JPH026957A - 耐引掻性凹刻印刷組版製造のための光感受性記録材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 不発明は、光重合性および／″！Ｅたは光架橋性の層が
、高い耐以粍性と優れた耐引掻性を有する凹刻印刷組版
製造に姻していることとなる上記の層を有する光感受性
記録材料に係るものである。

（従来技術ならびに発明が解決しようとする問題点）凹
刻印刷は、非常に高い発行部故に際しても優れた印刷特
性を与える印刷方法である。発行部数は、印刷物によっ
て違うが、５０００００と５００００００回輛転機回数
となる。印刷組版の利用性は、彫版型皿を有する層の欠
落または表面の引掻傷が微小口所となりて色料をためる
ことになることで、制限される。

凹刻印刷においては、現在圧倒的に銅幅耘鴎（銅シリン
ダー）が使われており、この銅シリングーカ薄いクロー
ム層で塗被されている。このクローム層には彫版型皿（
微小四所）があり、この彫版型皿が伝写すぺぎ色料（染
・九料）を受は取って後で印刷物に移すことになる。ク
ローム表向上の彫版型皿を充満した後で残っている過剰
の色料は、版面掻除器で除かれる。不来の印刷において
は、色料が反対圧シリンダーの利用の下で印刷物に移さ
れる。

現在利用されている方法では、彫版型皿がシリンダー表
面に１６いてグラビア法でイハ正される。この方法は、
制動で装置＊！ｓＬ賃に集子されて、時間がかかる。こ
のために、凹刻印、詞には、１だプラスチック表面の利
用が提藁されている。

かくして、西独特許Ｄ　Ｈ−Ａ　２７５２５００号にお
いては、プラスチック表面層を有する凹刻印刷組版の利
用が奨められており、印刷組版担体をプラスチックで被
損してこのプラスチック層に、色料を取り入れる探さで
機械彫刻されて版ができる。

この際に、彫刻物性の改良のためには、このプラスチッ
ク１１が０．０１から１０μｍまでの粒径の粉末状無機
充填剤を含有することができる。この凹刻印刷組版の表
面上の引掻傷およびゝみぞ′を避けるためには、この除
に、通常用いられる鉄鋼製ドクターの代りにプラスチッ
クドクターが用いられねばならない。このようにして製
造される凸刻印刷組版で到達できる印刷回数の大きさは
、しかしながら、約５００００回の輪転機回数であって
、商業的に興味ある代替品としては尚満足できるもので
はない。また、この方法での凹刻印刷組版はプラスチッ
ク表面の機械的彫刻を必要とするので、相変らすコスト
高となる。

更に、印刷層形成材料として光重合性材料を使ったプラ
スチック印刷層を有する凹刻印刷組版を製造することは
、既に公知である。この際に、印刷層表面で色料を取り
入れる凹みは、凸版およびフレキソ印刷板を光重合性層
の画像形成総光とそれに絖（非露光部分の洗去によって
製造するのと同僚に、製造されることができる。光重合
性システムを基礎にして凹刻印刷組版を製造する方法は
、と９わけ、西独特許Ｄ　Ｅ−Ａ　−２０５４８３３、
Ｄｇ−Ａ　−２０６１２８７、同じく日不特許公翔４１
３６１／７２に開示されている。これらの凹刻印刷組版
は、一般的に、光重合性凸版板の裂造忙用いられるのと
同様か、または似ている光重合性システムに基づいてい
る。

これらの光重合性システムの採用が、確かに比牧的迅迷
な、曲率でかつ有効な凹刻印刷Ｍｉ版の経済的なＸＡ造
方法を許すことができたが、このようにして装置された
凹刻印刷組版は実用試験において十分に耐摩耗性であり
耐引掻性であるとはならなかった。凸刻印刷で普通に使
われる鉄鋼製ドクターは、印ふβ」機械中の迎え鉤止の
プラスチック印に６１」鳩に障害な与えることなしで使
えることはできない。更に、鉄鋼製ドクターは、鋭利な
俊、穴、尖端等によって屡々プラスチック表面に引掻傷
を生成させ、プラスチック層の摩耗ｌＣ著しく作用する
。ブた西独特許Ｄ　Ｅ−Ａ　−２７５２５００号に従っ
てグラスチックドクターに代えることによっても、必然
四に厚いプラスチックドクターになり非常に高い押し付
は圧を必要とするので強い摩耗を受けることになるため
に、本質的には改良された結果にならない。矢って、こ
の凹刻印刷組版でも筐だ、凹刻印刷の印刷回数は最大眼
でも５ｏｏｏｏ回に到達するだけである。

同じく、記録材料の光重合性層を凸版印刷板、フォトレ
ジスト、レリーフ１ＭＩＩ像およびオフセット板等の製
造に好鐘に使用することかでさ、微粉末の無機性充填剤
を加えることができることか、既に知られている。この
充填剤添加は、光墳削として伎豆つか、またはつや消し
仕上げされたざらざらの表面を・得るために使われる（
回照、待に西独特許Ｄ　ｌ；−Ａ　−２４０３４８７号
およびｏ　ｗ　−Ａ　−２９２６２３６号）。米国特許
ｔＪ　８−）’　８３７８２９３９号では、フォトレジ
ストの製造剤の活性化に作用する光悠受性素子に無機物
質か加えられることがでさ、この無機物質が加は機械物
性、例えはまた耐Ｆ＠耗性を改良するのに役立つことか
開示されている。しかしながら、表面のざらざらするこ
とは、フォトレジスト材料では無意味である。これに対
して、凹刻印刷組版の表面では、唯単に摩耗抵抗性かｇ
１！釆されΦたけでなく特に平滑性、均一性および１み
ぞ“のないことが要求されるが、これまでは光穐合性記
録材料への微粉末無機充填剤の添加は、長いこと凹刻印
刷仮０５Ｍ、造［け不適当で欠点があるとみもれていた
。

ヨーロッパ特許ｔ　Ｐ−Ａ　−００７０５１１号におい
ては、摩耗抵り′Ｌ注および引掻傷抵抗性の凹刻印刷組
版製造用の光１し受性記録材料と、同じ（この記録材料
による凹刻印刷組版の製造法が開示されてＳす、ここで
初めて従来１ス用されている餉−クロ・−ムシリンダ−
に血き換えることので２！るプラスチック表面のシリン
ダーを多発性部数に゛まで到達できるようにｂ刻印刷で
利用できることか開示されている。これは、特殊な充填
剤の添加によりて、光架橋性および／または光■合性材
料が摩耗抵抗性で引掻（謳抵抗性になることを１能にし
ているものである。

実用試映の住過において、ヨーロッパ甘ｗｗＰ−Ａ−０
０７０５１１で開示された凹刻印刷組版は、その引掻傷
抵抗性において未だ改良されなければならないことが示
された。

（発明の目的ならびに問題点を解決するための手段）本
発明の使命は、ヨーロッパ特許Ｈ：Ｐ−Ａ−００７０５
Ｘ１号で凹刻印刷組版として利用−ｉるた♂／、）に開
示されている記録材料を、更に改良された引掻傷抵抗性
を与えて、これによって到達できる発行部数を史に上昇
するように改良することである。

思いがけない発見であったが、脂環族エポキシドからの
２官能性アクリレートおよび／ブたはメタクリレートを
ポリビニルアルコール筐たはポリアミドとの化合物の形
で光重合性および／または光架橋性層になるように利用
して、面１鯨形成するように露光し、洗浄し、乾珈して
から凌露光することで凹刻印刷組版として利用できる門
刻板を得たが、これは不質的に高い引掻傷抵抗性を与え
ている。

（発明の構成） 前述の不発明の対象は、寸法！定性の８・）る担体上に
塗られた３０乃至５００ミクロン（μＦ１１）厚さの塗
工層を有する凹刻印刷組版造のための光感受性記録材料
であり、この塗工層（Ｓ）が現像液中に溶解するかまた
は分散可能であ・りて、化学線光で照射すること忙より
、この現像液中に小浴性となるか、または分散できなく
なる光重合性および／筐たは光架橋性材料であり、この
光重合性および／または光架橋性材料が上紀黴エノ（至
）（Ｓ）表面の少なくとも表面域の１乃至５０μｍを格
尿、し、この値上鳩が印刷組版の最終の表面となってい
て微粒子のω１摩削性粒子をこの粒子を含む光重合性お
よび／′！！たは光架橋性材料の２乃至５０電量％にな
るように含み、この際の研ｉｇ剤性粒子の平均粒径が０
．１乃至６μｍの範囲にあり、この研１―剤性粒子の最
高でも５％が１０μｍを超過するだけのく、のであり、
この研摩剤性粒子の硬度がモース硬さで４，０より高い
？ｉ！Ｉ！度を有し、塗工層（ＳＪの表面が印刷組版の
Ｊぐ終の表面をなしていて、この最終表面の純深さが２
μｒｎよりも薄い膚であり、光重合性および／または光
架橋性の塗工１飴（８）の桐料の成分が、この層が光照
射、現像および乾涼後に色調ビ表わす深さの塗工層厚さ
範囲（Ｃおいて少なくとも荷重下で測定された硬度が１
０　Ｎ／’ｔｔ−ｓ２を冶しており、この光架橋性」６
よび／筐たけ、九Ｊｋ合性材料中に、少なくとも一般式
（１）によるシクロヘキサンオ導体で、こころτおいて
几１から凡５筐でおよびＲ１からＲＳ／筐での置換基の
少なくとも１個が、しかじながらｉ４．ｔ　戸・らＢ６
までの置換基の２個より多くな（，１′ およびＲからｖｌまでの置換基の２個より多（なく凡６
−ＨｆたはＣＨ３である一〇−Ｃ（０）−Ｃ：ｌ（、’
　＝　ＣＨ２基であり、およびルーかられ６１でと１ｖ
′から几６′ででの置換基のそれぞれが少なくとも１個
が、しかしなからＲ１からＲ６１での置換基の２個より
多く１′ なく、および凡から几６′までの置換基の２個より多く
な（ＯＨ−基であり、尚残りている凡１から１（５１で
の置換基およびＲから１モＳ／１での置換基がｂビ またはＣ１もであることな特徴とする凹刻印刷板裂造用
の光感受性記録材料である。

本発明の特徴に適合した化合物は、禍造式（１）で示さ
れる七ノー　ジー　トリーおよびテトラアクリレートお
よび対応するメタクリレートである。

好適な記録材料は、楊逍式（１）の化合物を含み、ここ
においてヒドロキシル基および＋ｃ−ｅｈ６−ＣＨ２−
基が、そのりど隘接する炭素原子に位置し１更にここに
おいて、０）ｉ−基または−０−Ｃ（０’）−Ｃ几６−
ＣＨ２−基のいずれか１つが、そのつど、２個のシクロ
へΦサン環を結合している一〇〇−ｏ−ＣＨ２−基でお
互いに結合している結合位館の炭素原子のパラ位にある
化合物を官むものである。

一般式（構造式）（Ｉ）の化合物として特に好適なのは
、３．４−エポキシシクロヘキシルメチル−３′、　４
’−エポキシ−シクロヘキサンカルボキシレートとアク
リル酸またはメタクリル酸を１＝１乃至！２．５、特に
１：２乃至１：２．２のモル比で反応した反応生成物で
ある。

不発明方法による記Ｏ材料においては、１だ一般式（１
）の化合物の６０％管で、％に３０乃至５０重′Ｄｋ％
１で、１個または棲以の別の光重合性および／−ｆたは
光架橋性化合物で置き換えられることができる。

特に特徴的な本発明方法による記録材料は、光重合性お
よび／または光架橋性材料として、一般式（１ンの化合
物と部分鹸化ポリビニルアセテートのヒドロキシル基が
部分的にアクリル＃！またはメタクリル酸でエステル化
された化合物との混合物を使うことを特徴とする記録材
料である。

不発明の対象は、また光感受性記録材料の露光による凹
刻印刷組版の製造方法であり、寸法安定性の担体上に光
重合性および／または光架橋性層（Ｓ）を有する光感受
性記録材料を、網目−または線状−ポジまたは中間調ポ
ジとガイドスクリーン装置を通して化学線光で照射し、
次に当該＃（Ｓ）の露光されていない部分を完全に洗去
し露光されていない部分か除去されているが、しかし当
該層（Ｓ）の露光されている部分が溶解されずまたは分
散されない状態で残るようにして、次に乾燥および必要
ならば得られた凹刻印刷組版の後処理をすることで不発
明方法による光感受性記録材料を使って凹刻印刷組版の
＃造をする方法である。

この際に特徴的なのは、凹刻印刷組版を洗浄および完全
に乾燥した後で、化学線光で後照射するか、または２０
０乃至２６０℃の７１！度範囲で後硬化することである
。

このようにして不発明化合物よれば、布単、迅速で経済
的な凹刻印刷組版を製造することができ、その品質にお
いては、十分にクローム被覆銅シリンダーによる従来法
の凹刻印刷組版に匹敵するものである。

［！！Ｊ刻印刷組版には、印刷板、印刷フォイルまたは
印刷シリンダー等があり、これらは表面に彫型くぼみと
して印刷用の色料を印刷する形像部分を含んでいる。不
発明方法による凹刻印刷組版では、これらの色料を受け
る彫型くほみが光重合ポリマー中に存在しており、これ
らの光重合ポリマー印刷層が通常金属から作られる印刷
版担体、例えば鉄鋼板または鉄鋼シリンダー上に同定さ
れている。

光重合ポリマープラスチック印刷層の厚さ、従って１だ
光感受性記録材料の光重合性および／または光架橋性層
（Ｓ）の厚さは、−膜内に３０から５００μｍの範囲、
好適には５０から２５０μｍの範囲にある。彫版型皿、
即ち色料を受は取る彫型（ぼみの深さは普通の場合に最
も浅い彫版型皿では数μｍ１例えば２乃至３μｍであり
、深い彫版型皿では約１０乃至１００μｍであり、好適
には最も深い彫版型皿の深さが約２０乃至６０μｍとな
っている。

現像液中に溶解するか箇たは分散していて、化学糊での
照射によって小溶解になるかまたは分散できなくなる光
感受性材料を光感受性記録材料の層（Ｓ）とする時には
、よく知られている光重合性および／またけ光架橋性シ
ステムが、少なくとも光重合性または光架橋性二重結合
の１個を有する化合物をベースにする必要かあり、不発
明方法では少なくとも一般式（１）の化合物を含むこと
になる。

現像液中でこの不発明化合物が不浴飾になるのは、不飽
和化合物の光により開始された牛飽和化合物の重合−ｆ
たは架橋反応に基づいている。

不発明の目的に合致する光重合性および／または光架橋
性材料にを工、例えば１個またはそれ以上の一般式（１
）化合物と必要あれに更に光重合性のオレフィン不飽和
性の低分子量化合物を混合成分として有していて１合開
始削を含む混合組成物か含１れている。同じく、光重合
性、オレフィン二重結合の部分を十分に合んでいるポリ
マーが一般式（１）の化合物と混合され℃、少なくとも
１楯類の光重合開始列を含む組成唆ｌが用いられる。好
適には、光感受性記録劇料の光重合性および／または光
架橋性層（Ｓ）材料が、本質的に１釉類の飽和性および
／または牛飽相ポリマーと少なくとも１棟類の一般式＜
Ｘ＞の光重合性、オレフィン不飽和性、低分子量化合物
と、夕なくとも１種類の光重合開始列と、同時に必要に
より更に重力０　＊　ｊ’ｃｔよび／または助剤を含む
組成物である。

ポリマー　−殺的には基本材料として、光重合性および
／または光架倫性材料は、現閣液中九溶牌する構成ポリ
マーが画しており、これが光重合性層の構造、特にｌ：
ｉ］刷目的のレリーフ板の製造に公知であり有用なもの
となっているものである。

例えば、いわゆるビニル重合体、即ちポリ塩化ビニル、
塩化ビニリデン１合体、塩化ビニルと炭素液２乃至１１
個のモノカルボン酸ビニルエステルからの某取合体およ
び必要ならばビニルアルコールを加えた共重合体；炭素
液３乃至５のオレフィン不飽和カルボン酸によび／また
はそのエステルおよび／またはそのアミドな主とするポ
リマー例えばアクリル酸、メタクリルｔ′ｊχ、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、炭素液１乃至１２個を有
するアルカノールとのアクリル：状エステルまたはメタ
クリル酸エステルまたは脂肪族ジオールおよびポリオー
ル、例えばエチレングリコール、１゜４−ブタンジオー
ルまたはグリセリンとのアクリル酸ニスデルまたはメタ
クリルはエステルのポリマー等が、基本材料としてのポ
リマーである。更に適しているポリマーは、スチロール
または炭糸数２乃至１１個のモノカルボン酸ビニルエス
テル、例えば酢酸ビニルおよびクロル酢【狭ビニル等を
ペースにしたポリマー；ポリホルムアルデヒド：ポリイ
ミドＪ６よびポリアミドイミド；ポリウレタン。

ポリエーテルウレタン、ポリエステルウレタン、好適に
は尿素基が組み込１れたポリウレタン；メラミンホルム
アルデヒド：＊４　ｊ指ツたはフェノールホルムアルデ
ヒド樹脂；同じく特に多価、符に２価カルボン酸と多価
、特に２　ｆ１＋１ｉアルコールから゛の供用不飽和ポ
リエステルｍ　Ｉ、’ｆ′Ｉである。ここで＋飽和ポリ
エステルとしては、例えば、その殻成分かマレイン酸、
フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸またはメサコン酸
およびその他の不飽和および／または飽和多価カルボン
紘であり、そのアルコール成分がジオール、例えはエチ
レンクリコール、１．２または１，３−７−ロパンジオ
ール、ブチレングリコール−１，３、ブタンジオール−
１，４、ヘキサンジオール−１，Ｉｉ、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリ
コールまたはネオペンチルグリコール等である不飽和ポ
リエステルが考えられる。

光重合性および／またシ―Ｌ光架橋性＃覆」に対する好
揃な基不厄分とし又は、もにホリマー主銅にＣＨ２Ｃｌ
　１　（（Ｊｌ−１）−構造準位を有するビニルアルコ
ールーポリマーがあって、同じくそれらの水筒たは水性
睨像敢中に浴）桿寸たは分融μ］　０１；の共友合捧お
よびルｒ称体であって、例えはニスデル、エーテルまた
はアセタール等がある。特に好適なのが、炭素液１乃至
４の脂肪族モノカルボン酸のよく知られている一化ボリ
ビニルエステルであり、例えばポリビニル酢ｃＲまたは
ポリビニルプロピオン酸の平均重合度が２００乃至３０
００であり、特に好適には２５０乃至７５０であり、そ
の鹸化度が６５乃至約１００、特に好適には８０乃至８
８モル％になるものである。また、−化ビニルエステル
−ポリマーまたは共重合体と、違う重合度および／また
は違う鹸化度のポリマーまたは共重合体との混合物も、
通用されることができる。更には、この関連では特に、
ビニルアルコール−ポリマーと無水アクリル酸および／
または無水メタクリル酸との反応生成物が適しており、
ここにおいて、この反応生成物が一般に反応生成物の３
乃至３０ｆｉｉ１％がアクリロイル基および／またはメ
タクリロイル基で構成されているように含んでおり、ま
た、エチレンオキシドとのビニルアルコール−ポリマー
の水浴性反応生成物においては、オキシエチル化ビニル
アルコール−ポリマーにおけるエチレンオキシド単位の
部分が５乃至７５重合％、特ＫＩＯ乃至６０Ｍ′ｌｔ％
になるものが好適である。このビニルアルコール−ポリ
マーの反応生成物は、光重合性および／贅たは光架橋性
材料中の単独ポリマー成分として含着れることができる
が、また、他のビニルアルコール−ポリマー、特に上述
の鹸化ポリビニルエステルと混合して使用されることも
でき、ここでは、ポリビニルアルコールの反応生成物の
含有率が少なくとも混合物中に含１れる全ビニルアルコ
ール−ポリマーの３０３（−１％になることが好〕しい
。史には、上記ビニルアルコール−ポリマーまたは共重
合体および／またはそのｆ８ｓ体が、その時の光重合性
および／または光架橋性材料のポリマ一部分の約３０重
量％１での相溶性のあるメラミン−ホルムアルデヒドｍ
脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂またはフェノール−ホ
ルムアルデヒド樹脂と混合されることができる。

特に光重合性および／または光架橋性材料中対する好適
なポリマーは、また、通常の有機および特にアルコール
性′ｆ８剤（現像液として）忙可溶性の線型合成ポリア
ミドで分子主鎖にアミド基が細り返されているｍ型合成
ポリアミドである。これらの内で特に優れているのが、
通常の溶剤または溶剤混合物、特に低級脂肪族アルコー
ル、例えはエタノールまたはｎ　−７０パノール、また
はこれらのアルコールと水との混合初圧可溶性の混合ポ
リマーである。これらは、例えば通常の方法で２個また
はそれ以上のラクタムで５乃至１３個の環筒を有するも
のから重縮合または重合で得られる混合ポリアミドであ
る。これらのラクタムは、例えば、ピロリドン、カプロ
ラクタム、エナントラクタム、カプロラクタム、ラフリ
ンラクタムあるいは対応するＣ−置換ラクタムであり、
例えはξ−メチルーξ−カプロラクタム、ξ−エチルー
ξ−カブａ５クタムまたはδ−エチルエナントラクタム
である。ラクタムの代りに、それらの根拠になっている
アミノカルボン酸が重縮合されることもできる。更に好
適な混合ポリアミドは、少なくとも３個のポリアミド生
成能のある出発物質から製造されるジアミン／ジカルボ
ン酸型の塩からの重縮合生成物である。このために好適
なジカルボン酸あるいはジアミンは、炭素数４乃至２０
個の脂肪族ジカルボン酸、例えばアジピン酸、コルク酸
、セパチンを夜、ドデカンジカルボン散、同じく対応す
る置換化合物、例えはα、α−ジエチルアジピンα、α
−エチルコルク酸、ヘプタデカンジカルボンｌｆｆ−１
，８またはヘプタデカンジカルボン！ｖ−１，９、ある
いはそれらの混合物、および脂肪族でたけ芳香族環を有
するジカルボン酸であり、好適なジアミンは、特に脂肪
族または脂環族ジアミンで２個の一級およびまたは二級
アミン基を有していて特に炭素数が４乃至２０個であり
、例工はヘキサメチレンジアミン、ヘキサメチレンジア
ミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミ
ンまたはこれらアミンのＣ−および／またはＮ−置換め
導体、例えばヘーメチルーＮ’　−エチルへキサメチレ
ンジアミン、１，６−ジアミツー４−メチルヘキサン、
４　、４’−ジアミノジシクロヘキシルメタンまたは２
．２−（４，４′−ジアミノジシクロヘキシル）−プロ
パン、更に芳香族ジアミン、例えばｍ−フェニレンジア
ミン、ｍ−キシリレンジアミンまたは４，４′−ジアミ
ノジフェニルメタンであり、ここにおいて、すべての出
発物質での両カルボンｇ基あるいはアミノ基間の結合手
が、またへテロ原子、例えば酸素原子、Ｍ５ＡｕＡ子ま
たは硫黄原子で中断されていることもできる。特に好適
な混合ポリアミドは、１個またはそれ以上のラクタム、
％にカプロラクタムと少なくとも１個のジカルボン酸／
ジアミン−塩からの混合物の重縮合によって製造される
ものであり、例えはξ−カプロラクタム、ヘキサメチレ
ンジアンモニウムアジピン酸塩および４．イージアミノ
ジシクロヘキシルメタン／アジピン酸塩からの重縮金物
である。

光感受性記録材料は、光重合性および／−！！たけ光架
橋性材料中に少なくと４本発明方法による一般式（１）
ノシクロヘキサン島導体を含んでおり、こ、：　ｌｃ＃
イテ、０）１−　オヨヒ−０−（、’（０）−（、’１
（、’−ＣＨ２ｉが隣接炭素原子にありシクロヘキサン
環の両シクロヘキサン環な−Ｇｏ−０−ＣＨ２−基で結
合している位置の炭素原子にバジー位にある一般式（１
）による化合物が好適であり、これらの化合物は、例え
ば３．４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’　、　
４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートとアク
リル酸またはメタクリル酸との反応生成物であり、その
つど、光感受性記録材料の全量に対して少なくとも１０
重量％、最大５０重量％、特に好適には２０乃至４５重
量％の量で含着れるものである。

必要ならば一緒に使用する光重合性、オレフィン不飽和
低分子化合物として、分子量が、２０００より少ない公
知のモノマーおよびオリゴマーが使用され、これはポリ
マー結合剤を含む光重合性および／または光架橋性材料
用によ（知られているものであり、勿−光重合性低分子
量化合物の種類および盆は一緒に使われるポリマー結合
剤と相溶性のあるものでなければならない。好適なのは
、２個またはそれ以上のエチレン小飽和性光重合二重結
合を有する光重合性低分子雪化合物単独でか、または単
に１個のオレフィン不飽和光重合性二重結合を有するモ
ノマーとの混合吻であり、ここにおいて、前記の単にＩ
　ｆＪの二重結合を有する七ツマ−は一般的をζ仝モノ
マー酋の約５乃至５０ｉｉ％、好適には５乃至３０重社
％含１れることかできろ。−足の侶定条件の下では、必
要によって一緒に使用する光重合性低分子量化合物が主
として使われるか、でたに却、独で使われることかでき
、これは特に１光重合性および／または光架橋性材料用
に金管れているポリマー自身が、光重合性二重結合を高
い比高で含んでいる時には、分子量に光重合性二重結合
を含むだけの化合物のみで使用されることができること
は、甘た当然可能であり、例えばアクリロイル化および
／′！！たはメタクリロイル化ビニルアルコール−ポリ
マーの例にみられるとおりである。−膜内に、光重合性
低分子量化合物は、常圧で１００℃以上の汀点な有して
いる。

必要の勘合に一緒に使用する光重合性オレフィン不飽和
低分子量化合物の例としては、七ノージーおよびポリア
クリレートおよびメタクリレートがあり、例えばこれら
は、アクリル酸またはメタクリル酸を１価または多価低
分子量アルコールでエステル化することで製造されるこ
とかできる。

これらには、特に、エチレングリコール、ジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリ
コールで約５００マでの分子量のグリフールとのジーお
よびトリ（メタ）アクリレート、分子量的５００１での
分子量の１．２−プロパンジオール、１．３−プロパン
ジオール、ポリプロピレングリコールとのジーおよびト
リ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（２
，２−ジメチルプロパンジオール）、１．４−ブタンジ
オール、１，１．１−トリメチロールプロパン、グリセ
リンまたはペンタエリトリットとのジーおよびトリ（メ
タ）アクリレート；史にこれらのジオールまたはポリオ
ールのモノアクリレートおよびモノメタクリレート、例
えはエチレングリコール−モノ−（メタ）アクリレート
、１，２−プロパンジオール−モノ−（メタ）アクリレ
ート、１゜３−プロパンジオール−モノ−（メタ）アク
リレートおよびジー　１７−−ｆたはテトラエチレング
リコール−モノ−（メタ）アクリレートらが含１れてい
る。史に九夏合性、オレフィン小飽相低分子槍化合吻で
ツレタン基および／またはアミド基な宮む化合物か考え
らｎΦが、これらは前述技術の脂肪族ジオールと有機ジ
イソシアネート、例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト、トルイレンジインシアネートおよびインホロンジづ
ソシアネート、および上述技−で製造される低分子被化
合物のヒドロキシアルキル−（メタ）アクリレートρ−
ら製造される。更に、また、１乃至６１固の戻累数の七
ノ°アルカノールとアクリル酸、メタクリル酸ρ為らの
アクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル、戻素
数２乃至８個の脂肪族または芳香族ジアミンからの七ノ
ーおよびビス−（メタ）−アクリルアミド、例えばエチ
レンジアミン、プロピレンジアミン、ブナレンジアミン
、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、
オクタメチレンジアミンまたはキシリレンジアミンから
の七ノーおよびビス−アクリルアミドまたはモノ−およ
びビス−メタクリルアミド、およびまた、（メタ）アク
リルアミドのめ導体とｌ−て例えばｉ’ｖ−ヒドロキン
メチル−（メタ）アクリルアミド、またばｉ′４−とド
ロキシメチル−（メタ）アクリルアミドと脂ｌｖｊ族ジ
オール、ν１えはエチレングリコ・−ル゛またはプロピ
レングリコールとの反工６生成物が使用できｏｏ 光重合性１６よひ／１７こは光架橋性材料は、ポリマー
と充血付性オレフィン牛飽和低分子ｉｔ化合物を、−膜
内にポリマーゴロよひ光重合性、低分子電化合物の−ｆ
　＃Ｉ’菫に対して約５０乃至９０１ｔ％、あるいは場
合によって１０乃至５０蒐實％富んでいる。九ｌせ性、
低分子量化合物の比率は、１−々の場せににいて、多か
ったりりなかったりてることが′ｔ−さる。

光重合性および／′！Ｆたは光架橋性＋４科甲に一般面
に、全光嵐合性および／または光架橋性材料に対して０
．０５乃至１０亘も１％、特に０．５乃至５Ｍ世％の業
で含１れている光重合開始剤として、よく知られている
通常の光重合開始剤とシステムおよび化学糎元の照射に
よる光重合の開始が問題となって：？６す、こ１１．ら
番、Ｌ十分に関連文献中に記載されている。上述の光重
合開始剤は、例えばつ゛シロインおよびその６６等体の
ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、例えばペン
ゾインメナルエーテル）１こはベンゾインイソプロピル
ニーデル、α−メチロールベンゾインおよびこのエーテ
ルまたはα−メケルベンゾインおよびこのエーテル；ｌ
。

２−ジケトノ塘；よびそのｉ８漣体のシフ゛恒ナル、ベ
ンジル、ベンジルケタール例えにベンジルジメチルケタ
ール ンジルメチルベンジルケメールまたはベンジルエチレン
グリコール−モノケタール；アシルホスフィンオキシト
化合物、特にアシル−ジアリールホスフィンオキシトｇ
よび特殊アシル−ジフェニルホスフィンオキシト、芯よ
びそのアシルｈ　ｂ　カニ級届肪族またはｆＩ′Ｆｉｉ
垢族カルボン敞′乏たは少なくとも２，６−位ｉ俟ν息
香＾ゼからｉ１８−される噂．のであり、これらは西独
特許Ｄ　１％−Ａ　２９　０９　９９２号中で詳細に開
示されている。

光重合開始剤は、本独でかまたは旨ｊ始剤向士を混合し
てか、またはまた活性化剤例えば三級アミンと混合して
使用されることができる。最も好適には、可及的活性な
光１合開始剤が使用される。

誕（べきことは、光重合性および／または光架橋性材料
中に、化学線波長範囲、特に３００から３８０ｎｍの化
学線に対して低い吸収性である光１合開始剤、例えば上
記のベンゾイン、ベンゾインエーテル、ベンジルまたは
ベンジルモノケタールの外に、助剤として、その吸収係
数ξが３６Ｏ　ｎｕｎで５００２２／ｍＭｏ　ｌより大
き（、特に５　０　０　０　ｃｒｎ’／ｍｏｎｏ　ｌよ
り大きい光重合開始剤助剤が加えられると、凹刻印刷組
版が特に平滑な表面となることが発見された。

このように強い吸収をする島始剤助剤の例として、４、
４′−ビス（Ｎ−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（ミ
ヒラーケトン）およびミヒラーケトンの誘導体、例えは
ヨーロッパ特許Ｂ　Ｐ　−　Ａ　１−　００００　３４
２号に記載されている４．４′−ビス（Ｎ　−ヒドロキ
シアルキルーヘーアルキルアミノ）−ヘンシフエノン、
例えば４，４′−ビス（Ｎ−β−ヒドロキシエチル−Ｎ
−メチルアミノ）ベンゾフェノン、４．４′−ビス（Ｎ
−β−Ｎ−二チルーアミノ）ベンゾフェノン、４，（−
ビス（Ｎ−β−ヒドロキシエチル−Ｎ　−　７０ビル−
アミノ）ベンゾフェノン、４．４’−ビス（Ｎ−β−ヒ
ドロキシプロヒル−Ｎ−メチル−アミノ）ベンゾフェノ
ン、４、４′−ビス（Ｎ−ヒドロキシプロピル−Ｎ−二
チルーアミノ）ベンゾフェノンらがある。強い吸収性と
低い吸収性の開始剤の特徴的な開始剤組み合わせに対し
ては、ミヒラーケトンに対して知られているモル比率と
電が利用されることができる。

普通には、光重合性および／または光架橋性材料中の強
い吸収性の開始剤は、との開始剤を含む層の辱さに応じ
て、約０．０５乃至０．４＠＠％、好Ｅｌは０．　１乃
至０．２５重ｔ％含まれており、ここにおいて強い吸収
性の開始剤の低い吸収性の開始垢助剤に対する比率は、
加えられた照射物性に従って方向つけられ例えば１：１
０になることができる。

光重合性および／または光架橋性材料に、外の普通の助
剤および添加物を加えることが屡々合目的となる。これ
には％に熱重合に対ｊる抑制剤があり、例えばハ１ドロ
キノン、Ｉ−メトキシフェ）−Ａ／、ｍ−ジニトロベン
ソール、ｐ−キノン、メチレンフルー、β−ナフト−ル
、ヘーニトロソ７ミン、例工はへ一二トロッジフェニル
７ミンまたはその塩、％ＫＮ−ニトロソーシクロヘキシ
ル−ヒドロキシルアミンのアルカリ塩およびアルミニウ
ム塩らである。これらの抑制剤は、−膜内に光重合性お
よび／またけ、光架橋性材粕の全１．に、対して０．０
１乃至ｚｏ１１量％のｔで使用される。これらの桐料（
光重合性および／または光架橋性材料）Ｋは、上述の外
に１更なるム加物として例えは可塑剤、染料、顔料また
はこれらに類するものが加えられることができる。

前述の本発明の特に特徴円な衝成方式によれば、光１１
台性層は更忙制自システムを含むことかでき、例えはヨ
ーロッパ特許Ｅ　ｉ’　−Ａ−１１４３４１号に開示さ
れているとおりである。

これは、−ＩｉｒＩに使うそのつどの染料（１）のため
の−足染料（１）と槌和な還元剤（２）との混合物であ
る（参照。またヨーロッパ特許Ｅ　Ｐ−Ａ　−０１１４
３４１）。

（１）　＋　（２）混合物は、化学機先での形象形成照
射に際して、光重合性混合物層に著しい光重合をしては
ならないことが、若干の試験で証明されている。

例えば本発明による本質的に＃剤を含１ない光重合性の
光重金品始剤を含む混合物の露光時間に対して、開始剤
を含まない相当する光重合性層の場合には、−光時間を
１０倍にしても、次に洗浄によってレリーフを現像する
場合に光重合層は、それ程多くないことが判っており、
−膜内には露光された七ツマー墳の２０重責％以下が光
重合されるようになっているべきである。

光重合性混合物に対する染料（１）としては、符に−Ｊ
ＩＬの７エノキサジン染料が適して８つ、例えば、カブ
リブルーＵ　Ｎ　（（、’、１．５１０００　）、ザポ
ンファストブルー３０　（Ｃ，１，５１００５）　、ガ
ロブルーＥ（ｅ、１．５１０４０　）、ファストニエー
ブルー３（Ｃ０１、５１１７５）、ナイルブルーＡ　（
Ｃ，１，５１１８０）、ファストグリーンＭ　（Ｃ，１
，５１２１０）　、ファストブラックＬ　（Ｃ，１，５
１２１５）、同じくロダニルブルー、および塩またはロ
ーダミンＢがらのアミド（ベーシックバイオレット１０
　、　Ｃ，１，４５１７０）およびナイルブル−（ベー
シックブルー１２、Ｃ。

１、５１１８０　）　、および一連のツェナジニウム染
料からの化合物、例えば二、−トラルレッド（Ｃ，１゜
５００４０　）、ニエートラルバイオレット（Ｕ、１．
５００３０）、アジンスカーレットＧ　（Ｃ，１，５０
０４５）、ロジエリンヘリオトロープ３　Ｂ　（Ｃ，１
，５００５５）　、二。

−トラルプルーＣ（Ｃ，１，５０１５０）　、アジング
リーンＣ）　Ｂ　（Ｃ，１，５０１５５）、サフラニン
Ｂ　（（、’、Ｉ。

５０２００　）、インダミンプルーＢ　（ｅ、１．５０
２０４　）、ロジェリンレッドＧ　（Ｃ，１，５０２１
５）、ロジュリンブルーＧＧエキストラ（Ｃ，１，５０
２２０）　、ベンゾジンＱ　Ｂ　（Ｃ０１，５０２２１
）　、サフラニンＴ　（ｅ。

１、５０２４０　）、モーベイン（ｃ、１．５０２４５
　）、ナフチルレッド（（、’、１．５０３７０　）、
同じくニゲロインブラックＴ　（ｅ、１．５０４１５　
）、アクリフラビン（Ｃ。

１、４６０００　）、アクリジンオレンジ（Ｃ，１，４
６００５）、アクリジンスカーレットＪ　（ｅ、１．４
６０１５　）、アクリジンイエローＧ　（Ｃ，１，４６
０２５’）　、オーラジンｕ　（Ｃ，Ｉ、　４６０３０
　’）　、ダイアモンドホスフィン＜１７　（Ｃ，１，
４６０３５）　、ホスフィンＩＶ　（Ｃ，１，４６０４
５）、フラベオシン（ｅ、１．４６０６０　）　、ベン
ゾフラビン（Ｃ，１，４６０６５）、およびレオニンＡ
　（ｅ、１．４６０７５）、史にフェノチアジン糸染料
、例えばメチレンフルーマたはチオニンらである。同じ
＜、（インブチルチオ）アントラキノンが染料（１）と
して適しているＯ 光重合性混合物中で使用される染料（υの選択は、第一
に美的印象によりて決められる。従りて、例えば印刷板
の視負、的判断から、％１７ニユートラルレツド（Ｃ，
１，５００４０）、サフラニンＴ　（Ｃ，Ｉ。

５０２４０　）　、同じくロダニルプルーらの化合物か
簡単に使用でき、光重合性混合物中に好適に適用される
。

不発明方法による塗工層は、染料（工Ｉとの組み合わせ
に８いて、染料（１）用のために還元剤（２１の十分賃
を含んでおり、この還元列は化学線光のない時には一緒
に配合されている染料（１）を還元しないが、しかしな
から露光されて染料を励起した寛子状態圧した時には還
元することができ、轡にセミキノンにする。このような
弱い妨元剤の列は、アスコルビン酸、アネトール、チオ
尿素、ジエチルアリルチオ尿素、ヒドロキシルアミン−
誘導体、特にＮ−アリルチオＸ；ｆ！、＝ｔおよび好適
にはへｍ；トロンシクロヘキシルーヒドロキシルアミン
塩、籍にカリウム塩およびアルミニウム塩らである。最
後の化合ｍ（Ｎ−二トロンシクロヘキシル−ヒドロキシ
ルアミン塩）は、１だ光重合性混合物における熱１合の
抑ＩＩＩｊ剤としてもよ（知られている。加えられる趨
元剤の鷹は、−膜内圧は、光重合性層の全量光射して約
０．００５乃至５重量％、特に０．０１乃至１重電％で
あるが、しかしながら、使用される染料（１）の駄に当
量となる還元剤量よりも少なくなりていてはいけない。

多くの場合に、　ＪＩＫ使われる染料（１）の瞼の３乃
至１０倍量の還元剤添加が奨められる。

光感受性記録材料は、凹刻印刷組版製造のために、光重
合性および／または光架橋性層（８）中に微粒子の硬い
研磨剤性粒子を含んでいる。この研磨剤性粒子の平均粒
径は０．１乃至６μｍの也囲になければならず、特に１
０μｍ尺上のた径粒子は多くても５％、好１には１％よ
り少なくなければならない。研磨剤性粒子の平均粒径は
、公知の方法、時に沈降分析法によりて狽１］足される
ことができる。

粒子の長さは、粒子表面２点間の投影距陰という意味で
理解される。この粒子長さは、例えば、通常の顕微伊に
よる測定方法で測定されることができる。

研磨剤性粒子の硬度は、モース硬さ硬駿試験法で４，０
より高くなければならない。好適には、研！Ｘ削性粒子
の硬度がモース硬さ試験で６以上である。本発明の目的
のために考えられる研磨剤性粒子の場合には、特に無機
系（鉱物性）充填剤および再！料が重要であり、例えば
二酸化珪素、特に石英粉およびクリストバル石；珪ｃ１
！塩、籍に珪（９）アルミニウム、［＃Ｒ塩ガラス；酸
化アルミニウム、特にコランダム；二酸化チタン、炭化
珪素、炭化タングステンらが開鎖となる。使用の際に、
これらの微粒子、研磨剤性粒子は、それ自身知られた方
法で、また、表面処理または表面板＆され℃、列えば分
数性および／または光重合性および／′または光架橋性
層（Ｓ）への固着性らが改良されるっ化学線光に対して
十分：Ｃ４過性のあるような研磨剤性粒子が使用される
のが好ましく、この際に、研廣ｉ１ｊ　［ｉ粒子と層（
Ｓ）のためにカロえられる光重合性および／または光条
ａ性材料との計算量がお互いに対応されるようになって
いるのが好ましい。この場合には、二酸化珪素、特に石
英粉およびクリストバル石が研磨剤性粒子として使用さ
れるのが特に好ツしい。

研糸剤性粒子は、光重合性および／または光架橋性の全
層Ｃ８）に含でれて均一に分数されることができる。

研磨剤性粒子が１乃至５０μｍ１特に５乃至２０μｍの
厚さの光重合性および／または光架橋性層（Ｓ）の表面
域にのみ含１れている場合には、光感受性記録、１料の
露光物性を不質的に妨害することなしに、光散乱性研摩
剤性粒子が加えられることかでき、即ち研磨剤性粒子の
屈折率と研磨剤性粒子を含む光重合性および／または光
架橋性材料の屈折率が鴇なっていることもできる。この
際に、ｉＪλ粉宋の（（ｊ１暗削性城子は、化学線光に
対して透過性であって吸収性でないことができるが、ま
た化学線光を４反収することもでする。光重合性および
／でたは光架橋性材料中に化学線光を３過しない即ち強
（吸収するでり粉末の研Ｊ［％ＩＪ性粒子粒子１れてい
る時に【工、この研磨剤性粒子は、研＠剤性粒子の屈折
率とこの粒子を含んでいる光重合性および／または光架
橋性材料の屈折率が相互に同じである時にのみ、−（Ｓ
）の１乃至５０μｍ１竹に５乃至２０μｍｎＨさの表面
（Ｃある場合にのみ特徴的Ｋｆ用されることができる。

光を散乱するＦｄｔ　摩剤性粒子および／または光を吸
収する研磨剤性粒子が使用されるならば、研磨剤性粒子
を含む褒面域の厚さが光散乱および光吸収の規格に一合
している時に、有意で好適な特性の研ネ剤性粒子となる
。

ｉＪｒ　ｒ乳首：ｊ性粒子は、光重合性によび／−また
は光架謝性＠（Ｓ）中に、研酵剤性粒子な含む層（ＳＪ
に対して２乃至５０　ｉｆ％、好適には５乃至３０ｉＡ
ｔｋ％の奮で存在し、即ち、全部の層（Ｓ）が伺摩剤性
粒子な含む場合においては、この１ｔ％は光重合性およ
び／管たは光架橋性材料の全部に対するものであり、研
磨剤粒子が層＜８＞の表面域にのみ含着れている場合に
は、この重ｔ％は研摩剤性粒子を含む表面域となる光重
合性および／または光架橋性材料の表面部分忙対するも
のとなる。かくして、好適な研摩剤性粒子を含む光重合
性および／または光架橋性材料は、−膜内に本来の組成
分として、基本材料としてのポリマーが３０乃至９０ｉ
１（ｌｉ％、光重合性、オレフィン不飽和性低分子量化
合物が１０乃至５０ｔｆ％、光重合開始剤が０．０５乃
至１０重量％、特に０．２乃至５重ｔ％、研摩剤性粒子
が２乃至５０″ＩＬｔ％、好ａＫは５乃至３０重量％と
なる成分組成からなっており、同じく更に別の通常使用
される助剤および添加物を通常のよく知られている童で
、必要により添加すること釦なり、この際に上述のｍｔ
％は、そのつど、研摩剤性粒子を含む光重合性および／
または光架橋性材料に対するものとなる。

光感受性記録材料の光重合性および／または光架橋性層
（Ｓ）が研が削性粒子を薄い表面層においてのみ含んで
いる場合忙は、それに対して光重合性および５／または
光架橋性層（Ｓ）の他の部分は研摩剤性粒子を含んでお
らす、従っ【光重合性および／筐たは光架橋性層（Ｓ）
は多層から成っており、研摩剤性粒子を含筐ない光重合
性および／または光架橋性層（Ｓ）の個々の各層が同じ
光重合性および／またけ光架橋性材料から成り立ってい
ることが可能である。しかしながら、同様忙、この個々
の層の光重合性および／または光架橋性材料が、また、
他の組成成分について例えば基本ポリマーのｆｊｉｉ類
および量、光重合性オレフィン不飽和低分子量化合物の
種類および童、または光重合開始剤の種類および量に関
して異なっていることも可能である。

か（して例えば、研摩剤性粒子を含んでいる層が低吸収
性開始剤と筒吸収性開始剤の混合物を光重合開始剤とし
て含むものであり、この混合開始剤は上述のとおりであ
って、−万で研摩剤性粒子を含まない層は１釉類または
それ以上の低吸収性開始剤を含むような多層的＋１７　
（Ｓ）である時が、特に好適である。多層的層（Ｓ）の
場合には、光重合性および／または光架橋性材料中のポ
リマーと光重合性低分子量化合物は、個々の層において
、同じであるかまたは少なくとも似ており、相互に相溶
性であるべきである。

光重合性および／または光架橋性１’ｉ＃　（Ｓ）のた
めの寸法女定性担体は、−膜内に１有°の印刷版担体で
あり、同時にこの担体は、ここでは−時的な担体が係わ
るものであり、例えば光重合性および／または光架橋性
／ｖ（Ｓ）の貯蔵および輸送に役立ち、次にこの層（８
）が本来の印刷に移された後には、この担体が鳩（８）
から剥がされて除去される。印刷版担体は、−膜内には
鉄鋼シリンダーまたはｉ＃層板細が使われている。光重
合性および／または光架橋性層（Ｓ）と印刷版担体の間
に優れた接着性を得るためＫは、屡々このＩ＃ａ（Ｓ）
を印刷版担体に＠戟する前に、印刷版担体に接着媒体と
なる％　Ｉ＠　、例えばポリウレタン−反応性ラッカー
、フェノール４１１（脂および／またはエポキシ樹脂を
基礎とする油層を施用するのが合目的となる。−時的担
体用の材料としては、特に寸法安定性のある一般的に厚
さ５０乃至２５０μ”％％に７５乃至１５０μｍのプラ
スチック薄板が考えられる。好適には、ポリエステルＮ
板、特にポリエチレンテレフタレートまたはポリブチレ
ンテレフタレート薄板カ使われる。

不発明方法による光感受性記録材料の製活法は、普通に
は初めに光重合性および／筐たは光架橋性材料の各成分
が均一になるように＆合され、次にこの混合物が層（８
）の形で寸法安定性の担体上に程！載される。光重合性
および／または光架橋性材料の各成分の混合は、それ自
身よく知られた方法で溶液中で行なわれるか、またけ混
ねり機あるいは別の混合装置で行なわれ、均一な混合と
個々の各成分の可及的均質な分散を可能にする。得られ
た混合物が固体状態にある時には、次に当該１％　（Ｓ
）が押出成形、カレンダー掛けまたはプレス加工で光重
合性および／でたけ光架橋性材料を成形して作られると
同時に寸法安定性担体上に積層されるか、または成形に
続いて積層されるかまたは被覆される。簡単な方法で、
２μｍより薄い厚さ、好適には１　／ｒｍよりんい厚さ
のＩＩＮ＃（８）の所望の平渭な表面を得るために、当
該層（Ｓ）は特に光重合性および／または光架橋性材料
の浴故にして寸法女定性担体上に流すことで得られる。

この場合には、当然のことながら光重合性および／また
は光架橋性材料の成分の混合が、溶成中で合目的如実施
される。注型−１５液のための溶剤は、そのム択がでた
光重合性および／′！または光条Ｎ性材料の種類および
組成によっているが、このために慣用の公知溶剤が考え
’ｙｈ、ｔｌＪｆＪｆアルコール、エーテル、エステル
、ケトン、脂肪族ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素
らである。

光重合性および／箇たに光架橋性層（Ｓ）が、好適には
、初めに一時的担体、特にポリエステル薄板上に積層さ
れ、続いて露光の前または後で、本来の印刷担体上に被
發される。この製造方法は、特に印刷版製造用の板状印
刷担体の使用で有用であることが明らかである。この際
に、−膜内に一時的担体から剥がされた層（Ｓ）の表面
が印刷版担体に端層されると、これで−時的担体に応用
された層（Ｓ）の表面が、その後で本来の印刷板表面を
形成することになる。

場合によりては、凹刻印刷組版の本来の印刷層の最終の
表面を作る光重合性および／または光架橋性層（Ｓ）の
表面上に、更に約５μｍ厚さ、好適には１乃至４μｍ厚
さ１での薄層をｔｒｉ　ｈすることができ、この薄着は
化学線光を透通するが、しかしながら光重合性および／
または光架橋性層（Ｓ）におけるｔＲ累拡散を抑制し、
従って不発明方法による光感受性記録材料の露光の際の
光１合の酸素による抑制か妨げられることができる。こ
のような酸素−封ｆｆ１ｌ＃は、凸版印刷板またはフォ
トレジストの製造用の光感受性記録拐料においてよく知
られており、不発明方法による耐摩耗性および耐引掻性
凹刻印刷組版製造用の記録材料の場合においては、酸素
封鎖用に通常使用されている材料、特にプラスチックが
使用されている。酸素封鎖Ｊｊ７は、光重合性および／
または光架橋性層（Ｓ）用の現＠！液中に溶解しなけれ
ばならず、更に記録材料の側光後には、ｒｆＩ（Ｓ）の
未稟光部分と一緒に洗浄除去されねばならない。

光重合ｊ―の偵１ｊおよび加工について、更に１ｉ！＋
々ノ例が、ヨーロッパ！痔許Ｅ　Ｐ　−Ａ　−００７０
５１１号に開示されている。

本発明方法（でよる光盾受性拐料の層（Ｓ）のための光
重合性および／または光架橋性材料は、それから′Ｍ造
される凸刻印刷組版の印刷層か、染）？＋を含む深さの
層の厚さ範囲において、少なくともａｔｉ徂負荷ビッカ
ース硬度が少なくとも１０　Ｎ／：ｍ２であるように選
ばれなければならない。−膜内には、印ｌ６１１層は全
島のｊヅさにおいて不買的な硬度を有している。しかし
ながら、染料を受は取る彫版型皿の深さに対応する層の
深さ１での表面域で印刷ｊ−が要求される硬Ｉｆを示す
ならば、それでまた十分に可能であり、この際疋印刷層
のこの領域は柔軟性があるように組みたてられることが
できる。この際、印刷層の硬度は研ボ削注粒子の種類お
よび量によってばあ筺り影′シされず、むしろ硬１ｍは
光重合性および／または光架橋性材料に加えられている
基礎ポリマーおよび光重合時の架、湯度に保つてお９、
即ちモノマーの１盾類および菫、１司じく刀口えられる
光鵞合開始削のａｌ類によび筺に蘭泌している。光重合
１！ｌｉ：ｚよび／または光架橋性材料を、蒜光徒に希
望どおりの硬度を有するように上述の詳細方法に従って
どのように処置すれは可能となる舌かということは、憂
向家にとワては少ない回数の予備試験で容易に飼煽でき
るものである。印刷層の？ｌｉｔ！度あるいは箇た印刷
ノーの多層の硬度、臀に表面論域の硬度は、必要ならば
、露光および現像された印刷板の後処理によって一以下
により詳細に記述するが一変化し、更に硬度増加される
ことができる。

相狛の選択、時に光重合性および／ｌたは光架橋性材料
のための基礎ポリマーの選択が、１だ、印刷染料に対し
て利用される浴剤に対して目Ｊ刷１−が抵抗性でなけれ
はならないことから、［！ｌ！Ｊ刻印刷絹印刷組版範囲
によって決められることになる。

主として凹刻印刷染料で使用される浴剤は、トルエンお
よびアルコール即ち低沸点脂肪族炭化水素である。光重
合性印刷層が丁ぺての溶剤に対して同じように抵抗性が
あるわけではないので、光重合性Ｊｓよび／プたは光条
倫性材料中の丞姪ポリマー逮択は、またＩ！！Ｊ刻印銅
で利用される印刷染料浴ハリによって左右されりことＶ
Ｃなる。浴剤としてトルエン゛よたはアルコールを基礎
にしている主としてに石され曵る印刷染料に対し又は、
凹刻印刷組版の装造用に層（８）甲の赫畿ポリマーとし
て使用される材料は、ポリアミド１１．：は混合ポリア
ミドあるいはビニルアルコールポジマーまたは部分−化
ビニルエステルーポジマーであΦ０ 凹刻印刷組版の製造には、本尭明方法による光感受性記
録材料が適正な形象印刷城を通して化学線光で焦射され
、これによって層（８）の嵐元ｖｔｉ域が光重合および
元架倫して現像液中に不溶性となり、一方で非露光領域
が格解しており現像液と一緒に洗浄除六されることかで
ざる。

光重合性および／または光架橋性層（８）が、−時的担
体上に積層される時には、鳩（ＳＪは尚嵐光前に印刷板
組体上に彼槍されており、続いて露光される。−時的担
体から層（Ｓ）を剥かし【から露光することもできるし
、あるいは−時的担体上の１１で露光し−こ、露光後に
剥がすこともできる。一方では、−時的担体上はあり光
重合性および／または光架橋性層（Ｓ）が、印刷板抗体
上に被握される前に縞光され９ことも可能である。

光ｒｂ受性記録材料の露光には、−設面に波長軸ｍ　２
５０　Ｊ’ｊ　ｍ　７１３０１１ｍ　、好適には３００
乃至５００　ｎｍで１１ａ射″′ｒることのできる光源
が使われ、その照射櫓大か一般に光λ合間始剤の吸収範
囲にあるよう圧している。奄扼明方法による凹刻印刷組
版の製造のためには、極厚技術で慣用される光源、例え
はカーボンアーク灯、化学りまたは超化芋騙強光管、低
圧−１中圧−および高圧−水銀灯、更に必要なら１よ、
千セノンランプまたはｉＭＪ紫外縁比奉のレーザー光、
例えは１乃至２ワツトの紫外線発光を有するアルゴンイ
万ンレーザー光らが＆川されることかで＠る。この−光
操作は、この場合に、通常の慣用されている接触倫写装
Ｋ（板状または薄板状）あるいは市販されている筒状露
光装置（シリンダー状）で実施されることができる。露
光のための形象印刷型として、通常の網目−または線状
−ポジが利用されることかでき、あるいはまた中間ポジ
がガイド網目−装置と組み合わされて利用されることが
できる。

正確な露光時間は、光重合性および／または光架橋性層
（８Ｊのために利用される材料の種類によって左右され
る。この露光時間は、通常の場合０．５乃至１０分間の
範囲にあり、利用される層材料に対しては若干の予備試
験によりて露光時間を決めることができる。この際の露
光時間は、特に研摩剤性粒子を含む層（Ｓ）の表面域か
完全に重合して架橋され、次の洗浄工程で現像液に全（
作用されなくなるだけの時間でなければならない。形象
を作るようｒ／ｃＢ光された記録材料を塊像して非露光
部分で溶解性の層部分を除犬して網状−および彫版型皿
構造を形成させて凹刻印刷組版馨仕上げるの忙、それ１
芽よく知られている通常の方法で、形象を作るように露
光された記録材料を現＠！液で処理して、例えば現像液
浴中で、スプレー・ワッシャーまたはブラシ・ワッシャ
ーあるいはその他の過当な別の方法で非露光部を洗浄除
大ｊる方法が使用されＱＯ 現味故”またＶλ洗浄浴＾りとしては、非露光の光重合
性ｉＪよび／または元架倫江材料かよ（俗解するかまた
は夕なくとも容易に分散性であり、一方では光重合性材
料が襄光後に玩塚准中に牛溶解となるかまたは分散しな
くなるような浴剤または浴剤混合物が１侵となる。好ｉ
ダ７．Ｃ塊像故の選択は、光重合性」ｄよび／または光
条楯性材料の組成、特にその甲に含ｌれている小すマー
の種類に＠係している。特に、環境に過応でき【作栗性
忙合っている、即ち特別な注意なしでも作業でき、且つ
ｎｃｊ単容易に精製できて準備できるような現像液が選
ばれる。これらの現像液の例は、低級脂肪族アルコール
、アルコールと水との混合物、またを工水そのものであ
る。とニルアルコール−ポリマーまたは不飽和ポジエス
テル樹脂を基本とする光重合性および／または光架橋性
材料に対しては、例えは水またはアルカリ性水溶液が現
像液として油当している。ｔＭ、合ポリアミドを基本と
する光重合性および／または光架橋性材料だ対しては、
現像液として低級脂彷族アルコール、特にこれらアルコ
ールと水との混合物、例えばエタノールと水が８：２比
率で混合された水性エタノールが好１であることが示さ
れている。

露光された凹刻印刷＠版を現像液で処理すること、叩ち
非露光部分の洗浄方法を、好適には洗浄工程が可及的短
時間、即ちはぼ１乃至１０分以内に完了できて、しかも
その際に光重合性凹刻印刷組版が現像液によって作用さ
れない温綻で行なう。

大部分の現像液に対しては、洗浄温度が１０℃から４０
℃の範囲にあることが好適である。この溶剤残留分を、
洗浄工程に続く短時間の乾燥処理で除央できることが、
望プしい。乾燥は室温または高温で行なうことができ、
例えば５０℃から１２０℃までの乾燥濡健が適している
。更に高温乾燥は、これによって場合によりてはまた、
印刷層の硬度が更に向上する点で特徴的である。

幾つかの例では、特だ基礎ポリマーとしてポリアミド、
混合ポリアミドまたはビニルアルコール・ポリマーを含
む印刷層を有する凹刻印刷組版では、凹刻印刷組版が乾
−Ｎ後に、２００℃乃至約２６０℃、特に２２０乃至２
４０℃の渦燵で短時間加熱して付加的に硬度向上させる
ことが好適である。これらの高温度による後硬化のため
には、−膜内に５乃至６０分間の時間が十分である。し
かしながら、後卸！化のためにより長い時間を掛けるこ
と本可能である。この後硬化の際に、光重合層が焼付け
られると、その荷１＃負荷ビッカース？１ＩＩＬ！度が
２００　Ｎ贋以上に上昇する。その際に層が同時に明褐
色から暗褐色に１で着色するが、これは機械物性および
印刷技術的物性に関して何らの障害とならない。

史に、幾らかの例では、本発明方法により製作された凹
刻印刷組版は洗浄および乾５！１！後に、完全に後露光
することが有益であるとｉ１Ｅ明されている。

本発明方法により製造された凹刻印λＩｉｌｊＭ版は通
常の凹刻印刷版械での使用に適しており、使用技術およ
び使用する光重合および／または光梨欄材料の種類に応
じて、従来の凹刻印刷組版で得られる結果と全く同様と
なる。従来法のクロームメツキ名・→シリンダーに対し
て不発明方法により’Ｎ　Ｋｌされた凹刻印刷組版の不
質的な特徴は、従来法の凹刻印刷組版では印刷技術的特
徴を出せないような簡単で迅速な製造法にある。特に不
発明方法により製造される凹刻印刷組版は、公知のプラ
スチック印、廟＠を有する凹刻印刷組版と比奴した場合
には、明らかにその高い耐曜耗性および耐引掻傷性１（
おいて優れており、従って不発明方法で幾重された凹刻
印刷組版は、５ｏｏｏｏｏから１ｏｏｏｏｏｏ回１での
高い印刷１［］仮において４同じように良好な印刷品質
を保持し、更には特に１だ中間調の印刷でもこの特性を
達成することが可能である。史に特に優れている点は、
不発明方法によりへ造された凹刻印刷組版での凹刻印刷
では、これででよく知られているプラスチック印刷層を
有する凹刻印刷組版とは違って、従来から使用されてい
る鉄由ドクター（版面ＷＩ除＠）が使用できることであ
り、即ち不発明方法の凹刻印刷組版では鉄−ドクターの
使用によっても、印刷層重たは鉄鋼ドクターがどのよう
な方法でも傷つけられることがない。鉄鋼ドクターは、
不発明方法により製造された凹刻印刷組版の使用におい
ても、従来の凹刻印刷組版の場合と同様に光重合印刷層
の表ｒＦｉＪをゆっくりと滑って進む。本発明方法によ
り装造された凹刻印刷組版での凹刻印刷では、特別な特
徴として、丸くされた面取りと少なくと４３５０の表面
侠肚（ビッカース硬ジｙ　ＤＩＮ　５０１３３による）
を翁する曲げ柔軟性の鉄鋼ドクターが示されており、こ
れは西独特許Ｄ　Ｅ−Ａ　３１１０８４２号に開示され
ているとおりである。不発明方法により製造された門刻
印１組版が、その使用に際して例えば欠陥のあるドクタ
ー捷たはそれに類するもので傷害されたり、引掻傷、み
ぞまたは筋がついたりｌ、た時には、従来の凹刻印刷組
版と同様な方法で平滑になるように仕上げられることか
で佛る。

不発明は、次の実施列によって説明される。これらの実
施例中で与えられている部は、別記されない限り、重−
１＃部である。

凸版硬度の泗１足は、プリネル硬さ泪１１定装置（１）
ＩＮ５３４５６参照）によりて荷重負荷下で、直径５．
９２６１膿の石英球の浸入深さ測定によって行なわれる
。

耐引掻傷性の試製のため文は、試料が回転する円板上で
引っ張られて、各種荷重負荷の下で、円錐形のダイヤモ
ンドカッター（９０“円抛角および９０μｍ尖端半径）
にさらされる。このようにして得られた引掻傷が測定さ
れる。耐引掻傷性の尺１１として：工、＠面１ｔ＋ｊ定
装置〔例えばベルテン社（ＦｉｒｍＢ　Ｐｅｒｔｈｅｎ
　）のベルトメーター（Ｐｑｒｔｈｏ−ｍｅｔｅｒ　）
　］を使りて、ちょうど検出し得る引掻傷を生成させる
負荷が定義される。このような引掻傷は、約０５μ〃ｌ
の深さである。

（実施例） ′ｊ！施例１ ２００μｍ厚さの光重合性層は、５４部の部分加水分解
ポリ酢酸ビニル（懺化匠８８％）の３％メタクリル酸エ
ステル化体、３６部の式（１７による脂肪族エポキシド
アクリレートで ル２−Ｌも”−−０）１および となろ化合物、１０部のアミノシラン処理石英粉〔９５
％が５μｍより小さく、５０％が２μｍより小さい石英
粉、例えばクパルツペルケ　フレラフエン社（ト”ｉｒ
ｍＢ　Ｑｕａｒｚｗｅｒｋｅ　Ｆｒｅｃｈｅｎ　）のシ
ルボンド８００　ＡＳＴ　（５ｉｌｈｏｎｄ■ｓｏｏ　
ＡＳＴ　）　）、１．５ｉ（７）ベンジルジメチルケタ
ール、０．５部のへｍ；トロン−シクロへキシルヒドロ
キシルアミン・カリウム塩および０．０５部のサフラニ
ンＴ　（Ｃ，１，５０２４０）から構成されていて、こ
れが塗被されている鉄）薄板上！／ｃ櫨層される。露光
後に、水で洗浄してから乾燥して、球浸入峡展が１２６
Ｎ／’−となる。初めての引掻傷は、１．２Ｎの荷重負
荷で観察される。

２、ＩＮの荷重負荷では、１μｍ深さの引掻傷が生成す
る。

比軟実施例１ 実施例１に記載されている混合物中の式（１１によるエ
ポキシドアクリレートを脂肪族ジアクリレート、例えば
ジシクロペンテニル・ジアクリレート・七ツマ−で置き
換えると、実施例１と同じよう和処理した後で、印刷板
の球浸入妓度が１１６Ｎ、ｑＪとなる。初めての引掻傷
は、０．６７Ｎの荷重負荷で観察される。ＺＩＮの荷重
負荷では、４μｍ深さの引掻傷が生成する。

実施例２ 実施例１に記載されたと同様の光重合性混合物であるが
、七ツマー成分として３，４−エポキシシクロヘキシル
メチル−３’、４’−エポキシ−シクロヘキサンカルボ
キシレートをメタクリル酸と１＝２２モル比亭で反応し
た生成物を含んでおり、これが同様の方法で露光され、
水で洗浄されてから乾需し、後露光される。印刷板の硬
度は１２７Ｎ／諺２である。初めての引掻傷は、荷重負
荷１．６７Ｎで表われる。２１Ｎの荷重負荷では、１μ
ｍ深さの引ｗｌｆｉＩが残る。

ｌＩ！−例３ ヘキすメチレンジアミン・アジペー）、４．４’−ジア
ミノージシタａヘキシルメタン−アジペートおよびξ−
力１０ラクタムのほぼ同量からなる混合ポリアミドで水
性アルコール忙可溶性である拠金ポリアミドの５８部の
溶液、３０部の一般式（１）によるモノマーでありて、
そのｋＬ　またはＲおよびｌｔまたは几３′のいずれか
１つがＯＨであり残２′ りが次式で表わされる基である七ツマ−１０部の実施例
１記載の石英粉、１．２　ｇのベンジルジメチルケター
ル、０．６ｉのＮ−二トロッジクロへキシルヒドロキシ
ルアミンのカリウム塩および０．０４部のす・フラニン
Ｔの混合物から、寸法安定性担体上に積層することで、
１００乃至２００μｍ層厚さを有する印刷板が製造され
る。形象を生成させる露光、水性アルコール中での現象
、乾腑および後露光後に、良好な仕上りレリーフと平滑
な表面を有する６板な得る。ブリネル硬度が４０　Ｎ／
ａ１２であり、少なくとも０．９　Ｎ／１１１１１’の
荷重負荷で初めて引掻傷が表われる。２．ＩＮ荷重負荷
では、３μｍ深さの引掻傷が生成する。

実施例４ 実施例３と同様に処理するが、しかしながらモノマー成
分として対応するアクリレート（Ｒ６−１４）およびメ
タクリレート（Ｈ，６−Ｃ８４）の１：１混合物が使用
されるようにする。ブリネルｔｆＪ！ｅが２５Ｎ／１２
となり、初めての引掻傷が０．６Ｎで生成する。２．Ｉ
Ｎ荷重負荷では、４μｍ深さの引掻傷が生成する。

比軟実施例２ ５８部の上述と同様の混合ポリアミド、３０部の線状飽
和トリアクリレート、１０部の石英粉、１．５部のベン
ジルジメチルケタール、０．３ｔ’ｌのＮ−二トロッジ
クロへキシルヒドロキシルアミンのカリウム塩および０
．０：Ｈｆ１ＳのサフラニンＴから構成される光重合性
混合物が、寸法！足性担体上に２００μｍ層を積Ｊ−す
ることで印刷板に成形さね、露光されて、水性アルコー
ルで洗浄され、乾燥されてから後露光される。このよう
にして得られる凸版は、ブリネル硬度２４　Ｎ／ｉｓ２
を有する。０４Ｎの荷重負荷で、ｌｌＪｍ深さの引掻傷
が生成する。

２、　Ｉ　Ｎの荷ｌ負荷では、７μｍの引掻傷が生成す
る。

実施例５ 実施例１と同様に処理するが、式（１）による七ツマー
０１５％カ、ポリエチレングリコール−４００−ジメタ
クリレート〔製造業者：レーム社（１１１ａ。

Ｒ５ｈｍ　）　）で籠ぎ換えられる。

上記の処方で製造する凹刻印刷板の球浸入硬麗は、１１
３Ｎ／”糎２となる。初めての引ｊ蚤鶴は、０．７荷重
負荷で哉察される。２．ＩＮ荷重負荷では、１．５μｍ
の引Ｐ！ｆ１傷が生成する。

代理人　弁理士　　１）代　盛　治 手続補正書 平成１年　５月２９日

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. （１）寸法安定性のある担体上に塗られた３０乃至５０
   ０ミクロン（μｍ）厚さの塗工層を有する凹刻印刷版製
   造のための光感受性記録材料であり、この塗工層（Ｓ）
   が現像液中に溶解するかまたは分散可能であって、化学
   線光で照射することによりこの現像液中に不溶性となる
   か、または分散できなくなる光重合性および／または光
   架橋性材料であり、この光重合性および／または光架橋
   性材料が上記塗工層（Ｓ）表面の少なくとも表面域の１
   乃至５０μｍを構成し、この塗工層が印刷組版の最終の
   表面となっていて微粒子の研摩剤性粒子をこの粒子を含
   む光重合性および／または光架橋性材料の２乃至５０重
   量％になるように含み、この際の研摩剤性粒子の平均粒
   径が０．１乃至６μｍの範囲にあり、この研摩剤性粒子
   の最高でも５％が１０μｍを超過するだけのものであり
   、この研摩剤性粒子の硬度がモース硬さで４．０より高
   い硬度を有し、塗工層（Ｓ）の表面が印刷組版の最終の
   表面をなしていて、この最終表面の純深さが２μｍより
   薄い層であり、光重合性および／または光架橋性の塗工
   層（Ｓ）の材料の成分が、この層が光照射、現像および
   乾燥後に色調を表わす深さの塗工層厚さ範囲において少
   なくとも荷重下で測定された硬度が１０Ｎ／ｍｍ＾２を
   有しており、この光架橋性および／または光重合性材料
   中に、少なくとも一般式（ I ）によるシクロヘキサン
   誘導体 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） で、ここにおいてにＲ＾１からＲ＾５までおよびＲ＾１
   ＾′からＲ＾５＾′までの置換基の少なくとも１個が、
   しかしながらＲ＾１からＲ＾５までの置換基の２個より
   多くなく、およびＲ＾１＾′からＲ＾５＾′までの置換
   基の２個より多くなく次の置換基であり ▲数式、化学式、表等があります▼またはＣＨ＿３、 およびＲ＾１からＲ＾５までとＲ＾１＾′からＲ＾５＾
   ′までの置換基の少なくとも１個が、しかしながらＲ＾
   １からＲ＾５までの置換基の２個より多くなく、および
   Ｒ＾１＾′からＲ＾５＾′までの置換基の２個より多く
   なくＯＨ−基であり、尚残っているＲ＾１からＲ＾５ま
   での置換基およびＲ＾１＾′からＲ＾５＾′までの置換
   基がＨまたはＣＨ＿３である一般式（ I ）のシクロヘ
   キサン誘導体を含むことを特徴とする凹刻印刷版製造用
   の光感受性記録材料。
2. （２）ヒドロキシル基および ▲数式、化学式、表等があります▼基 が、そのつど隣接する炭素原子に置換していることを特
   徴とする請求項１による記録材料。
3. （３）ＯＨ−基または▲数式、化学式、表等があります
   ▼基の１つ が、そのつど、両シクロヘキサン環を結合している▲数
   式、化学式、表等があります▼基と結びついているシク
   ロヘキ サン環の炭素原子にパラ位置で存在することを特徴とす
   る請求項１または２のいずれか１つによる記録材料。
4. （４）一般式（ I ）の化合物として、３，４−エポキ
   シシクロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシシクロ
   ヘキサンカルボキシレートとアクリル酸またはメタクリ
   ル酸を１：１乃至１：２．５のモル比で反応した反応生
   成物が求められることを特徴とする請求項１または２の
   いずれか１つによる記録材料。
5. （５）一般式（ I ）の化合物の６０重量％までが、部
   分的に１個またはそれ以上の別の光重合性および／また
   は光架橋性化合物で置き換えられることを特徴とする上
   記請求項のいずれか１つによる記録材料。
6. （６）光重合性および／または光架橋性材料として、一
   般式（ I ）の化合物と部分酸化ポリビニル酢酸のヒド
   ロキシル基が部分的にアクリル酸またはメタクリル酸で
   エステル化されている化合物との混合物であることが求
   められることを特徴とする上記請求項のいずれか１つに
   よる記録材料。
7. （７）寸法安定性の担体上に光重合性および／または光
   架橋性層（Ｓ）を有する光感受性記録材料を、網目−ま
   たは線状−ポジまたは中間調−ポジとガイドスクリーン
   装置を通して化学線光で照射し、次に当該層（Ｓ）の露
   光されていない部分を完全に洗去し、露光されていない
   部分が除去されて、しかし当該層（Ｓ）の露光されてい
   る部分が溶解されないかまたは分散されない状態で残る
   ようにして、次に乾燥および必要ならば得られた凹刻印
   刷組版の後処理をすることにおいて、凹刻印刷組版の製
   造に請求項１から６までのいずれか１つに従って光感受
   性記録材料を使用することを特徴とする光感受性記録材
   料の露光による凹刻印刷組版の製造方法。
8. （８）凹刻印刷組版が洗浄および乾燥後に化学線光で完
   全に後照射されることを特徴とする請求項７による凹刻
   印刷組版の製造方法。
9. （９）凹刻印刷組版が非露光部分の洗去および乾燥後に
   、２００°から２６０℃の範囲の温度で後硬化されるこ
   とを特徴とする請求項７または８のいずれか１つによる
   凹刻印刷組版の製造方法。