JPH02764B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH02764B2 JPH02764B2 JP55035534A JP3553480A JPH02764B2 JP H02764 B2 JPH02764 B2 JP H02764B2 JP 55035534 A JP55035534 A JP 55035534A JP 3553480 A JP3553480 A JP 3553480A JP H02764 B2 JPH02764 B2 JP H02764B2
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- JP
- Japan
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- gap length
- groove
- gap
- wafers
- magnetic
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/23—Gap features
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気ヘツドの製造方法に関し、特に大
きなギヤツプ長を必要とする記録専用ヘツドに用
いて好適な磁気ヘツドの製造方法に関する。
きなギヤツプ長を必要とする記録専用ヘツドに用
いて好適な磁気ヘツドの製造方法に関する。
従来、磁気記録再生装置、特にビデオテープレ
コーダにおいては高周波記録再生のために磁気ヘ
ツドを0.5μ以下にする必要があり、このため所望
のギヤツプ長の膜をCVD法、スパツター法等で
付着させ、浸透法、圧着法等でガラス溶着を行な
いギヤツプを形成していた。
コーダにおいては高周波記録再生のために磁気ヘ
ツドを0.5μ以下にする必要があり、このため所望
のギヤツプ長の膜をCVD法、スパツター法等で
付着させ、浸透法、圧着法等でガラス溶着を行な
いギヤツプを形成していた。
しかし、近年メタルテープ等の高抗磁力磁気テ
ープが用いられるに至つて、従来のギヤツプ長の
小さい記録、再生兼用磁気ヘツドでは磁気的に飽
和が生じて十分対応することができなくなつてき
た。そこで記録用と再生用で磁気ヘツドを別体と
して、記録用ヘツドはギヤツプ長を大きくし、再
生用ヘツドは従来と同様に小さいギヤツプ長とす
る方法が提案されている。この際に、記録用ヘツ
ドのギヤツプ長を2μ以上に形成する場合、従来
のCVD法やスパツター法等では膜が付着せず、
また付着しても密着性が不十分であつた。このた
めホトエツチング法によりギヤツプを形成する方
法が考えられる。このホトエツチング法によれば
ギヤツプ長が比較的小さい場合は精度良くギヤツ
プを形成できるが、2μ以上の大きいギヤツプの
場合は精度良く形成することが困難である。
ープが用いられるに至つて、従来のギヤツプ長の
小さい記録、再生兼用磁気ヘツドでは磁気的に飽
和が生じて十分対応することができなくなつてき
た。そこで記録用と再生用で磁気ヘツドを別体と
して、記録用ヘツドはギヤツプ長を大きくし、再
生用ヘツドは従来と同様に小さいギヤツプ長とす
る方法が提案されている。この際に、記録用ヘツ
ドのギヤツプ長を2μ以上に形成する場合、従来
のCVD法やスパツター法等では膜が付着せず、
また付着しても密着性が不十分であつた。このた
めホトエツチング法によりギヤツプを形成する方
法が考えられる。このホトエツチング法によれば
ギヤツプ長が比較的小さい場合は精度良くギヤツ
プを形成できるが、2μ以上の大きいギヤツプの
場合は精度良く形成することが困難である。
本発明は上述の点に鑑みなされたもので、ホト
エツチング法で予め所望のギヤツプ長より若干小
さい値の溝を形成し、その後所望のギヤツプ長と
なるようにCVD法、スパツター法等でSiO2被膜
等を付着せしめ、ギヤツプ長が比較的大きいギヤ
ツプを精度良く形成する磁気ヘツドの製造方法を
提供するものである。
エツチング法で予め所望のギヤツプ長より若干小
さい値の溝を形成し、その後所望のギヤツプ長と
なるようにCVD法、スパツター法等でSiO2被膜
等を付着せしめ、ギヤツプ長が比較的大きいギヤ
ツプを精度良く形成する磁気ヘツドの製造方法を
提供するものである。
以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を説
明する。第１図イ，ロは一対のフエライトウエハ
のそれぞれ斜視図、第２図〜第６図はそれぞれ磁
気ヘツドの製造工程を示す斜視図、第７図はヘツ
ドチツプの斜視図である。
明する。第１図イ，ロは一対のフエライトウエハ
のそれぞれ斜視図、第２図〜第６図はそれぞれ磁
気ヘツドの製造工程を示す斜視図、第７図はヘツ
ドチツプの斜視図である。
本発明の磁気ヘツドの製造方法を説明すると、
まず第１図イ，ロに図示するような一対のフエラ
イトウエハ１，２の表面を鏡面研磨した後、第２
図に図示する如く一方のウエハ２の表面に後にギ
ヤツプとなる部分にホトエツチング法によつて所
望のギヤツプ長よりわずかに少ない値（例えば所
望ギヤツプ長を2.6μとすると2μ程度）の深さt1の
ギヤツプ長規定溝３を加工する。次に第３図イ，
ロ及び同図ロの部分拡大図である同図ハに図示す
る如く溝加工したウエハ２と溝加工しないウエハ
１の両表面に非磁性体膜（SiO2等）４を、両ウ
エハの膜厚を加算した値t2が所望のギヤツプ長
（2.6μ）よりギヤツプ長規定溝３の深さの値（2μ）
を引いた値（0.6μ）となるように付着させる（例
えば両ウエハに0.3μづつ付着）。この非磁性体膜
の付着は従来のCVD法、スパツター法等により
行なう。この際、ホトエツチング法により得たギ
ヤツプ長規定溝の深さ2μ以上にもなるとあまり
精度がでないので、溝加工の後に溝の深さを計測
した残りの値を膜厚とする。
まず第１図イ，ロに図示するような一対のフエラ
イトウエハ１，２の表面を鏡面研磨した後、第２
図に図示する如く一方のウエハ２の表面に後にギ
ヤツプとなる部分にホトエツチング法によつて所
望のギヤツプ長よりわずかに少ない値（例えば所
望ギヤツプ長を2.6μとすると2μ程度）の深さt1の
ギヤツプ長規定溝３を加工する。次に第３図イ，
ロ及び同図ロの部分拡大図である同図ハに図示す
る如く溝加工したウエハ２と溝加工しないウエハ
１の両表面に非磁性体膜（SiO2等）４を、両ウ
エハの膜厚を加算した値t2が所望のギヤツプ長
（2.6μ）よりギヤツプ長規定溝３の深さの値（2μ）
を引いた値（0.6μ）となるように付着させる（例
えば両ウエハに0.3μづつ付着）。この非磁性体膜
の付着は従来のCVD法、スパツター法等により
行なう。この際、ホトエツチング法により得たギ
ヤツプ長規定溝の深さ2μ以上にもなるとあまり
精度がでないので、溝加工の後に溝の深さを計測
した残りの値を膜厚とする。
斯る非磁性体膜付着後、第４図イ，ロに図示す
る如く一方のウエハ２に前記ギヤツプ長規定溝３
に直交してトラツク巾規定溝５を加工し、更に他
方のウエハ１に巻線溝６、結合材充填溝７及びこ
れらに直交するトラツク巾規定溝５を加工する。
る如く一方のウエハ２に前記ギヤツプ長規定溝３
に直交してトラツク巾規定溝５を加工し、更に他
方のウエハ１に巻線溝６、結合材充填溝７及びこ
れらに直交するトラツク巾規定溝５を加工する。
そして両ウエハ１，２を衝き合わせてガラス９
溶着した後、第５図及び第６図の点線に図示する
如くスライシング、Ｒ付け研磨を行つて第７図に
図示するヘツドチツプ８を得る。
溶着した後、第５図及び第６図の点線に図示する
如くスライシング、Ｒ付け研磨を行つて第７図に
図示するヘツドチツプ８を得る。
上述のように本発明に依ればホトエツチング法
及びCVD法、スパツター法等の膜付着法を併用
するため比較的ギヤツプ長の大きい磁気ヘツドの
ギヤツプを精度良くかつ密着性良く形成すること
ができるので、メタルテープ等の高抗磁力テープ
に充分対応できるギヤツプ長の大きい磁気ヘツド
を得ることができる。
及びCVD法、スパツター法等の膜付着法を併用
するため比較的ギヤツプ長の大きい磁気ヘツドの
ギヤツプを精度良くかつ密着性良く形成すること
ができるので、メタルテープ等の高抗磁力テープ
に充分対応できるギヤツプ長の大きい磁気ヘツド
を得ることができる。
図面はいずれも本発明の一実施例を示すもので
あり、第１図イ，ロは一対のフエライトウエハの
それぞれ斜視図、第２図、第３図、第４図、第５
図及び第６図は磁気ヘツドの製造工程を表わすそ
れぞれ斜視図、第７図はヘツドチツプの斜視図で
ある。 主な図番の説明、１，２……一対のウエハ、３
……ギヤツプ長規定溝、４……非磁性体膜。
あり、第１図イ，ロは一対のフエライトウエハの
それぞれ斜視図、第２図、第３図、第４図、第５
図及び第６図は磁気ヘツドの製造工程を表わすそ
れぞれ斜視図、第７図はヘツドチツプの斜視図で
ある。 主な図番の説明、１，２……一対のウエハ、３
……ギヤツプ長規定溝、４……非磁性体膜。
Claims (1)
- １ 一対のウエハの一方のウエハ表面上のギヤツ
プとなる部分に所望のギヤツプ長よりわずかに値
の小さい深さt1の溝を形成し、前記一対のウエハ
の一方若しくは両方の表面上に両ウエハの膜厚の
合計がt2の非磁性体被膜を付着した後、前記両ウ
エハを衝合し前記溝に非磁性材料を充填して所望
のギヤツプ長t1＋t2のギヤツプを形成することを
特徴とする磁気ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3553480A JPS56130814A (en) | 1980-03-18 | 1980-03-18 | Manufacture for magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3553480A JPS56130814A (en) | 1980-03-18 | 1980-03-18 | Manufacture for magnetic head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56130814A JPS56130814A (en) | 1981-10-14 |
| JPH02764B2 true JPH02764B2 (ja) | 1990-01-09 |
Family
ID=12444394
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3553480A Granted JPS56130814A (en) | 1980-03-18 | 1980-03-18 | Manufacture for magnetic head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56130814A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5968912U (ja) * | 1982-11-02 | 1984-05-10 | 株式会社新潟鐵工所 | コンクリ−トミキサ車の汚水収容装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5677915A (en) * | 1979-11-27 | 1981-06-26 | Toshiba Corp | Production of magnetic head |
-
1980
- 1980-03-18 JP JP3553480A patent/JPS56130814A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5677915A (en) * | 1979-11-27 | 1981-06-26 | Toshiba Corp | Production of magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56130814A (en) | 1981-10-14 |
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