JPH0276872A - 4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法 - Google Patents
4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法Info
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- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Furan Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
本発明は4,5−ジフルオロフタル酸無水物の新規な製
造法に関する。さらに詳しくは本発明は、たとえば含フ
ツ素ピリドンカルボン酸系の合成抗菌剤あるいは医薬品
の合成のための中間原料として有用性の高い4.5−ジ
フルオロフタル酸無水物を製造する新規な方法に関する
。
造法に関する。さらに詳しくは本発明は、たとえば含フ
ツ素ピリドンカルボン酸系の合成抗菌剤あるいは医薬品
の合成のための中間原料として有用性の高い4.5−ジ
フルオロフタル酸無水物を製造する新規な方法に関する
。
発明の技術的背景ならびにその問題点
含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、フッ素原子
の置換位置および数、並びにこのフッ素原子をさらに他
の置換基で置換することにより薬効が異なるため、近年
、このような含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物が
注目を集めている。
の置換位置および数、並びにこのフッ素原子をさらに他
の置換基で置換することにより薬効が異なるため、近年
、このような含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物が
注目を集めている。
このような含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物のう
ち、一部のものはテトラフルオロフタル酸を中間原料と
して製造することができる。
ち、一部のものはテトラフルオロフタル酸を中間原料と
して製造することができる。
上記テトラフルオロフタル酸は、ベンゼン環に4個のフ
ッ素原子が置換しているために、テトラクロロフタロニ
トリルをフッ素化し、得られたテトラフルオロフタロニ
トリルを加水分解する方法(工業化学雑誌72,447
〜448(1970)参照)のように毒性の高い化合物
を出発原料として使用する方法によって製造しなければ
ならなかったり、あるいは無水テトラクロロフタル酸ジ
クロライドをフッ素化して得られるテトラフルオロフタ
ル酸ジフルオライドを加水分解する方法(zh、obs
habh。
ッ素原子が置換しているために、テトラクロロフタロニ
トリルをフッ素化し、得られたテトラフルオロフタロニ
トリルを加水分解する方法(工業化学雑誌72,447
〜448(1970)参照)のように毒性の高い化合物
を出発原料として使用する方法によって製造しなければ
ならなかったり、あるいは無水テトラクロロフタル酸ジ
クロライドをフッ素化して得られるテトラフルオロフタ
ル酸ジフルオライドを加水分解する方法(zh、obs
habh。
Khim、、3B。139(196B)参照)のように
、反応原料の異性化が発生し易く、またフッ素化試薬を
大量に使用する方法によらなければ製造することができ
ず、このような方法は工業的には不利である。
、反応原料の異性化が発生し易く、またフッ素化試薬を
大量に使用する方法によらなければ製造することができ
ず、このような方法は工業的には不利である。
これに対して本出願人は、特定のイミドとアルカリ金属
フッ化物とを反応させて対応するN−置換−テトラフル
オロフタルイミド等を得、次いでこの化合物を酸性条件
下で加水分解することを主な特徴とするテトラフルオロ
フタル酸の製造方法に関する発明について既に出願して
いる。この方法を利用することにより、テトラフルオロ
フタル酸を、従来の方法と比較すると有利に製造するこ
とができるようになる。
フッ化物とを反応させて対応するN−置換−テトラフル
オロフタルイミド等を得、次いでこの化合物を酸性条件
下で加水分解することを主な特徴とするテトラフルオロ
フタル酸の製造方法に関する発明について既に出願して
いる。この方法を利用することにより、テトラフルオロ
フタル酸を、従来の方法と比較すると有利に製造するこ
とができるようになる。
ところがこのテトラフルオロフタル酸から誘導される含
フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、原料が、本、
質的に4個のフッ素原子を有しているために、たとえば
抗菌剤としての薬効に制限があるという問題点があった
。
フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、原料が、本、
質的に4個のフッ素原子を有しているために、たとえば
抗菌剤としての薬効に制限があるという問題点があった
。
発明の目的
本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、有用な化合物である4、5−ジ
フルオロフタル酸無水物の新規な製造方法を提供するこ
とを目的としている。
うとするものであって、有用な化合物である4、5−ジ
フルオロフタル酸無水物の新規な製造方法を提供するこ
とを目的としている。
さらに詳しくは、本発明は、医薬品、農薬、および工業
薬品等の中間体として極めて有用性の高い4,5−ジフ
ルオロフタル酸無水物の新規な製造方法を提供すること
を目的としている。
薬品等の中間体として極めて有用性の高い4,5−ジフ
ルオロフタル酸無水物の新規な製造方法を提供すること
を目的としている。
また、本発明は、特に含フッ素、ピリドンカルボン酸系
の抗菌剤の中間原料として特に有効に使用することがで
きる4、5−ジフルオロフタル酸無水物の新規な製造方
法を提供することを目的としている。
の抗菌剤の中間原料として特に有効に使用することがで
きる4、5−ジフルオロフタル酸無水物の新規な製造方
法を提供することを目的としている。
発明の概要
本発明に係る4、5−ジフルオロフタル酸無水物の第1
の製造方法は、次式で表される4、5−ジハロゲノフタ
ル酸無水物とアルカリ金属フッ化物とを接触させること
を特徴としている。
の製造方法は、次式で表される4、5−ジハロゲノフタ
ル酸無水物とアルカリ金属フッ化物とを接触させること
を特徴としている。
ただし上記式においてX およびX2は、それ■
ぞれ独立に塩素原子または臭素原子を表す。
また、本発明に係る4、5−ジフルオロフタル酸無水物
の第2の製造方法は、次式[I−1]および[I−2]
で表されるイミド化合物; (ただし、上記式[I−11および[I−2]において
、X およびX2は、それぞれ独立に塩素原子または臭
素原子を表し、R1は、1価の炭化水素基または複素環
基を表し、R2は、2価の炭化水素基または複素環基を
表わし、かつ該R1およびR2で表される炭化水素基お
よび複素環基は置換基を有していてもよい)と、アルカ
リ金属フッ化物とを反応させ、対応するN−置換−ジフ
ルオロフタルイミド若しくはジイミドを生成させ、次い
で該N−置置換−ジフルオロフタルイミド口くはジイミ
ドを酸性条件下で加水分解することを特徴としている。
の第2の製造方法は、次式[I−1]および[I−2]
で表されるイミド化合物; (ただし、上記式[I−11および[I−2]において
、X およびX2は、それぞれ独立に塩素原子または臭
素原子を表し、R1は、1価の炭化水素基または複素環
基を表し、R2は、2価の炭化水素基または複素環基を
表わし、かつ該R1およびR2で表される炭化水素基お
よび複素環基は置換基を有していてもよい)と、アルカ
リ金属フッ化物とを反応させ、対応するN−置換−ジフ
ルオロフタルイミド若しくはジイミドを生成させ、次い
で該N−置置換−ジフルオロフタルイミド口くはジイミ
ドを酸性条件下で加水分解することを特徴としている。
本発明に係る4、5−ジフルオロフタル酸無水物の製造
方法によれば、たとえば抗菌剤の合成中間体として非常
に有用性の高い4.5−ジフルオロフタル酸無水物を容
易に、しかも高収率で製造することができる。
方法によれば、たとえば抗菌剤の合成中間体として非常
に有用性の高い4.5−ジフルオロフタル酸無水物を容
易に、しかも高収率で製造することができる。
発明の詳細な説明
次に本発明に係る4、5−ジフルオロフタル酸無水物の
製造方法について具体的に説明する。
製造方法について具体的に説明する。
4.5−ジフルオロフタル酸無水物は、以下に記載する
第1の方法お・よび第2の方法により製造することがで
きる。
第1の方法お・よび第2の方法により製造することがで
きる。
本発明において、4.5−ジフルオロフタル酸無水物は
、4,5−ジクロルフタル酸無水物、4,5−ジブロモ
フタル酸無水物、または4−ブロモ−5−クロロフタル
酸無水物を直接フッ素化する方法(第1の方法)および
4.5−ジクロルフタル酸無水物、4.5−ジブロモフ
タル酸無水物または、4−ブロモ−5−クロロフタル酸
無水物と、たとえばアニリン等とから誘導される特定の
イミド化合物を、アルカリ金属フッ化物と反応させて対
応するN−置換−ジフルオロフタルイミド若しくはジイ
ミドを得、次いでこの化合物を酸性条件下で加水分解す
る方法(第2の方法)により製造することができる。
、4,5−ジクロルフタル酸無水物、4,5−ジブロモ
フタル酸無水物、または4−ブロモ−5−クロロフタル
酸無水物を直接フッ素化する方法(第1の方法)および
4.5−ジクロルフタル酸無水物、4.5−ジブロモフ
タル酸無水物または、4−ブロモ−5−クロロフタル酸
無水物と、たとえばアニリン等とから誘導される特定の
イミド化合物を、アルカリ金属フッ化物と反応させて対
応するN−置換−ジフルオロフタルイミド若しくはジイ
ミドを得、次いでこの化合物を酸性条件下で加水分解す
る方法(第2の方法)により製造することができる。
まず第1の方法による4、5−ジフルオロフタル酸無水
物の製造方法について説明する。
物の製造方法について説明する。
原料となる4、5−ジクロルフタル酸無水物は、4.5
−ジクロルフタル酸を通常の方法により脱水することに
より製造することができる。
−ジクロルフタル酸を通常の方法により脱水することに
より製造することができる。
4.5−ジクロルフタル酸は脱水には、濃硫酸等のよう
な通常使用されている脱水剤を用いることができる。ま
た、この脱水反応の際には反応溶媒を使用することがで
きる。この場合に使用される反応溶媒としては、芳香族
溶媒および非プロトン性極性溶媒を好ましく使用するこ
とができる。特に本発明においては、トルエンおよびス
ルホランを使用することが好ましい。このような脱水反
応は、通常の脱水反応における条件で進行させることが
できる。
な通常使用されている脱水剤を用いることができる。ま
た、この脱水反応の際には反応溶媒を使用することがで
きる。この場合に使用される反応溶媒としては、芳香族
溶媒および非プロトン性極性溶媒を好ましく使用するこ
とができる。特に本発明においては、トルエンおよびス
ルホランを使用することが好ましい。このような脱水反
応は、通常の脱水反応における条件で進行させることが
できる。
なお、本発明においては、上記の4.5−ジクロルフタ
ル酸の代わりに4.5−ジブロモフタル酸あるいは4−
ブロモ−5−クロロフタル酸を使用しても同様に反応は
進行する。さらに本発明においては、4.5−ジクロル
フタル酸、4.5−ジブロモフタル酸あるいは4−ブロ
モ−5−クロロフタル酸を単独で用いることもできるし
、またこれらの混合物を使用することもできる。
ル酸の代わりに4.5−ジブロモフタル酸あるいは4−
ブロモ−5−クロロフタル酸を使用しても同様に反応は
進行する。さらに本発明においては、4.5−ジクロル
フタル酸、4.5−ジブロモフタル酸あるいは4−ブロ
モ−5−クロロフタル酸を単独で用いることもできるし
、またこれらの混合物を使用することもできる。
上記のようにして生成した4、5−ジクロルフタル酸無
水物等とフッ素化剤とを接触させて4.5−ジクロルフ
タル酸無水物を得る。
水物等とフッ素化剤とを接触させて4.5−ジクロルフ
タル酸無水物を得る。
この反応におい・て使用されるフッ素化剤としては、フ
ッ化セシウム、フッ化ルビジウム、フッ化カリウム、フ
ッ化ナトリウム、フッ化アンモニウムおよびフッ化リチ
ウム等のアルカリ金属フッ化物を挙げることができる。
ッ化セシウム、フッ化ルビジウム、フッ化カリウム、フ
ッ化ナトリウム、フッ化アンモニウムおよびフッ化リチ
ウム等のアルカリ金属フッ化物を挙げることができる。
これらのアルカリ金属フッ化物の内でも、特にフッ化カ
リウムを使用することが好ましく、さらにスプレードラ
イ処理法により脱水されたフッ化カリウムを用いること
が特に好ましい。ここで利用されるスプレードライ処理
法については、Chemistry Letters第
6巻、第761頁、1981年の石川らの論文に詳細に
記載されている。
リウムを使用することが好ましく、さらにスプレードラ
イ処理法により脱水されたフッ化カリウムを用いること
が特に好ましい。ここで利用されるスプレードライ処理
法については、Chemistry Letters第
6巻、第761頁、1981年の石川らの論文に詳細に
記載されている。
アルカリ金属フッ化物の使用量は、通常は上記フタル酸
1モルに対して通常は2.0〜6.0モルであり、特に
フッ素化剤としてスプレードライ処理したフッ化カリウ
ムを使用する場合には2.1〜4.0モルの範囲内の量
で使用することが好ましい。
1モルに対して通常は2.0〜6.0モルであり、特に
フッ素化剤としてスプレードライ処理したフッ化カリウ
ムを使用する場合には2.1〜4.0モルの範囲内の量
で使用することが好ましい。
上記の反応は、触媒を用いずに行なうこともできるが、
反応触媒を用いることにより反応速度を。
反応触媒を用いることにより反応速度を。
速くすることができる。゛
上記の反応で使用することができる触媒の例としては、
第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩およびク
ラウンエーテルを挙げることができ、具体的な例として
は、テトラアルキルアンモニウムハライド、テトラアル
キルアンモニウムフルオロボレート類、テトラアルキル
アンモニウムホスホラステトラフルオライド類およびテ
トラフェニルホスホニウムハライド類を挙げることがで
きる。これらの触媒は、単独で、あるいは組み合わせて
使用することができる。特に本発明においては、テトラ
フェニルホスホニウムハライド類を使用することが好ま
しく、さらに、テトラフェニルホスホニウムハライド類
の内でもテトラフェニルホスホニウムプロミドを使用す
ることが好ましい。また、触媒を使用する場合、触媒の
種類および反応条件などによって触媒の使用量は異なり
、これらの条件等を考慮してその使用量を適宜設定する
ことができるが、触媒は、上記のフタル酸無水物1モル
に対して通常0.00001〜0.6モル、好ましくは
・0.001〜0.3モルの範囲内の量で使用される。
第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩およびク
ラウンエーテルを挙げることができ、具体的な例として
は、テトラアルキルアンモニウムハライド、テトラアル
キルアンモニウムフルオロボレート類、テトラアルキル
アンモニウムホスホラステトラフルオライド類およびテ
トラフェニルホスホニウムハライド類を挙げることがで
きる。これらの触媒は、単独で、あるいは組み合わせて
使用することができる。特に本発明においては、テトラ
フェニルホスホニウムハライド類を使用することが好ま
しく、さらに、テトラフェニルホスホニウムハライド類
の内でもテトラフェニルホスホニウムプロミドを使用す
ることが好ましい。また、触媒を使用する場合、触媒の
種類および反応条件などによって触媒の使用量は異なり
、これらの条件等を考慮してその使用量を適宜設定する
ことができるが、触媒は、上記のフタル酸無水物1モル
に対して通常0.00001〜0.6モル、好ましくは
・0.001〜0.3モルの範囲内の量で使用される。
また、この反応における反応温度は、通常は150〜2
20℃の範囲内、そして反応時間は、通常は1〜10時
間に設定される。
20℃の範囲内、そして反応時間は、通常は1〜10時
間に設定される。
上記のように反応を行なうことにより、4,5−ジフル
オロフタル酸無水物あるいは4.5−ジブロモフタル酸
無水物等のベンゼン環に結合している塩素原子あるいは
臭素原子がフッ素原子と置換し、4.5−ジフルオロフ
タル酸無水物が生成する。ただし、反応生成物中には、
反応条件等によっては、少量の4,5−ジフルオロフタ
ル酸が含まれることがあるが、このような化合物は、濃
硫酸あるいはスルホランなどを用いて通常の方法により
脱水することにより、はとんど全部が4,5−ジフルオ
ロフタル酸無水物になる。
オロフタル酸無水物あるいは4.5−ジブロモフタル酸
無水物等のベンゼン環に結合している塩素原子あるいは
臭素原子がフッ素原子と置換し、4.5−ジフルオロフ
タル酸無水物が生成する。ただし、反応生成物中には、
反応条件等によっては、少量の4,5−ジフルオロフタ
ル酸が含まれることがあるが、このような化合物は、濃
硫酸あるいはスルホランなどを用いて通常の方法により
脱水することにより、はとんど全部が4,5−ジフルオ
ロフタル酸無水物になる。
また、本発明において、4,5−ジフルオロフタル酸無
水物は、上記の方法(第1の方法)の外に、以下に示す
ような第2の方法により製造することもできる。
水物は、上記の方法(第1の方法)の外に、以下に示す
ような第2の方法により製造することもできる。
この第2の方法では、たとえば上記第1の方法で製造さ
れた4、5−ジフルオロフタル酸無水物あるいは4.5
−ジブロモフタル酸無水物等のジハロゲノフタル酸無水
物から次式[I−1]若しくは[I−2]で表されるイ
ミド化合物を得る。
れた4、5−ジフルオロフタル酸無水物あるいは4.5
−ジブロモフタル酸無水物等のジハロゲノフタル酸無水
物から次式[I−1]若しくは[I−2]で表されるイ
ミド化合物を得る。
ただし、上記式[I−11および[I−2コにおいて、
X およびX2は、それぞれ独立に塩素原子■ または臭素原子を表し、R1は、1価の炭化水素基また
は複素環基を表し、R2は、2価の炭化水素基または複
素環基を表わす。なお、このR1およびR2で表される
炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい
。
X およびX2は、それぞれ独立に塩素原子■ または臭素原子を表し、R1は、1価の炭化水素基また
は複素環基を表し、R2は、2価の炭化水素基または複
素環基を表わす。なお、このR1およびR2で表される
炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい
。
すなわち、式[I−1,]において、R1は、1価の炭
化水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置
換であってもよいが、例えばハロゲン原子、アリール基
、−OR、−(0) SR’、されていてもよく、ま
た上記のR、R、R、R6がさらに置換基を有していて
もよい。また上記式においてnは、0.1または2を表
す。
化水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置
換であってもよいが、例えばハロゲン原子、アリール基
、−OR、−(0) SR’、されていてもよく、ま
た上記のR、R、R、R6がさらに置換基を有していて
もよい。また上記式においてnは、0.1または2を表
す。
本発明においてR1としては、炭素数1〜8の直鎖状若
しくは分岐状アルキル基、炭素数4〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数3〜8のアルケニル基若しくはアリール基
であることが好ましい。
しくは分岐状アルキル基、炭素数4〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数3〜8のアルケニル基若しくはアリール基
であることが好ましい。
このような式[I−1]におけるR1の具体的な例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソピロピル
基、ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、p−クロロベンジル基、p−メ
チルベンジル基、アリル基、フェニル基、p−クロロフ
ェニル基、p−ブロモフェニル基、p−フルオロフェニ
ル基、I)−)リル基、2.4−ジクロロフェニル基、
3+4−ジクロロフェニル基、2−クロロ−4−メチル
フェニル基、p−エトキシフェニル基、■−メチルチオ
フェニル基、p−(p−クロロフェノキシ)フェニル基
、p−(ベンジルスルホニル)フェニル基、■−ナフチ
ル基、2−ナフチル基、2−エチニル基、2−メトキシ
エチル基、2−(ジメチルアミノ)エチル基、3−[4
−(ジメチルアミノ)フェニルコブロピル基、(3,5
−ジメチル−4−オキサゾニル)メチル基、3−(4−
メトキリフェニル)ブチル基、6−メチル−2−ピリジ
ル基、4−メトキシ−2−メチルフェニル基、3−メト
キシプロピル基、1−メチル−2−フェニルエチル基、
2,3,5.6−テトラフルオロ−4−ピリジル基、2
−フェノキシエチル基、4−ニトロフェニル基、4−シ
アノフェニル基、2.8−ジメチル−4−ピリミジル基
、2−モルホリノエチル基、α、α、α−トリフルオロ
ーo−トリル基、2−(2−ピリジル)エチル基を挙げ
ることができる。・ また、上記式[I−2]において、R2は、2価の炭化
水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置換
であ・ってもよいが、例えばハロゲン原子、アリール基
、−OR、−(0) SR8、されていてもよく、ま
た上記のR、R8、R9、RIOがさらに置換基を有し
ていてもよい。また上記式においてnは、0,1または
2を表す。
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソピロピル
基、ブチル基、イソブチル基、5ec−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、p−クロロベンジル基、p−メ
チルベンジル基、アリル基、フェニル基、p−クロロフ
ェニル基、p−ブロモフェニル基、p−フルオロフェニ
ル基、I)−)リル基、2.4−ジクロロフェニル基、
3+4−ジクロロフェニル基、2−クロロ−4−メチル
フェニル基、p−エトキシフェニル基、■−メチルチオ
フェニル基、p−(p−クロロフェノキシ)フェニル基
、p−(ベンジルスルホニル)フェニル基、■−ナフチ
ル基、2−ナフチル基、2−エチニル基、2−メトキシ
エチル基、2−(ジメチルアミノ)エチル基、3−[4
−(ジメチルアミノ)フェニルコブロピル基、(3,5
−ジメチル−4−オキサゾニル)メチル基、3−(4−
メトキリフェニル)ブチル基、6−メチル−2−ピリジ
ル基、4−メトキシ−2−メチルフェニル基、3−メト
キシプロピル基、1−メチル−2−フェニルエチル基、
2,3,5.6−テトラフルオロ−4−ピリジル基、2
−フェノキシエチル基、4−ニトロフェニル基、4−シ
アノフェニル基、2.8−ジメチル−4−ピリミジル基
、2−モルホリノエチル基、α、α、α−トリフルオロ
ーo−トリル基、2−(2−ピリジル)エチル基を挙げ
ることができる。・ また、上記式[I−2]において、R2は、2価の炭化
水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置換
であ・ってもよいが、例えばハロゲン原子、アリール基
、−OR、−(0) SR8、されていてもよく、ま
た上記のR、R8、R9、RIOがさらに置換基を有し
ていてもよい。また上記式においてnは、0,1または
2を表す。
このような式[I−2]におけるR2の具体的な例とし
ては、−CH2Cl+。−1 R11は、−CIl −1−CHCH−1−CIl(
CH3) −−o−1−s−1−so□−および−N
(C113)−を表す)を挙げることができる。
ては、−CH2Cl+。−1 R11は、−CIl −1−CHCH−1−CIl(
CH3) −−o−1−s−1−so□−および−N
(C113)−を表す)を挙げることができる。
上記のような式[I−1]および[I−2]で表される
化合物は、たとえば4.5−ジクロルフタル酸無水物あ
るいは4,5−ジブロモフタル酸無水物等と、上記R1
あるいはR2が窒素原子に結合したアミン化合物とを反
応させ、次いで、スルホランあるいは濃硫酸等の脱水剤
を用いて通常の方法により脱水することにより製造する
ことができる。たとえば式[I−1]においてR1がフ
ェニル基であるイミド化合物を製造する際には、アニリ
ンを使用する。
化合物は、たとえば4.5−ジクロルフタル酸無水物あ
るいは4,5−ジブロモフタル酸無水物等と、上記R1
あるいはR2が窒素原子に結合したアミン化合物とを反
応させ、次いで、スルホランあるいは濃硫酸等の脱水剤
を用いて通常の方法により脱水することにより製造する
ことができる。たとえば式[I−1]においてR1がフ
ェニル基であるイミド化合物を製造する際には、アニリ
ンを使用する。
なお、4.5−ジクロルフタル酸無水物、4.5−ジブ
ロモフタル酸無水物あるいは4−クロル、5−ブロモフ
タル酸無水物と、アミン化合物との反応温度は、通常は
室温〜200℃であり、反応時間は、通常は0.1〜2
.0時間である。また、上記の脱水反応の際の反応温度
は、通常は100〜200℃、反応時間は、通常は1〜
4時間である。
ロモフタル酸無水物あるいは4−クロル、5−ブロモフ
タル酸無水物と、アミン化合物との反応温度は、通常は
室温〜200℃であり、反応時間は、通常は0.1〜2
.0時間である。また、上記の脱水反応の際の反応温度
は、通常は100〜200℃、反応時間は、通常は1〜
4時間である。
本発明においては、たとえば、上記のようにして得られ
た式[I−1]および[I−2] とフッ素化剤とを反
応させることにより、ベンゼン環に結合している塩素原
子および臭素原子は、フッ素原子で置換される。
た式[I−1]および[I−2] とフッ素化剤とを反
応させることにより、ベンゼン環に結合している塩素原
子および臭素原子は、フッ素原子で置換される。
この場合に使用することができるフッ素化剤としては、
上記第1の方法で使用したアルカリ金属フッ化物を挙げ
ることができ、特にフッ化カリウムを使用することが好
ましく、さらにスプレードライ処理法により脱水された
フッ化カリウムを用いることが特に好ましい。
上記第1の方法で使用したアルカリ金属フッ化物を挙げ
ることができ、特にフッ化カリウムを使用することが好
ましく、さらにスプレードライ処理法により脱水された
フッ化カリウムを用いることが特に好ましい。
アルカリ金属フッ化物の使用量は、通常は[I−1]で
表される化合物1モルあるは[I−2]で表される化合
物0.5モルに対して通常は2.0〜6.0モルであり
、特にフッ素化剤としてスプレードライ処理したフッ化
カリウムを使用する場合には2.1〜4.0モルの範囲
内の量で使用することか好ましい。
表される化合物1モルあるは[I−2]で表される化合
物0.5モルに対して通常は2.0〜6.0モルであり
、特にフッ素化剤としてスプレードライ処理したフッ化
カリウムを使用する場合には2.1〜4.0モルの範囲
内の量で使用することか好ましい。
上記のフッ素化反応は、触媒を用いずに行なうこともで
きるが、反応触媒を用いることにより反応速度を速くす
ることができる。
きるが、反応触媒を用いることにより反応速度を速くす
ることができる。
上記の反応で使用することができる触媒の例としては、
第1の方法と同様に、第4級アンモニウム塩、第4級ホ
スホニウム塩およびクラウンエーテルを挙げることがで
きる。特に本発明においては、第4級ホスホニウム塩を
使用することが好ましく、さらにテトラフェニルホスホ
ニウムハライド類を使用することが好ましく、さらに、
テトラフェニルホスホニウムハライド類の内でもテトラ
フェニルホスホニウムプロミドを使用することが好まし
い。また、触媒を使用する場合、触媒の種類および反応
条件などによって触媒の使用量は異なり、これらの条件
等を考慮してその使用量を適宜設定することができるが
、触媒は、上記のフタル酸無水物1モルに対して通常0
.00001〜0.6モル、好ましくはo、ooi〜0
.3モルの範囲内の量で使用される。
第1の方法と同様に、第4級アンモニウム塩、第4級ホ
スホニウム塩およびクラウンエーテルを挙げることがで
きる。特に本発明においては、第4級ホスホニウム塩を
使用することが好ましく、さらにテトラフェニルホスホ
ニウムハライド類を使用することが好ましく、さらに、
テトラフェニルホスホニウムハライド類の内でもテトラ
フェニルホスホニウムプロミドを使用することが好まし
い。また、触媒を使用する場合、触媒の種類および反応
条件などによって触媒の使用量は異なり、これらの条件
等を考慮してその使用量を適宜設定することができるが
、触媒は、上記のフタル酸無水物1モルに対して通常0
.00001〜0.6モル、好ましくはo、ooi〜0
.3モルの範囲内の量で使用される。
上記のようにしてフッ素化反応を行なった後、加水分解
することにより4,5−ジフルオロフタル酸無水物を得
ることができる。この加水分解は、酸性条件下で行なわ
れる。この反応で使用される酸としては、有機酸および
無機酸のいずれであってもよいが、硫酸、塩酸、リン酸
等の無機酸が好ましく使用される。これらの無機酸の内
でも特に硫酸を使用することが好ましい。
することにより4,5−ジフルオロフタル酸無水物を得
ることができる。この加水分解は、酸性条件下で行なわ
れる。この反応で使用される酸としては、有機酸および
無機酸のいずれであってもよいが、硫酸、塩酸、リン酸
等の無機酸が好ましく使用される。これらの無機酸の内
でも特に硫酸を使用することが好ましい。
上記の加水分解の際に使用する酸の濃度には特に限定は
ない。
ない。
ただし、上記加水分解を効率よく行なうためには、ある
程度濃度の高い酸を用いることが好ましく、たとえば硫
酸を使用する場合には、30〜98%の硫酸を使用する
ことが望ましい。
程度濃度の高い酸を用いることが好ましく、たとえば硫
酸を使用する場合には、30〜98%の硫酸を使用する
ことが望ましい。
上記の加水分解反応において、酸は、反応温度、反応時
間、反応圧力、酸の種類等を考慮L −CN−置換ジフ
ルオロフタルイミドまたはジイミドに対して通常は0.
5〜48当量モルの量で使用される。
間、反応圧力、酸の種類等を考慮L −CN−置換ジフ
ルオロフタルイミドまたはジイミドに対して通常は0.
5〜48当量モルの量で使用される。
上記の加水分解は、反応温度を通常は室温〜還流温度の
範囲内、好ましくは70℃〜還流温還流節囲内に設定し
、反応圧力を通常は1〜15kg / c−の範囲内に
設定し、さらに反応時間を通常は0.5〜72時間、好
ましくは1〜36時間の範囲内に設定して行なわれる。
範囲内、好ましくは70℃〜還流温還流節囲内に設定し
、反応圧力を通常は1〜15kg / c−の範囲内に
設定し、さらに反応時間を通常は0.5〜72時間、好
ましくは1〜36時間の範囲内に設定して行なわれる。
上記のように第1の方法若しくは第2の方法で生成した
4、5−ジフルオロフタル酸無水物は、たとえばトルエ
ン等のような芳香族系溶媒に対して優れた溶解性を示し
、他方、反応原料および反応副生物等は、芳香族系溶媒
に溶解しにくいため、反応液を芳香族系溶媒で抽出し、
次いで芳香族溶媒溶液をla縮して、芳香族溶媒から再
結晶することにより、次式[I[]で表される4、5−
ジフルオロフタル酸無水物を精製することができる。
4、5−ジフルオロフタル酸無水物は、たとえばトルエ
ン等のような芳香族系溶媒に対して優れた溶解性を示し
、他方、反応原料および反応副生物等は、芳香族系溶媒
に溶解しにくいため、反応液を芳香族系溶媒で抽出し、
次いで芳香族溶媒溶液をla縮して、芳香族溶媒から再
結晶することにより、次式[I[]で表される4、5−
ジフルオロフタル酸無水物を精製することができる。
0 ・・・[II]
上記の第1の方法および第2の方法により得られた4、
5−ジフルオロフタル酸無水物のIRスペクトルのチャ
ートを第1図に、マススペクトルのチャートを第2図に
示す。
5−ジフルオロフタル酸無水物のIRスペクトルのチャ
ートを第1図に、マススペクトルのチャートを第2図に
示す。
このようにして得られた4、5−ジフルオロフタル酸無
水物を、たとえばアンモニアとを接触させて4.5−ジ
フルオロフタル酸モノアミドを生成させ、次いで該4.
5−ジフルオロフタル酸モノアミドと次亜ハロゲン酸の
アルカリ金属塩とを接触させることにより、4,5−ジ
フルオロアントラニル酸を製造することができる。
水物を、たとえばアンモニアとを接触させて4.5−ジ
フルオロフタル酸モノアミドを生成させ、次いで該4.
5−ジフルオロフタル酸モノアミドと次亜ハロゲン酸の
アルカリ金属塩とを接触させることにより、4,5−ジ
フルオロアントラニル酸を製造することができる。
すなわち、たとえば、4.5−ジフルオロフタル酸無水
物をトルエン等の芳香族系溶媒に分散させ、若しくは溶
解し、この分散液若しくは溶液に、通常0.5〜4時間
アンモニアガスを導入する。
物をトルエン等の芳香族系溶媒に分散させ、若しくは溶
解し、この分散液若しくは溶液に、通常0.5〜4時間
アンモニアガスを導入する。
上記の反応により次式[III]で表される4、5−ジ
フルオロフタル酸モノアミドが生成する。
フルオロフタル酸モノアミドが生成する。
このようにして得られた4、5−ジフルオロフタル酸モ
ノアミドと、次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを、ア
ルカリ性条件下、通常0〜5℃の範囲内の温度で接触さ
せた後、反応液を酸性にすることにより、次式[IV]
で表される新規な中間体である4、5−ジフルオロアン
トラニル酸[IV]を得ることができる。
ノアミドと、次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを、ア
ルカリ性条件下、通常0〜5℃の範囲内の温度で接触さ
せた後、反応液を酸性にすることにより、次式[IV]
で表される新規な中間体である4、5−ジフルオロアン
トラニル酸[IV]を得ることができる。
このジフルオロアントラニル酸の融点は、175〜17
7℃である。
7℃である。
このようにして得られた4、5−ジフルオロアントラニ
ル酸を、たとえばサンドマイヤー反応を利用してさらに
反応させることにより、含フツ素ピリドンカルボン酸系
の合成抗菌剤であるシプロキサシンの原料とすることが
できる。
ル酸を、たとえばサンドマイヤー反応を利用してさらに
反応させることにより、含フツ素ピリドンカルボン酸系
の合成抗菌剤であるシプロキサシンの原料とすることが
できる。
発明の効果
本発明に係る4、5−ジフルオロフタル酸無水物の製造
方法によれば、たとえば抗菌剤の原料として非常に有用
性の高い4.5−ジフルオロフタル酸無水物を容易に、
1−かも高収率で製造することができる。
方法によれば、たとえば抗菌剤の原料として非常に有用
性の高い4.5−ジフルオロフタル酸無水物を容易に、
1−かも高収率で製造することができる。
しかも、このようにして製造された4、5−ジフルオロ
フタル酸無水物からは、合成抗菌剤を製造するための中
間体として非常に有用性の高い4.5−ジフルオロアン
トラニル酸を製造することができ、そして、このジフル
オロアントラニル酸からは、含フツ素ピリドンカルボン
酸系の合成抗菌剤であるシプロキサシンあるいはノルフ
ロキサシン等を製造することができる。
フタル酸無水物からは、合成抗菌剤を製造するための中
間体として非常に有用性の高い4.5−ジフルオロアン
トラニル酸を製造することができ、そして、このジフル
オロアントラニル酸からは、含フツ素ピリドンカルボン
酸系の合成抗菌剤であるシプロキサシンあるいはノルフ
ロキサシン等を製造することができる。
[実施例]
次に本発明の実施例を示すが、本発明はこれら実施例に
よって限定されるものではない。
よって限定されるものではない。
実施例1
温度計、撹拌装置および還流装置を備えた反応装置に4
.5−ジクロルフタル酸47g (0,2モル)と無水
スルホラン200 mlとをいれ、170〜180℃で
1時間反応させた。
.5−ジクロルフタル酸47g (0,2モル)と無水
スルホラン200 mlとをいれ、170〜180℃で
1時間反応させた。
次いで20m1のスルホランを留去すると、4,5−ジ
クロルフタル酸無水物が得られた。
クロルフタル酸無水物が得られた。
得られた4、5−ジフルオロフタル酸無水物のKB「錠
剤法により3p1定したIRスペクトルのチャートを第
1図に、またマススペクトルのチャートを第2図に示す
。
剤法により3p1定したIRスペクトルのチャートを第
1図に、またマススペクトルのチャートを第2図に示す
。
次いで、これに予め用意したスプレー ドライ処理法に
より乾燥させたフッ化カリウム29g(0,5モル)を
加え、20m1のスルホランを留去させた。
より乾燥させたフッ化カリウム29g(0,5モル)を
加え、20m1のスルホランを留去させた。
さらに、反応系にテトラフェニルホスホニウムプロミド
を2.5g加え、170〜180℃で2時間反応させ、
次いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
を2.5g加え、170〜180℃で2時間反応させ、
次いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この炉液を25mmHgまで減圧して165℃でスルホ
ランと共に生成物を留去させた。得られたスルホラン溶
液を分析したところ生成物は4.5−ジフルオロフタル
酸無水物であった。
ランと共に生成物を留去させた。得られたスルホラン溶
液を分析したところ生成物は4.5−ジフルオロフタル
酸無水物であった。
この4.5−ジフルオロフタル酸無水物のスルホラン溶
液にトルエン150 mlを加え、アンモニアガスを常
温で1時間吹込むと結晶が析出した。結晶を濾過後、ト
ルエン洗浄し、真空乾燥し、4.5−ジフルオロフタル
酸モノアミドを31.4g得た。
液にトルエン150 mlを加え、アンモニアガスを常
温で1時間吹込むと結晶が析出した。結晶を濾過後、ト
ルエン洗浄し、真空乾燥し、4.5−ジフルオロフタル
酸モノアミドを31.4g得た。
収率78%
得られた4、5−ジフルオロフタル酸モノアミドのマス
スペクトルのチャートを第3図に t9F−NMRのチ
ャートを第4図に示す。
スペクトルのチャートを第3図に t9F−NMRのチ
ャートを第4図に示す。
さらに得られた4、5−ジフルオロフタル酸モノアミド
20.1.gを苛性ソーダ1og:、水60m1の溶液
にとかし、0℃に冷却し、ここにグラム18g次亜臭素
酸ソーダ14g、水40m1からなる次亜臭素酸ソーダ
水溶液を0〜3℃で30分かけて滴下し、0〜5℃で1
時間撹拌後、90℃まで昇温し1時間撹拌した。冷却後
濃塩酸を加え酸性にし、析出した結晶を濾過水洗し、真
空乾燥し、14.9.の淡黄色結晶を得た。得られた結
晶をアセトン−水混合液から再結晶し、分析した結果、
この結晶は4.5−ジフルオロアントラニル酸であった
。融点=175・〜177℃、収率:86%得られた4
、5−ジフルオロアントラニル酸のマス■ スペクトルのチャートを第5図に、 H−NMRのチャ
ートを第6図に、 F−NMRチャートを第7図に、モ
してIRスペクトルのチャートを第8図に示す。
20.1.gを苛性ソーダ1og:、水60m1の溶液
にとかし、0℃に冷却し、ここにグラム18g次亜臭素
酸ソーダ14g、水40m1からなる次亜臭素酸ソーダ
水溶液を0〜3℃で30分かけて滴下し、0〜5℃で1
時間撹拌後、90℃まで昇温し1時間撹拌した。冷却後
濃塩酸を加え酸性にし、析出した結晶を濾過水洗し、真
空乾燥し、14.9.の淡黄色結晶を得た。得られた結
晶をアセトン−水混合液から再結晶し、分析した結果、
この結晶は4.5−ジフルオロアントラニル酸であった
。融点=175・〜177℃、収率:86%得られた4
、5−ジフルオロアントラニル酸のマス■ スペクトルのチャートを第5図に、 H−NMRのチャ
ートを第6図に、 F−NMRチャートを第7図に、モ
してIRスペクトルのチャートを第8図に示す。
実施例2
実施例1で使用した反応装置に4,5−ジクロルフタル
酸70.5g(0,3モル)と無水スルホラン200
mlとトルエン30m1とをいれ、165〜180℃で
1時間反応させた。
酸70.5g(0,3モル)と無水スルホラン200
mlとトルエン30m1とをいれ、165〜180℃で
1時間反応させた。
次いでトルエンを留去させると4,5−ジクロルフタル
酸無水物が得られた。子れに予め用意したスプレードラ
イ処理法により乾燥させたフッ化カリウム43.5g
(0,75モル)を加え、20m1のスルホランを留去
させた。
酸無水物が得られた。子れに予め用意したスプレードラ
イ処理法により乾燥させたフッ化カリウム43.5g
(0,75モル)を加え、20m1のスルホランを留去
させた。
さらに、反応系にテトラフェニルホスホニウムプロミド
6.3g加え、170〜175℃で1時間反応させ、次
いて室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
6.3g加え、170〜175℃で1時間反応させ、次
いて室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この濾液の一部を取り分析したところ、この濾液中には
4.5−ジフルオロフタル酸無水物が食合されているこ
とが確認された。
4.5−ジフルオロフタル酸無水物が食合されているこ
とが確認された。
上記の濾液を、減圧にて留去すると生成物とスルホラン
が留出し、そこにトルエン200 mlを加えアンモニ
アガスを1時間吹込むと、結晶が析出した。結晶を濾過
し、トルエン洗浄後真空乾燥し、4.5−ジフルオロフ
タル酸モノアミド47gを得た。
が留出し、そこにトルエン200 mlを加えアンモニ
アガスを1時間吹込むと、結晶が析出した。結晶を濾過
し、トルエン洗浄後真空乾燥し、4.5−ジフルオロフ
タル酸モノアミド47gを得た。
収率ニア8%
実施例3
実施例1て使用した反応装置に4,5−ジクロルフタル
酸235g (iモル)と無水スルホラン500 ml
とトルエン1.、00 mlとをいれ、165〜175
℃で2時間還流させた。
酸235g (iモル)と無水スルホラン500 ml
とトルエン1.、00 mlとをいれ、165〜175
℃で2時間還流させた。
次いて、この反応液に、予め用意したスプレードライ処
理法により乾燥させたフッ化カリウム145g (2,
5モル)およびテトラフェニルホスホニウムプロミド2
1gを加え。さらに169℃で1,5時間還流させ、次
いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
理法により乾燥させたフッ化カリウム145g (2,
5モル)およびテトラフェニルホスホニウムプロミド2
1gを加え。さらに169℃で1,5時間還流させ、次
いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この濾液の一部・を取り分析したところ、この濾液中に
は4.5−ジフルオロフタル酸無水物が含有されている
ことが確認された。
は4.5−ジフルオロフタル酸無水物が含有されている
ことが確認された。
実施例2と同様の方法で4.5−ジフルオロフタル酸モ
ノアミド170gを得た。収率:85%実施例4 4.5−ジクロロフタル酸400g (1,7モル)と
トルエン4gとを5gの三ロフラスコに仕込み、濃硫酸
10gを加え加熱して共沸脱水した。水が出なくなるま
で脱水すると固形物は完全に溶解した。
ノアミド170gを得た。収率:85%実施例4 4.5−ジクロロフタル酸400g (1,7モル)と
トルエン4gとを5gの三ロフラスコに仕込み、濃硫酸
10gを加え加熱して共沸脱水した。水が出なくなるま
で脱水すると固形物は完全に溶解した。
次いで反応液を90℃まで冷却し、この反応液にアニリ
ン1.6.3g (1,75モル)を滴下することによ
り、結晶が析出した。
ン1.6.3g (1,75モル)を滴下することによ
り、結晶が析出した。
反応液を室温まで冷却して析出した結晶を濾取した。収
量は520gである。
量は520gである。
上記結晶467gとスルホラン2.5gとを三ロフラス
コに仕込み、170℃で30分間撹拌した。
コに仕込み、170℃で30分間撹拌した。
その後、スルホランを減圧にて250 ml留出させた
。
。
次いで反応液を120℃まで冷却した。この反応液の一
部を取り、4倍量の水に注ぎ、3回水洗し、乾燥させる
ことにより、N−フェニル−4,5−ジクロルフタルイ
ミドを得た。この化合物のIRスペクトルのチャートを
第9図に示す。
部を取り、4倍量の水に注ぎ、3回水洗し、乾燥させる
ことにより、N−フェニル−4,5−ジクロルフタルイ
ミドを得た。この化合物のIRスペクトルのチャートを
第9図に示す。
次いでこの反応系にスプレードライ処理法で乾燥させた
フッ化カリウム218pr(3,76モル)を投入する
と共に、スルホラン250 mlを留出させた。
フッ化カリウム218pr(3,76モル)を投入する
と共に、スルホラン250 mlを留出させた。
そして、この反応系にテトラフェニルホスホニウムプロ
ミド31.5g (0,07モル)を加え、200〜2
05℃で6時間反応させた。
ミド31.5g (0,07モル)を加え、200〜2
05℃で6時間反応させた。
反応終了後、反応液を冷却し、8gの水にあけ、結晶を
濾取し、洗浄後真空乾燥した。
濾取し、洗浄後真空乾燥した。
得られた結晶をトルエンから再結晶させることにより、
N−フェニル−4,5−ジフルオロフタルイミド334
g (1,29モル)を得た。
N−フェニル−4,5−ジフルオロフタルイミド334
g (1,29モル)を得た。
上記のN−フェニル−4,5−ジフルオロフタルイミド
330g(1,27モル)を92%硫酸825gと共に
135℃・で25時間加熱した。
330g(1,27モル)を92%硫酸825gと共に
135℃・で25時間加熱した。
反応生成物を200 mlのトルエンを用いて5回抽出
した。得られたトルエン抽出液を合わせ、この!・ルエ
ン溶液をこのトルエンの1/20の容量の水で洗浄し、
次いでトルエン層を濃縮した。
した。得られたトルエン抽出液を合わせ、この!・ルエ
ン溶液をこのトルエンの1/20の容量の水で洗浄し、
次いでトルエン層を濃縮した。
得られた濃縮物をトルエンから再結晶することにより、
1.93g(1,05モル)の4,5−ジフルオロフタ
ル酸無水物を得た。
1.93g(1,05モル)の4,5−ジフルオロフタ
ル酸無水物を得た。
参考例
上記実施例2〜4で得られた4、5−ジフルオロフタル
酸アミドあるいは4.5−ジフルオロフタル酸無水物を
用いて実施例1に準じて反応させることにより4.5−
ジフルオロアントラニル酸を合成することができた。
酸アミドあるいは4.5−ジフルオロフタル酸無水物を
用いて実施例1に準じて反応させることにより4.5−
ジフルオロアントラニル酸を合成することができた。
第1図は、4.5−ジフルオロフタル酸無水物のJRス
ペクトルのチャートである。 第2図は、4.5−ジフルオロフタル酸無水物のマスス
ペクトルのチャートである。 第3図は、4.5−ジフルオロフタル酸アミドのマスス
ペクトルのチャートである。 第4図は、4,5−ジフルオロフタル酸アミドの’H−
NMRスペクトルのチャートである。 第5図は、ジフルオロアントラニル酸のマススペクトル
のチャートである。 第6図は、ジフルオロアントラニル酸の lH−NMR
スペクトルのチャートである。 第7図は、4.5−ジフルオロアントラニル酸の’F−
NMRスペクトルのチャートである。 第8図は、ジフルオロアントラニル酸のIRスペクトル
のチャートである。 第9図は、N−フェニル−4,5−ジクロルフタルイミ
ドのIRスペクトルのチャートである。
ペクトルのチャートである。 第2図は、4.5−ジフルオロフタル酸無水物のマスス
ペクトルのチャートである。 第3図は、4.5−ジフルオロフタル酸アミドのマスス
ペクトルのチャートである。 第4図は、4,5−ジフルオロフタル酸アミドの’H−
NMRスペクトルのチャートである。 第5図は、ジフルオロアントラニル酸のマススペクトル
のチャートである。 第6図は、ジフルオロアントラニル酸の lH−NMR
スペクトルのチャートである。 第7図は、4.5−ジフルオロアントラニル酸の’F−
NMRスペクトルのチャートである。 第8図は、ジフルオロアントラニル酸のIRスペクトル
のチャートである。 第9図は、N−フェニル−4,5−ジクロルフタルイミ
ドのIRスペクトルのチャートである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)次式で表される4,5−ハロゲノフタル酸無水物
とアルカリ金属フッ化物とを接触させることを特徴とす
る4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法; ▲数式、化学式、表等があります▼ (ただし上記式においてX^1およびX^2は、それぞ
れ独立に塩素原子または臭素原子を表す)。 (2)アルカリ金属フッ化物が、スプレードライ処理法
により乾燥されたフッ化カリウムであることを特徴とす
る請求項第1項記載の4,5−ジフルオロフタル酸無水
物の製造方法。 (3)アルカリ金属フッ化物を用いる際に、テトラフェ
ニルホスホニウムプロミドを用いることを特徴とする請
求項第1項記載の4,5−ジフルオロフタル酸無水物の
製造方法。(4)次式[ I −1]および[ I −2]で
表されるイミド化合物; ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I −1] ▲数式、化学式、表等があります▼・・・[ I −2] (ただし、上記式[ I −1]および[ I −2]におい
て、X^1およびX^2は、それぞれ独立に塩素原子ま
たは臭素原子を表し、R^1は、1価の炭化水素基また
は複素環基を表し、R^2は、2価の炭化水素基または
複素環基を表わし、かつ該R^1およびR^2で表され
る炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよ
い)と、アルカリ金属フッ化物とを反応させ、対応する
N−置換−ジフルオロフタルイミド若しくはジイミドを
生成させ、次いで該N−置換−ジフルオロフタルイミド
若しくはジイミドを酸性条件下で加水分解することを特
徴とする4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法
。 (5)アルカリ金属フッ化物が、スプレードライ処理法
により乾燥されたフッ化カリウムであることを特徴とす
る請求項第4項記載の4,5−ジフルオロフタル酸無水
物の製造方法。 (6)アルカリ金属フッ化物を用いる際に、テトラフェ
ニルホスホニウムプロミドを用いることを特徴とする請
求項第4項記載の4,5−ジフルオロフタル酸無水物の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22688188A JPH0276872A (ja) | 1988-09-10 | 1988-09-10 | 4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP22688188A JPH0276872A (ja) | 1988-09-10 | 1988-09-10 | 4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0276872A true JPH0276872A (ja) | 1990-03-16 |
Family
ID=16852039
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22688188A Pending JPH0276872A (ja) | 1988-09-10 | 1988-09-10 | 4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0276872A (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS518264A (en) * | 1974-07-15 | 1976-01-23 | Gen Electric | Bisu * chioeeterufutaruimido * oyobi bisu * chioeeterumusuifutarusan * noseiho |
JPS6147475A (ja) * | 1984-08-15 | 1986-03-07 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | フツ素化無水フタル酸の製法 |
-
1988
- 1988-09-10 JP JP22688188A patent/JPH0276872A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS518264A (en) * | 1974-07-15 | 1976-01-23 | Gen Electric | Bisu * chioeeterufutaruimido * oyobi bisu * chioeeterumusuifutarusan * noseiho |
JPS6147475A (ja) * | 1984-08-15 | 1986-03-07 | Nippon Shokubai Kagaku Kogyo Co Ltd | フツ素化無水フタル酸の製法 |
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