JPH0264939A - 光ディスクメモリー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は光ディスクの構造に関するものである。

「従来の技術及びその問題点」 現在光ディスクである光学式ビデオディスク（ＶＤ）コ
ンパクトディスク（以後ＣＤ）が市販されているが、前
者はＰＭＭＡの基板を張り合わせた構造の物で後者はポ
リカーボネイト（以後ＰＣ）を基板とした単板の構造で
ある。光ディスクの基板に要求される性能として光学的
性質１寸法安定性、成型性の全てが高い事が望まれる。

ＰＭＭＡは光学的特性は殆ど満足するがその他の特性、
例えば耐熱性、耐湿性において劣っている。ＰＭＭＡは
吸湿性が高いため吸湿する事により膨潤して反りが生じ
機械的強度が低くなる。２枚を張り合わせる事により反
りを相殺するようにしであるが、ひどい物では張り合わ
せた接着層より２枚にはがれてしまう事もある。この為
ＰＭＭＡは単板であるＣＤには用いられていない。

ＰＣは耐熱性も比較的高いまた寸法安定性も比較的良好
である。しかし複屈折を生じやすいという難点があり添
加剤を加える等の改良により、現在実用レベルになって
いるが表面硬度が低く柔らかいため傷がつき易く光学的
信号読み出し媒体としては不安定な材料である。更にＣ
Ｄは単板である為信号面の保護は１００μｍ未満の樹脂
系保護膜のみで行っているが、この保護膜のみでは傷等
がつき易く実用に際して取り扱いにくいものであった。

本発明は以上の問題点を安価で容易に解決した耐湿性及
び表面の機械的強度が大きな光ディスクメモリーを得る
ことを目的とする。

「問題点を解決しようとする手段」 本発明は基板１反射膜及び保護膜を有する光ディスクメ
モリーにおいて、基板に密接して炭素または炭素を主成
分とする被膜を形成したことにより前記の目的を達成し
たものである。即ち炭素又は炭素を主成分とする被膜を
光ディスクの基板上に成膜しそれを保護膜として用いた
ものである。

本発明で炭素または炭素を主成分とする被膜は、ビッカ
ース硬度２０００　Ｋｇ／ｍＩＩ＋”以上を有したアモ
ルファス構造または微結晶構造を有する被膜である。

「実施例１」 本実施例の光ディスクメモリーを第１図に示す。

図中１は炭素または炭素を主成分とする被膜、２ハＰ　
Ｍ　Ｍ　Ａ等の基板、３はアルミニウム等の反射膜、４
は保護膜、５は接着層を示す。

光学式ビデオディスクの単板を公知の製造方法で製作し
得られた単板を２枚、保護膜同志を接着剤により張り合
わせた後基板上に炭素又は炭素を主成分とする被膜を形
成した。炭素又は炭素を主成分とする被膜のコーティン
グ方法は本発明人の出願になる特許側「炭素または炭素
を主成分とする被膜を形成する方法」　（昭和６３年３
月２日出願）により行った。

本実施例では、平行平板方式のプラズマＣＶＤ装置によ
って両面同時に被膜形成が可能であるが、張り合わせ前
に光デイスク単板の基板上に片面被膜形成し、後にその
単板を２板張り合わせることも工程上何ら問題ないこと
である。

成膜の際反応性気体には反応空間における圧力が０．　
００１〜１０ｔｏｒｒ代表的には０．０１〜０５　ｔｏ
ｒｒの下で高周波エネルギーにより０．１〜５ＫＨのエ
ネルギーが加えられる。

以下に本実施例の炭素または炭素を主成分とする被膜を
形成する成膜条件を示す。

材料ガス：　ＣＨ４＋Ｈ。

圧力　　：　１０Ｐａ　（０，０７５ｔｏｒｒ）ＲＦ電
カニ１２０ｗ 基板温度：室温 前記材料ガスにおいてＣＨ，（メタン）に変えてエタン
、エチレン、メタン系炭化水素等の気体であってもよい
。

この条件でビッカース硬度が２２００　Ｋｇ／ｍｍ”を
有する被膜を光ディスクの両面に約５００人形成した。

得られた被膜は０．８μｍの波長においては９０％以上
の透過率を得る事が出来るものであった。

本発明の効果をみるために炭素又は炭素を主成分とする
被膜を光学式ビデオディスクの両面に成膜した物として
いない物を８０°ｃ、ＲＨ９５％の恒温恒質槽に入れて
加速試験を行った。その結果を第１表に示す。○は良好
、Δは若干の変化、Ｘは大きな変化である。

した物は変化がないのに対し、成膜していない物は大き
く変化し遂には接着面よりはがれてしまうことがわかる
。

「実施例２」 ＣＤのＰＣ基板上に平行平板方式のプラズマＣＶＤによ
り炭素又は炭素を主成分とする被膜を成膜した。

成膜条件は前記の実施例１の条件と同じ条件で５００人
程変成膜した。

炭素又は炭素を主成分とした被膜を成膜したＰＣ基板と
そうでないＰＣ基板に対して規格化したアゲレジブチス
トを実施し、傷のつき具合を比較した結果を第２表に示
す。更に保護膜上にも同様に成膜しアゲレジブチストを
行ったが同様な結果が得られた。

第１表 炭素又は炭素を主成分とする被膜を両面に成膜第２表 表中のＯは良好、Δは若干の傷つき、×はかなりの傷つ
きである。

また、本発明の炭素または炭素を主成分とする被膜は水
や衝撃だけでなく酸素やその他の物に対してもブロッキ
ング作用を示す事は言う迄もない。

「効果」 本発明は以上のように安価で容易に耐湿性を向上させ、
表面硬度を大きくすることでディスク自身の機械的強度
を高めることができた。

実施例ではＰＭＭＡとＰＣを取り上げているが、その他
の基板においても同様な結果が得られるのは言う迄もな
い。

【図面の簡単な説明】

第１図は炭素又は炭素を主成分とする被膜をディスクの
両面に成膜した時の断面図である。 １・・炭素又は炭素を主成分とする被膜２・・基板（、
ＰＭＭＡ） ３・・反射膜 ４・・保護膜 ５・・接着層 ｋ− 弔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基板、反射膜及び保護膜を有する光ディスクメモリ
   ーにおいて、基板に密接して炭素または炭素を主成分と
   する被膜を形成したことを特徴とする光ディスクメモリ
   ー。