JPH026366A - 酸化物系セラミックス、超電導セラミックス膜製造用基板及び超電導セラミックス膜の製法 - Google Patents
酸化物系セラミックス、超電導セラミックス膜製造用基板及び超電導セラミックス膜の製法Info
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- JPH026366A JPH026366A JP63154610A JP15461088A JPH026366A JP H026366 A JPH026366 A JP H026366A JP 63154610 A JP63154610 A JP 63154610A JP 15461088 A JP15461088 A JP 15461088A JP H026366 A JPH026366 A JP H026366A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、新規な酸化物系セラミックス、このセラミッ
クスからなる超電導セラミックス膜製造用基板、及びこ
の基板を使用する超電導セラミックス膜の製法に関する
。
クスからなる超電導セラミックス膜製造用基板、及びこ
の基板を使用する超電導セラミックス膜の製法に関する
。
(従来技術及びその問題点)
酸化物系超電導セラミックスは、液体窒素のような安価
な冷媒で冷却することによって超電導状態を示すために
、交通機関、重電機器、コンピューター、医療機器にわ
たる多方面への応用が期待されている。
な冷媒で冷却することによって超電導状態を示すために
、交通機関、重電機器、コンピューター、医療機器にわ
たる多方面への応用が期待されている。
酸化物系超電導セラミックスとしては、稀土類元素−ア
ルカリ土類元素−Cu酸化物系超電導セラミックス、及
びBi −Ca−5r−Co−0系に代表されるBi−
アルカリ土類元素−Cu酸化物からなる超電導セラミッ
クス及びTl −Ca−Ba−Cu−0系に代表される
Tl−アルカリ土類元素−Cu酸化物系超電導セラミッ
クスが知られている。
ルカリ土類元素−Cu酸化物系超電導セラミックス、及
びBi −Ca−5r−Co−0系に代表されるBi−
アルカリ土類元素−Cu酸化物からなる超電導セラミッ
クス及びTl −Ca−Ba−Cu−0系に代表される
Tl−アルカリ土類元素−Cu酸化物系超電導セラミッ
クスが知られている。
これらの内、稀土類元素−アルカリ土類金属Cu酸化物
系超電導セラミックスは、空気中の水分あるいは炭酸ガ
スによって超電導特性が損なわれる欠点がある。その原
因は超電導セラミックスの内部構造及び/あるいは化学
組成が若干変化するためであると推定されている。また
上記超電導セラミックスは高価な稀土類元素を使用しな
くてはならないという実用上の問題がある。
系超電導セラミックスは、空気中の水分あるいは炭酸ガ
スによって超電導特性が損なわれる欠点がある。その原
因は超電導セラミックスの内部構造及び/あるいは化学
組成が若干変化するためであると推定されている。また
上記超電導セラミックスは高価な稀土類元素を使用しな
くてはならないという実用上の問題がある。
これに対して、旧又はTl−アルカリ土類元素−Cu酸
化物系超電導セラミックスは、水分に対して比較的安定
であると言われている。また、この超電導セラミックス
は、稀土類元素−アルカリ土類元素−Cu酸化吻系高温
超電導セラミックスのように高価な稀土類元素を使用し
ないので、より実用的である。
化物系超電導セラミックスは、水分に対して比較的安定
であると言われている。また、この超電導セラミックス
は、稀土類元素−アルカリ土類元素−Cu酸化吻系高温
超電導セラミックスのように高価な稀土類元素を使用し
ないので、より実用的である。
上記の超電導セラミックスを電子部品等に応用するため
には、超電導セラミックスの薄膜又は厚膜を形成する技
術が不可欠であり、膜形成法について検討が重ねられて
いる。
には、超電導セラミックスの薄膜又は厚膜を形成する技
術が不可欠であり、膜形成法について検討が重ねられて
いる。
公知の超電導セラミックス膜の成形方法としては、超電
導セラミックスのペーストあるいは超電導セラミックス
構成組成物の均一溶液を基板上に塗布する塗布法、基板
上に超電導セラミックスを真空蒸着、スパッタリング等
によって堆積させる物理的方法、超電導セラミックスを
与える存機金属化合物を分解させて基板上に析出させる
化学的蒸着法等が挙げられる。
導セラミックスのペーストあるいは超電導セラミックス
構成組成物の均一溶液を基板上に塗布する塗布法、基板
上に超電導セラミックスを真空蒸着、スパッタリング等
によって堆積させる物理的方法、超電導セラミックスを
与える存機金属化合物を分解させて基板上に析出させる
化学的蒸着法等が挙げられる。
上記の各方法においては、基板と超電導セラミックス膜
との回着性あるいは一体性が不十分であったり、製造工
程、製造条件が複雑で、製造された膜の超電導特性の再
現性が悪いという問題点がある。
との回着性あるいは一体性が不十分であったり、製造工
程、製造条件が複雑で、製造された膜の超電導特性の再
現性が悪いという問題点がある。
(問題点を解決するための技術的手段)本発明は、新規
な酸化物系セラミックスを基板として超電導セラミック
ス膜を形成させることにより、前記の問題が解消される
という知見に基づいている。
な酸化物系セラミックスを基板として超電導セラミック
ス膜を形成させることにより、前記の問題が解消される
という知見に基づいている。
本発明の第1の態様によれば、
組成式 X2Cu204 (r
)(式中、XはCa、 Sr及びBaから選ばれ′る
少なくとも一種類のアルカリ土類元素を示す。)で表さ
れる酸化物系セラミ7クスが提供される。
)(式中、XはCa、 Sr及びBaから選ばれ′る
少なくとも一種類のアルカリ土類元素を示す。)で表さ
れる酸化物系セラミ7クスが提供される。
本発明の第2の態様によれば、上記の酸化物系セラミッ
クスからなる超電導セラミックス膜製造用基板が提供さ
れる。
クスからなる超電導セラミックス膜製造用基板が提供さ
れる。
本発明の第3の態様によると、上記の超電導セラミック
ス膜製造用基板上にBi又はTl源を供給し反応させる
ことを特徴とする、 組成式 MXaCubOcCff )(式中、MはB
i又はTlを示し、XはCa、 Sr及びBaから選ば
れる少なくとも一種類のアルカリ土類元素を示し、1<
a<4.1<b<5.3.5 < c <9.5である
。)で表される超電導セラミックス膜の製法が提供され
る。
ス膜製造用基板上にBi又はTl源を供給し反応させる
ことを特徴とする、 組成式 MXaCubOcCff )(式中、MはB
i又はTlを示し、XはCa、 Sr及びBaから選ば
れる少なくとも一種類のアルカリ土類元素を示し、1<
a<4.1<b<5.3.5 < c <9.5である
。)で表される超電導セラミックス膜の製法が提供され
る。
式(1)で表される酸化物系セラミックスは、本発明者
らが知る限り、文献未記載の新規な化合物である。
らが知る限り、文献未記載の新規な化合物である。
上記酸化物系セラミックスは、各々の元素の原料化合物
である酸化物、水酸化物、又は炭酸塩を乾式あるいは湿
式で混合して原料の粉末混合物を調製し、この混合物を
成形、焼結することによって製造することができる。
である酸化物、水酸化物、又は炭酸塩を乾式あるいは湿
式で混合して原料の粉末混合物を調製し、この混合物を
成形、焼結することによって製造することができる。
乾式混合法では、例えばCa、 Sr及びBaから選ば
れる少なくとも一種類のアルカリ土類元素の炭酸塩とC
uOの粉末を、所望の組成元素比に従った重量で、ボー
ルミル、播潰機などで粉砕、混合して成形用の粉末混合
物を調製する。
れる少なくとも一種類のアルカリ土類元素の炭酸塩とC
uOの粉末を、所望の組成元素比に従った重量で、ボー
ルミル、播潰機などで粉砕、混合して成形用の粉末混合
物を調製する。
湿式混合法は、乾式混合法と同様の出発原料に、出発原
料と反応せず、かつ、これを実質的に溶解しない溶媒を
加えて、機械的に混合して粉末混合物を調製する方法で
ある。
料と反応せず、かつ、これを実質的に溶解しない溶媒を
加えて、機械的に混合して粉末混合物を調製する方法で
ある。
その他、成形用の原料粉末混合物の調製法としては、多
段湿式法、ゾル・ゲル法、フラックス法、水熱法等が挙
げられる。
段湿式法、ゾル・ゲル法、フラックス法、水熱法等が挙
げられる。
本発明の超電導セラミック膜製造用基板は、上記の方法
によって得られた原料粉末混合物を、それ自体公知の加
圧成形法によって成形することができる。成形体の焼結
は、酸素含有雰囲気下に500−11’OO度の温度範
囲で行うことが好ましい。
によって得られた原料粉末混合物を、それ自体公知の加
圧成形法によって成形することができる。成形体の焼結
は、酸素含有雰囲気下に500−11’OO度の温度範
囲で行うことが好ましい。
基板の厚さについては特別の制限はないが、般にO1j
〜5印である。
〜5印である。
本発明の酸化物系超電導セラミックス膜は、基板上に旧
又はTl源を供給して反応させる、以下の各種の方法に
よって調製することができる。
又はTl源を供給して反応させる、以下の各種の方法に
よって調製することができる。
(1)有機結合剤などを含有した溶媒中にBiあるいは
Tlの酸化物、炭酸塩等を分散させたペースト、又はB
iあるいはTl化合物の均一溶液を基板上に塗布し、熱
処理する方法。
Tlの酸化物、炭酸塩等を分散させたペースト、又はB
iあるいはTl化合物の均一溶液を基板上に塗布し、熱
処理する方法。
(2)基板上にBiあるいはTl元素を蒸着、熱処理す
る方法。
る方法。
(3)基板と81あるいはT】の有機金属化合物を熱分
解反応および熱処理させる方法。
解反応および熱処理させる方法。
上記(3)の方法において、BiあるいはTlの有機金
属化合物の具体例としては、有機部分(配位子)として
アセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、
ジピバロイルメタン、あるいはシクロペンタジェンであ
る昇華性有機金属錯体が挙げられる。これら有機金属化
合物の熱分解反応温度は、450〜750度の範囲の温
度であることが好ましい。
属化合物の具体例としては、有機部分(配位子)として
アセチルアセトン、ヘキサフルオロアセチルアセトン、
ジピバロイルメタン、あるいはシクロペンタジェンであ
る昇華性有機金属錯体が挙げられる。これら有機金属化
合物の熱分解反応温度は、450〜750度の範囲の温
度であることが好ましい。
上記(1)、(2)又は(3)の方法において、熱処理
温度は、Bi金含有酸化物系超電導セラミックス膜を構
成する場合は、超電導セラミックスの融点より1〜15
°C低い温度で、Tl金含有酸化物系超電導セラミック
ス膜を構成する場合は、800〜950度の範囲の温度
であることが好ましい。
温度は、Bi金含有酸化物系超電導セラミックス膜を構
成する場合は、超電導セラミックスの融点より1〜15
°C低い温度で、Tl金含有酸化物系超電導セラミック
ス膜を構成する場合は、800〜950度の範囲の温度
であることが好ましい。
(実施例)
以下に本発明の実施例を示す。
実施例1
炭酸カルシウム(CaCOz) 15.64 g、炭酸
ストロンチウム(SrCO+) 23.07 g 、
d化銅(CuO) 24.86 g (Ca:Sr:C
u=1 : 1 : 2の元素比)を直径1Offlf
flのZrO□製のボール約200g、エタノール30
dと共に500願のポリエチレン容器に入れ、密栓して
200 rpmで回転する直径50胴のローラーに乗せ
、to時間ボールミル粉砕、混合した。
ストロンチウム(SrCO+) 23.07 g 、
d化銅(CuO) 24.86 g (Ca:Sr:C
u=1 : 1 : 2の元素比)を直径1Offlf
flのZrO□製のボール約200g、エタノール30
dと共に500願のポリエチレン容器に入れ、密栓して
200 rpmで回転する直径50胴のローラーに乗せ
、to時間ボールミル粉砕、混合した。
エバポレーターで混合物からエタノールを蒸発させ、2
00mHgに1.5時間保持した。得られた粉体をさら
に乾燥器中70°Cで乾燥した。
00mHgに1.5時間保持した。得られた粉体をさら
に乾燥器中70°Cで乾燥した。
上記粉体をメノウ乳鉢で30分間粉砕し、この粉体2g
を成形圧力1t/CTAで直径20++++nで厚さ2
皿のペレットに加圧成形した。
を成形圧力1t/CTAで直径20++++nで厚さ2
皿のペレットに加圧成形した。
このペレットをアルミナ製のボートに乗せ、このポート
をマツフル炉中に置き、980°Cまで8時間で昇温し
、同温度に12時間保持した後、加熱電源を切り炉内を
徐冷した。
をマツフル炉中に置き、980°Cまで8時間で昇温し
、同温度に12時間保持した後、加熱電源を切り炉内を
徐冷した。
上記ペレットの粉末X線回折結果を第1図に示す。原料
化合物に基づく回折ピークは、認められなかった。
化合物に基づく回折ピークは、認められなかった。
Z、anorg、 allg、 chem、、 37
9.234 (1970)で溝遣の知られた5rCuO
2等に関するデータ及び第1図の結果を基に、Riet
νeld解析〔泉冨士男、現代化学(別冊) 、198
6年3月号、54〜60ページコした結果、6%の解析
結果の信頼性因子(R因子)で、上記ペレットは、5r
CuO□においてSrの0.5モルがCaで置換された
Ca5rCu204であることがわがった。R4etν
eld解析結果を第2図に示す。
9.234 (1970)で溝遣の知られた5rCuO
2等に関するデータ及び第1図の結果を基に、Riet
νeld解析〔泉冨士男、現代化学(別冊) 、198
6年3月号、54〜60ページコした結果、6%の解析
結果の信頼性因子(R因子)で、上記ペレットは、5r
CuO□においてSrの0.5モルがCaで置換された
Ca5rCu204であることがわがった。R4etν
eld解析結果を第2図に示す。
実施例2
実施例1で得られたペレット上に酸化ビスマスのトルエ
ンペーストを塗布し、酸素中、875度で12時間熱処
理を行い、Ca5rCuz04基板上に約Bol1mの
Bi−アルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラ
ミックス膜を製造した。
ンペーストを塗布し、酸素中、875度で12時間熱処
理を行い、Ca5rCuz04基板上に約Bol1mの
Bi−アルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラ
ミックス膜を製造した。
得られた高温超電導セラミックス膜の臨界温度は、10
2にであった。
2にであった。
実施例3
炭酸カルシウム(CaCOt) 15.64 g、炭酸
バリウム(BaCOff) 30.78 g、酸化銅
(CuO) 24゜86 g (Ca:Ba:Cu=1
: 1 : 2の元素比)を直径10mmのZr0z
製のポール約200g、エタノール30dと共に500
戒のポリエチレン容器に入れ、密栓して20Orpmで
回転する直径50mmのローラーに乗せ、10時間ボー
ルミル粉砕、混合した。
バリウム(BaCOff) 30.78 g、酸化銅
(CuO) 24゜86 g (Ca:Ba:Cu=1
: 1 : 2の元素比)を直径10mmのZr0z
製のポール約200g、エタノール30dと共に500
戒のポリエチレン容器に入れ、密栓して20Orpmで
回転する直径50mmのローラーに乗せ、10時間ボー
ルミル粉砕、混合した。
エバポレーターで混合物からエタノールを蒸発させ、2
00mHgで1.5時間保持した。得られた粉体をさら
に乾燥器中70’Cで乾燥した。
00mHgで1.5時間保持した。得られた粉体をさら
に乾燥器中70’Cで乾燥した。
上記粉体を実施例1と同様な方法でペレットに成形し、
加熱処理した。
加熱処理した。
このペレットは、X線解析の結果、CaBaCu204
であることがわかった。
であることがわかった。
上記のベレット上にナフテン酸タリウムのトルエン溶液
を塗布し、酸素中、400度で2時間熱処理を行った。
を塗布し、酸素中、400度で2時間熱処理を行った。
さらに同様の塗布、熱処理を10回繰り返した後、89
0度で30分間焼成し、Ca8aCuz(L基板上にT
l−アルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラミ
ックス膜を製造した。
0度で30分間焼成し、Ca8aCuz(L基板上にT
l−アルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラミ
ックス膜を製造した。
得られた高温超電導セラミックス膜の臨界温度は、ll
0Kであった。
0Kであった。
実施例4
実施例1と同様に製造したCa5rCuzO4ペレツト
の表面を光学研磨し、このベレット面上に通常の真空7
着法によって、Biを約2μm堆積させた後、空気中8
75度、1時間熱処理を行い、厚さ約4μmのBi−ア
ルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラミックス
膜を製造した。
の表面を光学研磨し、このベレット面上に通常の真空7
着法によって、Biを約2μm堆積させた後、空気中8
75度、1時間熱処理を行い、厚さ約4μmのBi−ア
ルカリ土類元素−Cu酸化物系高温超電導セラミックス
膜を製造した。
得られた高温超電導セラミックス膜の臨界温度は、l0
IKであった。
IKであった。
4、図の簡単な説明
第1図は、実施例1で得られたセラミックス基板の粉末
X線回折スペクトルである。
X線回折スペクトルである。
第2図は、Rietveld解析によって得られたX線
回折スペクトルである。
回折スペクトルである。
Claims (3)
- (1)組成式X_2Cu_2O_4 (式中、XはCa、Sr及びBaから選ばれる少なくと
も一種類のアルカリ土類元素を示す。)で表される酸化
物系セラミックス。 - (2)特許請求の範囲第1項に記載の酸化物系セラミッ
クスからなる超電導セラミックス膜製造用基板。 - (3)特許請求の範囲第2項に記載の超電導セラミック
ス膜製造用基板上にBi又はTl源を供給し反応させる
ことを特徴とする、 組成式MX_aCu_bO_c (式中、MはBi又はTlを示し、XはCa、Sr及び
Baから選ばれる少なくとも一種類のアルカリ土類元素
を示し、1<a<4、1<b<5、3.5<c<9.5
である。)で表される超電導セラミックス膜の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63154610A JPH026366A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 酸化物系セラミックス、超電導セラミックス膜製造用基板及び超電導セラミックス膜の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63154610A JPH026366A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 酸化物系セラミックス、超電導セラミックス膜製造用基板及び超電導セラミックス膜の製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH026366A true JPH026366A (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=15587946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63154610A Pending JPH026366A (ja) | 1988-06-24 | 1988-06-24 | 酸化物系セラミックス、超電導セラミックス膜製造用基板及び超電導セラミックス膜の製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH026366A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009107882A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 超伝導体及びその製造方法 |
CN104176763A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-12-03 | 惠州学院 | 一种特殊结构纳米氧化铜薄膜及其制备方法和应用 |
CN111629992A (zh) * | 2018-03-27 | 2020-09-04 | 古河电气工业株式会社 | 晶体取向控制复合体 |
-
1988
- 1988-06-24 JP JP63154610A patent/JPH026366A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009107882A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 超伝導体及びその製造方法 |
CN104176763A (zh) * | 2014-07-22 | 2014-12-03 | 惠州学院 | 一种特殊结构纳米氧化铜薄膜及其制备方法和应用 |
CN111629992A (zh) * | 2018-03-27 | 2020-09-04 | 古河电气工业株式会社 | 晶体取向控制复合体 |
CN111629992B (zh) * | 2018-03-27 | 2022-10-14 | 古河电气工业株式会社 | 晶体取向控制复合体 |
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