JPH027466A - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH027466A
JPH027466A JP63157339A JP15733988A JPH027466A JP H027466 A JPH027466 A JP H027466A JP 63157339 A JP63157339 A JP 63157339A JP 15733988 A JP15733988 A JP 15733988A JP H027466 A JPH027466 A JP H027466A
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JP
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JP63157339A
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English (en)
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Susumu Kurosawa
晋 黒澤
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NEC Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/10Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a repetitive configuration
    • H01L27/118Masterslice integrated circuits

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  • Logic Circuits (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路装置に関し、特に超高速動作と
低消費電力動作を両立させた、超高速度、超高集積密度
の半導体集積回路装置に関する。
〔従来の技術〕
論理半導体集積回路装置や、メモリ、アナログ部分等を
含む半導体集積回路装置(以下LSIという)の論理部
分は、インバータ、NANDゲート、NORゲート、あ
るいはフリップフロップ回路等のように、1ゲ一ト回路
から数10ゲート回路規模の論理的にまとまりのある機
能セルの集合とみなすことができる。よって論理LSI
を設計することは、所望の機能を満足するようにこれら
ゲート回路や機能セルをチップ上に配置し相互接続する
ことと言える。実際には、これらの作業を人手で行なう
ことは無理であり、通常ゲートアレイ方式やスタンダー
ドセル方式などのように、電子計算機を用いた自動化の
進めやすい手法が用いられている。また、論理設計や配
置・配線設計等各設計段階において、設計を容易にする
ために全体をいくつかの機能ブロックに分割することが
ある。
ところで、ゲート回路や機能セルには、論理処理の働き
と同時に負荷容量駆動の働きも持たせなければならない
。負荷容量は出力に接続される次段のゲート回路の入力
容量と配線容量とから成っており、次段のゲート回路数
(ファンアウト数)と次段のゲート回路までの配線長に
よって大きく異なる。
ゲート回路あるいは機能セルの遅延時間は、この負荷容
量とゲート回路あるいは機能セルの電流駆動能力で決ま
るので、厳密には負荷容量に応じて各ゲート回路あるい
は機能セルの電流駆動能力には最適値が存在する。この
電流駆動能力とは、例えばECL回路の場合にはゲート
回路に流れている定電流源の電流値で決まり、0M03
回路の場合にはトランジスタのチャネル幅とチャネル長
の比で決まる。
しかし、各ゲート回路あるいは機能セルの電流駆動能力
を最適設計することは、正確な配線容量がLSIの設計
終了時でないとわからないことや非常に多くの設計時間
を要するなどのために現実的ではない。
そこで標準的な負荷状態を想定して、すべてのゲート回
路あるいは機能セルの電流駆動能力を設計しておく。例
えば、ゲートアレイ方式だとファンアウト数は3で、平
均配線長は3IIII11程度を想定する。ただし標準
的な負荷状態よりも非常に大きな負荷を駆動する場合に
は、ゲート回路や機能セルの電流駆動能力を上げたり、
特別なドライバー回路を接続したりする。
バイポーラトランジスタを使ったLSIでは、消費電力
性能を多少犠牲にしてもその電流駆動能力を生かして超
高速化が進められている。よく用いられているECL回
路では信号振幅が0゜4〜0.6V程度と小さいことも
あって、1ゲ一ト回路当たりの遅延時間は無負荷で10
0psec以下、標準的な負荷状態で200〜300p
sec程度が実現されており、数千ゲート回路の集積度
のゲートアレイ方式LSIが実用になっている。
FET素子、特に0M03回路を使ったLSIでは、素
子のスゲ−リングによる微細化で高速化が、また低消費
電力性を生かしてより一層の高集積化が進められている
。現在数子方トランジスタを用いたマイクロプロセッサ
や、数万ゲート回路の集積度のゲートアレイ方式やスタ
ンダードセル方式の論理LSIが実用になっている。
また、FET素子は電流駆動能力がバイポーラトランジ
スタと比較して劣るので、大容量負荷を高速に駆動する
のは困難である。
そこで0M03回路の低消費電力性とバイポーラトラン
ジスタの高電流駆動能力というそれぞれの長所を活かし
た複合回路であるB 1−CMOS回路が最近開発され
実用になっている。この回路では論理はCMOS回路で
行ない、負荷駆動をバイポーラトランジスタで行なう構
成となっている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが上述した従来の半導体集積回路装置(LS I
 )では、より一層の高速化と高集積化を追求していく
と、両者の要求を同時に満足させることが困難になると
いう欠点がある。また、ノイズマージンが低下したり、
設計時間の増大や経済性の悪化を来たすという欠点もあ
る。
即ち、バイポーラトランジスタを使ったLSIや、FE
T素子でもCMOS回路以外回路構成のLSIでは、回
路的に直流電流が流れてしまうので消費電力が小さくで
きず、消費電力の点で高集積化の限界が生じてしまう。
一方、消費電力を小さくするために直流電流を小さく設
計すると、1ゲ一ト回路当たりの遅延時間が大きくなっ
たり、論理回路のしきい値が変化してノイズマージンが
小さくなったりしてしまう。
また、従来のLSIでは、設計を容易にするために階層
設計やブロック分割は行なっていているものの、配線長
の考えに立った階層構造やブロック分割になっていない
ので、平均配線長は非常に長くなり、配線容量は非常に
大きくなる。この傾向はLSIの高集積化と共にチップ
が大きくなるとますます顕著になる。
FET素子を使ったLSIでは素子のスケーリングによ
り高速化と高集積化を進めているが、標準的な負荷容量
を小さくできないので電流駆動能力を大きくするなめに
トランジスタのチャネル幅を小さくできず、高集積化に
限界が生じてしまう。さらにトランジスタのチャネル幅
を大きくするとゲート回路あるいは機能セルの入力容量
が増大するなめ1ゲ一ト回路当たりの消費電力が増大し
、CMOS回路 Iといえども問題になってくる。
また平均配線長が長くなるとその分散値も大きくなるが
、正確な配線長は、LSIの設計終了時でないとわから
ないため、初期に見積もった負荷と大きく異なる場合に
は再設計しなければならない。これは設計のくり返しを
意味し、設計に多大な時間がかかってしまう。
CMOS回路において大容量負荷を高速に駆動するなめ
に、前述したようにB i−CMOS回路が実用になっ
ているが、FET素子と比較してバイポーラトランジス
タは平面方向の微細化が困難なためにゲートあるいは機
能セルの面積が非常に大きくなってしまう。そのためC
MOS回路で構成したゲート回路あるいは機能セルの並
びの中にランダムにバイポーラトランジスタの回路を配
置するのは困難になる。また一般にバイポーラトランジ
スタはFET素子と比較して結晶欠陥等に弱いため歩留
りが悪く数多くのバイポーラ1〜ランジスタを用いるこ
とは経済的に困難である。
本発明の目的は、高速化及び高集積化を両立させて向上
させることができ、かつノイズマージンの低下、設計時
間の増大及び経済性の悪化を除去することができる半導
体集積回路装置を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明の半導体集積回路装置は、それぞれMOSトラン
ジスタを備えて形成され所定の信号振幅で動作して所定
の論理処理を行う複数の論理ブロックと、バイポーラト
ランジスタ及びMOSトランジスタの少なくとも一方で
形成されて前記各論理ブロックの信号入力端にそれぞれ
設けられ、これら各論理ブロックの動作信号振幅より小
さい振幅の入力信号をこれら各論理ブロックの動作信号
振幅に変換して伝達する複数の入力信号レベル変換器と
、バイポーラトランジスタ及びMOSトランジスタの少
なくとも一方で形成されて前記各論理ブロックの信号出
力端にそれぞれ設けられ、これら各論理ブロックの出力
信号をこれら各論理ブロックの動作信号振幅より小さい
振幅に変換して出力する複数の出力信号レベル変換器と
を有している。
〔実施例〕
次に本発明の実施例について図面を参照して説明する。
第1図は本発明の第1の実施例を示すブロック図である
この実施例は、それぞれMOSトランジスタを備えて形
成され所定の信号振幅で動作して所定の論理処理を行う
複数の論理ブロック11A。
11aと、バイポーラトランジスタ及びMOSトランジ
スタの少なくとも一方で形成されて各論理ブロックII
A、IIBの信号入力端にそれぞれ設けられ、これら各
論理ブロック11A、IIBの動作信号振幅より小さい
振幅の入力信号IN1〜I Nn、  (OUTAI〜
OU T Affl)をこれら各論理ブロック11A、
IIBの動作信号振幅に変換して伝達(VAI)する複
数の入力信号レベル変換器12A、12Bと、バイポー
ラトランジスタ及びMOSトランジスタの少なくとも一
方で形成されて各論理ブロック11A’、IIBの出力
信号(V A□、VB□)をこれら各論理ブロック11
A。
11Bの動作信号振幅より小さい振幅に変換して出力(
OUTA1〜0UTAffi、oUT8.〜oUTn2
〉する複数の出力信号レベル変換器13A13aとを有
する構成となっている。なお、論理ブロックIIA、1
1Bと前後の入力レベル変換器12A、12B及び出力
信号レベル変換器13A、13Bとによりそれぞれ機能
ブロックLA、1Bを構成している。
次に、この実施例の動作について説明する。
第2図はこの実施例の動作を説明するための各部信号の
波形図である。
論理ブロック11A、11Bは主にMOSトランジスタ
で形成され、信号振幅はノイズマージンを確保するなめ
2.0Vに設定されている。
一方、機能ブロックLA、IB間及び入力信号IN、〜
INnの信号振幅は1.2Vとして論理ブロックIIA
、11B内の信号振幅より小さく設定されている。した
がって、入力信号レベル変換器12A、12Bは1.2
Vの信号振幅を2.0■に変換するように構成され、ま
た出力信号レベル変換器13A、13Bは2,0■の信
号振幅を1.2Vに変換して機能ブロックLA。
18間の長い配線を駆動できるように構成される。 論
理ブロック11^、11Bは特に低消費電力性に優れて
いる0M03回路で構成するのが望ましい。
論理ブロックIIA、IIB内の各論理ゲートにとって
駆動しなければならない負荷容量は主に次段の論理ゲー
トの入力容量と配線容量とである。この実施例の論理ブ
ロックIIA、IIBは、例えば−辺の長さを1 mm
程度とその幾可学的寸法を小さく設定することができる
ため、従来の半導体集積回路装置と比較すると平均配線
長および配線容量を1/10程度にすることができる。
よって負荷容量自体も小さくできるし、負荷容量に占め
る配線容量の割合−も小さくできるため、チャネル幅の
小さいMOSFETを用いても遅延時間の短い論理ゲー
トを構成することができる。さらにチャネル幅の小さい
M OS F E Tを用いることで1論理ゲート当た
りの消費電力を小さくすることができる。また負荷容量
を小さくできるなめに論理ブロックの電源電圧を下げて
トランジスタの駆動能力を下げても遅延時間の劣化はほ
とんどない。
第3図は入力信号レベル変換器12A、12Bの1信号
当りの具体的な回路の一例であり、通常のCMOSイン
バータで構成されている。MTIはPチャネルのMOS
FET、MT2はNチャネルのMOSFETである。
第2図に示された信号レベルから明らかなように、入力
信号INの高レベルが高電圧電源値O■より低いので、
電源供給端子間の直流貫通電流をおさえるためにPチャ
ネルのMOSFETMTIのしきい値電圧を−0,8V
程度に設定することが望ましい。またインバータの論理
しきい値電圧が入力信号レベルの中央付近になるように
PチャネルのMOSFETMTIとNチャネルのMOS
FETMT2のチャネル幅を調整することが望ましい。
第4図は出力信号レベル変換器13A、13Bの1信号
当りの具体的な回路の一例であり、MT3はPチャネル
のMOSFET−MT4はNチャネルのMOSFET、
BTIはNPN型のバイポータトランジスタ、MT5は
NチャネルのMOSFETである。
入力信号INが低レベルの時は、MOSFETMT3が
導通してバイポーラトランジスタBTIのベースに電流
を流し込み、このバイポーラトランジスタBTIが導通
することによって負荷側を充電する。この場合、バイポ
ーラトランジスタBT1のベース電位は高電圧電源値O
Vまで上昇するが出力端子であるバイポーラトランジス
タBT1のエミッタは−0,8V程度までしか上昇しな
い 入力信号INが高レベルの時はMOSFETMT5が導
通し、出力は低電圧電源値−2Vまで下がる。出力信号
レベル変換器13A、13nは機能ブロック(LA、1
B)間の長い配線を駆動する必要があるが、この回路で
は充電時はバイポーラトランジスタBTIが、放電時に
はチャネル幅を大きく設定したM OS F E T 
IVI T 5が駆動トランジスタとなり、信号振幅が
約1.2■と小さいためもあって高負荷容量を高速に駆
動することができる。
なおこの出力信号レベル変換器13A、13nは、論理
ブロック11A、11B内の論理ゲー′トと比較すると
一段当たりの面積は2〜3倍程度、消費電力は5〜20
倍程度になるが、その数は1/100程度になるため全
体に及ぼす影響は小さい。
第5図は本発明の第2の実施例の一例を示すブロック図
である。
この実施例は、入力信号レベル変換器12c。
論理ブロックllc及び出力信号レベル変換器13cの
電源電圧が異なる場合の例を示している。
この実施例において例えば電源電圧、VEEIを−3,
3V、電源電圧VEE2 、 Vp、23を−2,OV
とし、論理ブロックllc内の信号振幅を2゜OV9機
能ブロック間の信号振幅を0.4Vとした。
第6図は入力信号レベル変換器12cの1信号当りの具
体的な回路の一例であり、エミッタフォロアー回路とE
CL回路°とを組み合わせたものである。
C3I、C32は低電流源、V r e fは基準電圧
を示す。
出力信号OUTの振幅は定電流源C32の電流値と抵抗
R2の抵抗値で設定でき、出力信号OUTの振幅を2.
OV、電流値を100μAとした場合、抵抗R2は20
にΩとなる。この回路の場合、抵抗R1はなくてもよい
し、また定電流源C81の電流値は定電流源C32の電
流値とは独立に設定することができる。
第7図は出力信号レベル変換器13cの1信号当りの具
体的な回路の一例であり、0M03回路とバイポーラト
ランジスタとの複合回路で通常B i −0M03回路
と呼ばれている。
MT6はPチャネルのMOSFET、MT7〜MT9は
NチャネルのMOSFET、BTS  BT6はNPN
型のバイポーラトランジスタである。
入力信号INが低レベルの時はMOSFETMT6が導
通してバイポーラトランジスタBT5のベースに電流を
流し込み、バイポーラトランジスタBT5が導通するこ
とによって負荷側を充電する。この場合、バイポーラト
ランジスタBT5のベース電位は高電圧電源値0■まで
上昇するが、出力端子であるバイポーラトランジスタB
T5のエミッタは−0,8V程度までしか上昇しない。
入力信号INが高レベルの時はMOSFETM1゛8が
導通してバイポーラトランジスタBT6のベースに電流
を流し込み、バイポーラトランジスタBT6が導通する
ことによって負荷側が放電される。この場合、バイポー
ラトランジスタBT6のベース電位と出力端子の電位と
はほぼ同じになり、−,1,2V程度まで下がるとバイ
ポーラトランジスタBT6及びMOSFETMT9とが
非導通状態となってそれ以上は下がらない。
第8図は出力信号レベル変換器13゜の他の例であり、
MTIOはPチャネルのMOSFET、MTIIはNチ
ャネルのMOSFET、BT7はNPN型のバイポーラ
トランジスタ、BTSはPNP型のバイポーラトランジ
スタである。
入力信号INが低レベルの時、MOSFET10が導通
してバイポーラトランジスタBT7のベースに電流を流
し込み、バイポーラトランジスタBT7が導通すること
によって負荷側を充電する。バイポーラトランジスタB
T7のベース電位は高電圧電源値oVまで上昇するが、
出力端子であるバイポーラI・ランジスタB ’I’ 
7のエミッタ電位は−0,8V程度までしか上昇しない
入力信号INが高レベルの時、MO3FETM1゛11
が導通してバイポーラトランジスタBTgのベースから
電流を引き抜き、バイポーラトランジスタBT8が導通
することによって負荷側が放電される。この時バイポー
ラトランジスタBT8のベース電位は低電圧電源(fi
−2,OVまで低下するが、出力端子であるバイポーラ
トランジスタBT8のエミッタ電位は−1,2V程度ま
でしが低下しない。
また異なる電源電圧VEEI〜V E、3は半導体集積
回路装置の外がら供給することもできるし、第9図に示
すように、半導体集積回路装置内に定電圧発生回路2を
備えてここから供給することもできる。
これら実施例において、論理ブロック11A〜11cの
動作信号振幅が2.0V、機能ブロックLA、IC間の
信号振幅が1.2V、0.4Vの場合について説明した
が、これらに限らず他の信号振幅値であってもよい。ま
た電源電圧についても同様である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、各論理ブロックの入力端
及び出力端にそれぞれ信号レベル変換器を設けて小面積
の複数の機能ブロックを形成し、これら機能ブロック間
の信号振幅を各論理ブロックの動作信号振幅より小さく
して伝達する構成とすることにより、ノイズマージンの
低下、設計時間の増大及び経済性の悪化がなく、高速化
と高集積化とを両立させて向上させることができる効果
がある。
つまり、上述した機能ブロックの幾何学的寸法を小さく
設定することができるなめに、機能ブロック内の平均配
線長およびその分散値を従来の半導体集積回路装置と比
較すると1/10程度にすることができる。
その結果、各論理ブロック内では、負荷容量が小さくで
きるためにチャネル幅の小さいトランジスタも用いても
高速な論理ゲートが実現でき、また消費電力および面積
の両面から高集積化が実現できる。しかも、信号振幅が
大きいので、ノイズマージンを確保することができる。
さらに機能ブロック内の配線長の分散値が小さいために
、設計初期に見積もった配線容量と実際の配線容量との
誤差が小さくなるので再設計の可能性がなくなる。
一方、配線長が長くなる機能ブロック間においても、信
号振幅を小さくすることで高速化と低消費電力化が、ま
た信号レベル変換器では多少複雑でも駆動能力の優れた
素子及び回路を用いることで高速化が実現できる。この
信号レベル変換器の数は論理ゲート数の1/100程度
にできるため、面積、消費電力及び歩留りによる経済性
等が全体に及ぼす影響は小さいものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例を示すブロック図、第2
111は第1図に示された実施例の動作を説明するため
の各部信号の波形図、第3図及び第4図はそれぞれ第1
図に示された実施例の入力レベル変換器及び出力信号レ
ベル変換器の1信号当りの具体的な回路の一例を示す回
路図、第5図は本発明の第2の実施例を示すブロック図
、第6図及び第7図、第8図はそれぞれ第5図に示され
た実施例の入力信号レベル変換器及び出力信号レベル変
換器の1信号当りの具体的な回路の一例を示す回路図、
第9図は本発明の第3の実施例を示すブロック図である
。 ■A〜1c・・・機能ブロック、2・・・定電圧発生回
路、11A〜llc・・・論理ブロック、12A〜12
c・・・入力信号レベル変換器、13A〜13c・・・
出力信号レベル変換器、BTI〜BT8・・・バイポー
ラトランジスタ、C3I、C32・・・定電流源、MT
I〜MTII・・・MOSFET、R1゜R2、・・・
抵抗。 タフ図 り 6図 37図 メど因 瀝3図 課4園 厖6因 」劉

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. それぞれMOSトランジスタを備えて形成され所定の信
    号振幅で動作して所定の論理処理を行う複数の論理ブロ
    ックと、バイポーラトランジスタ及びMOSトランジス
    タの少なくとも一方で形成されて前記各論理ブロックの
    信号入力端にそれぞれ設けられ、これら各論理ブロック
    の動作信号振幅より小さい振幅の入力信号をこれら各論
    理ブロックの動作信号振幅に変換して伝達する複数の入
    力信号レベル変換器と、バイポーラトランジスタ及びM
    OSトランジスタの少なくとも一方で形成されて前記各
    論理ブロックの信号出力端にそれぞれ設けられ、これら
    各論理ブロックの出力信号をこれら各論理ブロックの動
    作信号振幅より小さい振幅に変換して出力する複数の出
    力信号レベル変換器とを有することを特徴とする半導体
    集積回路装置。
JP63157339A 1988-06-24 1988-06-24 半導体集積回路装置 Pending JPH027466A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7224186B2 (en) 2004-02-19 2007-05-29 Elpida Memory Inc. Semiconductor circuit device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7224186B2 (en) 2004-02-19 2007-05-29 Elpida Memory Inc. Semiconductor circuit device

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