JPH0263541U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0263541U JPH0263541U JP14297688U JP14297688U JPH0263541U JP H0263541 U JPH0263541 U JP H0263541U JP 14297688 U JP14297688 U JP 14297688U JP 14297688 U JP14297688 U JP 14297688U JP H0263541 U JPH0263541 U JP H0263541U
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- JP
- Japan
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- wafer
- electrostatic chuck
- wafers
- attracted
- dielectric
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- Pending
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 13
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Description
第１図は本考案によるウエーハ用静電チヤツク
構造の第１の実施例とウエーハの吸引状態とを示
す説明図、第２図は本考案の第２の実施例による
ウエーハ用静電チヤツク構造を示す説明図、第３
図は従来のウエーハ用静電チヤツクの構造例とウ
エーハの吸引状態とを示す説明図である。 １，１１，１２：静電チヤツク、１ａ，１１ａ
，１２ａ：誘電ブロツク（誘電体）、１ｂ，１１
ｂ，１２ｂ：電極、１ｃ：吸着面、２：電源、４
：ウエーハ、１１ｃ，１２ｃ：対向面。
構造の第１の実施例とウエーハの吸引状態とを示
す説明図、第２図は本考案の第２の実施例による
ウエーハ用静電チヤツク構造を示す説明図、第３
図は従来のウエーハ用静電チヤツクの構造例とウ
エーハの吸引状態とを示す説明図である。 １，１１，１２：静電チヤツク、１ａ，１１ａ
，１２ａ：誘電ブロツク（誘電体）、１ｂ，１１
ｂ，１２ｂ：電極、１ｃ：吸着面、２：電源、４
：ウエーハ、１１ｃ，１２ｃ：対向面。
Claims (1)
- 板状の電極が同一面内に対をなして誘電体内に
埋め込まれ該電極体に電圧を供給して円板状ウエ
ーハを誘電体を介して電極面にほぼ平行に吸着す
るウエーハ用静電チヤツクにおいて、前記ウエー
ハが吸着される誘電体のウエーハへの対向面が少
なくともウエーハ吸着時のウエーハ周縁近傍を誘
電体側へ凹む球面に形成されていることを特徴と
するウエーハ用静電チヤツク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14297688U JPH0263541U (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14297688U JPH0263541U (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263541U true JPH0263541U (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=31409382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14297688U Pending JPH0263541U (ja) | 1988-11-01 | 1988-11-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0263541U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1187315A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| WO2005055313A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-16 | Nikon Corporation | 静電チャックおよび露光装置ならびに被吸着物の吸着方法 |
-
1988
- 1988-11-01 JP JP14297688U patent/JPH0263541U/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1187315A (ja) * | 1997-09-03 | 1999-03-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プラズマ処理装置 |
| WO2005055313A1 (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-16 | Nikon Corporation | 静電チャックおよび露光装置ならびに被吸着物の吸着方法 |
| JP2005191515A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-07-14 | Nikon Corp | 静電チャックおよび露光装置ならびに被吸着物の吸着方法 |