JPH0273044A - ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法 - Google Patents

ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法

Info

Publication number
JPH0273044A
JPH0273044A JP22572988A JP22572988A JPH0273044A JP H0273044 A JPH0273044 A JP H0273044A JP 22572988 A JP22572988 A JP 22572988A JP 22572988 A JP22572988 A JP 22572988A JP H0273044 A JPH0273044 A JP H0273044A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
reaction
group
difluorophthalic
anhydride
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22572988A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Shimizu
正章 清水
Utaro Matsushita
松下 卯太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SDS Biotech Corp
Original Assignee
SDS Biotech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SDS Biotech Corp filed Critical SDS Biotech Corp
Priority to JP22572988A priority Critical patent/JPH0273044A/ja
Publication of JPH0273044A publication Critical patent/JPH0273044A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の技術分野 本発明は新規なアントラニル酸誘導体およびその製造法
に関する。さらに詳しくは本発明は、たとえば含フツ素
ピリドンカルボン酸系の合成抗菌剤あるいは医薬品の合
成のための中間原料として有用性の高いアントラニル酸
誘導体およびその製造法に関する。
発明の技術的背景ならびにその問題点 含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、フッ素原子
の置換位置および数、並びにこのフッ素原子をさらに他
の置換基で置換することにより薬効が異なるため、近年
、このような含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物が
注目を集めている。
このような含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物のう
ち、オフロキサシン等は、たとえばテトラフルオロフタ
ル酸を中間原料として製造することができる。
ところが、上記のようなテトラフルオロフタル酸から誘
導される含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、原
料が4個のフッ素原子を有するため、薬効に制限がある
また、上記テトラフルオロフタル酸は、ベンゼン環に4
個のフッ素原子が置換しているために、テトラクロロフ
タロニトリルをフッ素化し、得られたテトラフルオロフ
タロニトリルを加水分解する方法(工業化学雑誌72,
447〜448(1970)参照)のように毒性の高い
化合物を出発原料として使用する方法によって製造しな
ければならなかったり、あるいは無水テトラクロロフタ
ル酸ジクロライドをフッ素化して得られるテトラフルオ
ロフタル酸ジフルオライドを加水分解する方法(Zh、
0bshabh、Khim、、36,139(1966
)参照)のように、反応原料の異性化が発生し易く、ま
たフッ素化試薬を大量に使用する方法によらなければ製
造することができず、このような方法は工業的には不利
である。
これらに対して本出願人は、特定のイミドとアルカリ金
属フッ化物とを反応さゼで対応するN−置換−テトラフ
ルオロフタルイミド等を得、次いでこの化合物を酸性条
件下で加水分解することを主な特徴とするテトラフルオ
ロフタル酸の製造方法に関する発明について既に出願し
ている。この方法を利用することにより、テトラフルオ
ロフタル酸を、従来の方法と比較すると有利に製造する
ことができるようになる。
ところが、上記の方法自体、依然として複雑であると共
に、このような方法により得られる化合物はテトラフル
オロフタル酸であり、このテトラフルオロフタル酸から
誘導される含フツ素ピリドンカルボン酸系の化合物は、
原料が4個のフッ素原子を有しているために、たとえば
抗菌剤としての薬効に制限がある。
従って、テトラフルオロフタル酸から誘導される含フツ
素ピリドンカルボン酸系の化合物の薬効の及ばないよう
な菌等に対しても有効性が高く、しかもこのような含フ
ツ素ピリドンカルボン酸系の化合物を容易に製造するこ
とかできる安定な化合物の出現が望まれている。
発明の目的 本発明は上記のような従来技術に伴う問題点を解消しよ
うとするものであって、新規なアントラニル酸誘導体お
よびその製造方法を提供することを目的としている。
さらに詳しくは、本発明は、医薬品、農薬、および工業
薬品等の中間体として極めて有用性の高いアントラニル
酸誘導体およびその製造方法を提C共することを目的と
している。
また、本発明は、特に含フツ素ピリドンカルボン酸系抗
菌剤の中間原料として特に有効に使・用することができ
るアントラニル酸誘導体およびその製造方法を提供する
ことを目的としている。
発明の概要 本発明に係るジフルオロアン!・ラニル酸は、次式で表
わされる。
アミドを生成させ、次いで該4,5−ジフルオロフタル
酸モノアミドと次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを接
触させることにより製造することかできる。
本発明に係るジフルオロアントラニル酸はベンゼン環に
2個のフッ素原子が結合しているアントラニル酸であり
、非常に安定であると共に、容易に製造することができ
る。
発明の詳細な説明 次に本発明に係るジフルオロアントラニル酸およびその
製造方法について具体的に説明する。
本発明に係るジフルオロアントラニル酸は文献未記載の
新規化合物であり、次式で表すことができる。
さらに上記式で表されるジフルオロアントラニル酸は、
4.5−ジフルオロフタル酸無水物とアンモニアとを接
触させて4.5−ジフルオロフタル酸モノこのジフルオ
ロアントラニル酸の融点は、175〜177℃である。
第1図にこのジフルオロアントラニル酸のマススペクト
ルのチャートを示す。
第1図から明らかなように、ジフルオロアントラニル酸
のマススペクトルをE V −20eVの条件で11定
すると、m / z −173にM に対応するピーク
が観察され、さらにm / z = 155.128.
101にピークが観察される。これらの各ピークの示す
フラグメンテーションの詳細は不明であるが、m/z=
155はM−H2のフラグメンテーションに相当し、m
/Z−128のピークは、−COOHの脱離したフラグ
メンテーションに相当し、さらにm / z = 10
1のピークは、次式で表されるフラグメンテーション相
当するものであると推察される。
また、第2図にTMSを内部標準としてDMSO−de
中で測定した本発明に係るジフルオロアントラニル酸の
 IH−NMRスペクトルのチャートを示す。
第2図に示すようにδ−7.659ppm7、613p
pm 、7. 60 lppm及び7.553ppmに
は一〇 0011基が置換しているベンゼン環の炭素原
子に隣接する炭素原子の有する水素原子に起因するピー
クが観察され、また、δ−6,772ppIll、 6
. 7371)pm 、 6. 706ppmおよび6
.671ppmには−NH2基が置換しているベンゼン
環の炭素原子に隣接する炭素原子の有する水素原子に起
因するピークが観察され、さらに−COO11基および
−NH2基の水素原子に起因するピークは、δ−8〜1
101)pI付近にかけてブロードなピークとして観察
される。
さらに第3−1図にF−113を内部標準としてCFC
l2のδをOppn+としDMSO中で測定した4、5
−ジフルオロアントラニル酸の19FNMRスペクトル
のチャートを示す。また第3−2図に拡大図を示す。各
フッ素の値は−131ppmおよび−155ppIl(
d、d、d、JFF −24,1、JFH−9,4、J
FH−7,1、JFH−11,8Hz)である。
さらに第4図にKBr錠剤法により測定した本発明に係
るジフルオロアントラニル酸のIRスペクトルのチャー
トを示す。
第4図に示すように、3500C11−1付近に−NH
2基の水素原子に起因する吸収が観察され、また335
0CIIl−1付近に一〇〇〇H基の水素原子に起因す
る吸収が観察される。さらに1680cIn−1付近に
は>C−0に起因する吸収が観察される。
そして、上記のようなマススペクトル、NMRスペクト
ルおよびIRスペクトル等の測定結果をさらに詳細に検
討してみると、本発明に係るジフルオロアントラニル酸
が次式で表される構造を有することは明らかである このようなジフルオロアントラニル酸は、たとえば、4
.5−ジフルオロフタル酸無水物とアンモニアガスとを
接触させて4.5−ジフルオロフタル酸モノアミドを生
成させ、次いで該4.5−シフルオリフタル酸モノアミ
ドと次亜ハロゲン酸アルカリとを接触させることにより
製造することができる。
そして、上記の製造方法で使用される4、5−ジフルオ
ロフタル酸無水物は、4.5−ジクロルフタル酸無水物
を直接フッ素化する方法(第1の方法)および4.5−
ジクロルフタル酸無水物とたとえばアニリン等とから誘
導される特定のイミド化合物を、アルカリ金属フッ化物
と反応させて対応するN−置換−ジフルオロフタルイミ
ド等を得、次いてこの化合物を酸性条件下で加水分解す
る方法(第2の方法)により製造することができる。
まず第1の方法による本発明に係るジフルオロアントラ
ニル酸の製造方法について説明する。
4.5−ジクロルフタル酸無水物は、4.5−ジクロル
フタル酸を脱水することにより製造することができる。
4.5−ジクロルフタル酸の脱水には、濃硫酸のような
通常使用されている脱水剤を用いる方法や溶媒中で加熱
する方法を採用することができる。また、この脱水反応
の際には反応溶媒を使用することができる。この場合に
使用される反応溶媒としては、ベンゼン、キンレンおよ
びトルエン等の芳香族溶媒や、ジメチルホルムアミド、
N−メチルピロリドン、スルホラン等の非プロトン性極
性溶媒を好ましく使用することができる。これらの反応
溶剤は、単独であるいは絹み合わせて使用することがで
きる。特に本発明においては、トルエンおよびスルホラ
ンを使用することが好ましい。
脱水剤は、4.5−ジクロルフタル酸1モルに対して、
通常は0.5モル以下の量で使用され、さらこ好ましく
は0.1モル以下の量で使用される。
また、反応溶媒を使用する場合に、反応溶媒の量に特に
制限はないが、4.5−ジクロルフタル酸1モルに対し
て、通常は5〜100モルの瓜で使用され、さらに好ま
しくは5〜50モルの量で使用される。
この脱水反応の反応温度は、通常は80〜200℃であ
り、また反応時間は通常は1〜5時間である。
このように脱水反応を行なうことにより、脱離された水
は、たとえば反応溶媒としてトルエンを用いた場合には
、トルエンと共に共沸して反応系外に除去される。なお
、反応溶媒を使用した場合には、上記の脱水反応終了後
、反応溶媒を除去する。また、スルホラン等の一部、若
しくは全部を反応溶媒あるいは生成する水と共に除去す
ることもできる。
なお、本発明においては、上記の4,5−ジクロルフタ
ル酸の代わりに4,5−ジブロモフタル酸あるいは4−
ジブロモ−5−フルオロフタル酸を使用しても同様に反
応は進行する。これらの化合物は単独で使用することも
できるしさらに組み合わせて使用することもできる。
上記のようにして生成した4、5−ジクロルフタル酸無
水物、4,5−ジブロモフタル酸無水物あるいは4−ブ
ロモ−5−フルオロフタル酸無水物とフッ素化剤とを接
触させて4.5−ジクロルフタル酸無水物を得る。
この反応において使用されるフッ素化剤としては、フッ
化セシウム、フッ化ルビジウム、フッ化カリウム、フッ
化すトリウム、フッ化アンモニウムおよびフッ化リチウ
ム等のアルカリ金属フッ化物を挙げることができる。こ
れらのアルカリ金属フッ化物の内でも、特にフッ化カリ
ウムを使用することが好ましく、さらにスプレードライ
処理法により脱水されたフッ化カリウムを用いることが
特に好ましい。なお、このスプレードライ処理法二つい
ては、Chemltry Letters、第6巻、第
761頁、1981年の石川ら論文に詳細に記載されて
いる。
アルカリ金属フッ化物の使用量は、上記フタル酸1モル
に対して通常は2.0〜6.0モルであり、特にフッ素
化剤としてスプレードライ処理したフッ化カリウムを使
用する場合には2.1〜4.0モルの範囲内の量で使用
することが好ましい。
上記の反応は、触媒を用いずに行なうこともできるが、
反応触媒を用いることにより反応速度を速くすることが
できる。
上記の反応で使用することができる触媒の例としては、
第4級アンモニウム塩、第4級ホスホニウム塩およびク
ラウンエーテルを挙げることができ、具体的な例として
は、テトラアルキルアンモニウムハライド、テトラアル
キルアンモニウムフルオロボレート類、テI・シアルキ
ルアンモニウムホスホラステトラフルオライド類および
テトラフェニルホスホニウムハライド類を挙げることが
できる。これらの触媒は、単独で、あるいは組み合わせ
て使用することができる。特に本発明においては、テト
ラフェニルホスホニウムハライド類を使用することが好
ましく、さらに、テトラフェニルホスホニウムハライド
類の内でもテトラフェニルホスホニウムプロミドを使用
することが好ま【2い。また、触媒を使用する場合、触
媒の種類および反応条件などによって触媒の使用量は異
なり、これらの条件等を考慮してその使用量を適宜設定
することができるが、触媒は、上記のフタル酸無水物1
モルに対して通常0.00001〜0.6モル、好まし
くは0.001〜0.3モルの範囲内の量で使用される
また、この反応における反応温度は、通常は150〜2
20℃の範囲内、そして反応時間は、通常は1〜10時
間に設定される。
上記のように反応を行なうことにより、4.5−ジクロ
ルフタル酸無水物あるいは4.5−ジブロモフタル酸無
水物等のベンゼン環に結合している塩素原子あるいは臭
素原子がフッ素原子と置換し、4.5−ジフルオロフタ
ル酸無水物が生成する。ただし、反応生成物中には、反
応条件等によっては、少量の4,5−ジフルオロフタル
酸が含まれることがあるが、このような化合物は、濃硫
酸あるいはスルホランなどを用いて通常の方法により脱
水することにより、はとんど全部が4,5−ジフルオロ
フタル酸無水物になる。
また、本発明で使用される4、5−ジフルオロフタル酸
無水物は、上記の方法(第1の方法)の外に以下に示す
ような第2の方法により製造することもできる。
この第2の方法では、上記第1の方法で製造された4、
5−ジクロルフタル酸無水物あるいは4,5−ジブロモ
フタル酸無水物等から次式[I−1]若しくは[1−2
]で表されるイミド化合物を得る。
ただし、上記式[1−1]および[1−2]において、
X およびX2塩素原子または臭素原子を表し、R1は
、1価の炭化水素基または複素環基を表し、R2は、2
価の炭化水素基または複素環基を表わす。なお、このR
およびR2て表される■ 炭化水素基および複素環基は置換基を有していてもよい
すなわち、式[1−1]において R1は、1価の炭化
水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置換
であってもよいが、例えばハロゲン原子、アリール基、
−0R3−(0)  SR4−N−R5シアノ基あるい
はニトロ基等で置換されていてもよく、また上記のR3
R4R5R6がさらに置換基を有していてもよい。また
上記式においてnは、0.1または2を表す。
本発明においてR1としては、炭素数1〜8の直鎖状若
しくは分岐状アルキル基、炭素数4〜8のシクロアルキ
ル基、炭素数3〜8のアルケニル基若しくはアリール基
であることが好ましい。
このような式[1−1]におけるR1の具体的な例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソピロピル
基、ブチル基、イソブチル基、5ee−ブチル基、te
rt−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、2−エチル
ヘキシル基、オクチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、ベンジル基、p−クロロベンジル基、p−メ
チルベンジル基、アリル基、フェニル基、p−クロロフ
ェニル基、p−ブロモフェニル基、p−フルオロフェニ
ル基、p−トリル基、2.4−ジクロロフェニル基、3
.4−ジクロロフェニル基、2−クロロ−4−メチルフ
ェニル基、p−エトキシフェニル基、■−メチルチオフ
ェニル基、p−(p−クロロフェノキシ)フェニル基、
p−(ベンジルスルホニル)フェニル基、■−ナブチル
基、2−ナフチル基、2−エチニル基、2−メトキシエ
チル基、2−(ジメチルアミノ)エチル基、3−[4−
(ジメチルアミノ)フェニル]プロピル基、(3,5−
ジメチル−4−オキサゾニル)メチル基、3−(4−メ
トキリフェニル)ブチル基、6−メチル−2−ピリジル
基、4−メトキシ−2−メチルフェニル基、3−メトキ
シプロピル基、■−メチルー2−フェニルエチル基、2
,3,5.6−テトラフルオロ−4−ピリジル基、2−
フェノキシエチル基、4−ニトロフェニル基、4−シア
ノフェニル基、2.6−シメチルー4−ピリミジル基、
2−モルホリノエチル基、α・α・ α−トリフルオロ
−〇−トリル基、2−(2−ピリジル)エチル基を挙げ
ることができる。
また、上記式[1−2]において、R2は、2価の炭化
水素基若しくは複素環基であり、これらの基は、無置換
であってもよいが、例えばハロゲンされていてもよく、
また上記のR7R8R9R10がさらに置換基を有して
いてもよい。また上記式においてnは、0.1または2
を表す。
このような式[1−2]におけるR2の具体的な例とし
ては、−C112C112 Rは、−C1t2− −C112CI+、、 −−CI
l(C113)o−−s−−5o2−および−N(C1
13)−を表す)を挙げることができる。
上記のような式[I−1]および[T−2]で表される
化合物は、たとえば4,5−ジクロルフタル酸無水物あ
るいは4.5−ジブロモフタル酸無水物と、上記Rある
いはR2が窒素原子に結合したアミン化合物とを反応さ
せ、次いて、スルホランあるいは濃硫酸等の脱水剤を用
いて通常の方法により脱水することにより製造すること
ができる。たとえば式[I−1,]においてR1がフェ
ニル基であるイミド化合物を製造する際には、アニリン
を使用する。
なお、4,5−ジクロルフタル酸無水物あるいは45−
ジブロモフタル酸無水物等と、アミン化合物との反応温
度は、通常は室温〜200℃であり、反応時間は、通常
は0.1〜2時間である。また、上記の脱水反応の際の
反応温度は、通常は100〜200℃、反応時間は、通
常は1〜4時間である。
次いで、上記のようにして得られた式[I−1]および
[I−2]とフッ素化剤とを反応させることにより、ベ
ンゼン環に結合している塩素原子および臭素原子は、フ
ッ素原子で置換される。
この場合に使用することができるフッ素化剤としては、
上記第1の方法で使用したアルカリ金属フッ化物を挙げ
ることができ、特にフッ化カリウムを使用することが好
ましく、さらにスプレードライ処理法により脱水された
フッ化カリウムを用いることが特に好ましい。
アルカリ金属フッ化物の使用量は、通常は[■−[] 
1モルに対してもしくは[I−2] 0.5モルに対し
て通常は2.0〜6.0モルであり、特にフッ素化剤と
してスプレードライ処理したフッ化カリウムを使用する
場合には2.1〜4.0モルの範囲内の量で使用するこ
とが好ましい。
上記のフッ素化反応は、触媒を用いずに行なうこともて
きるが、反応触媒を用いることにより反応速度を速くす
ることができる。
上記の反応で使用することができる触媒の例としては、
第1の方法と同様に、第4級アンモニウム塩、第4級ホ
スホニウム塩およびクラウンエーテルを挙げることがで
きる。特に本発明においては、第4級ホスホニウム塩を
使用することが好ましく、さらにテトラフェニルホスホ
ニウムハライド類を使用することが好ましく、さらに、
テトラフェニルホスホニウムハライド類の内でもテトラ
フェニルホスホニウムプロミドを使用することが好まし
い。また、触媒を使用する場合、触媒の種類および反応
条件などによって触媒の使用量は異なり、これらの条件
等を考慮してその使用量を適宜設定することができるが
、触媒は、上記のフタル酸無水物1モルに対して通常は
0.00001〜0.6モル、好ましくは01001〜
0,3モルの範囲内の量で使用される。
上記のようにしてフッ素化反応を行なった後、加水分解
することにより4.5−ジフルオロフタル酸無水物を得
ることができる。この加水分解は、酸性条件下で行なわ
れる。この反応で使用される酸としては、有機酸および
無機酸のいずれであってもよいが、硫酸、塩酸、リン酸
等の無機酸が好ましく使用される。これらの無機酸の内
でも特に硫酸を使用することが好ましい。
上記の加水分解の際に使用する酸の濃度には特に限定は
ない。
ただし、上記加水分解を効率よく行なうためには、ある
程度濃度の高い酸を用いることが好ましく、たとえば硫
酸を使用する場合には、30〜98%の硫酸を使用する
ことが望ましい。
上記の加水分解反応において、酸濃度は、反応温度、反
応時間、反応圧力、酸の種類等を考慮して適宜設定する
ことができるが、N−置換ジフルオロフタルイミドまた
はジイミドに対して通常は0.5〜48当量モルの量で
使用される。
上記の加水分解は、反応温度を通常は室温〜還流温度の
範囲内、好ましくは70℃〜還流温度の範囲内に設定し
、反応圧力を通常は1〜15kg / cdの範囲内に
設定し、さらに反応時間を通常は0.5〜72時間、好
ましくは1〜36時間の範囲内に設定して行なわれる。
上記のように第1の方法若しくは第2の方法で生成した
4、5−ジフルオロフタル酸無水物は、たとえばトルエ
ン等のような芳香族系溶媒に対して優れた溶解性を示し
、他方、反応原料および反応副生物等は、芳香族溶媒に
溶解しくいため、反応液を芳香族系溶媒で抽出し、次い
で芳香族溶媒溶液を濃縮して、芳香族溶媒から再結晶す
ることにより、次式[I[]で表される4、5−ジフル
オロフタル酸無水物を精製することができる。
0             ・・・ [II]得られ
た4、5−ジフルオロフタル酸無水物のIRスペクトル
のチャートを第5図に、マススペクトルのチャートを第
6図に示す。
本発明に係るジフルオロアントラニル酸は、上記のよう
にして得られた4、5−ジフルオロフタル酸無水物とア
ンモニアとを接触させて4,5−ジフルオロフタル酸モ
ノアミドを生成させ、次いで該4,5−ジフルオロフタ
ル酸モノアミドと次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを
接触させることにより製造することができる。
4.5−ジフルオロフタル酸無水物とアンモニアとの接
触には、4.5−ジフルオロフタル酸無水物を溶媒に分
散させ、若しくは溶解し、この分散液若しくは溶液にア
ンモニアガスを導入する方法を利用することができる。
この方法で使用することができる溶媒としては、4.5
−ジフルオロフタル酸無水物およびアンモニアと反応し
ない溶媒であればよ<、4.5−ジフルオロフタル酸無
水物の溶解性を考慮すると芳香族溶媒を使用することが
好ましい。
さらに芳香族溶媒の内でもトルエンが最も好ましい。芳
香族溶媒は、使用する4、5−ジフルオロフタル酸無水
物を溶解させることができる全以上であること好ましく
、通常は4.5−ジフルオロフタル酸無水物Logに対
して芳香族溶媒を40m1以上使用する。
上記の反応におけるアンモニアガスの吹込み時間は、通
常0.5〜4時間である。また、この反応は、特に加熱
あるいは加圧しなくとも進行するが、加熱しながら、あ
るいは加圧下にアンモニアガスを導入することもできる
なお、アンモニアガスを導入する際に反応系内に無水ス
ルホラン等を共存させることにより、反応系内に存在す
る少量の4,5−ジフルオロフタル酸を4.5−ジフル
オロフタル酸無水物に変換しなからアミド化反応を行な
うこともできる。
上記の反応により次式[II[]で表される4、5−ジ
フルオロフタル酸モノアミドが生成する。
上記式[m]で表される化合物の19F−NMRのチャ
ートを第7図に、さらにKBr錠剤法により測定したI
Rスペクトルのチャートを第8図に示す。
このようにして得られた4、5−ジフルオロフタル酸モ
ノアミドと、次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを接触
させることにより、次式[IV]で表される本発明のジ
フルオロアントラニル酸を得ることができる。
この反応で使用される次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩
としては、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸ナトリウム
、次亜臭素酸ナトリウムおよび次亜臭素酸カリウムを挙
げることができる。
4.5−ジフルオロフタル酸モノアミドと、次亜塩素酸
のアルカリ金属塩との接触は、通常アルカリ性条件下で
行なわれる。このときの次亜ノλロゲン酸のアルカリ金
属塩の添加速度は、反応液の温度が0〜5℃を超えない
ような速度であることが望ましい。また次亜ハロゲン酸
のアルカリ金属塩の添加量は、4.5−ジフルオロフタ
ル酸モノアミド1モルに対して、通常は1〜1.2モル
、好ましくは1〜1.1モルの範囲内にある。
このようにして全量の次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩
を添加した後、反応液の温度が5℃を超えないようにし
て、さらに1〜2時間撹拌することが好ましい。
このようにして撹拌した後、通常は反応液の温度を7〜
90℃にまで昇温し、さらに0.5〜2時間撹拌する。
次いで、この反応溶液を、たとえば塩酸等を用いて酸性
にすることにより本発明に係るジフルオロアントラニル
酸の淡黄色の結晶が析出する。
このようにして得られたジフルオロアントラニル酸を濾
取し、たとえばアセトン−水混合液等から再結晶するこ
とにより精製することができる。
このようにして得られたジフルオロアントラニル酸を、
たとえばサンドマイヤー反応を応用してさらに反応させ
ることにより、含フツ素ピリドンカルボン酸系の合成抗
菌剤であるンブロキサシンの原料とすることができる。
発明の効果 本発明に係るジフルオロアントラニル酸はベンゼン環に
2個のフッ素原子が結合しているアントラニル酸であり
、安定であると共に、本発明の製造法により容易に製造
することができる。
しかも本発明に係るジフルオロアントラニル酸からは、
含フツ素ピリドンカルボン酸系の合成抗菌剤であるシプ
ロキサシン、あるいはノルフロキサシン等を製造するこ
とができる。
[実施例] 次に本発明の実施例を示すが、本発明はこれら実施例に
よ゛って限定されるものではない。
実施例] 温度計、撹拌装置および還流装置を備えた反応装置に4
,5−ジクロルフタル酸47g (0,2モル)と無水
スルホラン200 mlとをいれ、170〜180℃で
1時間反応させた。
次いで20m1のスルホランを留去すると共に、予め用
意したスプレードライ処理法により乾燥させたフッ化カ
リウム29g (0,5モル)を加え、20m1のスル
ホランを留去させた。
さらに、反応系にテトラフェニルホスホニウムプロミド
を4.2g加え、170〜180℃で2時間反応させ、
次いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この炉液を25mmHfrまで減圧して165℃でスル
ホランと共に生成物を留去させた。得られたスルホラン
溶液を分析したところ生成物は4,5−ジフルオロフタ
ン酸無水物であった。
この4,5−ジフルオロフタン酸無水物のスルホラン溶
液にトルエン150 mlを加え、アンモニアガスを常
温で1時間吹込むと結晶が析出した。結晶を濾過後、ト
ルエン洗浄し、真空乾燥し、4.5−ジフルオロフタル
酸アミドを31..4g得た。収率78% さらに得られた4、5−ジフルオロフタル酸アミド20
.1gを苛性ソーダ10g1水60m1の溶液にとかし
、0℃に冷却し、ここに臭素18g、水酸化ナトリウム
14g1水40m1から調製された次亜臭素酸ナトリウ
ム水溶液を0〜3℃で30分かけて滴下し、0〜5℃で
1時間撹拌後、90℃まで昇温し1時間撹拌した。冷却
後濃塩酸を加え酸性にし、析出した結晶を濾過水洗し、
真空乾燥し14.9にの淡黄色結晶を得た。得られた結
晶をアセトン−水混合液から再結晶し、分析した結果、
この結晶は4.5−ジフルオロアントラニル酸であった
。融点:175〜]−77℃、収率:86%得られた4
、5−ジフルオロアントラニル酸のマススペクトルのチ
ャートを第1図に、 H−NMRのチャートを第2図に
、そしてIRスペクトルのチャー1・を第3図に示す。
実施例2 実施例1で使用した反応装置に4.5−ジクロルフタル
酸70.5g (0,3モル)と無水スルホラン200
 mlとトルエン30m1をいれ、165〜180℃で
1時間反応させた。
次いでトルエンを留去させると共に、予め用意したスプ
レードライ処理法により乾燥させたフッ化カリウム43
. 5g (0,75モル)を加え、20 mlのスル
ホランを留去させた。
さらに、反応系にテトラフェニルホスホニウムプロミド
6.3g加え、さらに170〜175℃で1時間反応さ
せ、次いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この炉液を減圧にして生成物とスルホランとを留去させ
た、ついてこの留出物に200m1のトルエンを加え、
アンモニアガスを1時間吹込むことにより結晶が析出し
た。
結晶を濾過し、トルエン洗浄後、真空乾燥し、4.5−
ジフルオロフタル酸アミド47gを得た。収率ニア8% 予め水400 mlにNaOH50gを溶解させた水酸
化ナトリウム水溶液を用意し、この水溶液に上記のよう
にして得られた4、5−ジフルオロフタル酸モノアミド
の結晶201g (1モル)を溶解させた。
次いで、反応容器内の温度が0〜3℃の範囲内になるよ
うに冷却しながら、有効塩素11.5%の次亜塩素酸ナ
トリウム340gをゆっくり添加した。添加終了後、反
応液の温度を0〜5℃に調整しながら1時間撹拌し、さ
らに90℃に昇温しで30分間撹拌した。
次いで、反応液を氷冷し、この反応液に35%塩酸をゆ
っくり滴下して反応液を酸性にすることにより結晶を析
出させた。
析出した結晶を濾別し、水洗後、真空乾燥して142g
の結晶を得た。得られた結晶をアセトン−水混合液から
再結晶し、分析した結果、この結晶は4,5−ジフルオ
ロアントラニル酸であった。融点:175〜177℃、
収率:82% 実施例3 実施例1で使用した反応装置に4.5−ジクロルフタル
酸235g(1モル)と無水スルホラン500 mlと
トルエン100 mlとをいれ、165〜175℃で2
時間還流させた。
次いで、この反応液に、予め用意したスプレードライ処
理法により乾燥させたフッ化カリウム145g (2,
5モル)およびテトラフェニルホスホニウムプロミド2
1gを加え。さらに169℃で1.5時間還流させ、次
いで室温まで冷却した後、不溶分を濾過した。
この炉液を減圧にして生成物とスルホランとを留去させ
た、ついてこの留出物に200 mlのトルエンを加え
、アンモニアガスを1時間吹込むことにより結晶が析出
した。
結晶を濾過し、トルエン洗浄後、真空乾燥し、4.5−
ジフルオロフタル酸アミド170gを得た。
収率:8596 予め水400 mlにNaOH50gを溶解させた水酸
化ナトリウム水溶液を用意し、この水溶液に上記のよう
にして得られた4、5−ジフルオロフタル酸モノアミド
の結晶161g (0,8モル)を溶解させた。
次いで、反応容器内の温度が0〜3℃の範囲内になるよ
うに冷却しながら、有効塩素12.1%の次亜塩素酸ナ
トリウム246gをゆっくり添加した。添加終了後、反
応液の温度を0〜5℃に調整しながら1時間撹拌し、さ
らに90℃に昇温しで30分間撹拌した。
次いで、反応液を水冷し、この反応液に35%塩酸をゆ
っくり滴下して反応液を酸性にすることにより結晶を析
出させた。
析出した結晶を濾別し、水洗後、真空乾燥して122g
の結晶を得た。得られた結晶をアセトン−水混合液から
再結晶し、分析した結果、この結晶は4.5−ジフルオ
ロアントラニル酸であった。融点:175〜177℃、
収率:88% 実施例4 4.5−ジクロロフタル酸400g (1,7モル)と
トルエン4gとを5gの三ロフラスコに仕込み、濃硫酸
10gを加え加熱して共沸脱水した。水が出なくなるま
で脱水すると固形物は完全に溶解した。
次いで反応液を90℃まで冷却し、この反応液にアニリ
ン16.3g (1,75モル)を滴下することにより
、結晶が析出した。
反応液を室温まで冷却して析出した結晶を濾取した。収
量は520gである。
上記結晶467gとスルホラン2.5gとを三ロフラス
コに仕込み、170℃で30分間撹拌した。
その後、スルホランを減圧にて250 ml留出させた
次いで反応液を120℃まで冷却した。この反応液の一
部を取り、4倍量の水に注ぎ、3回水洗し、乾燥させる
ことにより、N−フェニル−4,5−ジクロルフタルイ
ミドを得た。
次いで上記の反応系にスプレードライ処理法で乾燥させ
たフッ化カリウム218g(3,76モル)を投入する
と共に、スルホラン250 mlを留出させた。
そして、この反応系にテトラフェニルホスホニウムプロ
ミド31.5g (0,07モル)を加え、200〜2
05℃で6時間反応させた。
反応終了後、反応液を冷却し、8gの水にあけ、結晶を
濾取し、洗浄後真空乾燥した。
得られた結晶をトルエンから再結晶させることにより、
N−フェニル4,5−ジフルオロフタルイミド334g
 (1,29モル)を得た。
上記のN−フェニル4,5−ジフルオロフタルイミド3
30g (1,27モル)を92%硫酸825gと共に
135℃で25時間加熱した。
反応生成物を200 mlのトルエンを用いて5回抽出
した。得られたトルエン抽出液を合わせ、このトルエン
溶液をこのトルエンの1/20の容量の水で洗浄し、次
いでトルエン層を濃縮した。
得られた濃縮物をトルエンから再結晶することにより、
193g (1,05モル)の4,5−ジフルオロフタ
ル酸無水物を得た。
得られた4、5−ジフルオロフタル酸無水物65g(0
,35モル)をトルエン400 mlに溶解し、このト
ルエン溶液中にアンモニアガスを2時間吹込んだ。
アンモニアガスを吹込むことにより析出した結晶を濾取
し、真空乾燥して、4.5−ジフルオロフタル酸モノア
ミド70g(0,348モル)を得た。
収率:99% 上記のようにして得られたモノアミド化合物100.5
sr (0,5モル)を、NaOH50gおよび水40
0 mlからなる水酸化ナトリウム水溶液中に溶解し、
液温が0〜3℃の範囲内になるように冷却しながら次亜
塩素酸ナトリウム(有効塩素含有率:12%)90gを
ゆっくり加えた。
さらに次亜塩素酸ナトリウムを加え終わった後、反応溶
液の温度を0〜5℃に調整しながら1時間撹拌し、次い
で反応液の温度を90℃に昇温しでさらに30分間撹拌
した。
次いで、反応液を水冷しながら35%塩酸をゆっくり滴
下して反応液を酸性にすることにより、結晶が析出した
析出した結晶を、濾取し、水洗した後、真空乾燥するこ
とにより31.1g (0,35モル)の4.5−ジフ
ルオロアントラニル酸粗結晶を得た。
得られた結晶をアセトン−水混合溶液から再結晶して分
析を行ったところ、実施例1で得られた化合物と同様の
結果を示した。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に係るジフルオロアントラニル酸のマ
ススペクトルのチャートである。 第2図は、本発明に係るジフルオロアントラニル酸の 
1H−NMRスペクトルのチャートである。 第3−1図および第3−2図は、本発明に係るジフルオ
ロアントラニル酸の19F−NMRスペクトルのチャー
トである。 第4図は、本発明に係るジフルオロアントラニル酸のI
Rスペクトルのチャートである。 第5図は、4.5−ジフルオロフタル酸無水物のIRス
ペクトルのチャートである。 第6図は、4,5−ジフルオロフタル酸無水物のマスス
ペクトルのチャートである。 第7図は、4.5−ジフルオロフタル酸モノアミドの1
9F−NMRのチャートである。 第8図は、4.5−ジフルオロフタル酸モノアミドのI
Rスペクトルのチャートである。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)次式で表されるジフルオロアントラニル酸。 ▲数式、化学式、表等があります▼
  2. (2)4,5−ジフルオロフタル酸無水物とアンモニア
    とを接触させて4,5−ジフルオロフタル酸モノアミド
    を生成させ、次いで該4,5−ジフルオロフタル酸モノ
    アミドと次亜ハロゲン酸のアルカリ金属塩とを接触させ
    ることを特徴とする次式で表されるジフルオロアントラ
    ニル酸の製造方法。 ▲数式、化学式、表等があります▼
  3. (3)4,5−ジクロルフタル酸無水物とアルカリ金属
    フッ化物との反応により4,5−ジフルオロフタル酸無
    水物を生成させることを特徴とする請求項第2項記載の
    ジフルオロアントラニル酸の製造方法。
JP22572988A 1988-09-08 1988-09-08 ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法 Pending JPH0273044A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22572988A JPH0273044A (ja) 1988-09-08 1988-09-08 ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22572988A JPH0273044A (ja) 1988-09-08 1988-09-08 ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0273044A true JPH0273044A (ja) 1990-03-13

Family

ID=16833908

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22572988A Pending JPH0273044A (ja) 1988-09-08 1988-09-08 ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0273044A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5116721A (en) * 1989-09-07 1992-05-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming a color image by high-speed development processing

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5116721A (en) * 1989-09-07 1992-05-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of forming a color image by high-speed development processing

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4769493A (en) Process for producing tetrafluorophthalic acid
JPS5922711B2 (ja) ベンゾオキサゾリノン誘導体の製造法
JPH0273044A (ja) ジフルオロアントラニル酸およびその製造方法
EP0259663B1 (en) Process for producing tetrafluorophihalic acid
JPS5949221B2 (ja) 3−アシルアミノ−4−ホモイソツイスタンの製造法
JPS597699B2 (ja) インドリン類の製造方法
JPH0276872A (ja) 4,5−ジフルオロフタル酸無水物の製造方法
JP3262369B2 (ja) N’−置換n−アミノ−3,4,5,6−テトラフルオロフタルイミドおよびその製造方法
JPS6261966A (ja) プロピオンアミジン誘導体類及びそれらの製造方法
JPS6317850A (ja) 3−フエノキシカテコ−ル類の製造方法
JPH0140833B2 (ja)
JPS63211280A (ja) 2−(4−チアゾリル)ベンツイミダゾ−ルの製造法
JP2706554B2 (ja) 4―トリフルオロメチルアニリン誘導体及びその製造法
US4621154A (en) Process for preparing 4-(4-biphenylyl)-4-oxo-butanoic acid
JPH01117849A (ja) 2,6‐ジハロアニリン誘導体の製造方法
JPS5912098B2 (ja) パラパ−フルオロアルケニルオキシ安息香酸およびそのアルカリ金属塩の製造方法
US4235819A (en) Process for isolating 1-(alkoxyphenyl)-5-(phenyl)biguanide compounds from a crude, acid reaction mixture thereof
JPS6127961A (ja) N−置換フタルイミドの製造方法
JP2864653B2 (ja) 2―ヒドロキシニコチン酸誘導体の製造方法
HU191186B (en) Process for producing sulfonamide derivatives of phenoxy-benzoic acid
JPH0128013B2 (ja)
JPH02268141A (ja) 芳香族アミン類の製法
JPS59163370A (ja) O−(アミノメチル)フエニル酢酸ラクタムの製造方法
KR20010005843A (ko) 2,6-디클로로-5-플루오로니코티노니트릴의 제조 방법 및 화합물 3-시아노-2-히드록시-5-플루오로피리드-6-온- 일나트륨염과 그의 토토머
JPS604171B2 (ja) 新規な2−アニリノピリジン−3−酢酸誘導体の製造法