JPH0267A - 感光性組成物及びその現像方法 - Google Patents
感光性組成物及びその現像方法Info
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- JPH0267A JPH0267A JP6049689A JP6049689A JPH0267A JP H0267 A JPH0267 A JP H0267A JP 6049689 A JP6049689 A JP 6049689A JP 6049689 A JP6049689 A JP 6049689A JP H0267 A JPH0267 A JP H0267A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール
又はポリ酢酸ビニルと、オルソキノンジアジド系化合物
とを含有する感光性組成物及びこのような感光性組成物
の現像方法に関するものである。
又はポリ酢酸ビニルと、オルソキノンジアジド系化合物
とを含有する感光性組成物及びこのような感光性組成物
の現像方法に関するものである。
[従来の技術及び発明が解決しようとする課題]従来よ
り高分子化合物とオルソキノンジアジド系化合物とを含
有する感光性組成物が知られており、例えばフェノール
樹脂と、1.2−ナフトキノン−ジアジド(2)−4−
スルホン酸のノボラックエステルの組合せがある。これ
らはフォトレジスト、フォトレリーフなどの用途に利用
されている。しかしながら、これらの組合せではアルカ
リ水溶液で現像可能である゛が、感光皮膜が脆く、きす
がつきやすいなど機械的強度が不充分である。
り高分子化合物とオルソキノンジアジド系化合物とを含
有する感光性組成物が知られており、例えばフェノール
樹脂と、1.2−ナフトキノン−ジアジド(2)−4−
スルホン酸のノボラックエステルの組合せがある。これ
らはフォトレジスト、フォトレリーフなどの用途に利用
されている。しかしながら、これらの組合せではアルカ
リ水溶液で現像可能である゛が、感光皮膜が脆く、きす
がつきやすいなど機械的強度が不充分である。
感光皮膜の強度を上げるため、このような樹脂にポリビ
ニルブチラール、ポリ酢酸ビニル等の樹脂を添加するこ
とが提案されているが(特開昭50−96304号公報
、特開昭55−12934号公報、特開昭55−639
7号公報)、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル等
は通常のアルカリ水溶液には溶解しないので、限られた
量しか用いることができず、又、比較的分子量の小さい
ものが用いられている。
ニルブチラール、ポリ酢酸ビニル等の樹脂を添加するこ
とが提案されているが(特開昭50−96304号公報
、特開昭55−12934号公報、特開昭55−639
7号公報)、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル等
は通常のアルカリ水溶液には溶解しないので、限られた
量しか用いることができず、又、比較的分子量の小さい
ものが用いられている。
従って、従来の感光性組成物を用いた感光フィルムでは
充分な機械的強度が得られず、折り曲げたり筒状に丸め
たりするとクラックが発生し、良好な画像が得られなか
った。
充分な機械的強度が得られず、折り曲げたり筒状に丸め
たりするとクラックが発生し、良好な画像が得られなか
った。
[発明の目的]
本発明の目的は、これらの問題点を解消し、感光皮膜が
強靭でしかも水系現液で現像可能な感光性組成物及びそ
の現像方法を提供することにある。
強靭でしかも水系現液で現像可能な感光性組成物及びそ
の現像方法を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
このような目的を達成する本発明の感光性組成物は、高
分子化合物として平均分子量10000から23000
0で、ブチラール化度が20から8軸1%であるポリビ
ニルブチラール、又は平均分子量15000から270
000であるポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれた1
種以上と、オルソキノンジアジド系化合物とを含有する
ものであり、又、本発明の現像方法は、高分子化合物と
してポリビニルブチラール。
分子化合物として平均分子量10000から23000
0で、ブチラール化度が20から8軸1%であるポリビ
ニルブチラール、又は平均分子量15000から270
000であるポリ酢酸ビニルよりなる群から選ばれた1
種以上と、オルソキノンジアジド系化合物とを含有する
ものであり、又、本発明の現像方法は、高分子化合物と
してポリビニルブチラール。
ポリビニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルよりなる群
から選ばれた1種以上と、オルソキノンジアジド系化合
物とを含有する感光性組成物を露光し、次いで芳香族カ
ルボン酸、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアル
キル硫酸のアルカリ金属塩化合物と、アルカリ金属の水
酸化物及びあるいは炭酸塩との水溶液である水系現像液
で現像するものである。
から選ばれた1種以上と、オルソキノンジアジド系化合
物とを含有する感光性組成物を露光し、次いで芳香族カ
ルボン酸、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアル
キル硫酸のアルカリ金属塩化合物と、アルカリ金属の水
酸化物及びあるいは炭酸塩との水溶液である水系現像液
で現像するものである。
本発明の感光性組成物において使用する高分子化合物は
、ポリビニルブチラール、又はポリ酢酸ビニルよりなる
群から選ばれた1種以上が用いられている。これら高分
子化合物は有機溶剤に可溶であるば使用可能であるが、
その分子量が少なすぎると皮膜強度が低下し、又、分子
量が大きすぎると感光液が高粘度になり、その調整が困
難になるため好ましくない、ブチラール化度については
低くすぎると耐水性が悪くなり、高すぎると水系現像液
での現像性が低下する。以上の理由によりポリビニルホ
ルマールは、平均分子量10000から230000で
ブチラール化度が20ら80mo1%、ポリ酢酸ビニル
においては平均分子量15000から270000であ
る高分子化合物が好ましい。
、ポリビニルブチラール、又はポリ酢酸ビニルよりなる
群から選ばれた1種以上が用いられている。これら高分
子化合物は有機溶剤に可溶であるば使用可能であるが、
その分子量が少なすぎると皮膜強度が低下し、又、分子
量が大きすぎると感光液が高粘度になり、その調整が困
難になるため好ましくない、ブチラール化度については
低くすぎると耐水性が悪くなり、高すぎると水系現像液
での現像性が低下する。以上の理由によりポリビニルホ
ルマールは、平均分子量10000から230000で
ブチラール化度が20ら80mo1%、ポリ酢酸ビニル
においては平均分子量15000から270000であ
る高分子化合物が好ましい。
又1本発明において使用するオルソキノンジアジド系化
合物としては、2−ジアゾ−1−ナフトール−5(4′
−メチルフェニルスルホネート)、2−ジアゾ−1−ナ
フトール−5−フェノキシスルホネート、1.2−ナフ
トキノン−ジアジド(2) −4−スルホン酸のノボラ
ックエステル、2.2′−ジヒドロキシ−ジフェニル−
ビス−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル)、2.3.4−トリオキシベンザフェノ
ン−ビス−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸エステル)等をあげることができる。
合物としては、2−ジアゾ−1−ナフトール−5(4′
−メチルフェニルスルホネート)、2−ジアゾ−1−ナ
フトール−5−フェノキシスルホネート、1.2−ナフ
トキノン−ジアジド(2) −4−スルホン酸のノボラ
ックエステル、2.2′−ジヒドロキシ−ジフェニル−
ビス−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−スルホ
ン酸エステル)、2.3.4−トリオキシベンザフェノ
ン−ビス−(ナフトキノン−1,2−ジアジド−5−ス
ルホン酸エステル)等をあげることができる。
これらオルソキノンジアジド系化合物の高分子化合物に
対する添加量は、重量で通常5から50%、好適な添加
量は10から30%である。
対する添加量は、重量で通常5から50%、好適な添加
量は10から30%である。
さらに、必要に応じ、染料、顔料等を添加しても差支え
ない、又、使用目的に応じ、現像性、耐触性等の改善の
必要が有れば、ポリビニルブチラール、又はポリ酢酸ビ
ニルと相溶性のあるフェノール樹脂、スチレン−マレイ
ン酸共重合m脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂等をポ
リビニルホルマールに対して等量まで添加しても良い。
ない、又、使用目的に応じ、現像性、耐触性等の改善の
必要が有れば、ポリビニルブチラール、又はポリ酢酸ビ
ニルと相溶性のあるフェノール樹脂、スチレン−マレイ
ン酸共重合m脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂等をポ
リビニルホルマールに対して等量まで添加しても良い。
本発明の感光性組成物は、一般的には有機溶剤に溶解し
、基材に塗布して使用する。有機溶剤の具体例としては
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルアルコール、エチルアルコール、酢酸エチル、酢
酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジメチルホルム
アミド等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることが
できる。
、基材に塗布して使用する。有機溶剤の具体例としては
、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、
メチルアルコール、エチルアルコール、酢酸エチル、酢
酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エ
チレングリコールモノエチルエーテル、ジメチルホルム
アミド等、又はこれら有機溶剤の混合物をあげることが
できる。
次に本発明の感光性組成物の現像方法について説明する
6本発明の現像方法は、高分子化合物としてポリビニル
ブチラール又はポリ酢酸ビニルと、オルソキノンドアシ
ト系化合物とを含有する上記の感光性組成物又は上記感
光性組成物の高分子化合物の代わりに又はそれと併用し
てポリビニルホルマールを含有する感光性組成物(特開
昭59−187340号)に適用されるもので、特定の
複合されたアルカリ現像液を用いることによりこのよう
な高分子化合物を現像するものである。すなわち、本発
明の感光性組成物の現像液としては、芳香族カルボン酸
、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアルキル硫酸
のアルカリ金属塩化合物と、アルカリ金属の水酸化合物
及びあるいは炭酸塩との水溶液を使用することができる
。これらの化合物の具体例を示せば、芳香族カルボン酸
としてはP−クロル安息香酸、サリチル酸、アントラニ
ル酸等、芳香族スルホン酸としては1−ナフトール−4
−スルホン酸等、フェノール類としてはP−ヒドロキシ
安息香酸エチル、ペンタクロルフェノール等、アルキル
硫酸としてはラウリル硫酸等のナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属塩化合物をあげることができる。また、
これらのアルカリ金属の水酸化物あるいは炭酸塩の具体
例を示せば、前者としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、後者としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
がある。
6本発明の現像方法は、高分子化合物としてポリビニル
ブチラール又はポリ酢酸ビニルと、オルソキノンドアシ
ト系化合物とを含有する上記の感光性組成物又は上記感
光性組成物の高分子化合物の代わりに又はそれと併用し
てポリビニルホルマールを含有する感光性組成物(特開
昭59−187340号)に適用されるもので、特定の
複合されたアルカリ現像液を用いることによりこのよう
な高分子化合物を現像するものである。すなわち、本発
明の感光性組成物の現像液としては、芳香族カルボン酸
、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアルキル硫酸
のアルカリ金属塩化合物と、アルカリ金属の水酸化合物
及びあるいは炭酸塩との水溶液を使用することができる
。これらの化合物の具体例を示せば、芳香族カルボン酸
としてはP−クロル安息香酸、サリチル酸、アントラニ
ル酸等、芳香族スルホン酸としては1−ナフトール−4
−スルホン酸等、フェノール類としてはP−ヒドロキシ
安息香酸エチル、ペンタクロルフェノール等、アルキル
硫酸としてはラウリル硫酸等のナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属塩化合物をあげることができる。また、
これらのアルカリ金属の水酸化物あるいは炭酸塩の具体
例を示せば、前者としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、後者としては炭酸ナトリウム、炭酸カリウム
がある。
現像液の現像性、安定性等からみて、最も好ましい現像
液としては、P−クロル安息香酸ナトリウム、サリチル
酸ナトリウムの単独または混合物と、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムの単独または混合物との水溶液をあげ
ることができる。現像液の濃度としては通常4から40
重量%の水溶液として使用することができるが、現像性
を改善する目的で、メチルアルコ−ル ル等の有機溶剤をこれら現像液に対し重量で1から40
%添加することもできる。
液としては、P−クロル安息香酸ナトリウム、サリチル
酸ナトリウムの単独または混合物と、水酸化ナトリウム
、水酸化カリウムの単独または混合物との水溶液をあげ
ることができる。現像液の濃度としては通常4から40
重量%の水溶液として使用することができるが、現像性
を改善する目的で、メチルアルコ−ル ル等の有機溶剤をこれら現像液に対し重量で1から40
%添加することもできる。
[実施例]
次に本発明を実施例によって更に詳細に説明する。
実施例 1
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚が10μにな
るように塗布、乾燥し,アルコ−着させ、超高圧水銀灯
2kwで1mの距離より,40秒露光を行った後、以下
の現像液で処理することにより,感光層の現像及びポリ
アミド溜のエツチングを一液で行うことができ、良好な
ネガフィルムが得られた。
に下記の組成の皮膜形成液を乾燥後の膜厚が10μにな
るように塗布、乾燥し,アルコ−着させ、超高圧水銀灯
2kwで1mの距離より,40秒露光を行った後、以下
の現像液で処理することにより,感光層の現像及びポリ
アミド溜のエツチングを一液で行うことができ、良好な
ネガフィルムが得られた。
次に上記ポリアミド層の上に下記組成の感光液を乾燥後
の塗膜が3μになるように塗布、乾燥して感光性フィル
ムを得た。
の塗膜が3μになるように塗布、乾燥して感光性フィル
ムを得た。
この感光性フィルムをネガのくくり線原稿と密比較例
1 実施例1の感光液のバインダー用高分子化合物・・・・
・ポリビニルブチラール樹脂に埜えて、フェノール樹脂
(郡栄化学工業(株)社製商品名MP120HH)を使
用し、実施例1に従って感光性フィルムを作り、現像処
理したネガフィルムを得た。
1 実施例1の感光液のバインダー用高分子化合物・・・・
・ポリビニルブチラール樹脂に埜えて、フェノール樹脂
(郡栄化学工業(株)社製商品名MP120HH)を使
用し、実施例1に従って感光性フィルムを作り、現像処
理したネガフィルムを得た。
処理剤のネガフィルムは、実施例1とほとんど同じであ
ったが、現像処理前に、感光フィルムを折り曲げたり、
強く筒状に丸めたりすると、比較例1の感光フィルムは
、クラックが入り、現像処理により、可溶性ポリアミド
層にも同型の溝が入ったが、実施例1の感光フィルムは
、全く異状が認められなかった。
ったが、現像処理前に、感光フィルムを折り曲げたり、
強く筒状に丸めたりすると、比較例1の感光フィルムは
、クラックが入り、現像処理により、可溶性ポリアミド
層にも同型の溝が入ったが、実施例1の感光フィルムは
、全く異状が認められなかった。
実施例 2
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィルムの
片面に真空蒸着により0.1μのアルミニウム膜を設け
、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が3μになる
ように塗布し、乾燥した。
片面に真空蒸着により0.1μのアルミニウム膜を設け
、その上に下記組成感光液を乾燥後の塗膜が3μになる
ように塗布し、乾燥した。
高圧水銀灯で1mの距離より2分間露光を行った後1次
に示す現像液で現像を行った0次いで50重量%リン酸
水溶液で、アルミニウムのエツチングを行った。露光部
の感光層は十分にレジストとしての機能を果たし、画像
遮光性の高い鮮明なアルミニウムのポジ画像が得られた
。
に示す現像液で現像を行った0次いで50重量%リン酸
水溶液で、アルミニウムのエツチングを行った。露光部
の感光層は十分にレジストとしての機能を果たし、画像
遮光性の高い鮮明なアルミニウムのポジ画像が得られた
。
比較例 2
実施例2の感光液で使用されているポリ酢酸ビニルに替
えて、フェノール樹脂(郡学化学工業(株)社製商品名
MP120HH)を使って実施例2に従って感光フィル
ムを作った。
えて、フェノール樹脂(郡学化学工業(株)社製商品名
MP120HH)を使って実施例2に従って感光フィル
ムを作った。
実施例2及び比較例2の両フィルムを現像前に折り曲げ
、強く丸めたところ、比較例2のフィルムはクラックが
入り現像及びエツチング処理により、クラックの部分の
アルミニウムが溶解して良好な画像を得られなかった。
、強く丸めたところ、比較例2のフィルムはクラックが
入り現像及びエツチング処理により、クラックの部分の
アルミニウムが溶解して良好な画像を得られなかった。
実施例2のフィルムには全く異状が認められなかった。
実施例 3
厚さ100μのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に下記の組成の感光液を塗布乾燥し、3この感光性フィ
ルムをポジ原稿と密着させ、超高圧水銀灯2kwで1m
の距離より、60秒露光した後、以下の現像液で処理す
ることにより、明色の鮮明なポジ画像を得た。
に下記の組成の感光液を塗布乾燥し、3この感光性フィ
ルムをポジ原稿と密着させ、超高圧水銀灯2kwで1m
の距離より、60秒露光した後、以下の現像液で処理す
ることにより、明色の鮮明なポジ画像を得た。
[発明の効果コ
本発明の感光性組成物及び現像方法によれば、皮膜が強
靭でレリーフがシャープな良好な画像が得られ、又有機
溶剤を使用しないので作業性も良い。
靭でレリーフがシャープな良好な画像が得られ、又有機
溶剤を使用しないので作業性も良い。
代理人 弁理士 守 谷 −雄
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、高分子化合物として平均分子量10000から23
0000で、ブチラール化度が20から80ml%であ
るポリビニルブチラール、又は平均分子量15000か
ら270000であるポリ酢酸ビニルよりなる群から選
ばれた1種以上と、オルソキノンジアジド系化合物とを
含有することを特徴とする感光性組成物。 2、オルソキノンジアジド系化合物の高分子化合物に対
する添加量が5から50重量%である第1項記載の感光
組成物。 3、高分子化合物としてポリビニルブチラール、ポリビ
ニルホルマール、又はポリ酢酸ビニルよりなる群から選
ばれた1種以上と、オルソキノンジアジド系化合物とを
含有する感光性組成物を露光し、次いで芳香族カルボン
酸、芳香族スルホン酸、フェノール類、又はアルキル硫
酸のアルカリ金属塩化合物と、アルカリ金属の水酸化物
及びあるいは炭酸塩との水溶液である水系現像液で現像
することを特徴とする感光性組成物の現像方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1060496A JPH0680462B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 感光性フィルム及びその現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1060496A JPH0680462B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 感光性フィルム及びその現像方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14090783A Division JPS59187340A (ja) | 1983-08-01 | 1983-08-01 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0267A true JPH0267A (ja) | 1990-01-05 |
JPH0680462B2 JPH0680462B2 (ja) | 1994-10-12 |
Family
ID=13143963
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1060496A Expired - Lifetime JPH0680462B2 (ja) | 1989-03-13 | 1989-03-13 | 感光性フィルム及びその現像方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0680462B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02244048A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-28 | Konica Corp | 感光性画像形成材料 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5336222A (en) * | 1976-09-13 | 1978-04-04 | Hoechst Ag | Photosensitive composition |
JPS5463818A (en) * | 1977-09-22 | 1979-05-23 | Hoechst Ag | Photosensitive copying composition |
JPS55129341A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-07 | Daicel Chem Ind Ltd | Photosensitive covering composition |
-
1989
- 1989-03-13 JP JP1060496A patent/JPH0680462B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5336222A (en) * | 1976-09-13 | 1978-04-04 | Hoechst Ag | Photosensitive composition |
JPS5463818A (en) * | 1977-09-22 | 1979-05-23 | Hoechst Ag | Photosensitive copying composition |
JPS55129341A (en) * | 1979-03-29 | 1980-10-07 | Daicel Chem Ind Ltd | Photosensitive covering composition |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02244048A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-28 | Konica Corp | 感光性画像形成材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0680462B2 (ja) | 1994-10-12 |
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