A JP22738088 A JP 22738088A JP H0278199 A JPH0278199 A JP H0278199A
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- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 abstract description 13
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 4
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 3
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000005469 synchrotron radiation Effects 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、X線リソグラフィーのX線源などとして使用
するのに適したパルスX線源駆動装置に関する。
するのに適したパルスX線源駆動装置に関する。
(従来の技術)
一般にX線リソグラフィーなどに使用されるX線源には
、シンクロトロン放射光源やガスプラズマX線源などが
ある。このうち、シンクロトロン放射光源は得られるX
線の指向性が高く、リングラフイーの光源などとして適
しているが、装置が大型となることや、連続運転上の難
点があることから、実用には至っていない。一方、ガス
プラズマX線源は、装置も小型で連続運転の可能性も高
いことから期待され、その開発が進められている。
、シンクロトロン放射光源やガスプラズマX線源などが
ある。このうち、シンクロトロン放射光源は得られるX
線の指向性が高く、リングラフイーの光源などとして適
しているが、装置が大型となることや、連続運転上の難
点があることから、実用には至っていない。一方、ガス
プラズマX線源は、装置も小型で連続運転の可能性も高
いことから期待され、その開発が進められている。
このガスプラズマX線源は、従来、動作電圧が高く大電
流を必要とする難点を有していたが、近年、真空中でパ
ルス放電させてプラズマを発生させると効率良くX線を
発生できることが確認され、この結果、実用化に向けて
の研究がざらに活発化している。(参考文献: Pro
ceedings IEEE :Xl1th。
流を必要とする難点を有していたが、近年、真空中でパ
ルス放電させてプラズマを発生させると効率良くX線を
発生できることが確認され、この結果、実用化に向けて
の研究がざらに活発化している。(参考文献: Pro
ceedings IEEE :Xl1th。
International Symposium o
n Discharges and EIectric
al In5ulation in Vacuum (
1986) p152.)第5図は、上記の様な真空中
の放電を用いtcX線発生装置の真空チャンバーの断面
と、この装置をパルス電流駆動するパルスX線源駆動装
置の回路を示す図である。第5図のパルス発生装置は、
真空チャンバー1内に、先端を鋭角に加工した棒状の陰
極2と、円筒状の陽極3とが中心軸を同一にして対向配
置されて構成されている。このX線発生装置の陰極2及
び陽極3は真空チャンバー1の外部に設置したパルスX
線源駆動装置に接続されている。ここで、パルスX線源
駆動装置は高電圧充電源HV、充電用抵抗R1及びコン
デンサ4、スイッチ5より成り、高速のパルス電流を陰
極2と陽極3の間に供給するものでおる。なお、X線発
生装置の真空チVンバー1の一部にはX線放射窓7が取
付けられ、ここからX線が放射されるようになっている
。
n Discharges and EIectric
al In5ulation in Vacuum (
1986) p152.)第5図は、上記の様な真空中
の放電を用いtcX線発生装置の真空チャンバーの断面
と、この装置をパルス電流駆動するパルスX線源駆動装
置の回路を示す図である。第5図のパルス発生装置は、
真空チャンバー1内に、先端を鋭角に加工した棒状の陰
極2と、円筒状の陽極3とが中心軸を同一にして対向配
置されて構成されている。このX線発生装置の陰極2及
び陽極3は真空チャンバー1の外部に設置したパルスX
線源駆動装置に接続されている。ここで、パルスX線源
駆動装置は高電圧充電源HV、充電用抵抗R1及びコン
デンサ4、スイッチ5より成り、高速のパルス電流を陰
極2と陽極3の間に供給するものでおる。なお、X線発
生装置の真空チVンバー1の一部にはX線放射窓7が取
付けられ、ここからX線が放射されるようになっている
。
このように構成されたX線発生装置とそのパルスX線源
駆動装置の動作を、第5図を用いて説明する。まず、ス
イッチ5を開いた状態で、高電圧充電源Hvにより、充
電用抵抗Rを介してコンデンサ4を高電圧に充電してお
く。この後にスイッチ5を閉じると、陰極2と陽極3の
間にコンデンサ4に充電された高電圧が印加される。こ
の場合、陰極2と陽極3との間の放電開始電圧は数10
kV程度の低電圧であるため、両極2,3間で放電が開
始され、電流が流れ始め、回部にプラズマが形成される
。
駆動装置の動作を、第5図を用いて説明する。まず、ス
イッチ5を開いた状態で、高電圧充電源Hvにより、充
電用抵抗Rを介してコンデンサ4を高電圧に充電してお
く。この後にスイッチ5を閉じると、陰極2と陽極3の
間にコンデンサ4に充電された高電圧が印加される。こ
の場合、陰極2と陽極3との間の放電開始電圧は数10
kV程度の低電圧であるため、両極2,3間で放電が開
始され、電流が流れ始め、回部にプラズマが形成される
。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、以上のようなX線発生装置とそのパルスX線
源駆動装置においては、コンデンサ4、スイッチ5、及
び陰極2、陽極3がら形成される電流路(=放電回路)
の長さを極力短縮するように構成しているため、この放
電回路の残留インダクタンスLoは低く、放電回路を流
れる電流の最大値及び周波数は非常に大きい。このi合
、放電電流の周期は、はぼ以下の式で与えられる。
源駆動装置においては、コンデンサ4、スイッチ5、及
び陰極2、陽極3がら形成される電流路(=放電回路)
の長さを極力短縮するように構成しているため、この放
電回路の残留インダクタンスLoは低く、放電回路を流
れる電流の最大値及び周波数は非常に大きい。このi合
、放電電流の周期は、はぼ以下の式で与えられる。
周期=2yr (C*L o) ”
しかしながら、実際には、放電プラズマの特性により、
第6図に示すように、複雑なj騒動電流波形となる。第
6図に示す波形中、X線は、電流が最大になった直後、
即ち時刻t1近傍で発生する。
第6図に示すように、複雑なj騒動電流波形となる。第
6図に示す波形中、X線は、電流が最大になった直後、
即ち時刻t1近傍で発生する。
この時刻t1以後、放電電流は、極性を変えて正極性と
なり、第2の最大値に達した後減少するが、第2の電流
最大時刻t2の直後において、X線の発生強度は、第1
の電流最大時刻直後(時刻11)の発生強度と比較して
極めて低い。このため、第2の電流最大時刻t2以降に
流れる電流は、X線発生にはほとんど寄与しないが、電
流波高値は大きいため、電極の消耗を引起こす原因にな
る。また、X線を繰返し発生させる場合には、前回の放
電電流が完全になくなった後に新たに放電を行わなけれ
ばならないため、放電電流の持続時間を短くして、繰返
し放電の時間間隔を小さくする必要があるが、第6図に
示すように、放電電流の持続時間が長いと、繰返し放電
の時間間隔が大きくなり、高繰返し動作を行うことがで
きない。
なり、第2の最大値に達した後減少するが、第2の電流
最大時刻t2の直後において、X線の発生強度は、第1
の電流最大時刻直後(時刻11)の発生強度と比較して
極めて低い。このため、第2の電流最大時刻t2以降に
流れる電流は、X線発生にはほとんど寄与しないが、電
流波高値は大きいため、電極の消耗を引起こす原因にな
る。また、X線を繰返し発生させる場合には、前回の放
電電流が完全になくなった後に新たに放電を行わなけれ
ばならないため、放電電流の持続時間を短くして、繰返
し放電の時間間隔を小さくする必要があるが、第6図に
示すように、放電電流の持続時間が長いと、繰返し放電
の時間間隔が大きくなり、高繰返し動作を行うことがで
きない。
本発明は、以上のような従来技術の課題を解決するため
に提案されたものであり、その目的は、長寿命で高繰返
し動作可能なX線発生装置を実現し得るようなパルス線
源駆動装置を提供することでおる。
に提案されたものであり、その目的は、長寿命で高繰返
し動作可能なX線発生装置を実現し得るようなパルス線
源駆動装置を提供することでおる。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
本発明のパルスX線源駆動装置は、真空チャンバー内に
一対の陰極と陽極とを対向配置したX線発生装置を、真
空チャンバーの外部からパルス電流駆動してX線を発生
させるパルスX線源駆動装置において、駆動電流の持続
時間を制御可能な回路を設けたことを構成の特徴として
いる。
一対の陰極と陽極とを対向配置したX線発生装置を、真
空チャンバーの外部からパルス電流駆動してX線を発生
させるパルスX線源駆動装置において、駆動電流の持続
時間を制御可能な回路を設けたことを構成の特徴として
いる。
(作用)
以上のような構成を有する本発明によれば、X線発生装
置の駆動電流の持続時間を制御して、無駄な電流を流さ
ず、X線発生に必要な短時間のパルス電流のみをX線発
生装置に流すことができるため、効率良くX線を発生で
きるだけでなく、電極の消耗を防ぎ、高繰返し動作可能
な長寿命のX線発生装置を実現することができる。
置の駆動電流の持続時間を制御して、無駄な電流を流さ
ず、X線発生に必要な短時間のパルス電流のみをX線発
生装置に流すことができるため、効率良くX線を発生で
きるだけでなく、電極の消耗を防ぎ、高繰返し動作可能
な長寿命のX線発生装置を実現することができる。
(実施例)
以下に、本発明の一実施例を第1図に基づいて具体的に
説明する。
説明する。
まず、第1図の実施例の基本的構成は、第5図に示した
従来技術と同様である。即ち、X線発生装置の真空チャ
ンバー1内には、一対の陰極2と陽極3とが対向配置さ
れ、真空チャンバー1の一部にはX線放射窓7が取付け
られている。また、真空チャンバー1の外部には、高電
圧充電源HV、充電用抵抗R、コンデンサ4、及びスイ
ッチ5より成るパルスX線源駆動装置が設けられ、陰極
2及び陽極3に高速のパルス電流を供給するようになっ
ている。
従来技術と同様である。即ち、X線発生装置の真空チャ
ンバー1内には、一対の陰極2と陽極3とが対向配置さ
れ、真空チャンバー1の一部にはX線放射窓7が取付け
られている。また、真空チャンバー1の外部には、高電
圧充電源HV、充電用抵抗R、コンデンサ4、及びスイ
ッチ5より成るパルスX線源駆動装置が設けられ、陰極
2及び陽極3に高速のパルス電流を供給するようになっ
ている。
そして、本実施例においては、陰極2と陽極3と並列に
バイパススイッチ6が設けられ、コンデンサ4、スイッ
チ5、及びバイパススイッチ6で構成される電流路の残
留インダクタンスが、陰極2、陽極3、及びバイパスス
イッチ6で構成される電流路の残留インダクタンスに比
較して充分低く設定されている。
バイパススイッチ6が設けられ、コンデンサ4、スイッ
チ5、及びバイパススイッチ6で構成される電流路の残
留インダクタンスが、陰極2、陽極3、及びバイパスス
イッチ6で構成される電流路の残留インダクタンスに比
較して充分低く設定されている。
このように構成された本実施例のパルスX線源駆動装置
の動作を第1図、第2図を参照して次に説明する。
の動作を第1図、第2図を参照して次に説明する。
まず、スイッチ5を開いた状態で、高電圧充電源HVに
より、充電用抵抗Rを介してコンデンサ4を高電圧に充
電しておく。この後にスイッチ5を閉じると、陰極2と
陽極3の間にコンデンサ4に充電された高電圧が印加さ
れる。この場合、陰極2と陽極3との間の放電開始電圧
は数10kV程度の低電圧でおるため、両極2,3間で
放電が開始され、電流が流れ始め、回部にプラズマが形
成される。この場合、コンデンサ4、スイッチ5、及び
陰極2、陽極3から形成される電流路(=放電回路)の
長さを極力短縮するように構成しているため、この放電
回路の残留インダクタンス[0は低く、放電回路を流れ
る電流の最大値及び周波数は非常に大きい。これまでの
動作は、第5図に示した従来技術と全く同様である。従
って、本実施例においても、従来技術と同様、X線は、
第2図(A>に示すように、電流が最大になった直後の
時刻T1にて発生する。ここで、第2図(A>は本実施
例の放電電流波形を示す図である。
より、充電用抵抗Rを介してコンデンサ4を高電圧に充
電しておく。この後にスイッチ5を閉じると、陰極2と
陽極3の間にコンデンサ4に充電された高電圧が印加さ
れる。この場合、陰極2と陽極3との間の放電開始電圧
は数10kV程度の低電圧でおるため、両極2,3間で
放電が開始され、電流が流れ始め、回部にプラズマが形
成される。この場合、コンデンサ4、スイッチ5、及び
陰極2、陽極3から形成される電流路(=放電回路)の
長さを極力短縮するように構成しているため、この放電
回路の残留インダクタンス[0は低く、放電回路を流れ
る電流の最大値及び周波数は非常に大きい。これまでの
動作は、第5図に示した従来技術と全く同様である。従
って、本実施例においても、従来技術と同様、X線は、
第2図(A>に示すように、電流が最大になった直後の
時刻T1にて発生する。ここで、第2図(A>は本実施
例の放電電流波形を示す図である。
この後、陰極2と陽極3間に流れる電流を制御しなけれ
ば、放電電流の持続時間が従来と同様長くなってしまう
が、本実施例においては、陰極2と陽極3と並列にバイ
パススイッチ6を設け、コンデンサ4、スイッチ5、及
びバイパススイッチ6で構成される電流路の残留インダ
クタンスを、陰極2、陽極3、及びバイパススイッチ6
で構成される電流路の残留インダクタンスに比較して充
分低く設定しているため、時刻T1の後、放電電流がほ
ぼOになる最初の時刻T2でバイパススイッチ6を閉じ
れば、陰極2と陽極3間を流れる放電電流を、第2図(
A>に示すように、はぼ零とできる。ここで、第2図(
A>に示す破線は、バイパススイッチ6を閉じない場合
の電流波形(従来の電流波形)を示しており、本実施例
の放電電流の持続時間(T2−Tt >が従来の放電電
流の持続時間に対して大幅に短縮されていることが分る
。また、第2図(B)は本実施例のX線波形を示す図で
あり、第2図(B)のX線発生時刻Ttは、第2図(A
>の時刻Ttに相当している。この場合、X線の強度は
、従来技術とほとんど差がないことが確認されている。
ば、放電電流の持続時間が従来と同様長くなってしまう
が、本実施例においては、陰極2と陽極3と並列にバイ
パススイッチ6を設け、コンデンサ4、スイッチ5、及
びバイパススイッチ6で構成される電流路の残留インダ
クタンスを、陰極2、陽極3、及びバイパススイッチ6
で構成される電流路の残留インダクタンスに比較して充
分低く設定しているため、時刻T1の後、放電電流がほ
ぼOになる最初の時刻T2でバイパススイッチ6を閉じ
れば、陰極2と陽極3間を流れる放電電流を、第2図(
A>に示すように、はぼ零とできる。ここで、第2図(
A>に示す破線は、バイパススイッチ6を閉じない場合
の電流波形(従来の電流波形)を示しており、本実施例
の放電電流の持続時間(T2−Tt >が従来の放電電
流の持続時間に対して大幅に短縮されていることが分る
。また、第2図(B)は本実施例のX線波形を示す図で
あり、第2図(B)のX線発生時刻Ttは、第2図(A
>の時刻Ttに相当している。この場合、X線の強度は
、従来技術とほとんど差がないことが確認されている。
なお、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、
例えば、パルス電流の持続時間を制御するための回路と
して、バイパススイッチ6を使用する代りに、第3図及
び第4図に示すように、パルス整形線路8やインピーダ
ンス整合素子9を使用する構成が考えられる。ここで、
第3図及び第4図の実施例は、パルス整形線路8或いは
インピーダンス整合素子9を、陰極2、陽極3、コンデ
ンサ4、及びスイッチ5から成る直列に挿入した実施例
でおる。他の構成は、第1図の実施例と同様である。こ
れらの実施例において、パルス整形線路8及びインピー
ダンス整合素子9は、陰極2と陽極3の間の放電インピ
ーダンスと、コンデンサ4、スイッチ5を電源側インピ
ーダンスとを整合するようにしている。
例えば、パルス電流の持続時間を制御するための回路と
して、バイパススイッチ6を使用する代りに、第3図及
び第4図に示すように、パルス整形線路8やインピーダ
ンス整合素子9を使用する構成が考えられる。ここで、
第3図及び第4図の実施例は、パルス整形線路8或いは
インピーダンス整合素子9を、陰極2、陽極3、コンデ
ンサ4、及びスイッチ5から成る直列に挿入した実施例
でおる。他の構成は、第1図の実施例と同様である。こ
れらの実施例において、パルス整形線路8及びインピー
ダンス整合素子9は、陰極2と陽極3の間の放電インピ
ーダンスと、コンデンサ4、スイッチ5を電源側インピ
ーダンスとを整合するようにしている。
このように構成された第3図及び第4図に示すような実
施例のパルスX線源駆動装置の動作を次に説明する。回
路の基本動作は従来例とほぼ同一である。但し陰極2と
陽極3間を流れる放電電流は第6図に示すような撮動電
流波形と゛はならず、単発電流パルスとhる。このため
、放電電流による電極の消耗は撮動電流が流れる従来例
と比較して格段に小さく、また、放電電流の持続時間も
格段に短い。なお、X線の強度は第6図に示す従来例と
ほとんど差がない。
施例のパルスX線源駆動装置の動作を次に説明する。回
路の基本動作は従来例とほぼ同一である。但し陰極2と
陽極3間を流れる放電電流は第6図に示すような撮動電
流波形と゛はならず、単発電流パルスとhる。このため
、放電電流による電極の消耗は撮動電流が流れる従来例
と比較して格段に小さく、また、放電電流の持続時間も
格段に短い。なお、X線の強度は第6図に示す従来例と
ほとんど差がない。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明のパルスX線源駆動装置に
よれば、駆動電流を制御して、無駄な電流を流さず、X
線発生に必要なパルス電流のみX線発生装置に流れるよ
うにしためで、従来に比べて、電極の消耗を抑制でき、
また放電電流の持続時間を短縮できることから高繰返し
運転が可能となるため、長寿命で信頼性の高いX線発生
装置を実現できる。
よれば、駆動電流を制御して、無駄な電流を流さず、X
線発生に必要なパルス電流のみX線発生装置に流れるよ
うにしためで、従来に比べて、電極の消耗を抑制でき、
また放電電流の持続時間を短縮できることから高繰返し
運転が可能となるため、長寿命で信頼性の高いX線発生
装置を実現できる。
第1図は本発明のパルスX線源駆動装置の一実施例を示
す回路図、第2図は第1図の実施例によるX線発生装置
の動作を示す図であり、第2図(A)は放電電流波形図
、第2図(B)はX線波形図、第3図及び第4図は本発
明の異なる実施例を示す回路図、第5図は従来のパルス
X線源駆動装置を示す回路図、第6図は第5図のパルス
X線源駆動装置によるX線発生装置の放電電流波形図で
ある。 1・・・真空チャンバー、2・・・陰極、3・・・陽極
、4・・・コンデンサ、5・・・スイッチ、6・・・バ
イパススイッチ、7・・・X線放射窓、8・・・パルス
整形線路、9・・・インピーダンス整合素子。
す回路図、第2図は第1図の実施例によるX線発生装置
の動作を示す図であり、第2図(A)は放電電流波形図
、第2図(B)はX線波形図、第3図及び第4図は本発
明の異なる実施例を示す回路図、第5図は従来のパルス
X線源駆動装置を示す回路図、第6図は第5図のパルス
X線源駆動装置によるX線発生装置の放電電流波形図で
ある。 1・・・真空チャンバー、2・・・陰極、3・・・陽極
、4・・・コンデンサ、5・・・スイッチ、6・・・バ
イパススイッチ、7・・・X線放射窓、8・・・パルス
整形線路、9・・・インピーダンス整合素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 真空チャンバー内に一対の陰極と陽極と対向配置したX
線発生装置を、真空チャンバーの外部からパルス電流駆
動してX線を発生させるパルスX線源駆動装置において
、 前記駆動電流の持続時間を制御可能な回路が設けられた
ことを特徴とするパルスX線源駆動装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22738088A JPH0278199A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | パルスx線源駆動装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22738088A JPH0278199A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | パルスx線源駆動装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0278199A true JPH0278199A (ja) | 1990-03-19 |
Family
ID=16859903
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22738088A Pending JPH0278199A (ja) | 1988-09-13 | 1988-09-13 | パルスx線源駆動装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0278199A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6240163B1 (en) | 1998-06-19 | 2001-05-29 | Advanced Laser & Fusion Technology | Radiation E.G. X-ray pulse generator mechanisms |
WO2006059275A3 (en) * | 2004-12-04 | 2006-08-31 | Philips Intellectual Property | Method and apparatus for operating an electrical discharge device |
JP2007305992A (ja) * | 2002-09-19 | 2007-11-22 | Asml Netherlands Bv | 放射源を動作させる方法、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
JPWO2006120942A1 (ja) * | 2005-05-06 | 2008-12-18 | 国立大学法人東京工業大学 | プラズマ発生装置及びプラズマ発生方法 |
JP2014525126A (ja) * | 2011-07-13 | 2014-09-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 放電生成プラズマeuv源のための電源装置 |
CN111602470A (zh) * | 2017-09-02 | 2020-08-28 | 思庭股份有限公司 | 用于x射线管的控制装置以及用于操作x射线管的方法 |
-
1988
- 1988-09-13 JP JP22738088A patent/JPH0278199A/ja active Pending
Cited By (12)
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