JPH02694B2

JPH02694B2 -

Info

Publication number: JPH02694B2
Application number: JP2611077A
Authority: JP
Inventors: Hideki Yamagishi; Shoji Kobayashi; Yasuhiko Yamaguchi
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1977-03-11
Filing date: 1977-03-11
Publication date: 1990-01-09
Also published as: JPS53111734A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明は耐スクラツチ性、耐摩耗性、耐薬品
性、易クリーニング性の改良された保護層を有す
る電子写真用感光材料に関するものである。電子写真はトナー画像を作り、該画像を直接あ
るいは転写して画像を形成する。特に電子写真複
写機のように転写法による場合は、電子写真現像
を実施し、画像の転写を行なつたあと現像剤（ト
ナー）残渣を完全に清浄する工程が繰返えされる
ので、感光材料表面の耐摩耗性がすぐれているこ
とが要求され、さらに画質の向上、機構の簡素化
のために現像剤の残存し難い、即ち易クリーニン
グ性の良好な保護膜が必要である。また液体現像
法では石油系炭化水素、ハロゲン化炭化水素など
の溶剤が使用されるので、これら溶剤に対する耐
薬品性の良いことも実用上重要である。上記目的のために従来からシリコーンオイル離
型剤層、セルロース系樹脂層（エチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテー
トブチレートなど）、ビニル系樹脂層（塩化ビニ
ル、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセター
ル、酢酸ビニルなど）、アクリル系樹脂層、プラ
スチツクフイルム層（ポリエステルフイン、ポリ
エチレン、ポリスチレン、ポリカーボネートな
ど）、無機絶縁層（酸化アルミニウム、酸化チタ
ン、酸化ケイ素など）などの保護層あるいは（お
よび）絶縁層が提案されてきている。しかし有機
層は機械的摩耗や損傷を受けやすく、繰返し使用
や厳しい使用条件下では外観の悪化による画質、
光学的特性、商品価値などの低下があり満足でき
る耐久性が得られていない。耐薬品性、耐湿性、
易クリーニング性についても問題とされる場合が
認められる。また保護層中に少量のシランカツプ
リング剤を添加したものが提案されている（特開
昭50―96229号公報）が、この方法の場合、比較
例３においても詳述のごとく、電子写真特性やク
リーニング性は比較的良好であるが、耐摩耗性が
不充分であるため、満足できる耐久性が得られな
いという致命的な欠点がある。さらに無機物質か
らなる層は耐摩耗性は満足できるとしても、該層
は真空蒸着法やスパツタリング法などにより形成
するのでコスト高になること、広幅化がむずかし
いこと、フレキシブルな基材の場合は平面性がそ
こなわれたり熱の影響が出てくることなどの理由
により、性能、作業性、価格などから満足できる
結果が得られておらず、工業的に実施される段階
にいたつていない。このように実用上保護膜層の
改良が強く望まれていた。本発明はかかる問題点を解決したものであり、
耐摩耗性の改良された表面保護特性を有し、しか
も電子写真として要求される透明性を有し、繰返
し使用に対しても良好な画像特性が得られ、さら
に安価に製造できる電子写真用感光材料を提供す
るものである。即ち生産性、加工性にすぐれ、加
えて耐スクラツチ性および耐摩耗性、耐薬品性、
耐湿性、易クリーニング性を同時に満足し、しか
も画像特性をそこなわない特定ケイ素化合物から
なる保護層を有する耐久寿命の長い電子写真用感
光材料を提供することができる。平面性が良好
で、要すれば連続供給が可能となるので作業性が
きわめてよく、可撓性支持体および絶縁層を使用
するときに特に有用である。熱的、光学的にもす
ぐれている。本発明は、支持体、光導電性層、絶縁層を基本
構成体とする感光材料の表面に、 (A) 一般式

【式】（式中、ｎ＝１〜２、R¹はC₁〜C₆のアルキル、
アルコキシアルキル、アシルでありｎ個のR¹
は同一でも異別でもよい。R²はフエニル、C₁
〜C₆のアルキルあるいはアリール、R³はC₀〜
C₁₀のアルキレン（ここでC₀はR³がない場合を
示す）あるいはアルキレンオキシドまたはポリ
アルキレンオキシド、Ｘはアルキル、ハロゲ
ン、ビニル、フエニル、メタクリロキシ、グリ
シドキシ、メルカプト、アミノなどを含む有機
基である。）で示される化合物の１種または２
種以上の加水分解物と、エポキシ化合物および
コロイド状シリカとの混合物、 (B) 硬化剤とからなるケイ素化合物層を設けてなる電子写真
用感光材料である。上記(A)の化合物の具体的な代表例としては、γ
―グリシドキシプロピルアルキシジアルコキシシ
ラン、ジアルキルジアルコキシシラン、ジアリー
ルジアルコキシシラン、アルキルアリールジアル
コキシシラン、Ｎ―β（アミノエチル）γ―アミ
ノプロピルアルキルアルコキシシランなどをあげ
ることができる。これらケイ素化合物の加水分解は純水または塩
酸、硫酸、リン酸などの酸を含む酸性水で加水分
解することによつて製造される。通常は上記ケイ
素化合物中に酸性水を一度に、あるいは徐々に添
加することによつて行なわれる。加水分解に際し
てはアルコール、アルコキシアルコール、酢酸な
どの有機カルボン酸などが生成してくるので無溶
媒で加水分解することが可能である。あるいは適
当な溶媒にケイ素化合物を混合したのち加水分解
することもできる。通常は得られた加水分解物溶
液をそのまま使用するが、目的によつては無溶媒
で加水分解を行なつたのち、生成するアルコール
等を加熱および／または減圧下に適当量除去して
使用することも可能であるし、その後に適当な溶
媒を添加することにより実質的に溶媒を置換する
ことも可能である。溶媒としてはアルコール、エ
ステル、エーテル、ケトン、ハロゲン化炭化水素
あるいはトルエンなどの芳香族系溶媒などが目的
に応じて種々使用可能であり、必要に応じて混合
溶媒を使用することもできる。２種以上の場合はそれぞれ加水分解して混合し
てもよいし、２種以上を混合したあと加水分解し
てもよい。成分(A)のうちのエポキシ化合物としては、塗
硫、注型用などに広く実用されているもので、例
えば過酸化法で合成されるポリオレフイン系エポ
キシ樹脂、シクロペンタジエンオキシドあるいは
ヘキサヒドロフタル酸とエピクロルヒドリンから
得られるポリグリシジルエステルなどの脂環式エ
ポキシ樹脂、―テル、ビスフエノールＡやカテコ
ール、レゾルシノールなどの多価フエノールある
いは（ポリ）エチレングリコール、（ポリ）プロ
ピレングリコール、ネオペンチルグリコール、グ
リセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリ
スリトール、ジグリセロール、ソルビトールなど
の多価アルコールとエピクロルヒドリンから得ら
れるポリグリシジルエーテル、エポキシ化値物
油、ノボラツク型フエノール樹脂とエピクロルヒ
ドリンから得られるエポキシノボメラツク樹脂、
フエノールフタレインとエピクロルヒドリンから
得られるエポキシ樹脂、さらにはグリシジルメタ
クリレートとメチルメタクリレートなどのアクリ
ル系モノマーあるいはスチレンなどとの共重合体
などがあげられる。また成分(A)のうちのコロイド状シリカとして
は、粒子径５〜100mμ、好ましくは10〜50mμの
酸性もしくはアルカリ性の水分散液、あるいはア
ルコール分散液から選ばれ、周知の方法により製
造され、市販されているものが使用できる。コロ
イド状シリカの添加により、耐摩耗性の低下を防
ぎ、すべり性が向上し、さらに性能をおとさない
で塗料コストの低減が可能となり製造上有効であ
る。該エポキシ化合物および（または）コロイド状
シリカの混合割合は、上記(A)の加水分解物の縮合
固形分１重量部に対し６重量以下、好ましくは４
重量部以下である。この量をこえると可撓性が悪
くなり、クラツクの発生やカールなどの欠陥を生
ずる危険が増大する。次に(B)成分の硬化剤としては、例えば有機カル
ボン酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸およ
びチオシアン酸の各アルカリ金属塩、オクチル酸
およびナフテン酸の各金属塩、有機アミン塩、有
機スズ化合物、フツ化ホウ素コンプレツクス、ホ
ウフツ化亜鉛、ホウフツ化スズ、水酸化テトラメ
チルアンモニウム、水酸化テトラｎ―ブチルホス
ホニウム、第４アンモニウムヒドロキシド、第４
ホスホニウムヒドロキシド、アルミニウム化合
物、各種エポキシ硬化剤などがあげられる。これ
らの２種以上を混合して使用することも可能であ
る。硬化剤の添加量は、上記の混合物１重量部あた
り0.0001〜0.5重量部、特に好ましくは0.0005〜
0.2重量部が適当であり、これより少なくては硬
化不十分となるし、一方これ以上では塗膜あるい
は樹脂の透明性の低下、耐水性の低下などの欠陥
を生ずる。該ケイ素化合物層の可撓性、耐カール性（平面
性）は次の組成物を用いることによつてより向上
でき、該層を構成するものとして特に好ましいも
のである。上記の(A)成分において有機基〔〕の少なくと
も１種がエポキシ基を含む官能基で、例えば

【式】

【式】などの基群から選ばれる化合物の加水分解物と硬化剤あるいは該加水分解物
と、エポキシ化合物および（または）コロイド状
シリカと硬化剤からなる組成物。該組成物の硬化剤は各種のエポキシ硬化剤を使
用し得るが、特に下記構造のアルミニウム化合物
が本発明の目的の達成に著しく効果的である。一般式Al・Y_lZ_(3-l)（Ｙは―OR′（R′は低級アル
キル）またはハロゲンであつて、―OR′の場合が
特に好ましい。Ｚはβ―ジケトン系化合物もしく
はβ―ケトエステル系化合物もしくはβ―ケトエ
テル系化合物の残基である。ｌは0.1もしくは２
である。）で示される化合物である。かかるアル
ミニウムキレート化合物としては、各種の化合物
をあげることができるが、組成物への溶解性、安
定性、硬化剤としての効果などの観点からとくに
好ましいのは、アセチルアセトンアルミニウム
塩、アルミニウムビスエチルアセトアセテートモ
ノアセチルアセトネート、アルミニウム―ジアル
コキシド―モノアルキルアセテート（例えばアル
ミニウム―ジ―ｎ―ブトキシド―モノエチルアセ
トアセテート、アルミニウム―ジ―iso―プロポ
キシド―モノメチルアセトアセテートなど）など
である。これらの二種以上を混合して使用するこ
とも可能である。上記ケイ素化合物は必要に応じて硬化触媒、添
加剤（例えば接着促進剤、PH調整剤、ぬれ改良
剤、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、滑剤、消泡剤、増粘剤、着色剤など）、有機
高分子樹脂などを配合して使用することも許され
る。また上記ケイ素化合物の特性を維持できる範囲
で、他のケイ素化合物、例えばアルキルトリアル
コキシシラン、アルキルトリアシロキシシラン、
ビニルトリアルコキシシラン、ビニルトリアセト
キシシラン、フエニルトリアルコキシシラン、メ
タクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ
―グリシドキシプロピルトリアルコキシシランな
どの３官能化合物や４アルコキシケイ素の加水分
解物などを配合することもできる。これらの配合
量は50重量％以下にすることが望ましい。得られた塗料は塗布手段に応じて適宜濃度、粘
度を調整したあと使用される。例えば濃度10〜80
重量％、好ましくは20〜60重量％、粘度１〜
1000c.p.s.，好ましくは１〜100c.p.s.の範囲が１
般的な実施条件である。ケイ素化合物層の硬化は主として加熱処理する
ことによつて行なわれるが、紫外線やβ線、γ線
などの放射線によつても可能である。本発明のケイ素化合物層は、支持体、光導電性
層、絶縁層を基本構成体とする感光材料、即ち絶
縁層に静電像を形成する電子写真方式にかかわる
感光材料に有用である。具体例をあげれば、例え
ば下記の諸電子写真方式の保護膜として有効に適
用できる。持続性内部分極法、持続性内部分極を利用した
法、電荷の注入と保持を利用した逆転電解法、光
誘導体法など。静電像を形成するプロセスとし
て、例えば(1)A.第１次コロナ放電、B.原画像露
光と同時に第２次コロナ放電または交流除電、C.
必要に応じ全面露光の３工程からなる方法、(2)
A.第１次帯電、B.第２次帯電または交流除電、
C.原画像露光の３工程からなる方法などがあり、
高コントラストの像をえるのに有効である。該ケイ素化合物層の厚さは特に指定しないが、
解像力が耐摩耗性を低下させない膜厚にする。例
えば他の絶縁層の上に0.5μ〜20μの範囲に設ける
ことが望ましく、保護膜性と画像特性を同時に満
足することができる。薄いと耐摩耗性が十分でな
く、また厚すぎると解像力や画質が悪くなり、さ
らに硬化時間が長くなつたり平面性の低下、スラ
ツクの発生がみられるようになり好ましくない。かかるケイ素化合物層の塗布手段としては、ロ
ー塗り、浸漬塗り、ナイフ塗り、刷毛塗り、スプ
レー塗装、流し塗りなどの通常に行なわれている
塗装方法が容易に使用可能である。本発明のケイ素化合物層の他の目的は、感光体
上の残存現像剤のクリーニング性が良いことであ
り、鮮鋭な画像が得られる。さらに短時間乾燥・
硬化処理によりすぐれた性能を与え、製造技術と
して有用である。支持体、光導電性層、絶縁層は特に限定される
ものではなく通常使用されているものから適宜選
択される。具体例を上げると次のとおりである。支持体：少なくとも光導電性層に面する側にお
いて導電性を有するもので各種金属板あるい
は金属箔（アルミニウム、銅、鉄、亜鉛、ス
テンレスなど）、非導電性材料の表面に導電
性の材料を被覆したもの。光導電性層：セレン、セレン―テルル合金、セ
レン―カドミウム合金、酸化亜鉛、硫化亜
鉛、硫化カドミウム、酸化鉛、イオウ、アン
トラセン、ポリビニルアントラセン、Ｎ―ビ
ニルカルバゾール、ポリビニルカルバゾール
など。絶縁層：有機高分子フイルム、絶縁性有機物質
より好ましく選択される。例えばポリエチレ
ンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレ
ート、ポリエチレン―２，６ナフタリンジカ
ルボキシレート、不飽和ポリエステルなどの
ポリエステル重合体、ポリプロピレン、ポリ
エチレンなどのポリオレフイン、ポリアミ
ド、高分子主鎖に五員環イミド結合を有する
ポリイミド、セルロースエステルなどのセル
ロース誘導体、ポリスチレン、ポリカーボネ
ート、アクリル酸エステル共重合体、メタク
リル酸エステル共重合体、ポリ塩化ビニル、
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、アル
キツド樹脂、フエノール樹脂、尿素樹脂、メ
ラミン樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂な
どであり、これらの共重合体あるいはブレン
ド物をも含むが、必ずしもこれらに限定され
ない。高分子フイルムの場合は未延伸状態の
ままでも使用可能であるが、延伸加工特に２
軸延伸加工することにより、機械的性質、化
学的性質が向上し好ましい。なかでもポリエ
チレンテレフタレートフイルムが特に好まし
く用いられる。かかる絶縁層の膜厚は光導電
層の種類によつて変動するものであるが、通
常は５〜200μのものが使用される。本発明の構成例を示すと、特に好ましくは支持
体、光導電性層、絶縁層、特定ケイ素化合物層が
この順序に積層された感光材料である。支持体と
光導電性層をを積層し、別に絶縁層、例えば２軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフイルム上にケ
イ素化合物層を設けた積層体を作り、それぞれ積
層合体してもよいし、またフイルムの片面にケイ
素化合物層を設け、反対面に光導電性層を設けた
のち、支持体と積層合体してもよい。さらにまた
他の基材フイルムにケイ素化合物層をあらかじめ
設けておき、転写後基材を離して絶縁層の上に該
ケイ素化合物層を積層することも可能である。無
定形セレンのような結晶化しやすい光導電性層を
用いる場合でも、上記方法により熱による結晶化
を防ぐことができる。上記構成例において支持体と光導電性層との間
に絶縁層を設けてもよい。適正な修正や変形は本発明の範囲内に入る。例
えば支持体が有機高分子材料の場合は光導電性層
を有する側の反対面の有機高分子材料上に本発明
のケイ素化合物層を設けることもできる。また支
持体、光導電性層、絶縁層はそれぞれ一層でもよ
く、二層以上を積層したものでもよい。本発明の電子写真用感光材料は、各層間に必要
に応じて接着性を向上させるために表面処理（例
えばコロナ放電処理、不活性ガス中でのコロナ放
電処理、火炎処理、逆スパツタリング処理、電荷
を負荷した火炎による処理など）を行なつたり、
表面改質層を設けてもよく、また必要があれば着
色層などを設けることができる。着色は上記に示した塗剤や絶縁層中への着色剤
の添加あるいは新しい着色層の設置により可能で
あるが、本発明の他の特徴はケイ素化合物の選択
により可染性を付与することができることにあ
る。以上のようにして得られる電子写真用感光材料
は、保護膜が透明であり、硬度特に耐摩耗性、耐
スクラツチ性にすぐれ、スチールウールなどの硬
い材料で強く摩擦してもほとんど傷がつくことな
く、電子写真用感光材料の問題点であつた加工
時、画像形成時および使用中における引くかき傷
による外観低下をおこすことがないので、耐久
性、商品価値が著しく向上する。また易クリーニ
ング性、耐薬品性、耐湿性にすぐれ、さらに連続
的に製造および使用することもできるので、生産
性、作業性の向上を可能にした感光材料を提供で
きる。以下実施例について説明するが、これらに限定
されるべきものではない。なお例中の部数は特に
ことわりのない限り重量による。実施例１ (1) γ―グリシドキシプロピルメチルジエトキシ
シラン加水分解物の調製回転子を備えた反応器中にγ―グリシドキシ
プロピルメチルジエトキシシラン248部を仕込
み、マグネチツクスターラーを用いて撹拌しな
がら、0.01N塩酸水溶液36部を除々に加えた。
添加後さらに撹拌を１時間継続したのち、１昼
夜放置、熟成し均一で無色透明の加水分解物を
得た。得られた加水分解物の固分（120℃の熱
風乾燥機中で２時間放置後の残存物）は61％で
あつた。（本加水分解物溶液を以下Ｈ―GMSを
略す。） (2) 塗料の調製および塗装厚さ25μの２軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフイルム（東レ(株)製“ルミラー”）の片面
にアクリル酸エステル共重合体を主剤とする接
着促進層を設けたのち、Ｈ―GMS100部に、約
20mμの粒径のSio₂30％を有するコロイド状シ
リカのメタノール分散液150部、“エピコート
828”（シエル化学製ビスフエノールＡジグクリ
シジルエーテル、エポキシ化合物）45部、アセ
チルアセトシアルミニウム塩９部、シリコーン
系界面活性剤0.32部、さらに溶剤としてイソプ
ロピルアルコール／ｎ―ブチルアルコール／ト
ルエン＝２／２／１混合物200部を添加配合し
た塗料を、固形分塗布量が３ｇ／m²になるよう
にロールコーターを用いて塗布し、150℃で１
分間乾燥、硬化したのち連続的に巻き取つた。
作業性にすぐれ、平面性および透明性は良好で
あつた。該積層フイルムの性能を表―１に示
す。反対面にエポキシ樹脂を結着剤として用いた
硫化カドミウム微粉末からなる厚さ80μの光導
電層を設けたのち、アルミニウムドラム支持体
と積層合体して電子写真用感光材料を得た。該感光材料を持続性内部分極を利用した電子
写真複写機の感光体として、繰返し使用したと
ころ、２万回使用後も肉眼で観察できる傷は発
生しなかつた。さらに３万回使用しても傷の増
加はほとんど認められず、外観はきわめて良好
であつた。電子写真特性は良好であり、画質の
低下はなく鮮明な複写画像が得られた。また液体現像液に対する耐薬品性は実用上何
ら問題なく、ゴムドクターブレードによるクリ
ーニング性は良好であつた。なお試験方法は次のとおりである。（以下実施
例、比較例において同じ。） (1) 外観肉眼観察で光学的不均一性その他欠陥を調べ
る。 (2) 耐摩耗性スチールウール＃0000で摩擦し、傷のつきに
くさを調べる。判定は次のようにして行なつ
た。Ａ：強く摩擦しても傷がつかない。Ｂ：かなり強く摩擦すると少し傷がつく。Ｃ：弱い摩擦でも傷がつく。 (3) 接着強さ塗膜面にセロハン粘着テープを強くはりつ
け、180゜方向に急激にはがす。判定〇：塗膜が全くハク離しない。 △：塗膜のハク離面積50％末満。 ×：塗膜のハク離面積50％以上。 (4) 耐熱水性沸騰水（95℃以上）中１時間浸漬処理後の接
着強さで示す。判定は接着強さに準じる。 (5) 耐薬品性薬品（炭化水素系溶剤として、トルエン、キ
シレン、リグロケイの３種及びハロゲン化炭化
水素系溶剤として、クロロホルム、四塩化炭
素、トリクレンの３種の計６種類の薬品）のそ
れぞれの中へ試料を浸漬し、室温（20〜25℃）
下24時間後の塗膜の異常の有無を観察する。 (6) 可撓性（曲げテスト）ケイ素化合物層を外側にして積層フイルムを
直径の異なる種々の円柱に巻きつけ、ケイ素化
合物層に亀裂が発生するときの直径で表わす。
実用上10mm以下の値が望ましい。比較例１実施例１においてケイ素化合物層を設けない電
子写真用感光材料は、電子写真特性には問題なか
つたが、耐摩耗性に劣り、数回転で“ルミラー”
フイルム表面に傷の発生が見られ、繰返し使用に
よりフイルム表面が摩耗し、外観が著しく悪化し
て、画質の低下となり使用上大きな問題となつ
た。３万回使用したとき、フイルム表面はマツト
化された状態になり、複写画像は汚れてきた。耐摩耗性は表―１のとおりであつた。比較例２実施例１においてケイ素化合物層のかわりに、
以下に示す層を設けて電子写真用感光材料を作つ
た。 No.１末端シラノールを有するポリメチルシロキ
サン樹脂層。厚さ1μ。 No.２ポリビニルブチラール層（積水化学(株)製
“エスレツク”BM―２）。厚さ2μ。耐摩耗性は表―１のとおりであつた。No.１，No.
２ともに耐摩耗性が十分でなく、繰返し使用耐久
性は実用上問題となつた。比較例３アクリル酸エチルとアクリル酸の共重合体
（90：10モル比）10部を90部の溶剤（メチルエチ
ルケトン：イソプロパノール＝50：50重量比）に
溶解し、ヘキサメトキシメチロールメラミン（三
和カミカル製“ニカラツク”MW―123.5部、Ｐ
―トルエンスルホン酸0.35部、β（3.4―エポキシ
シクロヘキシル）―エチルトリメトキシシラン
0.5部を加え、オーバーコート液を調整した。厚さ25μの２軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフイルム（東レ(株)“ルミラー”）の片面にワイ
ヤパーで塗布し、140℃で２分間乾燥、硬化した。該積層フイルムを用いて実施例１に準じて電子
写真感光材料を得た。電子写真特性、クリーニング性は良好であつた
が、耐摩耗性が不充分であるため、繰返し使用２
万回で保護層に傷の発生が認められた。引続き使
用すると４万１千回で保護層がマツト化された状
態となり、複写画像が著しく汚れていた。実施例２実施例１のケイ素化合物にγ―グリシドキシプ
ロピルトリメトキシシランの塩酸水溶液による加
水分解物20部添加したケイ素化合物を使用して、
実施例１に準じて電子写真用感光材料を得た。実施例１と同様の結果が得られた。実施例３実施例１において、ケイ素化合物層として、Ｈ
―GMS100部、約15mμの粒径のSiO₂20％を有し、
PH３〜４の水性コロイド状シリカ分散液（例えば
日産化学(株)製“スノーテツクス”Ｏ）350部、“デ
イナコールEX―314”（長瀬産業(株)製エポキシ化
合物）81部、アセチルアセトンアルミニウム塩11
部、シリコーン系界面活性剤0.34部、イソプロピ
ルアルコール／ｎ―ブチルアルコール＝２／１混
合液190部を添加配合した塗料を固形分塗布量が
３ｇ／m²になるようにロール塗布し、150℃、１
分間乾燥硬化したのち連続的に巻取つた。透明性
は良好であり、作業性すぐれた平面性、可撓性が
著しく良好であつた。実施例１に準じて電子写真
用感光材料を作製したところ、電子写真特性、耐
摩耗性、耐久性、耐薬品性、クリーニング性が良
好であり、鮮明な画像が得られた。

【表】以下以下

Claims

【特許請求の範囲】１支持体、光導電性層、絶縁層を基本構成体と
する感光材料の表面に (A) 一般式【式】（式中ｎ＝１〜２，R¹はC₁〜C₆のアルキル、
アルコキシアルキル、アシル、R²はフエニル、
C₁〜C₆のアルキルあるいはアリール、R³はC₀
〜C₁₀のアルキレン（ここでC₀はR³がない場合
を示す）あるいはアルキレンオキシドまたはポ
リアルキレンオキシド、Ｘは有機基）で示され
る化合物の１種または２種以上の加水分解物
と、エポキシ化合物およびコロイド状シリカと
の混合物、 (B) 硬化剤とからなるケイ素化合物層を設けたことを特徴と
する電子写真用感光材料。