JP2009107882A - 超伝導体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】酸素分圧を100.325Paに維持した状態で酸素・窒素混合ガスを供給し、大気より小さい酸素分圧の低酸素雰囲気とした管状の炉内で、850℃の条件で加熱処理(本焼成)し、結晶基板101の上に、過剰酸素を含むRE2CuO4+δもしくはAECuO2+δからなる金属酸化物層103が形成された状態とする。次に、金属酸化物層103が形成された結晶基板101を、大気圧より低い圧力の減圧雰囲気とした真空中で、例えば440℃・10分の条件で加熱処理し、金属酸化物層103より酸素を除去し、これをREもしくはAEと銅と酸素との化学量論組成の酸化物とし、結晶基板101の上に、超伝導体薄膜104が形成された状態とする。
【選択図】 図1
Description
Claims (8)
- 希土類元素,アルカリ土類金属元素,及びCdの中から選択された金属と銅との2つの金属の酸化物から構成され、化学量論組成とされている
ことを特徴とする超伝導体。 - 請求項1記載の超伝導体において、
希土類元素と銅との酸化物から構成された前記超伝導体は、Nd2CuO4構造を備えることを特徴とする超伝導体。 - 請求項2記載の超伝導体において、
前記希土類元素は、La,Pr,Nd,Sm,Eu,Gd,Tb,Dy,Ho,Er,Tm,Yb,Lu,及びYの中から選択されたものであることを特徴とする超伝導体。 - 請求項1記載の超伝導体において、
アルカリ土類金属元素及びCdの中から選択された金属と銅との酸化物から構成された前記超伝導体は、無限層構造を備えることを特徴とする超伝導体。 - 請求項4記載の超伝導体において、
前記アルカリ土類金属元素は、Ca,Sr,及びBaの中から選択されたものである
ことを特徴とする超伝導体。 - 希土類元素,アルカリ土類金属元素,及びCdの中から選択された金属と銅との2つの金属の酸化物から構成された超伝導体の製造方法であって、
前記金属及び銅よりなる化合物を大気より小さい酸素分圧の低酸素雰囲気で加熱して前記金属及び銅よりなる第1金属酸化物が形成された状態とする第1工程と、
前記第1金属酸化物を大気圧より低い圧力の減圧雰囲気で加熱して前記第1金属酸化物に含まれている一部の酸素を除去し、金属と銅と酸素との化学量論組成の酸化物から構成された前記超伝導体が形成された状態とする第2工程と
を少なくとも備え、
前記第1工程では、前記金属及び銅よりなる前記化合物を大気中で加熱することで形成される前記金属及び銅よりなる第2金属酸化物より、酸素の組成比が少ない状態に前記第1金属酸化物が形成される状態に、前記酸素分圧を小さくする
ことを特徴とする超伝導体の製造方法。 - 請求項6記載の超伝導体の製造方法において、
前記第1工程における前記酸素分圧は、100.325Paより小さい
ことを特徴とする超伝導体の製造方法。 - 請求項6又は7記載の超伝導体の製造方法において、
前記第1工程では、前記金属及び銅よりなる化合物の薄膜が、結晶基板の上に形成された状態とし、前記化合物の薄膜を大気より小さい酸素分圧の低酸素雰囲気で加熱して前記金属及び銅よりなる第1金属酸化物よりなる薄膜が前記結晶基板の上に形成された状態とし、
前記第2工程では、第1金属酸化物よりなる前記薄膜を大気圧より低い圧力の減圧雰囲気で加熱して前記第1金属酸化物に含まれている一部の酸素を除去し、金属と銅と酸素との化学量論組成の酸化物から構成された前記超伝導体からなる薄膜が前記結晶基板の上に形成された状態とする
ことを特徴とする超伝導体の製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS643012A (en) * | 1987-03-27 | 1989-01-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Superconducting material and production thereof |
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