JPH0268951A - Master slice system semiconductor integrated circuit - Google Patents

Master slice system semiconductor integrated circuit

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JPH0268951A
JPH0268951A JP22076588A JP22076588A JPH0268951A JP H0268951 A JPH0268951 A JP H0268951A JP 22076588 A JP22076588 A JP 22076588A JP 22076588 A JP22076588 A JP 22076588A JP H0268951 A JPH0268951 A JP H0268951A
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波田野 勤
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Abstract

PURPOSE:To improve drive capacity of a circuit block, reduce operation delay time, and enable a cell at a circuit cell part to be used effectively hy providing a circuit cell for constituting a buffer circuit below a wiring channel for using a space outside the circuit block. CONSTITUTION:In a master slice system semiconductor integrated circuit device where a circuit cell row where a plurality of circuit cells which are constituents of the circuit block are arranged and a wiring channel row where wiring for connecting between the circuit blocks are provided alternately, a circuit cell for constituting a buffer cell is placed below the above wiring channel. Then, the buffer circuit is connected to the output part of a circuit block through a wiring where another circuit block exists in the above wiring channel and is connected between the above circuit block and the above other circuit block when load connected to the output part of the above circuit block exceeds a certain value.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、マスタスライス方式半導体集積回路装置に関
し、特に、配線チャネル下に回路ブロック間で用いられ
るバッファ回路を配設したマスタスライス方式半導体集
積回路装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a master slice semiconductor integrated circuit device, and particularly to a master slice semiconductor integrated circuit device in which a buffer circuit used between circuit blocks is provided under a wiring channel. Related to circuit devices.

[従来の技術] 従来のマスタスライス方式半導体集積回路装置の代表的
チップ構成を第4図に示す。同国に示されるように、従
来のものにおいては、半導体チップ1の周辺部には、外
部回路との電気的接続を行うためのバッド2、外部回路
と内部回路とのインターフェースをとるための入出力回
路セル3が配列され、その内側に内部回路領域4が存在
する。
[Prior Art] FIG. 4 shows a typical chip configuration of a conventional master slice type semiconductor integrated circuit device. As shown in the figure, in the conventional type, the peripheral part of the semiconductor chip 1 includes a pad 2 for electrical connection with an external circuit, and an input/output for interfacing the external circuit with the internal circuit. Circuit cells 3 are arranged, and an internal circuit region 4 exists inside them.

そして、内部回路領域4には、回路セル5を列状に配列
した回路セル行6と、複数の回路セルで構成される回路
ブロックのブロック間配線用としての配線チャネル行7
とが交互に配列された構成となっている。このように、
従来、配線チャネル下は、素子が配置されることはなく
、全くのデッドスペースとして配線のためだけに利用さ
れるものであった。
In the internal circuit area 4, there is a circuit cell row 6 in which circuit cells 5 are arranged in columns, and a wiring channel row 7 for wiring between blocks of a circuit block composed of a plurality of circuit cells.
are arranged alternately. in this way,
Conventionally, no elements were placed under the wiring channel, and the space under the wiring channel was used only for wiring as a completely dead space.

一方で、この方式を改良するものとして、配線チャネル
下にもメモリセル等を構成することのできるセルを配置
し、配線チャネル下のセルを一部回路ブロック構成用に
用いる方式や、あるいは、基本セルを内部回路領域全面
に形成し、一部のセル上を配線チャネルとして用いる方
式等も提案されている。
On the other hand, as an improvement to this method, there is a method in which cells that can configure memory cells etc. are also placed under the wiring channel, and some cells under the wiring channel are used for configuring circuit blocks. A method has also been proposed in which cells are formed over the entire internal circuit region and a portion of the cell is used as a wiring channel.

[発明が解決しようとする問題点] 上述した従来のマスタスライス方式半導体集積回路装置
は、配線チャネル下にセルが存在しない場合、あるいは
そこのセルを回路ブロックを構成するために用いない場
合には、配線チャネル下がデッドスペースとなるので1
面積の使用効率が低く、また、回路ブロックを構成する
のにセルが不足することがあった。一方、配線チャネル
下の素子を利用する場合には、その接続のために配線チ
ャネルを消費し、本来必要とされる回路ブロック間の配
線用チャネル本数に不足が生ずる。そのため、配線チャ
ネル下に配置されるセルは、メモリセル等の比較的単純
な回路ブロックのためのセル等に限定されていた。
[Problems to be Solved by the Invention] The above-described conventional master slice type semiconductor integrated circuit device has problems when there are no cells under the wiring channel or when the cells there are not used to configure a circuit block. , since there is dead space under the wiring channel, 1
The area efficiency was low, and there were times when there was a shortage of cells to form a circuit block. On the other hand, when an element under a wiring channel is used, the wiring channel is consumed for the connection, resulting in an insufficient number of wiring channels between circuit blocks that are originally required. Therefore, cells arranged under the wiring channel are limited to cells for relatively simple circuit blocks such as memory cells.

また、マスタスライス方式においては、回路ブロック間
の配線の長さは多様であり、そして、各回路ブロックに
接続される負荷の大きさも一様ではない。従って、同一
の大きさのセルのみを配置したマスタスライスにおいて
は、回路ブロックによっては負荷を駆動するのに能力が
不足したり、あるいは遅延時間が増大したりした。
Furthermore, in the master slice method, the lengths of wiring between circuit blocks vary, and the magnitude of the load connected to each circuit block also varies. Therefore, in a master slice in which only cells of the same size are arranged, some circuit blocks may lack the ability to drive a load, or the delay time may increase.

[問題点を解決するための手段] 本発明のマスタスライス方式半導体集積回路装置は、配
線チャネル下に、バッファ回路を構成するための回路セ
ルを配設し、第1層配線によってバッファ回路としての
基本的配線を完了せしめ、そして、配線チャネルにおけ
る回路ブロック開の配線途中において、必要に応じて、
上層配線においてバッファ回路を接続するものである。
[Means for Solving the Problems] The master slice type semiconductor integrated circuit device of the present invention has a circuit cell for configuring a buffer circuit disposed below the wiring channel, and a circuit cell for configuring the buffer circuit by the first layer wiring. After completing the basic wiring, and during the wiring of the circuit block opening in the wiring channel, if necessary,
The buffer circuit is connected to the upper layer wiring.

[実施例] 次に、図面を参照して、本発明の実施例について説明す
る。
[Example] Next, an example of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す図であって、第1図(
a)は、その平面図、第1図(b)は、第1図(a)の
等価回路図、第1図(c)および(d)は、第1図(a
>の部分接続図である。第1図(a)に示されるように
、回路セル部においては、ゲート電極21.23、P1
拡散層22およびN+拡散層24が形成され、こ−に、
基本セルとして4個のPMOSFET (以下、MPと
略す)と4個のNMOSFET (以下、MNと略す)
とが形成されている。一方、配線チャネル部においては
、ゲート電4illi25、P+拡散層26およびN+
拡散層27が形成され、こ−に、バッファ回路用の4個
のMPと4個のMNとが形成されている。同図において
、丸印は、ゲートを極、P“拡散層あるいはN“拡散層
に対するコンタクト、点線は、第1層配線、実線は、第
2層配線、波線は、第3層配線を示しており、また、三
角は、第1層配線と第2層配線を接続するスルーホール
(以下、第1のスルーホールという)、二重丸は、第2
層配線と第3層配線を接続するスルーホール(以下、第
2のスルーホールという)を示している。第1図(a)
に図示された装置は、第1図(b)に示したバッファ回
路材4入力NOR回路を構成している[但し、第1図(
b)におけるA点は第1図(a)では未接続であるコ。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention, and FIG.
a) is its plan view, FIG. 1(b) is an equivalent circuit diagram of FIG. 1(a), and FIG. 1(c) and (d) are its plan view.
> is a partial connection diagram. As shown in FIG. 1(a), in the circuit cell section, the gate electrodes 21, 23, P1
A diffusion layer 22 and an N+ diffusion layer 24 are formed;
4 PMOSFETs (hereinafter abbreviated as MP) and 4 NMOSFETs (hereinafter abbreviated as MN) as basic cells
is formed. On the other hand, in the wiring channel section, the gate electrode 4illi25, the P+ diffusion layer 26 and the N+
A diffusion layer 27 is formed, in which four MPs and four MNs for buffer circuits are formed. In the figure, the circles indicate the gate as the pole, the contacts to the P"diffusion layer or the N"diffusion layer, the dotted lines indicate the first layer wiring, the solid lines indicate the second layer wiring, and the dotted lines indicate the third layer wiring. Also, the triangle indicates a through hole connecting the first layer wiring and the second layer wiring (hereinafter referred to as the first through hole), and the double circle indicates the second through hole.
A through hole (hereinafter referred to as a second through hole) connecting the layer wiring and the third layer wiring is shown. Figure 1(a)
The device shown in FIG. 1 constitutes the buffer circuit material 4-input NOR circuit shown in FIG.
Point A in b) is not connected in Fig. 1(a).

次に、第5図を参照して、バッファ回路の必要性につい
て説明する。従来のマスタスライス方式の集積回路装置
にあっては、バッファ回路は存在せず、第1図(b)に
示すA点を回路ブロックの出力点として、この点を配線
チャネルにおける配線に接続し、他の回路ブロックに接
続していた。
Next, the necessity of the buffer circuit will be explained with reference to FIG. In the conventional master slice type integrated circuit device, there is no buffer circuit, and point A shown in FIG. 1(b) is used as the output point of the circuit block, and this point is connected to the wiring in the wiring channel. It was connected to another circuit block.

ところが、A点に接続される負荷が大きい場合には、こ
のま−では大きな遅延が生じてしまう。負荷の大きさは
、ファンアウトと配線容量によって決定されるが、最近
の集積回路装置においては配線長が長くなる傾向にある
ので、負荷もそれにつれて増大している。第5図に負荷
の大きさに対する遅延時間の関係を示す。ライン1は、
第1図(b)でバッファがない場合、ライン2は、バッ
ファを付けた場合を示しており、toは、バッファ自身
の遅延を示している。負荷の小さい領域ではバッファを
付けない方が遅延は小さいが、CLを境界としてバッフ
ァ回路を付けたほうが遅延時間が小さくなる。そこで、
全体の遅延時間を短縮するには、回路ブロック毎に、接
続される負荷の大きさに応じて、バ・ソファ回路を接続
すべき力)苦力)を決定する必要が生じる。
However, if the load connected to point A is large, a large delay will occur. The magnitude of the load is determined by fan-out and wiring capacitance, and as wiring lengths tend to become longer in recent integrated circuit devices, the load also increases accordingly. FIG. 5 shows the relationship between delay time and load size. Line 1 is
In FIG. 1(b), when there is no buffer, line 2 shows the case with a buffer, and to shows the delay of the buffer itself. In a region with a small load, the delay is smaller if no buffer is provided, but the delay time is smaller if a buffer circuit is provided with the CL as the boundary. Therefore,
In order to shorten the overall delay time, it is necessary to determine the force with which the bath circuit should be connected, depending on the size of the load to be connected, for each circuit block.

回路ブロックとバッファ回路との接続、非接続は、第1
図(a)に示すC領域内の配線によって行うことができ
る。即ち、バッファ回路を接続する場合には、第1図(
c)に示すように1回路ブロックの出力を、第2スルー
ホール、第2層配線および第1スルーホール10を介し
てバ・ソファ回路に接続し、バッファ回路の出力は、第
1スルーホール11を介して取り出し、配線チャネルに
おける出力接続点Bに接続する。一方、バ・ソファ回路
を必要としない場合には、第1図(d)に示すように、
回路ブロックの出力は、第3層配線12によって、直接
、出力接続点Bに接続する。
The connection or disconnection between the circuit block and the buffer circuit is determined by the first
This can be done by wiring in the C area shown in FIG. That is, when connecting a buffer circuit, the method shown in Fig. 1 (
As shown in c), the output of one circuit block is connected to the buffer circuit via the second through hole, the second layer wiring and the first through hole 10, and the output of the buffer circuit is connected to the buffer circuit through the first through hole 11. and connect it to the output connection point B in the wiring channel. On the other hand, if a sofa circuit is not required, as shown in Figure 1(d),
The output of the circuit block is directly connected to the output connection point B by the third layer wiring 12.

ところで、第5図における境界点CLは、バッファ回路
用のMOSFETのゲート幅を変えることによって移動
させるできるので、実際の集積回路においては、マスタ
スライスのゲート規模に応じて、バッファ回路における
FETの寸法を決定すればよい。
By the way, the boundary point CL in FIG. 5 can be moved by changing the gate width of the MOSFET for the buffer circuit, so in an actual integrated circuit, the dimensions of the FET in the buffer circuit will vary depending on the gate size of the master slice. All you have to do is decide.

本実施例によれば、バッファ回路自体の配線は第1層配
線で完了しており、そして、バッファ回路と回路ブロッ
クとの接続は、配線チャネルの周辺部の1部領域を使っ
て行っているので、第2層および第3層配線は、配線チ
ャネル部において自由にブロック間配線として用いるこ
とができる。
According to this embodiment, the wiring of the buffer circuit itself is completed with the first layer wiring, and the connection between the buffer circuit and the circuit block is performed using a part of the peripheral area of the wiring channel. Therefore, the second and third layer interconnects can be freely used as inter-block interconnects in the interconnect channel portion.

また、バッファ回路の使用の有無は、第1図(a)のC
領域の配線処理のみで行うことができ、回路ブロックの
出力は、常にB点から得ることができるので、この構成
は、電算機処理上好都合である。即ち、通常は、バッフ
ァ回路を伴うブロック回路とそうでないブロック回路と
は、ブロック回路名(ラベル)を変えて処理するのであ
るが、本実施例によれば、その必要はなくなる。また、
このことによって、設計工程を単純化することができる
Also, whether or not a buffer circuit is used is determined by C in Figure 1(a).
This configuration is convenient for computer processing because it can be performed only by wiring the area, and the output of the circuit block can always be obtained from point B. That is, normally, block circuits with buffer circuits and block circuits without buffer circuits are processed with different block circuit names (labels), but according to this embodiment, this is not necessary. Also,
This can simplify the design process.

次に、第2図を参照して本発明の他の実施例について説
明する。第2図(a)は、その平面図であり、第2図(
b)は、第2図(a)の等価回路図である。この実施例
においては、回路プロ・ツクは、その出力部にCMOS
インバータを有しているが、このインバータには、バッ
ファ回路部のCMOSインバータが並列に接続されてい
る。このようにして、出力段インバータの実効ゲート幅
の増大を図り、ブロック回路インバータの負荷駆動能力
を増強している。負荷がさらに大きい場合には、配線チ
ャネル部の他のトランジスタを並列に接続して、さらに
駆動能力を高めることも可能である。
Next, another embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. Fig. 2(a) is a plan view thereof, and Fig. 2(a) is a plan view thereof.
b) is an equivalent circuit diagram of FIG. 2(a). In this embodiment, the circuit proc has a CMOS at its output.
It has an inverter, and the CMOS inverter of the buffer circuit section is connected in parallel to this inverter. In this way, the effective gate width of the output stage inverter is increased, and the load driving capability of the block circuit inverter is enhanced. If the load is even larger, it is also possible to connect other transistors in the wiring channel section in parallel to further increase the driving capability.

第3図は、本発明のさらに他の実施例を示すものであり
、この実施例では配線チャネル部のバッファドして、バ
イM−ラCMO3(B i CMOS)回路を用いてい
る。B1CMOSバッファは、CMOSバッファに比べ
て遅延時間の負荷依存性が小さく、大規模集積回路の高
速化にとって有利であるが、素子数が多く、−船釣には
ゲート密度は、CMO8程上がらない、しかし、本発明
を適用すれば、配線チャネルのデッドスペースを有効に
活用するので、CMOSのもつ高集積度を維持したま一
1BiCMOSバッファの高速性を利用することができ
る。
FIG. 3 shows still another embodiment of the present invention, in which a biM-Ra CMO3 (B i CMOS) circuit is used to buffer the wiring channel section. The B1 CMOS buffer has less load dependence of delay time than the CMOS buffer, and is advantageous for speeding up large-scale integrated circuits, but it has a large number of elements, and - for boat fishing, the gate density is not as high as the CMO8. However, if the present invention is applied, the dead space of the wiring channel is effectively utilized, so the high speed of the 1Bi CMOS buffer can be utilized while maintaining the high degree of integration of CMOS.

[発明の効果コ 以上説明したように本発明は、配線チャネル下に負荷駆
動用回路を配設し、主に第1層配線によって負荷駆動用
回路の接続を完結し、第1スルーホールより上の層で構
成される配線工程においてその使用可否が選択される構
成をとることによって、次の効果を奏することができる
[Effects of the Invention] As explained above, the present invention provides a load driving circuit under the wiring channel, completes the connection of the load driving circuit mainly by the first layer wiring, and connects the load driving circuit above the first through hole. The following effects can be achieved by adopting a configuration in which the availability of the layer is selected in the wiring process consisting of the layers.

■回路ブロック外のスペースを用いて、回路ブロックの
駆動能力を高め、動作遅延時間を短縮することができる
■By using the space outside the circuit block, the driving capacity of the circuit block can be increased and the operation delay time can be shortened.

■配線チャネルの上層配線を自由に回路ブロック間の配
線として用いることができるので、配線チャネル下にバ
ッファ回路を設けても、配線チャネルの配線の自由度を
減することはない。
(2) Since the upper layer wiring of the wiring channel can be freely used as wiring between circuit blocks, even if a buffer circuit is provided under the wiring channel, the degree of freedom in wiring the wiring channel is not reduced.

■回路セル部内のセルを回路ブロックの駆動能力を高め
るために使う必要がなくなるから、回路セル部のセルを
有効に使用することができる。
(2) Since it is no longer necessary to use the cells in the circuit cell section to increase the driving ability of the circuit block, the cells in the circuit cell section can be used effectively.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図(a>は、本発明の一実施例を示す平面図、第1
図(b)は、その等価回路図、第1図(C)及び(d)
は、第1図(a)の部分接続図、第2図(a)は、本発
明の他の実施例の平面図、第2図(b)は、その等価回
路図、第3図は、本発明の更に他の実施例を示す回路図
、第4図は、従来例の平面図、第5図は、本発明の動作
説明図である。 21.23.25・・・ゲート電極、  22.26・
・・P+拡散層、 24.27・・・N+拡散層、 M
P・・・PMO3FET、  MN・・NMO8FET
FIG. 1 (a> is a plan view showing one embodiment of the present invention;
Figure (b) is its equivalent circuit diagram, Figure 1 (C) and (d)
is a partial connection diagram of FIG. 1(a), FIG. 2(a) is a plan view of another embodiment of the present invention, FIG. 2(b) is its equivalent circuit diagram, and FIG. FIG. 4 is a circuit diagram showing still another embodiment of the present invention, FIG. 4 is a plan view of the conventional example, and FIG. 5 is an explanatory diagram of the operation of the present invention. 21.23.25...Gate electrode, 22.26.
...P+ diffusion layer, 24.27...N+ diffusion layer, M
P...PMO3FET, MN...NMO8FET
.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  回路ブロックの構成要素である回路セルが複数個配列
された回路セル行と、回路ブロック間を接続する配線が
設けられる配線チャネル行とが交互に配設されたマスタ
スライス方式半導体集積回路装置において、前記配線チ
ャネル下には、バッファ回路を構成することのできる回
路セルが配置されており、該バッファ回路は、ある回路
ブロックの出力部に、他の回路ブロックが前記配線チャ
ネルに存在する配線を介して接続され、かつ、前記ある
回路ブロックの出力部に接続される負荷が、ある一定値
以上であるときに、前記ある回路ブロックと前記他の回
路ブロックとの間に接続されるものであることを特徴と
するマスタスライス方式半導体集積回路装置。
In a master slice type semiconductor integrated circuit device, circuit cell rows in which a plurality of circuit cells constituting a circuit block are arranged and wiring channel rows in which wirings connecting between circuit blocks are arranged alternately. Circuit cells that can constitute a buffer circuit are arranged under the wiring channel, and the buffer circuit connects the output section of a certain circuit block to another circuit block via the wiring existing in the wiring channel. and is connected between the certain circuit block and the other circuit block when the load connected to the output part of the certain circuit block is equal to or higher than a certain value. A master slice semiconductor integrated circuit device characterized by:
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