JPH0260665B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0260665B2 JPH0260665B2 JP62025901A JP2590187A JPH0260665B2 JP H0260665 B2 JPH0260665 B2 JP H0260665B2 JP 62025901 A JP62025901 A JP 62025901A JP 2590187 A JP2590187 A JP 2590187A JP H0260665 B2 JPH0260665 B2 JP H0260665B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- ortho
- carbon atoms
- alkoxythiophenol
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 claims description 2
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N thiophenol Chemical compound SC1=CC=CC=C1 RMVRSNDYEFQCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 10
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 10
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- -1 aromatic primary amine Chemical class 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N phosphoryl trichloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)=O XHXFXVLFKHQFAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N thionyl chloride Chemical compound ClS(Cl)=O FYSNRJHAOHDILO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 4-tert-Octylphenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ISAVYTVYFVQUDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEHNFLBLCKLSPI-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2-dodecoxybenzenethiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC1=CC=C(Cl)C=C1S VEHNFLBLCKLSPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 3
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical class O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N sulfur dichloride Chemical compound ClSCl FWMUJAIKEJWSSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LELQMXQCPHFHED-UHFFFAOYSA-N 1-butoxy-4-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzene Chemical compound CCCCOC1=CC=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1 LELQMXQCPHFHED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002490 anilino group Chemical class [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002140 halogenating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 2
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 1-bromobutane Chemical compound CCCCBr MPPPKRYCTPRNTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 1-bromotetradecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCBr KOFZTCSTGIWCQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 1-pyrrolidin-3-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCCN1C1CNCC1 HFZLSTDPRQSZCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCHXKQJDUGHDPB-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-5-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)benzenethiol Chemical compound CCCCOC1=CC=C(C(C)(C)CC(C)(C)C)C=C1S DCHXKQJDUGHDPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 4-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=C(Cl)C=C1 WXNZTHHGJRFXKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLUXHEZIGIDTCC-UHFFFAOYSA-N acetonitrile;ethyl acetate Chemical compound CC#N.CCOC(C)=O XLUXHEZIGIDTCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004466 alkoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005138 alkoxysulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005281 alkyl ureido group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005142 aryl oxy sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012320 chlorinating reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- LJQKCYFTNDAAPC-UHFFFAOYSA-N ethanol;ethyl acetate Chemical compound CCO.CCOC(C)=O LJQKCYFTNDAAPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002363 herbicidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004009 herbicide Substances 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002433 hydrophilic molecules Chemical group 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- PHWISQNXPLXQRU-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylcarbamothioyl chloride Chemical compound CN(C)C(Cl)=S PHWISQNXPLXQRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003884 phenylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N phosphoric tribromide Chemical compound BrP(Br)(Br)=O UXCDUFKZSUBXGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229940068918 polyethylene glycol 400 Drugs 0.000 description 1
- 125000006239 protecting group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 238000006462 rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052979 sodium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N sodium sulfide (anhydrous) Chemical compound [Na+].[Na+].[S-2] GRVFOGOEDUUMBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003461 sulfonyl halides Chemical class 0.000 description 1
- AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N sulfur trioxide Inorganic materials O=S(=O)=O AKEJUJNQAAGONA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明はオルト−アルコキシチオフエノール化
合物に関するものであり、更に詳しくは特定の構
造のオルト−アルコキシチオフエノールに関する
ものである。 〔従来の技術及び問題点〕 オルト−アルコキシチオフエノール化合物は、
その特異の構造のため、分光学的研究(Org.
Mass Spectro.,16(7) 289(1981))、スルフ
イド誘導体を得るための中間体(j.Org.Chem.,
46(13),2793(1981)や除草剤としての用途(米
国特許第3769342号)等の若干な研究がなされて
いるにすぎない。また、これらの文献に知られる
公知の化合物は、チオフエノールの他の骨格置換
基の分子量や小さい、いわゆる低分子な化合物で
あつたり、親水性基が置換した親水性化合物であ
つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は、写真用マゼンタ色画像形成カプラ
ー(以下、「マゼンタカプラー」という)の中で
特に5−ピロゾロンカプラーのカツプリング活性
位に置換した離脱基、しわゆる2当量離脱基を
種々探索していた。その探索の結果、オルト−ア
ルコキシアリールチオ基が、アリールチオ基の中
でも特異性に優れたアリールチオ基であることを
見出した。すなわち、発色現像法の芳香族第一級
アミン系現像主薬の酸化生成物が本アリールチオ
基を置換した5−ピラゾロンカプラーとカツフリ
ング反応した後に、アリールチオ基が離脱する速
度が速い事、また本アリールチオ基を置換した5
−ピラゾロンカプラーから得られるマゼンタ色画
像が光照射に対し、他のアールチオ基を有する5
−ピラゾロンカプラーと比較して特異的に堅牢で
あること、さらには、本アリールチオ基を置換し
たピラゾロンカプラーはハロゲン化乳剤に対して
も不活性でカブリを生成させる事もなく、現像処
理後、処理液を汚染することもない等、多くの優
れた特徴を有するアリールチオ基である事を見出
したのである。 これらの優れたアリールチオ基を離脱する5−
ピラゾロンカプラーの特性は、その離脱基である
オルト−アルコキシチオフエノール化合物の特性
に負う所が大きい。そして本発明のオルト−アル
コキシチオフエノールは、これまで公知の低分子
量のものや親水性なものと異なり、分子量が大き
くなり親油性となつている所に特徴があることか
ら、単にカプラーの離脱基としての用途のみなら
ず種々の用途が考えられる。写真用カプラーの構
造に限つて考えてみても、油溶性耐拡散基にもな
りうるものである。本発明は、種々検討を重ねた
結果、特異的な性質を付与できる新基なオルト−
アルコキシチオフエノール化合物を見出し、本発
明を達した。 〔発明の構成〕 すなわち、本発明は、一般式()で表わされ
るオルト−アルコキシチオフエノール化合物であ
る。 一般式() K0284 但し、Rは炭素数4ないし14のアルキル基また
は炭素数3ないし14のアルコキシアルキル基を表
わし、R1は水素原子を表わし、R2は水素原子を
表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭素数4な
いし8のアルキル基、または炭素数4ないし10の
アルコキシ基を表わし、R、R1、R2及びR3の炭
素数の総和は6以上であり、かつ、Rが水素原子
の場合R3で表わされるアルキル基の炭素数は10
ないし14である。 以下、本発明を詳細に説明する。 一般式()で表わされるオルト−アルコキシ
チオフエノール化合物において、Rがアルキル基
を表わす場合には、例えば、ブチル基、ドデシル
基が挙げられ、アルコキシアルキル基を表わす場
合には、例えば、メトキシエチル基、ドデシルオ
キシエチル基等が挙げられる。R3がアルコキシ
基を表わす場合には、ブトキシ基、イソプロポキ
シ基等が挙げられる。R3は前記アルキル基もし
くはアルコキシ基の場合が好ましい。 次に一般式()で表わされる本発明のオルト
−アルコキシチオフエノール化合物を例示する。 K0285 K0286 K0287 K0288 K0289 K0290 K0291 K0292 本発明にかかる一般式()で表わされるオル
ト−アルコキシチオフエノール化合物は下記のス
キームで合成することが出来る。 K0293 K0294 但し、R、R1、R2、R3は、すでに定義したと
同様な意味を表わす。 一般式()で表わされるフエニルアルキルエ
ーテルは公知の方法(例えば、フエノールをジメ
チルホルムアミドに溶解し、炭酸カリウム等の塩
基で解離させた後、アルキルハライドを添加して
アルキル化する方法)等によつて容易に合成でき
る。 一般式()の化合物を塩化メチレン、クロロ
ホルム等の塩素化溶媒、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒等の溶媒に溶解し、
濃硫酸、クロルスルホン酸、無水硫酸等のスルホ
ン化剤でスルホン化した。クロルスルホン酸を使
用した場合には、一般式()のスルホニルクロ
ライドが一工程で合成できる事があるが、完全に
スルホニルハライドが得られずスルホン酸との混
合物になる事があるので、この段階で単離せずに
酸ハライドに変換する酸クロル化剤、例えばオキ
シ塩化リン、塩化チオニル、塩化スルフエニル、
三塩化リン、五塩化リン、オキシ臭化リン、塩化
チオニル等を加えてスルホニルクロライドに変換
するのが有効である。酸クロル化の段階で反応溶
媒をベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ア
セトニトリル、スルホラン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、等の非プロトン性溶
媒に変更または使用することが出来る。 次に一般式()のスルホニルクロライドを一
般式()のチオフエノール化合物に変換する工
程について説明する。 一般式()の化合物はジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トル
エン、ヘキサン、等の炭化水素系溶媒、酢酸エチ
ル、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、スルホラン等の極性溶媒中、適当
な還元剤、亜鉛末または金属すずと酸を用いて得
られる。還元剤の中で手軽で好ましいのは亜鉛末
で、一般式()のフエニルエーテル化合物か
ら、スルホニルクロライド化合物を単離すること
なく一般式()のチオフエノール化合物まで一
貫化して得るには、亜鉛末が特に好ましい。 オルト−アルコキシチオフエノールを製造する
には、以下に示すような製造方法も知られてい
る。 (1) K0295 対応するアニリン誘導体を酸性で亜硝酸ナト
リウムと作用させジアゾニウム塩とした後に硫
化ナトリウムと反応させてチオフエノール誘導
体にする方法である。この方法は、一般原料の
アニリン誘導体を得ることが困難である点、前
述の方法よりも劣る。 (2) K0296 K0297 対応するフエノール誘導体をナトリウム塩と
した後に、ジメチルチオカルバモイルクロリド
と反応させてジメチルチオンカルバメートと
し、しかる後に熱転位させジメチルチオールカ
ルバメートを経て加水分解し、チオフエノール
誘導体を得る方法である。この方法は、J.
Org,Chem.,313980(1956)に記載の方法で
ある。前述の方法に比べて、この方法は出発原
料のフエノール誘導体を得る事が困難である
事、および転位反応には150℃を越える高温が
必要な事などの点で劣る。 従つて本発明の一般式()で表わされる化合
物を簡便かつ安いコストで得るには前述の製造方
法が最も有効な方法である。 次に実施例で代表的な一般式()のオルト−
アルコキシチオフエノール化合物およびその製造
方法を示すが、この製造方法は本発明の範囲のオ
ルト−アルコキシチオフエノール化合物すべてに
適用することが出来る。 実施例 1 5−クロロ−2−ドデシルオキシチオフエノー
ル(I−1)の合成 p−クロロフエノール28.3g、テトラデシルブ
ロミド52.5g、炭酸カリウム50gをアセトン150
ml中で20時間加熱攪拌した。濾集し、水洗し、メ
タノールで洗つた後乾燥したところ54.8gの結晶
を得た。 上記結晶29.7gを120mlのクロロホルムに溶か
し氷冷下クロロスルホン酸20mlを滴下した。常温
で2時間攪拌後、氷水にあけ有機層を分液し、さ
らに飽和食塩水で洗つた後減圧でクロロホルムを
留去した。残渣に氷水180gと硫酸35mlを加え亜
鉛粉末31.2gを加え80℃で2時間攪拌した。飽和
食塩水で洗い酢酸エチルを減圧で留去した。残渣
をシリカゲルクロマト(溶離液、ヘキサン)で分
離し、油状の目的物(I−1)を25g得た。 元素分析 C18H29ClOS=328.9 理論値 H(8.89%)、C(65.72%) 実験値 H(8.86%)、C(66.0%) 実施例 2 2−ブトキシ−5−tert−オクチルチオフエノ
ール(−3)の合成 p−tert−オクチルフエノール103g、臭化ブ
チル82g、ポリエチレングリコール400
(PEO400)10g、炭酸カリウム138gをイソプロ
ピルアルコール200mlに添加し、8時間攪拌しな
がら加熱還流した。反応後、反応液を冷却させた
後、水1、酢酸エチル200mlを加えて、有機物
を抽出した。2回の水洗後、酢酸エチルを減圧除
去し、残渣を減圧蒸留し、ブチル4−tert−オク
チルフエニルエーテル(123゜〜124℃/0.2mmH
g)を121.0g得た。 ブチル4−tert−オクチルフエニルエーテル
52.4gを塩化メチレン55mlに溶解し10゜〜15℃に
冷却し、クロルスルホン酸15.6mlを30分間かけて
滴下し、さらに30分間この温度で攪拌した。この
中に、アセトニトリル33ml、ジメチルアセトアミ
ド67mlを加え40℃まで上昇した。次にオキシ塩化
リン24mlを15分間かけて滴下し、さらに30分間、
この温度で攪拌した。この後に、塩化メチレン、
アセトニトリル等の低沸点溶媒を減圧除去し、残
渣に45gの粉砕した氷を添加し、攪拌後氷45gと
濃硫酸27mlを添加し内温を30゜〜40℃に保つた。 この中に亜鉛末46gを添加し、30分間この温度
で攪拌し、次い80℃で2時間加熱した。冷却後、
ヘキサン100mlを加え亜鉛末を濾過し、濾液を3
回水洗し、濃縮した。溶媒除去後、減圧蒸留し目
的物(−3)(126゜〜130℃/0.35mmHg)を
50.3g得た。 元素分析 C18H30SO=294.5 理論値 H(10.27%)、C(73.41%) 実験値 H(10.25%)、C(73.43%) 実施例 3 2−(2−メトキシエトキシ)−5−tert−オク
チルチオフエノール(−6)の合成 実施例2と同様にまず4−tert−オクチルフエ
ノールから2−メトキシエチル4−tert−オクチ
ルフエニルエーテルを合成し、次にスルホニルク
ロリドに変換した後、亜鉛末で還元し、粗目的物
(−6)を得た。粗製の(−6)をシリカゲ
ルカラムクロマトで分離精製(溶離液:ヘキサ
ン)し精製(−6)を4−tert−オクチルフエ
ノールから全収率82%で得た。 元素分析 C17H28O2S=296.5 理論値 H(9.52%)、C(68.87%) 実験値 H(9.50%)、C(68.88%) 本発明のオルト−アルコキシチオフエノール化
合物は、既に述べたように、5−ピラゾロンマゼ
ンタカプラーの2当量離脱基として有用である。
以下にそのカプラーの合成法について説明する。 1.本発明のオルト−アルコキシオフエノール化合
物をハロゲン化剤(例えば塩素、臭素、塩化ス
ルフリル、N−ブロムスクシンイミドなど)で
処理してスルフエニルハライドとした後、4当
量カプラーと塩基触媒あるいは無触媒で反応さ
せてカプラーのカツプリング活性位にアリール
チオ基を導入する。(反応式)。この方法は、
チオフエノール誘導体と4当量カプラーの混合
物中へハロゲンを後から加えることによつても
可能である。 K0298 上式において、Ar1は少なくとも1個のハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコシ基、アルコキシカ
ルボニル基またはシアノ基が置換したフエ
ニル基を表わし、Ar2は
合物に関するものであり、更に詳しくは特定の構
造のオルト−アルコキシチオフエノールに関する
ものである。 〔従来の技術及び問題点〕 オルト−アルコキシチオフエノール化合物は、
その特異の構造のため、分光学的研究(Org.
Mass Spectro.,16(7) 289(1981))、スルフ
イド誘導体を得るための中間体(j.Org.Chem.,
46(13),2793(1981)や除草剤としての用途(米
国特許第3769342号)等の若干な研究がなされて
いるにすぎない。また、これらの文献に知られる
公知の化合物は、チオフエノールの他の骨格置換
基の分子量や小さい、いわゆる低分子な化合物で
あつたり、親水性基が置換した親水性化合物であ
つた。 〔問題点を解決するための手段〕 本発明者は、写真用マゼンタ色画像形成カプラ
ー(以下、「マゼンタカプラー」という)の中で
特に5−ピロゾロンカプラーのカツプリング活性
位に置換した離脱基、しわゆる2当量離脱基を
種々探索していた。その探索の結果、オルト−ア
ルコキシアリールチオ基が、アリールチオ基の中
でも特異性に優れたアリールチオ基であることを
見出した。すなわち、発色現像法の芳香族第一級
アミン系現像主薬の酸化生成物が本アリールチオ
基を置換した5−ピラゾロンカプラーとカツフリ
ング反応した後に、アリールチオ基が離脱する速
度が速い事、また本アリールチオ基を置換した5
−ピラゾロンカプラーから得られるマゼンタ色画
像が光照射に対し、他のアールチオ基を有する5
−ピラゾロンカプラーと比較して特異的に堅牢で
あること、さらには、本アリールチオ基を置換し
たピラゾロンカプラーはハロゲン化乳剤に対して
も不活性でカブリを生成させる事もなく、現像処
理後、処理液を汚染することもない等、多くの優
れた特徴を有するアリールチオ基である事を見出
したのである。 これらの優れたアリールチオ基を離脱する5−
ピラゾロンカプラーの特性は、その離脱基である
オルト−アルコキシチオフエノール化合物の特性
に負う所が大きい。そして本発明のオルト−アル
コキシチオフエノールは、これまで公知の低分子
量のものや親水性なものと異なり、分子量が大き
くなり親油性となつている所に特徴があることか
ら、単にカプラーの離脱基としての用途のみなら
ず種々の用途が考えられる。写真用カプラーの構
造に限つて考えてみても、油溶性耐拡散基にもな
りうるものである。本発明は、種々検討を重ねた
結果、特異的な性質を付与できる新基なオルト−
アルコキシチオフエノール化合物を見出し、本発
明を達した。 〔発明の構成〕 すなわち、本発明は、一般式()で表わされ
るオルト−アルコキシチオフエノール化合物であ
る。 一般式() K0284 但し、Rは炭素数4ないし14のアルキル基また
は炭素数3ないし14のアルコキシアルキル基を表
わし、R1は水素原子を表わし、R2は水素原子を
表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭素数4な
いし8のアルキル基、または炭素数4ないし10の
アルコキシ基を表わし、R、R1、R2及びR3の炭
素数の総和は6以上であり、かつ、Rが水素原子
の場合R3で表わされるアルキル基の炭素数は10
ないし14である。 以下、本発明を詳細に説明する。 一般式()で表わされるオルト−アルコキシ
チオフエノール化合物において、Rがアルキル基
を表わす場合には、例えば、ブチル基、ドデシル
基が挙げられ、アルコキシアルキル基を表わす場
合には、例えば、メトキシエチル基、ドデシルオ
キシエチル基等が挙げられる。R3がアルコキシ
基を表わす場合には、ブトキシ基、イソプロポキ
シ基等が挙げられる。R3は前記アルキル基もし
くはアルコキシ基の場合が好ましい。 次に一般式()で表わされる本発明のオルト
−アルコキシチオフエノール化合物を例示する。 K0285 K0286 K0287 K0288 K0289 K0290 K0291 K0292 本発明にかかる一般式()で表わされるオル
ト−アルコキシチオフエノール化合物は下記のス
キームで合成することが出来る。 K0293 K0294 但し、R、R1、R2、R3は、すでに定義したと
同様な意味を表わす。 一般式()で表わされるフエニルアルキルエ
ーテルは公知の方法(例えば、フエノールをジメ
チルホルムアミドに溶解し、炭酸カリウム等の塩
基で解離させた後、アルキルハライドを添加して
アルキル化する方法)等によつて容易に合成でき
る。 一般式()の化合物を塩化メチレン、クロロ
ホルム等の塩素化溶媒、ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒等の溶媒に溶解し、
濃硫酸、クロルスルホン酸、無水硫酸等のスルホ
ン化剤でスルホン化した。クロルスルホン酸を使
用した場合には、一般式()のスルホニルクロ
ライドが一工程で合成できる事があるが、完全に
スルホニルハライドが得られずスルホン酸との混
合物になる事があるので、この段階で単離せずに
酸ハライドに変換する酸クロル化剤、例えばオキ
シ塩化リン、塩化チオニル、塩化スルフエニル、
三塩化リン、五塩化リン、オキシ臭化リン、塩化
チオニル等を加えてスルホニルクロライドに変換
するのが有効である。酸クロル化の段階で反応溶
媒をベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、ア
セトニトリル、スルホラン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、等の非プロトン性溶
媒に変更または使用することが出来る。 次に一般式()のスルホニルクロライドを一
般式()のチオフエノール化合物に変換する工
程について説明する。 一般式()の化合物はジオキサン、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トル
エン、ヘキサン、等の炭化水素系溶媒、酢酸エチ
ル、プロピオン酸ブチル等のエステル系溶媒、ア
セトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、スルホラン等の極性溶媒中、適当
な還元剤、亜鉛末または金属すずと酸を用いて得
られる。還元剤の中で手軽で好ましいのは亜鉛末
で、一般式()のフエニルエーテル化合物か
ら、スルホニルクロライド化合物を単離すること
なく一般式()のチオフエノール化合物まで一
貫化して得るには、亜鉛末が特に好ましい。 オルト−アルコキシチオフエノールを製造する
には、以下に示すような製造方法も知られてい
る。 (1) K0295 対応するアニリン誘導体を酸性で亜硝酸ナト
リウムと作用させジアゾニウム塩とした後に硫
化ナトリウムと反応させてチオフエノール誘導
体にする方法である。この方法は、一般原料の
アニリン誘導体を得ることが困難である点、前
述の方法よりも劣る。 (2) K0296 K0297 対応するフエノール誘導体をナトリウム塩と
した後に、ジメチルチオカルバモイルクロリド
と反応させてジメチルチオンカルバメートと
し、しかる後に熱転位させジメチルチオールカ
ルバメートを経て加水分解し、チオフエノール
誘導体を得る方法である。この方法は、J.
Org,Chem.,313980(1956)に記載の方法で
ある。前述の方法に比べて、この方法は出発原
料のフエノール誘導体を得る事が困難である
事、および転位反応には150℃を越える高温が
必要な事などの点で劣る。 従つて本発明の一般式()で表わされる化合
物を簡便かつ安いコストで得るには前述の製造方
法が最も有効な方法である。 次に実施例で代表的な一般式()のオルト−
アルコキシチオフエノール化合物およびその製造
方法を示すが、この製造方法は本発明の範囲のオ
ルト−アルコキシチオフエノール化合物すべてに
適用することが出来る。 実施例 1 5−クロロ−2−ドデシルオキシチオフエノー
ル(I−1)の合成 p−クロロフエノール28.3g、テトラデシルブ
ロミド52.5g、炭酸カリウム50gをアセトン150
ml中で20時間加熱攪拌した。濾集し、水洗し、メ
タノールで洗つた後乾燥したところ54.8gの結晶
を得た。 上記結晶29.7gを120mlのクロロホルムに溶か
し氷冷下クロロスルホン酸20mlを滴下した。常温
で2時間攪拌後、氷水にあけ有機層を分液し、さ
らに飽和食塩水で洗つた後減圧でクロロホルムを
留去した。残渣に氷水180gと硫酸35mlを加え亜
鉛粉末31.2gを加え80℃で2時間攪拌した。飽和
食塩水で洗い酢酸エチルを減圧で留去した。残渣
をシリカゲルクロマト(溶離液、ヘキサン)で分
離し、油状の目的物(I−1)を25g得た。 元素分析 C18H29ClOS=328.9 理論値 H(8.89%)、C(65.72%) 実験値 H(8.86%)、C(66.0%) 実施例 2 2−ブトキシ−5−tert−オクチルチオフエノ
ール(−3)の合成 p−tert−オクチルフエノール103g、臭化ブ
チル82g、ポリエチレングリコール400
(PEO400)10g、炭酸カリウム138gをイソプロ
ピルアルコール200mlに添加し、8時間攪拌しな
がら加熱還流した。反応後、反応液を冷却させた
後、水1、酢酸エチル200mlを加えて、有機物
を抽出した。2回の水洗後、酢酸エチルを減圧除
去し、残渣を減圧蒸留し、ブチル4−tert−オク
チルフエニルエーテル(123゜〜124℃/0.2mmH
g)を121.0g得た。 ブチル4−tert−オクチルフエニルエーテル
52.4gを塩化メチレン55mlに溶解し10゜〜15℃に
冷却し、クロルスルホン酸15.6mlを30分間かけて
滴下し、さらに30分間この温度で攪拌した。この
中に、アセトニトリル33ml、ジメチルアセトアミ
ド67mlを加え40℃まで上昇した。次にオキシ塩化
リン24mlを15分間かけて滴下し、さらに30分間、
この温度で攪拌した。この後に、塩化メチレン、
アセトニトリル等の低沸点溶媒を減圧除去し、残
渣に45gの粉砕した氷を添加し、攪拌後氷45gと
濃硫酸27mlを添加し内温を30゜〜40℃に保つた。 この中に亜鉛末46gを添加し、30分間この温度
で攪拌し、次い80℃で2時間加熱した。冷却後、
ヘキサン100mlを加え亜鉛末を濾過し、濾液を3
回水洗し、濃縮した。溶媒除去後、減圧蒸留し目
的物(−3)(126゜〜130℃/0.35mmHg)を
50.3g得た。 元素分析 C18H30SO=294.5 理論値 H(10.27%)、C(73.41%) 実験値 H(10.25%)、C(73.43%) 実施例 3 2−(2−メトキシエトキシ)−5−tert−オク
チルチオフエノール(−6)の合成 実施例2と同様にまず4−tert−オクチルフエ
ノールから2−メトキシエチル4−tert−オクチ
ルフエニルエーテルを合成し、次にスルホニルク
ロリドに変換した後、亜鉛末で還元し、粗目的物
(−6)を得た。粗製の(−6)をシリカゲ
ルカラムクロマトで分離精製(溶離液:ヘキサ
ン)し精製(−6)を4−tert−オクチルフエ
ノールから全収率82%で得た。 元素分析 C17H28O2S=296.5 理論値 H(9.52%)、C(68.87%) 実験値 H(9.50%)、C(68.88%) 本発明のオルト−アルコキシチオフエノール化
合物は、既に述べたように、5−ピラゾロンマゼ
ンタカプラーの2当量離脱基として有用である。
以下にそのカプラーの合成法について説明する。 1.本発明のオルト−アルコキシオフエノール化合
物をハロゲン化剤(例えば塩素、臭素、塩化ス
ルフリル、N−ブロムスクシンイミドなど)で
処理してスルフエニルハライドとした後、4当
量カプラーと塩基触媒あるいは無触媒で反応さ
せてカプラーのカツプリング活性位にアリール
チオ基を導入する。(反応式)。この方法は、
チオフエノール誘導体と4当量カプラーの混合
物中へハロゲンを後から加えることによつても
可能である。 K0298 上式において、Ar1は少なくとも1個のハロゲ
ン原子、アルキル基、アルコシ基、アルコキシカ
ルボニル基またはシアノ基が置換したフエ
ニル基を表わし、Ar2は
【式】を表わ
す。Xはハロゲン原子またはアルコキシ基を表
わし、R11は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、スルフアモイル基、カルバモイル
基、ジアシルアミノ基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシ
スルホニル基、アルカンスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルオシカルボニルアミノ基、アル
キルウレイド基、アシル基、ニトロ基、カルボ
キシ基、またはトリクロロメチル基を表わし、
m1は1〜4の整数を表わす。 Ar3は、
わし、R11は水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、スルホ
ンアミド基、スルフアモイル基、カルバモイル
基、ジアシルアミノ基、アルコキシカルボニル
基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシ
スルホニル基、アルカンスルホニル基、アリー
ルスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチ
オ基、アルキルオシカルボニルアミノ基、アル
キルウレイド基、アシル基、ニトロ基、カルボ
キシ基、またはトリクロロメチル基を表わし、
m1は1〜4の整数を表わす。 Ar3は、
【式】を表わし、R、R1、
R2、およびR3は、一般式()の場合と同じ
意味を表わす。 2.4当量カプラーのアミノ基をアシル基(例えば
アセチル基、エトキシカルボニル基など)で保
護した後、ハロゲン化剤で活性位をハロゲン置
換体としたのち、塩基触媒あるいは無触媒で本
発明のオルト−アルコキシチオフエノール化合
物と反応させて、カプラーのカツプリング活性
位にアリールチオ基を導入する。保護基をはず
せば目的とする2当量カプラーが得られる。
(反応式−)。 K0301 K0302 K0303 上式において、Ar1、Ar2、およびAr3は、反応
式−で説明したものと同じ意味を表わす。 (参考例) 本発明の化合物(−1)を用いて2当量マゼ
ンタカプラーの合成例を以下に示す。本発明の他
の化合物を用いても反応式−または反応式−
に従つて、対応する2当量マゼンタカプラーを合
成することができる。 5−クロロ−2−ドデシルオキシチオフエノー
ル15gを塩化メチレン40mlに溶かし塩化スルフリ
ル4.2mlを滴下した。常温で45分攪拌したのち減
圧で溶媒を留去して赤色油状のスルフエニルクロ
リドを得た。 1−(2,4,6−トリクロロフエニル)−3−
(2−クロロ−5−テトラデカンアミドアニリノ)
−2−ピラゾリン−5−オン25gを塩化メチレン
100mlにとかしトリエチルアミン17.5gを加え、
その中へ上で得られたスルフエニルクロリドを塩
化メチレン20mlに溶かして加えた。40℃で2時間
攪拌したのちに溶媒を減圧で留去し、温酢酸エチ
ル−エタノールにとかした。希酢酸、飽和食塩水
で洗つたのち、溶媒を減圧で留去した。残渣を酢
酸エチル−アセトニトリルより2回再結晶をくり
返して、27gの目的とするカプラーを得た。融点
160161℃ 元素分析値:C 59.74%、H 6.7%、 N 5.93% 計算値 :C 59.97%、H 6.75%、 N 5.95%
意味を表わす。 2.4当量カプラーのアミノ基をアシル基(例えば
アセチル基、エトキシカルボニル基など)で保
護した後、ハロゲン化剤で活性位をハロゲン置
換体としたのち、塩基触媒あるいは無触媒で本
発明のオルト−アルコキシチオフエノール化合
物と反応させて、カプラーのカツプリング活性
位にアリールチオ基を導入する。保護基をはず
せば目的とする2当量カプラーが得られる。
(反応式−)。 K0301 K0302 K0303 上式において、Ar1、Ar2、およびAr3は、反応
式−で説明したものと同じ意味を表わす。 (参考例) 本発明の化合物(−1)を用いて2当量マゼ
ンタカプラーの合成例を以下に示す。本発明の他
の化合物を用いても反応式−または反応式−
に従つて、対応する2当量マゼンタカプラーを合
成することができる。 5−クロロ−2−ドデシルオキシチオフエノー
ル15gを塩化メチレン40mlに溶かし塩化スルフリ
ル4.2mlを滴下した。常温で45分攪拌したのち減
圧で溶媒を留去して赤色油状のスルフエニルクロ
リドを得た。 1−(2,4,6−トリクロロフエニル)−3−
(2−クロロ−5−テトラデカンアミドアニリノ)
−2−ピラゾリン−5−オン25gを塩化メチレン
100mlにとかしトリエチルアミン17.5gを加え、
その中へ上で得られたスルフエニルクロリドを塩
化メチレン20mlに溶かして加えた。40℃で2時間
攪拌したのちに溶媒を減圧で留去し、温酢酸エチ
ル−エタノールにとかした。希酢酸、飽和食塩水
で洗つたのち、溶媒を減圧で留去した。残渣を酢
酸エチル−アセトニトリルより2回再結晶をくり
返して、27gの目的とするカプラーを得た。融点
160161℃ 元素分析値:C 59.74%、H 6.7%、 N 5.93% 計算値 :C 59.97%、H 6.75%、 N 5.95%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 下記一般式()で表わされるオルト−アル
コキシチオフエノール化合物 一般式() K0283 但し、Rは炭素数4ないし14のアルキル基また
は炭素数3ないし14のアルコキシアルキル基を表
わし、R1は水素原子を表わし、R2は水素原子を
表わし、R3は水素原子、塩素原子、炭素数4な
いし8のアルキル基、または炭素数4ないし10の
アルコキシ基を表わす。ただし、R、R1、R2及
びR3の炭素数の総和は6以上であり、かつR3が
水素原子の場合、Rで表わされるアルキル基の炭
素数は10ないし14である。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2590187A JPS62240658A (ja) | 1980-08-12 | 1987-02-06 | オルト―アルコキシチオフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11094380A JPS5735858A (en) | 1980-08-12 | 1980-08-12 | Color photographic sensitive material |
JP2590187A JPS62240658A (ja) | 1980-08-12 | 1987-02-06 | オルト―アルコキシチオフェノール化合物 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11094380A Division JPS5735858A (en) | 1980-08-12 | 1980-08-12 | Color photographic sensitive material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62240658A JPS62240658A (ja) | 1987-10-21 |
JPH0260665B2 true JPH0260665B2 (ja) | 1990-12-17 |
Family
ID=26363596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2590187A Granted JPS62240658A (ja) | 1980-08-12 | 1987-02-06 | オルト―アルコキシチオフェノール化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62240658A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW552201B (en) | 2001-11-08 | 2003-09-11 | Benq Corp | Fluid injection head structure and method thereof |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1412546A (en) * | 1973-08-08 | 1975-11-05 | Ici Ltd | Morpholine derivatives |
JPS5735858A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color photographic sensitive material |
-
1987
- 1987-02-06 JP JP2590187A patent/JPS62240658A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1412546A (en) * | 1973-08-08 | 1975-11-05 | Ici Ltd | Morpholine derivatives |
JPS5735858A (en) * | 1980-08-12 | 1982-02-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | Color photographic sensitive material |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62240658A (ja) | 1987-10-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS615071A (ja) | ベンゾオキサゾ−ル誘導体 | |
JPH0260665B2 (ja) | ||
JP3505241B2 (ja) | 1H−1,2,4−トリアゾール誘導体及び1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール誘導体 | |
US4105656A (en) | Process for preparing 3-n-monosubstituted amino-4-substituted-5-pyrazolones | |
JP3274555B2 (ja) | 1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール誘導体の製造方法 | |
JP2578217B2 (ja) | アミドフェノール類の製造方法 | |
JPH0625135B2 (ja) | マゼンタカプラ−の製造方法 | |
US5117064A (en) | Method for synthesizing aromatic amines, aromatic alcohols and aromatic thiols by aromatic nucleophilic substitution reaction | |
EP0720981A1 (en) | Cyclohexyloxycarbonylacetohydrazides and method for producing 1H-1,2,4-triazoles using the hydrazides | |
US6384219B1 (en) | 1H-pyrrolo-[1,2-b][1,2,4,]triazole compound and its synthetic intermediate, and method of preparing a 1H-1,2,4-triazole-5-yl-acetic acid ester compound | |
JP3020188B2 (ja) | 1H−ピロロ−〔1,2−b〕〔1,2,4〕トリアゾール誘導体 | |
JP2942682B2 (ja) | 2−アルコキシ−5−(o−クロロフェニルスルファモイル)アニリン誘導体 | |
JPH03220191A (ja) | 1h―ピラゾロ〔5,1―c〕―1,2,4―トリアゾール化合物の製造方法 | |
JP2841143B2 (ja) | 7−アゾリル−1H−ピラゾロ〔1,5−b〕−1,2,4−トリアゾール類の製造方法 | |
JP3646225B2 (ja) | 芳香族エステル誘導体及びその中間体並びにそれらの製造方法 | |
JP3016104B2 (ja) | 1H−ピロロ−[1,2−b][1,2,4]トリアゾール誘導体 | |
US4402876A (en) | Production of 2-benzazepines | |
JPH0466573A (ja) | 5―アミノ―ピラゾール化合物の製造方法 | |
JPH08239357A (ja) | シクロヘキシルオキシカルボニルアセトヒドラジド類及びそれを用いた1h−1,2,4−トリアゾール類の製造法 | |
US7176321B2 (en) | Method for producing 3-amino-4-substituted-5-pyrazolones | |
JP3514512B2 (ja) | ピラゾロアゾール系カプラーの製造方法 | |
JPS6290657A (ja) | 2当量カプラ−単量体の製造方法 | |
JPH11279427A (ja) | 複素環アゾメチン色素の製造方法 | |
JPS5998023A (ja) | 5−アリ−ル−1h−テトラゾ−ル誘導体及びその中間体の新規製法 | |
JPH01168672A (ja) | 1,3−ジアルキルピラゾール−4−アルデヒド誘導体の製造方法 |