JPH025842Y2 - - Google Patents
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- JPH025842Y2 JPH025842Y2 JP18366086U JP18366086U JPH025842Y2 JP H025842 Y2 JPH025842 Y2 JP H025842Y2 JP 18366086 U JP18366086 U JP 18366086U JP 18366086 U JP18366086 U JP 18366086U JP H025842 Y2 JPH025842 Y2 JP H025842Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hood
- gas
- hood body
- front wall
- solvent vapor
- Prior art date
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- Expired
Links
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- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 43
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 27
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
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- 230000005679 Peltier effect Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Prevention Of Fouling (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この考案は溶剤蒸気などのガス補集装置に用い
られるフードに関する。
られるフードに関する。
(従来の技術)
半導体の製造工程では各種の溶剤が使用されて
いて、多量の溶剤蒸気が発生する。溶剤による処
理はドラフトチヤンバー内で行われており、発生
した溶剤蒸気はドラフトチヤンバー内で補集する
ようにしている。したがつて、溶剤蒸気は作業場
内には拡散することはない。補集した蒸気は排気
タンクなどに集められて大気中に放出されるか、
またはスクラバー等を経て排気されている。な
お、溶剤は水または水溶液を使用したスクラバー
では殆ど補集できない。そして、最近このような
溶剤蒸気の補集回収は、環境汚染の点から重要な
問題となつている。
いて、多量の溶剤蒸気が発生する。溶剤による処
理はドラフトチヤンバー内で行われており、発生
した溶剤蒸気はドラフトチヤンバー内で補集する
ようにしている。したがつて、溶剤蒸気は作業場
内には拡散することはない。補集した蒸気は排気
タンクなどに集められて大気中に放出されるか、
またはスクラバー等を経て排気されている。な
お、溶剤は水または水溶液を使用したスクラバー
では殆ど補集できない。そして、最近このような
溶剤蒸気の補集回収は、環境汚染の点から重要な
問題となつている。
溶剤蒸気の補集を困難にしている一つの理由
は、ドラフトチヤンバー中で操作してチヤンバー
用フアンで排気するため、空気で希釈されてしま
つて溶剤蒸気が非常に薄くなるためである。薄く
なつた溶剤蒸気と空気の混合ガスは、活性炭で吸
着するか、触媒燃焼法などで加熱分解するしか方
法がなく、希釈するためガスも当然多量となる。
したがつて、補集装置は大型となり、またランニ
ングコストも高くなる。
は、ドラフトチヤンバー中で操作してチヤンバー
用フアンで排気するため、空気で希釈されてしま
つて溶剤蒸気が非常に薄くなるためである。薄く
なつた溶剤蒸気と空気の混合ガスは、活性炭で吸
着するか、触媒燃焼法などで加熱分解するしか方
法がなく、希釈するためガスも当然多量となる。
したがつて、補集装置は大型となり、またランニ
ングコストも高くなる。
そのようなことから、有害な溶剤蒸気の希釈を
薄くし、フードを用いてなるべく濃い状態で溶剤
蒸気を補集することが考えられている。
薄くし、フードを用いてなるべく濃い状態で溶剤
蒸気を補集することが考えられている。
しかし、一般的に処理作業と同時に発生する溶
剤蒸気を補集する場合、最も問題となるのはフー
ドの密閉度と作業性とのバランスである。すなわ
ち、フードを完全に密閉すれば溶剤蒸気の補集は
容易となるが、作業者はフード内の作業状況を観
察することができないので、作業性は極めて悪く
なる。また、作業によつては、フードを密閉でき
ない作業もある。
剤蒸気を補集する場合、最も問題となるのはフー
ドの密閉度と作業性とのバランスである。すなわ
ち、フードを完全に密閉すれば溶剤蒸気の補集は
容易となるが、作業者はフード内の作業状況を観
察することができないので、作業性は極めて悪く
なる。また、作業によつては、フードを密閉でき
ない作業もある。
そこで、作業性を低下させず、生産性に無害な
ガス補集用フードが必要となつてくる。通常この
ような要求に応えるフードとして、側面あるいは
上面が開閉可能なフード、フード全体が進退ある
いは旋回可能なフードなどがある。
ガス補集用フードが必要となつてくる。通常この
ような要求に応えるフードとして、側面あるいは
上面が開閉可能なフード、フード全体が進退ある
いは旋回可能なフードなどがある。
(考案が解決しようとする問題点)
上記従来のフードはなんらかの運動を伴うた
め、構造が複雑となりコストも高くなるし、作業
性に対してやはり不便さが残る。また、これら溶
剤蒸気は冷却されると凝縮してフードの天井面に
付着し、付着した溶剤が落下して製品に混入する
虞れがある。さらに、フードの運動によつてダス
トが発生し、ダストが処理中の半導体に付着して
品質を損なう。このようなことから、移動可能な
フードは基本的に不適である。
め、構造が複雑となりコストも高くなるし、作業
性に対してやはり不便さが残る。また、これら溶
剤蒸気は冷却されると凝縮してフードの天井面に
付着し、付着した溶剤が落下して製品に混入する
虞れがある。さらに、フードの運動によつてダス
トが発生し、ダストが処理中の半導体に付着して
品質を損なう。このようなことから、移動可能な
フードは基本的に不適である。
以上、半導体の製造工程における溶剤蒸気の補
集について述べたが、溶剤蒸気以外の有毒なガス
の補集においても同様な問題がある。
集について述べたが、溶剤蒸気以外の有毒なガス
の補集においても同様な問題がある。
そこで、この考案は、作業性を低下させず、し
かもガスを効率よく補集することができるガス補
集装置用フードを提供しようとするものである。
かもガスを効率よく補集することができるガス補
集装置用フードを提供しようとするものである。
(問題点を解決するための手段)
この考案のガス補集装置用フードは、フード本
体、フード本体冷却手段、ガス吸引管および樋と
を備えている。
体、フード本体冷却手段、ガス吸引管および樋と
を備えている。
フード本体は、正面壁と、その両側端からそれ
ぞれ互いに向かい合うようにして延びる一対の側
壁とからなり、全体としてコ字形をしている。フ
ード本体は、上方および前方に向かつて開口する
ようにして設置される。このフード本体の高さお
よび幅は、補集するガスの条件、たとえば発生ガ
ス量、ガスの比重などによつてによつて適当に選
定する。
ぞれ互いに向かい合うようにして延びる一対の側
壁とからなり、全体としてコ字形をしている。フ
ード本体は、上方および前方に向かつて開口する
ようにして設置される。このフード本体の高さお
よび幅は、補集するガスの条件、たとえば発生ガ
ス量、ガスの比重などによつてによつて適当に選
定する。
フード本体冷却手段として、水冷、電気サーモ
カツプル、その他によりフード本体の壁を冷却す
る手段が用いられる。水冷の場合には、たとえば
正面壁と側壁とを中空とし、フード本体内に冷却
水を貫流させる。電気サーモカツプルによる場合
は、サーモカツプルを正面壁および側壁に配設
し、ペルチエ効果を利用してこれら壁を冷却す
る。
カツプル、その他によりフード本体の壁を冷却す
る手段が用いられる。水冷の場合には、たとえば
正面壁と側壁とを中空とし、フード本体内に冷却
水を貫流させる。電気サーモカツプルによる場合
は、サーモカツプルを正面壁および側壁に配設
し、ペルチエ効果を利用してこれら壁を冷却す
る。
ガス吸引管はフード本体の適当な位置、たとえ
ば正面壁の下端寄りに接続され、フード内に開口
している。ガス吸引管の取付け位置は、フードと
他設備と接続関係、処理ガスの性質などにより決
められる。ガス吸引管にはフアンなどの周知の排
気装置が接続されている。
ば正面壁の下端寄りに接続され、フード内に開口
している。ガス吸引管の取付け位置は、フードと
他設備と接続関係、処理ガスの性質などにより決
められる。ガス吸引管にはフアンなどの周知の排
気装置が接続されている。
樋はフード本体の下端寄りに下周縁に沿うよう
にして設けられている。
にして設けられている。
(作用)
フード内で発生した溶剤蒸気その他のガスのう
ちフード本体に接触したものは、フード本体が冷
却されているので凝縮する。そして、凝縮したガ
スはフード本体の壁面を伝つてを流下し、樋によ
り回収される。また、残りのガスはガス吸引管に
より吸引され、ガス処理装置などに集められる。
ちフード本体に接触したものは、フード本体が冷
却されているので凝縮する。そして、凝縮したガ
スはフード本体の壁面を伝つてを流下し、樋によ
り回収される。また、残りのガスはガス吸引管に
より吸引され、ガス処理装置などに集められる。
フード本体はコ字形をしているので、作業者は
フードの上方および前方の開口部を通してフード
内を直接観察することができる。
フードの上方および前方の開口部を通してフード
内を直接観察することができる。
(実施例)
第1図はこの考案の一実施例を示すもので、一
部を切り取つたフードの斜視図である。
部を切り取つたフードの斜視図である。
図面に示すように、ガス補集装置用フード1
は、主としてフード本体2、フード本体冷却手段
8,9、ガス吸引管11および樋13とからなつ
ている。
は、主としてフード本体2、フード本体冷却手段
8,9、ガス吸引管11および樋13とからなつ
ている。
フード本体2は、正面壁3と、その両側端から
それぞれ互いに内かい合うようにして延びる一対
の側壁4,5とからなり、全体としてコ字形をし
ている。なお、正面壁3および側壁4,5はそれ
ぞれ中空6となつている。
それぞれ互いに内かい合うようにして延びる一対
の側壁4,5とからなり、全体としてコ字形をし
ている。なお、正面壁3および側壁4,5はそれ
ぞれ中空6となつている。
上記フード本体2において、一方の側壁4の下
端隅寄りに冷却水供給管8が、また他方の側壁5
の上端隅寄りには冷却水排出管9がそれぞれ接続
されており、フード本体冷却手段を構成してい
る。
端隅寄りに冷却水供給管8が、また他方の側壁5
の上端隅寄りには冷却水排出管9がそれぞれ接続
されており、フード本体冷却手段を構成してい
る。
ガス吸引管11は正面壁3の下端寄りに接続さ
れ、フード1内に開口している。
れ、フード1内に開口している。
樋13はフード本体2の下端寄りに下周縁に沿
うようにして設けられている。樋13はこれの一
端に向かつて緩やかな勾配が付いており、樋13
に溜つた溶剤は回収槽(図示しない)に集められ
るようになつている。
うようにして設けられている。樋13はこれの一
端に向かつて緩やかな勾配が付いており、樋13
に溜つた溶剤は回収槽(図示しない)に集められ
るようになつている。
上記のように構成されたフード1は、フード本
体2が上方および前方に向かつて開口するように
して、ドラフトチヤンバー14内に設置される。
体2が上方および前方に向かつて開口するように
して、ドラフトチヤンバー14内に設置される。
第2図は上記フード1を備えたガス補集装置の
一例を示している。フード1から延びるガス吸引
管11は、ガス処理装置15のチラー18を備え
たガスクーラー17に接続されている。チラー1
8はガスクーラー17に冷水(たとえば、水温5
℃)を供給する。ガスクーラー17は活性炭カー
トリツジ21に接続されており、活性炭カートリ
ツジ21の出側には吸引フアン23が設けられて
いる。また、ガス吸引管11および吸引フアン2
3の出側にそれぞれトリクロロエチレンセンサー
25が配置されている。
一例を示している。フード1から延びるガス吸引
管11は、ガス処理装置15のチラー18を備え
たガスクーラー17に接続されている。チラー1
8はガスクーラー17に冷水(たとえば、水温5
℃)を供給する。ガスクーラー17は活性炭カー
トリツジ21に接続されており、活性炭カートリ
ツジ21の出側には吸引フアン23が設けられて
いる。また、ガス吸引管11および吸引フアン2
3の出側にそれぞれトリクロロエチレンセンサー
25が配置されている。
この実施例では、トリクロロエチレンを溶剤と
して半導体を処理している。溶剤を収容した容器
27はフード中央に載置される。トリクロロエチ
レンは空気より重い(20℃で空気1.2g/に対
して5.47g/)ので、フード1の上部(天井
部)がなくてもフード1から外部に流出すること
はない。したがつて、殆どの溶剤蒸気はガス吸引
管11によりガス処理装置15に導かれる。吸引
されたガスはクーラー17により冷却されたの
ち、活性炭カートリツジ21中の活性炭により吸
収される。
して半導体を処理している。溶剤を収容した容器
27はフード中央に載置される。トリクロロエチ
レンは空気より重い(20℃で空気1.2g/に対
して5.47g/)ので、フード1の上部(天井
部)がなくてもフード1から外部に流出すること
はない。したがつて、殆どの溶剤蒸気はガス吸引
管11によりガス処理装置15に導かれる。吸引
されたガスはクーラー17により冷却されたの
ち、活性炭カートリツジ21中の活性炭により吸
収される。
発生源によつては溶剤を沸謄、または加熱する
場合もある。この場合には溶剤蒸気は上昇するの
で、フード1の壁面を冷却してやれば、壁面に接
触した溶剤蒸気は凝縮して壁面を伝つて流下する
ので、下方にある樋13で回収できる。
場合もある。この場合には溶剤蒸気は上昇するの
で、フード1の壁面を冷却してやれば、壁面に接
触した溶剤蒸気は凝縮して壁面を伝つて流下する
ので、下方にある樋13で回収できる。
なお、ガス吸引管11の出側のトリクロロエチ
レンセンサー25がトリクロロエチレンを検出す
ると、吸引フアン23などが駆動されてガス処理
装置15は作動状態となる。また、吸引フアン2
3の出側のトリクロロエチレンセンサー25によ
り検出した排気ガス中のトリクロロエチレン濃度
により活性炭の寿命を判断する。
レンセンサー25がトリクロロエチレンを検出す
ると、吸引フアン23などが駆動されてガス処理
装置15は作動状態となる。また、吸引フアン2
3の出側のトリクロロエチレンセンサー25によ
り検出した排気ガス中のトリクロロエチレン濃度
により活性炭の寿命を判断する。
(考案の効果)
フードの上方と前面が開放されているので、作
業者は処理作業を直接観察でき、作業能率を向上
することができる。フードは可動部がないので、
フードから発塵することはなく、またドラフトチ
ヤンバー内で余分のスペースを必要としない。
業者は処理作業を直接観察でき、作業能率を向上
することができる。フードは可動部がないので、
フードから発塵することはなく、またドラフトチ
ヤンバー内で余分のスペースを必要としない。
フードを用いることによりガス発生源に接近し
てガスを吸引することができる。したがつて、余
分の空気を吸引しないので、吸引ガスの濃度を高
くして、ガス吸引風量を少なくすることができ、
その後の処理装置は小型かつ安価となり、ランニ
ングコストも安くなる。
てガスを吸引することができる。したがつて、余
分の空気を吸引しないので、吸引ガスの濃度を高
くして、ガス吸引風量を少なくすることができ、
その後の処理装置は小型かつ安価となり、ランニ
ングコストも安くなる。
第1図はこの考案の一実施例を示すもので、一
部を切り取つたフードの斜視図、および第2図は
上記フードを備えたガス補集装置の構成図であ
る。 1……フード、2……フード本体、3……正面
壁、4,5……側面、6……中空、8……冷却水
供給管、9……冷却水排出管、11……ガス吸引
管、13……樋、15……ガス処理装置、17…
…ガスクーラー、21……活性炭カートリツジ、
23……吸引フアン。
部を切り取つたフードの斜視図、および第2図は
上記フードを備えたガス補集装置の構成図であ
る。 1……フード、2……フード本体、3……正面
壁、4,5……側面、6……中空、8……冷却水
供給管、9……冷却水排出管、11……ガス吸引
管、13……樋、15……ガス処理装置、17…
…ガスクーラー、21……活性炭カートリツジ、
23……吸引フアン。
Claims (1)
- 正面壁と、その両側端からそれぞれ互いに向か
い合うようにして延びる一対の側壁とからなり、
全体としてコ字形をしたフード本体、フード本体
を冷却する手段、前記フード本体に接続され、フ
ード内に開口するガス吸引管、およびフード本体
の下端寄りに下周縁に沿うようにして設けられた
樋よりなつていることを特徴とするガス補集装置
用フード。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18366086U JPH025842Y2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18366086U JPH025842Y2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6390403U JPS6390403U (ja) | 1988-06-11 |
JPH025842Y2 true JPH025842Y2 (ja) | 1990-02-13 |
Family
ID=31130601
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18366086U Expired JPH025842Y2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-01 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH025842Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009006267A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Olympus Corp | 洗浄装置 |
-
1986
- 1986-12-01 JP JP18366086U patent/JPH025842Y2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6390403U (ja) | 1988-06-11 |
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