JPH0258397A - 積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
積層セラミック電子部品の製造方法Info
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- JPH0258397A JPH0258397A JP63210241A JP21024188A JPH0258397A JP H0258397 A JPH0258397 A JP H0258397A JP 63210241 A JP63210241 A JP 63210241A JP 21024188 A JP21024188 A JP 21024188A JP H0258397 A JPH0258397 A JP H0258397A
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Landscapes
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- Thermistors And Varistors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオテープレコーダ、液晶テレビ、OA機
器等の電気製品に広く用いられている積層セラミックコ
ンデンサ等の積層セラミック電子部品の製造方法に関す
るものであり、池にも、広く多層セラミック基板、積層
バリスタ、積層圧電素子等の積層セラミック電子部品を
製造する際においても、利用可能なものである。
器等の電気製品に広く用いられている積層セラミックコ
ンデンサ等の積層セラミック電子部品の製造方法に関す
るものであり、池にも、広く多層セラミック基板、積層
バリスタ、積層圧電素子等の積層セラミック電子部品を
製造する際においても、利用可能なものである。
従来の技術
近年、電子部品の分野においても、回路部品の高密度化
にともない、積層セラミック電子部品のますますの微小
化及び高性能化が望まれている。
にともない、積層セラミック電子部品のますますの微小
化及び高性能化が望まれている。
ここでは、積層セラミック電子部品として積層セラミッ
クコンデンサを例に採り説明する。
クコンデンサを例に採り説明する。
第3図は、積層セラミックコンデンサの一部t−断面に
て示す図である。第3図において、1はセラミック誘電
体層、2は内部電極、3は外部電極である。前記内部電
極2は、2ケの外部電極3に交互に接続されている。
て示す図である。第3図において、1はセラミック誘電
体層、2は内部電極、3は外部電極である。前記内部電
極2は、2ケの外部電極3に交互に接続されている。
このような積層セラミックコンデンサをさらに高容量化
するために、内部電極の高積層化が望まれている。しか
し、積層セラミックコンデンサを多層化した時に内部電
極における部分的な積層数の違いによる部分的な厚みム
ラあるいは段差が発生してしまう。この厚みムラによる
凹凸により。
するために、内部電極の高積層化が望まれている。しか
し、積層セラミックコンデンサを多層化した時に内部電
極における部分的な積層数の違いによる部分的な厚みム
ラあるいは段差が発生してしまう。この厚みムラによる
凹凸により。
積層セラミックコンデンサとしての均一な厚みの積層が
できず、デラミネーション(層間剥離)やクラック(割
れ)等の問題を発生してしまうといった問題がある。
できず、デラミネーション(層間剥離)やクラック(割
れ)等の問題を発生してしまうといった問題がある。
第4図は、高積層化した時の積層セラミックコンデンサ
の断面図である。第4図に示すように積層セラミックコ
ンデンサの中心部(内部電極2の積層数が多い)の厚み
人に比べ、周辺部(内部電極2の積層数が少ない)の厚
みBが小さいことが解る。
の断面図である。第4図に示すように積層セラミックコ
ンデンサの中心部(内部電極2の積層数が多い)の厚み
人に比べ、周辺部(内部電極2の積層数が少ない)の厚
みBが小さいことが解る。
第5図は、積層数に対する中心部と周辺部とでの厚みの
差を説明する図である。ここで用いた積層セラミックコ
ンデンサの内部電極の厚みは4ミクロンである。第6図
より、積層数が多くなるほど中心部と周辺部とでの厚み
の差が広がることが解る。さらに、内部電極としてはパ
ラジウム、白金等の高価な材料が使われることが多く、
この場合、内部′直棒の厚みが内部電極の使用量となり
、積層セラミックコンデンサの値段を高くしてしまう。
差を説明する図である。ここで用いた積層セラミックコ
ンデンサの内部電極の厚みは4ミクロンである。第6図
より、積層数が多くなるほど中心部と周辺部とでの厚み
の差が広がることが解る。さらに、内部電極としてはパ
ラジウム、白金等の高価な材料が使われることが多く、
この場合、内部′直棒の厚みが内部電極の使用量となり
、積層セラミックコンデンサの値段を高くしてしまう。
このため、従来よりコストの面からも電極を薄層化する
ことが試みられているが、スクリーン印刷方法により電
極を薄く印刷形成することには限界があった。例えば、
特公昭80−29209号公報のように、電極インキを
セラミック生シート上ではなく、支持体の上に直接印刷
することが考えられる。この場合、電極インキの被印刷
面となる支持体にポリエステルフィμム等の表面の滑ら
かなものを用いることで、表面に凹凸を有するセラミッ
ク生シートに比較して、より均一で薄い電極の印刷が可
能になる。
ことが試みられているが、スクリーン印刷方法により電
極を薄く印刷形成することには限界があった。例えば、
特公昭80−29209号公報のように、電極インキを
セラミック生シート上ではなく、支持体の上に直接印刷
することが考えられる。この場合、電極インキの被印刷
面となる支持体にポリエステルフィμム等の表面の滑ら
かなものを用いることで、表面に凹凸を有するセラミッ
ク生シートに比較して、より均一で薄い電極の印刷が可
能になる。
次に、第6図fA)、 iB) 、 (C)を用いて電
極インキを直接支持体上に薄層になるように印刷した場
合を説明する。この第6図は、スクリーン印刷により内
部電極を印刷した様子を説明する図である。第6図にお
いて、4は支持体、5は電極インキ、6は表面処理され
たN、極インキ膜、7はセラミック生シートであり、セ
ラミックスのスラリーが乾燥したものである。第6図(
ム)はスクリーン印刷によって、支持体4の表面に電極
インキ5を印刷した様子を説明するものである。第6図
(Alにおいて、電極インキ60表面は滑らかではなく
、スクリーン印刷に用いたスクリーンの編目模様等が残
ったりする。また、例えば電極インキのレベリング性が
よくてスクリーンの編目模様が残らなくても、電極イン
キ5中に含まれていた溶剤が飛ぶことで表面に凹凸が生
じる場合もある。第6図(B)は、電極インキ5を乾燥
させた後、表面処理して表面を滑らかにした様子を説明
するものである。ここで、xiインキ5は鏡面処理され
た金属筋等に押し当・てたり、カレンダーロールをかけ
たりすることで、表面処理された電極インキ膜6となる
。しかし、圧力をかけて電極インキ6を物理的に薄くす
ることは、電極インキ50表面を滑らかにする程度の効
果はあるが、薄層化には限度があり、逆に支持体自体を
変形させてしまうととになる。第6図(C)は、表面処
理された電極インキ膜6をセラミックスのスラリーが乾
燥してできたセラミック生シート7に埋め込んだ様子を
説明するだめのものである。このようにすることで、電
極をセラミック生シート7に埋め込゛み、その凹凸をな
くそうと努力していた。しかし、実際には電極によって
引き起こされる凹凸を低下させることは難しかった。
極インキを直接支持体上に薄層になるように印刷した場
合を説明する。この第6図は、スクリーン印刷により内
部電極を印刷した様子を説明する図である。第6図にお
いて、4は支持体、5は電極インキ、6は表面処理され
たN、極インキ膜、7はセラミック生シートであり、セ
ラミックスのスラリーが乾燥したものである。第6図(
ム)はスクリーン印刷によって、支持体4の表面に電極
インキ5を印刷した様子を説明するものである。第6図
(Alにおいて、電極インキ60表面は滑らかではなく
、スクリーン印刷に用いたスクリーンの編目模様等が残
ったりする。また、例えば電極インキのレベリング性が
よくてスクリーンの編目模様が残らなくても、電極イン
キ5中に含まれていた溶剤が飛ぶことで表面に凹凸が生
じる場合もある。第6図(B)は、電極インキ5を乾燥
させた後、表面処理して表面を滑らかにした様子を説明
するものである。ここで、xiインキ5は鏡面処理され
た金属筋等に押し当・てたり、カレンダーロールをかけ
たりすることで、表面処理された電極インキ膜6となる
。しかし、圧力をかけて電極インキ6を物理的に薄くす
ることは、電極インキ50表面を滑らかにする程度の効
果はあるが、薄層化には限度があり、逆に支持体自体を
変形させてしまうととになる。第6図(C)は、表面処
理された電極インキ膜6をセラミックスのスラリーが乾
燥してできたセラミック生シート7に埋め込んだ様子を
説明するだめのものである。このようにすることで、電
極をセラミック生シート7に埋め込゛み、その凹凸をな
くそうと努力していた。しかし、実際には電極によって
引き起こされる凹凸を低下させることは難しかった。
このため、従来より電極インキの印刷後の厚みを薄くす
るために、スクリーンを薄くしたり(例えば、320メ
ツシユを400メツシユ以上にしたり、メタルマスクや
大日本スクリーン株式会社等で開発されたエレクトロフ
ォーミング工法で製造された特殊なスクリーン版等を用
いる。)、乳剤厚みを薄くする(例えば、10 /1m
を5/1m以下にする。)ことが考えられた。しかし、
スクリーンを例えばステンレス300メツシユ(線径2
8μm1スクリーン厚み64μm)のものを、スレンレ
ス400メツシユ(m径2 s 1t m、スクリーン
厚み58μm )のものにしても、スクリーン厚みがあ
まり低下せず、電極インキの塗布された膜厚もあまり変
わらない。さらに、スクリーンを薄くしようとして、4
00メツシュ以上のメツシュ数の高いものを選ぶと、逆
にスクリーンのオープニング(開口部)が小さくなり、
スクリーン自体が高価になると共に、スクリーンが目詰
まりを起こしやすくなり実用的ではない。一方、乳剤の
厚みを10μmから5μm程度まで低下させても、スク
リーン自体の厚みに比較して乳剤自体が薄いため、あま
り効果的ではなく、逆にスクリーン版の耐刷性を悪くし
たり、印刷パターンの精度を悪くしてしまう。このよう
にスクリーン印刷を行う限り、印刷された電極インキの
厚みを薄くすることに対しては限度がある。そのために
通常は電極インキを溶剤等で希釈したりすることが行わ
れていたが、電濱インキに溶剤を加えて単に希釈するだ
けでは、電極インキの粘度が急激に低下してしまい、ス
クリーン印刷における印刷性を悪化させてしまう。また
、電極インキを製造する際K、電極インキ中に含まれる
電極材料(例えば、パラジウム、タングステン等の高沸
点金属や、銅、ニッケル等の電極材料)の量を減らして
も、印刷後の電極インキの厚みはほとんど変化しなく、
逆に内部電極の抵抗を上げてしまう問題点が発生する。
るために、スクリーンを薄くしたり(例えば、320メ
ツシユを400メツシユ以上にしたり、メタルマスクや
大日本スクリーン株式会社等で開発されたエレクトロフ
ォーミング工法で製造された特殊なスクリーン版等を用
いる。)、乳剤厚みを薄くする(例えば、10 /1m
を5/1m以下にする。)ことが考えられた。しかし、
スクリーンを例えばステンレス300メツシユ(線径2
8μm1スクリーン厚み64μm)のものを、スレンレ
ス400メツシユ(m径2 s 1t m、スクリーン
厚み58μm )のものにしても、スクリーン厚みがあ
まり低下せず、電極インキの塗布された膜厚もあまり変
わらない。さらに、スクリーンを薄くしようとして、4
00メツシュ以上のメツシュ数の高いものを選ぶと、逆
にスクリーンのオープニング(開口部)が小さくなり、
スクリーン自体が高価になると共に、スクリーンが目詰
まりを起こしやすくなり実用的ではない。一方、乳剤の
厚みを10μmから5μm程度まで低下させても、スク
リーン自体の厚みに比較して乳剤自体が薄いため、あま
り効果的ではなく、逆にスクリーン版の耐刷性を悪くし
たり、印刷パターンの精度を悪くしてしまう。このよう
にスクリーン印刷を行う限り、印刷された電極インキの
厚みを薄くすることに対しては限度がある。そのために
通常は電極インキを溶剤等で希釈したりすることが行わ
れていたが、電濱インキに溶剤を加えて単に希釈するだ
けでは、電極インキの粘度が急激に低下してしまい、ス
クリーン印刷における印刷性を悪化させてしまう。また
、電極インキを製造する際K、電極インキ中に含まれる
電極材料(例えば、パラジウム、タングステン等の高沸
点金属や、銅、ニッケル等の電極材料)の量を減らして
も、印刷後の電極インキの厚みはほとんど変化しなく、
逆に内部電極の抵抗を上げてしまう問題点が発生する。
例えば、電極インキ中におけるパラジウム等の電極材料
の含有量が50%以下になると、急激に電気抵抗が上が
ったり、さらには導通がとれなくなってしまうという問
題点があり、どれもあまり効果的ではなかった。
の含有量が50%以下になると、急激に電気抵抗が上が
ったり、さらには導通がとれなくなってしまうという問
題点があり、どれもあまり効果的ではなかった。
発明が解決しようとする課題
したがって、前記のようなスクリーン印刷方法により内
部電極を薄く形成することには限度があった。そのため
に、特に誘電体層及び内部電極の多層化を行う場合にお
いては、積層セラミックコンデンサの中心部と周辺部と
での、内部電WKより発生する段差を増り除くことはで
きないという問題点を有していた。
部電極を薄く形成することには限度があった。そのため
に、特に誘電体層及び内部電極の多層化を行う場合にお
いては、積層セラミックコンデンサの中心部と周辺部と
での、内部電WKより発生する段差を増り除くことはで
きないという問題点を有していた。
本発明は、このような課屑に囲み、電極インキによる内
部電極の薄膜化の方法として、従来性われていたような
電極インキを希釈する方法(ある程度の薄層印刷は可能
であるが印刷性や電気的特性を悪くする。)等を用いな
くても″FL樺インキによる内部電極の薄層化を可能に
し、積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際
においても、電極の厚みに起因する積層体表面に発生し
やすい凹凸を防止することができ、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げることを目的とするものである。さらに
、本発明では、支持体上に形成された状態の電極埋め込
みセラミック生シートを熱圧着により転写することによ
り、従来では増扱時に破損してしまうような薄い電極埋
め込みセラミック生シートを用いた場合においても、電
極埋め込みセラミック生シートが支持体と共にウリ扱え
るために、破損しにくく、かつ機械的にも精度良く積層
することを目的とするものである。
部電極の薄膜化の方法として、従来性われていたような
電極インキを希釈する方法(ある程度の薄層印刷は可能
であるが印刷性や電気的特性を悪くする。)等を用いな
くても″FL樺インキによる内部電極の薄層化を可能に
し、積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際
においても、電極の厚みに起因する積層体表面に発生し
やすい凹凸を防止することができ、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げることを目的とするものである。さらに
、本発明では、支持体上に形成された状態の電極埋め込
みセラミック生シートを熱圧着により転写することによ
り、従来では増扱時に破損してしまうような薄い電極埋
め込みセラミック生シートを用いた場合においても、電
極埋め込みセラミック生シートが支持体と共にウリ扱え
るために、破損しにくく、かつ機械的にも精度良く積層
することを目的とするものである。
課題を解決するための手段
この課題を解決するために本発明は、支持体上にフッ素
樹脂を印刷した後、電極インキを前記支持体上の前記フ
ン素樹脂以外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥さ
せた後、その上にセラミックスのスラリーを塗布した後
、乾燥させ、前記支持体上に電極埋め込みセラミック生
シートを作り、次に前記電極埋め込みセラミック生シー
トを前記支持体より剥離することなく、他のセラミック
生シートもしくは他の電極の上に熱圧着させた後、前記
支持体及び前記フッ素樹脂を除去し、前記電極埋め込み
セラミック生シートを前記也のセラミック生シートもし
くは他の電極上に転写するという構成を備えたものであ
る。
樹脂を印刷した後、電極インキを前記支持体上の前記フ
ン素樹脂以外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥さ
せた後、その上にセラミックスのスラリーを塗布した後
、乾燥させ、前記支持体上に電極埋め込みセラミック生
シートを作り、次に前記電極埋め込みセラミック生シー
トを前記支持体より剥離することなく、他のセラミック
生シートもしくは他の電極の上に熱圧着させた後、前記
支持体及び前記フッ素樹脂を除去し、前記電極埋め込み
セラミック生シートを前記也のセラミック生シートもし
くは他の電極上に転写するという構成を備えたものであ
る。
作用
本発明は前記した構成によって、スクリーン印刷に比較
して電極インキ膜を薄くすることができ、この薄い電極
インキ膜をセラミック生シートに埋め込むことにより、
積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際にお
いても、電極の厚みに起因するところの積層体表面に発
生しゃすい凹凸の発生を防止でき、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げられることとなる。
して電極インキ膜を薄くすることができ、この薄い電極
インキ膜をセラミック生シートに埋め込むことにより、
積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際にお
いても、電極の厚みに起因するところの積層体表面に発
生しゃすい凹凸の発生を防止でき、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げられることとなる。
さらに、電極埋め込みセラミンク生シートは、支持体上
に形成されたまま熱圧着により転写されることにより、
従来では取扱時に破損してしまうような薄い電極埋め込
みセラミック生シートを用いた場合においても、電極埋
め込みセラミック生シートが支持体と共に増り扱えるた
めに、破損しにくく、かつ濠械的にも精度良く積層する
ことができることとなる。
に形成されたまま熱圧着により転写されることにより、
従来では取扱時に破損してしまうような薄い電極埋め込
みセラミック生シートを用いた場合においても、電極埋
め込みセラミック生シートが支持体と共に増り扱えるた
めに、破損しにくく、かつ濠械的にも精度良く積層する
ことができることとなる。
特に、本発明における電極インキの所望するパターンの
形成を、予めフン素樹脂の印刷された支持体上に重版イ
ンキをベタ(つまりパターニングされずに)に塗布する
ことによって行うことにより、新たな効果が生まれる。
形成を、予めフン素樹脂の印刷された支持体上に重版イ
ンキをベタ(つまりパターニングされずに)に塗布する
ことによって行うことにより、新たな効果が生まれる。
つまり、本発明では、電極を形成しない部分の支持体上
には、予めフッ素樹脂が印刷されているために、その部
分では電極インキがはじかれることによシ、電極インキ
の付着を防止することができる。すなわち、本発明では
、電極インキの所望する形状は、印刷にょってでなく塗
布することで電極インキとフッ素樹月旨の間の界面化学
的な作用によって、得られることになる。このため、本
発明では電極インキをペタに(つまり所望する形状の)
(ターニングを行わすとも)支持体上に塗布するだけで
よいことになり、通常の磁気テープ等の磁性層やノくツ
クコート等を薄層、均一かつ高速に塗布するために広く
用いられているグラビア塗布機やリノ(−ス塗布機を使
用することができる。こうして、本発明では従来のスク
リーン印刷法に比較し、薄層にかつ高速に電極インキの
塗布が可能になる。また、本発明ではグラビア捨布装置
等を用いることができるため、電極インキの組成におい
ても樹脂の含有率を従来のスクリーン印刷に用いられた
ものに比較して低減することができ、この樹脂を減らし
た分だけ電極インキ膜におけるパラジウム等の金属粒子
の含有率を増加させることができ、電気的な特性を改善
できることとなる。
には、予めフッ素樹脂が印刷されているために、その部
分では電極インキがはじかれることによシ、電極インキ
の付着を防止することができる。すなわち、本発明では
、電極インキの所望する形状は、印刷にょってでなく塗
布することで電極インキとフッ素樹月旨の間の界面化学
的な作用によって、得られることになる。このため、本
発明では電極インキをペタに(つまり所望する形状の)
(ターニングを行わすとも)支持体上に塗布するだけで
よいことになり、通常の磁気テープ等の磁性層やノくツ
クコート等を薄層、均一かつ高速に塗布するために広く
用いられているグラビア塗布機やリノ(−ス塗布機を使
用することができる。こうして、本発明では従来のスク
リーン印刷法に比較し、薄層にかつ高速に電極インキの
塗布が可能になる。また、本発明ではグラビア捨布装置
等を用いることができるため、電極インキの組成におい
ても樹脂の含有率を従来のスクリーン印刷に用いられた
ものに比較して低減することができ、この樹脂を減らし
た分だけ電極インキ膜におけるパラジウム等の金属粒子
の含有率を増加させることができ、電気的な特性を改善
できることとなる。
実施例
以下、本発明について実施例を挙げながら説明する。
まず、本発明の一実施例の積層セラSツクコンデンサの
製造方法について、図面を8照しながら説明する。
製造方法について、図面を8照しながら説明する。
第1図c人)、 m)、 (C)は本発明を説明するだ
めの電極埋め込みセラミック生シートの製造方法の一実
施例を工程J願に示す図、第2図(ム)、串)は本発明
の一実施例における積層セラミックコンデンサの製造方
法を説明するための図である。第1図ておいて、1Qは
フッ素樹脂である。11は支持体、12は電極インキ、
121aは電極インキ膜、13はセラミックスのスラリ
ー 13&はセラミックスのスラリーが乾燥してできた
生シート、14は電極埋め込みセラミック生シートであ
る。まず、第1図(A)のように、ポリエステ〜フィル
ム等の支持体11の上に、フッ素樹脂10全印刷する。
めの電極埋め込みセラミック生シートの製造方法の一実
施例を工程J願に示す図、第2図(ム)、串)は本発明
の一実施例における積層セラミックコンデンサの製造方
法を説明するための図である。第1図ておいて、1Qは
フッ素樹脂である。11は支持体、12は電極インキ、
121aは電極インキ膜、13はセラミックスのスラリ
ー 13&はセラミックスのスラリーが乾燥してできた
生シート、14は電極埋め込みセラミック生シートであ
る。まず、第1図(A)のように、ポリエステ〜フィル
ム等の支持体11の上に、フッ素樹脂10全印刷する。
この時、フッ素樹脂10の印刷方法としては、スクリー
ン印刷、オフセット平版印刷、オフセット凸版印刷、フ
レキン凸版、熱転写、インクジェット印刷等の印刷方法
を用いることができる。次に、この土建電極インキ12
をめ布すると、フッ素樹脂10上には電極インキ12が
付着しないため、第1図の)のようにフッ素樹脂10に
覆われた部分以外の支持体11の表面に、電極インキ1
2が塗布されることとなる。
ン印刷、オフセット平版印刷、オフセット凸版印刷、フ
レキン凸版、熱転写、インクジェット印刷等の印刷方法
を用いることができる。次に、この土建電極インキ12
をめ布すると、フッ素樹脂10上には電極インキ12が
付着しないため、第1図の)のようにフッ素樹脂10に
覆われた部分以外の支持体11の表面に、電極インキ1
2が塗布されることとなる。
ここで、電極インキ12の塗布には、グラビア塗布機、
リバース塗布機等を用いることができる。
リバース塗布機等を用いることができる。
次に、電極インキ12を乾燥させた後、第1図(Qのよ
うにセラミックスのスラリー13をフッ素樹脂10.電
極インキ12が表面処理されてできた電副インキ膜12
aが設けられた支持体11の全面に塗布する。ここで、
セラミックスのスラリー13は、塗布膜厚、スラリー中
の樹脂量、スラリーの粘度、スラリーに含まれる溶剤の
種類等を調整することで、フッ素樹脂10の上にも塗布
することができる。
うにセラミックスのスラリー13をフッ素樹脂10.電
極インキ12が表面処理されてできた電副インキ膜12
aが設けられた支持体11の全面に塗布する。ここで、
セラミックスのスラリー13は、塗布膜厚、スラリー中
の樹脂量、スラリーの粘度、スラリーに含まれる溶剤の
種類等を調整することで、フッ素樹脂10の上にも塗布
することができる。
次に、セラミックスのスラリー13を乾燥させ、生シー
)132Lとし、電極埋め込みセラミック生シート14
を作製する。
)132Lとし、電極埋め込みセラミック生シート14
を作製する。
次に、第2図(ム)、し)を用いて、前記電極埋め込み
セラミック生シート14を用いた積層セラミンクコンデ
ンサの製造方法について説明する。第2図において、1
5はセラミ’)り生積層体であり、予めセラミック生シ
ートが積層されている。16はプレス装置である。まず
、第2図(A)のように。
セラミック生シート14を用いた積層セラミンクコンデ
ンサの製造方法について説明する。第2図において、1
5はセラミ’)り生積層体であり、予めセラミック生シ
ートが積層されている。16はプレス装置である。まず
、第2図(A)のように。
セラミック生積層体15とプレス装置16の間に前記電
極埋め込みセラミック生シート14をはさむ。次に、プ
レス装置16によって、電極埋め込ミセラミック生シー
ト14を支持体11ごとセラミック生積層体15に押し
当てる。この時、熱をかけながら押し当ててもよい。次
に、第2図(B)のように、支持体11及びフッ素樹脂
1oをセラミック生積層体15から剥離することにょ虱
セラミック生積層体16の表面に電甑埋め込みセラミッ
ク生シート14が転写されることになる。この時、セラ
ミック生積層体15の上に電極を予め設けておき、その
上に転写させるようにしてもよい。
極埋め込みセラミック生シート14をはさむ。次に、プ
レス装置16によって、電極埋め込ミセラミック生シー
ト14を支持体11ごとセラミック生積層体15に押し
当てる。この時、熱をかけながら押し当ててもよい。次
に、第2図(B)のように、支持体11及びフッ素樹脂
1oをセラミック生積層体15から剥離することにょ虱
セラミック生積層体16の表面に電甑埋め込みセラミッ
ク生シート14が転写されることになる。この時、セラ
ミック生積層体15の上に電極を予め設けておき、その
上に転写させるようにしてもよい。
次に、さらに詳しく説明する。
まず、本発明の支持体として、75ミクロンの厚みのポ
リエステルフィルムを用いた。次に、この支持体の上に
、コーティング用のフッ素樹脂ダイスバージョン(固形
公約55%)を支持体に接着するように樹脂を加え適当
な粘度にし、スクリーン印刷方法で印刷した後、熱処理
し、フッ素樹脂を固定した。次に、この上にバーコータ
を用いた塗布装置を用いて、電極インキを塗布した。こ
の電極インキとしては、パラジウム粉末を用いた電極イ
ンキを使用した。これは1粒径0.3ミクロンのパラジ
ウム粉末60.0重量部、樹脂としてのエチルセルロー
ス1−Q重量部、分散剤0.1重量部に対して、1ボイ
ズ以下の粘度になるように溶剤を加え、ボールミ・ルを
用いて充分分散させ、最後にメンブレンフィpり(5ミ
クロンを使用)を用いて加圧ろ過し、電極インキとした
。ここで、電極インキの溶剤、電極インキの塗布厚み、
塗布装置の塗布条件を最適化することで、フン素樹脂の
以外の部分に電極インキを塗布することができた。
リエステルフィルムを用いた。次に、この支持体の上に
、コーティング用のフッ素樹脂ダイスバージョン(固形
公約55%)を支持体に接着するように樹脂を加え適当
な粘度にし、スクリーン印刷方法で印刷した後、熱処理
し、フッ素樹脂を固定した。次に、この上にバーコータ
を用いた塗布装置を用いて、電極インキを塗布した。こ
の電極インキとしては、パラジウム粉末を用いた電極イ
ンキを使用した。これは1粒径0.3ミクロンのパラジ
ウム粉末60.0重量部、樹脂としてのエチルセルロー
ス1−Q重量部、分散剤0.1重量部に対して、1ボイ
ズ以下の粘度になるように溶剤を加え、ボールミ・ルを
用いて充分分散させ、最後にメンブレンフィpり(5ミ
クロンを使用)を用いて加圧ろ過し、電極インキとした
。ここで、電極インキの溶剤、電極インキの塗布厚み、
塗布装置の塗布条件を最適化することで、フン素樹脂の
以外の部分に電極インキを塗布することができた。
また、乾燥後の電極インキ膜をカレンダ処理した後の厚
みを測定すると、3ミクロンであった。以下、これを本
発明電極と呼ぶ。
みを測定すると、3ミクロンであった。以下、これを本
発明電極と呼ぶ。
比較のために、従来法のスクリーン印刷による電極印刷
は以下のようにして行った。従来法としてのスクリーン
印刷用の電極インキとして、本発明電極に用いたものと
同じパラジウム粉末を用いた電極インキを作成した。こ
れは、粒径0,3ミクロンのパラジウム粉末50.0重
量部、樹脂としてのエチルセルロース5.0重量部、分
散剤0.1重量部に対して、適当な粘度になるように溶
剤としてブチルカルピトールを加えながら、3本ローl
レミルを用いて、粘度が100ボイズになるまで分散さ
せた。次に、支持体上に乳剤厚1oミクロン、400メ
ソシユのステンレススクリーンを用いたスクリーン印刷
法により、印刷した。また、乾燥後の電極インキ膜をカ
レンダ処理した後の厚みを測定すると、約9ミクロンで
あった。以下、これを従来電極と呼ぶ。
は以下のようにして行った。従来法としてのスクリーン
印刷用の電極インキとして、本発明電極に用いたものと
同じパラジウム粉末を用いた電極インキを作成した。こ
れは、粒径0,3ミクロンのパラジウム粉末50.0重
量部、樹脂としてのエチルセルロース5.0重量部、分
散剤0.1重量部に対して、適当な粘度になるように溶
剤としてブチルカルピトールを加えながら、3本ローl
レミルを用いて、粘度が100ボイズになるまで分散さ
せた。次に、支持体上に乳剤厚1oミクロン、400メ
ソシユのステンレススクリーンを用いたスクリーン印刷
法により、印刷した。また、乾燥後の電極インキ膜をカ
レンダ処理した後の厚みを測定すると、約9ミクロンで
あった。以下、これを従来電極と呼ぶ。
次に、本発明電極及び従来電極の上にセラミックスのス
ラリーを塗布した。まず、セラミックスのスラリーの作
り方について説明する。これはポリビニルブチラール樹
脂(積水化学株式会社製。
ラリーを塗布した。まず、セラミックスのスラリーの作
り方について説明する。これはポリビニルブチラール樹
脂(積水化学株式会社製。
BL−2ブチラー/I/ltt脂)6.0重量部を、フ
タル酸ジブチA10.6重量部、エチルアルコール25
.0重量部、トルエン3660重量部よυなる樹脂溶液
中に、粒径1ミクロンのチタン酸バリウム粉末31.0
重量部と共に加え、よく攪拌した。次に、これをポリエ
チレン製の瓶に入れ、ジルコニアビーズを加え、適当な
分散状態になるまで混合分散した。次に、これを仮ろ過
した後、1oミクロンのメンブレンフィpりを用いて加
圧ろ過して、セラミックスのスラリーとした。
タル酸ジブチA10.6重量部、エチルアルコール25
.0重量部、トルエン3660重量部よυなる樹脂溶液
中に、粒径1ミクロンのチタン酸バリウム粉末31.0
重量部と共に加え、よく攪拌した。次に、これをポリエ
チレン製の瓶に入れ、ジルコニアビーズを加え、適当な
分散状態になるまで混合分散した。次に、これを仮ろ過
した後、1oミクロンのメンブレンフィpりを用いて加
圧ろ過して、セラミックスのスラリーとした。
次に、このセラミックスのスフ’)−ラバーコータを用
いた塗布装置により、本発明電極及び従来電極の上に塗
布した。次に、これを乾燥させ電極埋め込みセラミック
生シートとし、マイクロメータで膜厚を測定したところ
、セラミックスのスラリーが乾燥してできた生シート単
体の膜厚け18ミクロンであった。
いた塗布装置により、本発明電極及び従来電極の上に塗
布した。次に、これを乾燥させ電極埋め込みセラミック
生シートとし、マイクロメータで膜厚を測定したところ
、セラミックスのスラリーが乾燥してできた生シート単
体の膜厚け18ミクロンであった。
次に、この電甑埋め込みセラミック生シート単体いた積
層セラミックコンデン丈の製造方法について説明する。
層セラミックコンデン丈の製造方法について説明する。
まず、厚み200ミクロンの電極の形成されていないセ
ラミック生積層体の上に第2図のように電極埋め込みセ
ラミック生シートを次々に転写積層した。また、積層時
に一定のピッチだけずらせた状態で、次の電極埋め込み
セラミック生シートを転写することで、内部電極が交互
にずれるようにした。
ラミック生積層体の上に第2図のように電極埋め込みセ
ラミック生シートを次々に転写積層した。また、積層時
に一定のピッチだけずらせた状態で、次の電極埋め込み
セラミック生シートを転写することで、内部電極が交互
にずれるようにした。
以下、これを繰り返し内部電極が第3図のように交互に
ずれるようにし、内部電極を10層になるようにした。
ずれるようにし、内部電極を10層になるようにした。
そして、最後に焼成時のノリや機械的強度を上げるため
に、厚み2oOミクロンの′、π版が形成されていない
セラミック生シートを転写した。このようにして得た積
層体をチップ状に切断した後、1000℃で1時間焼成
した。
に、厚み2oOミクロンの′、π版が形成されていない
セラミック生シートを転写した。このようにして得た積
層体をチップ状に切断した後、1000℃で1時間焼成
した。
次に、外部電極を通常の方法を用いて形成し、電極の薄
層化の効果を調べた。この電極の薄層化の効果について
は、その結果を下記の第1表に示す。第1表において、
支持体上は電極そのものの乾燥後の厚み、埋め込み後は
セラミックスのスラリーを表面に塗布した後の乾燥後の
凹凸、積層後は10層積層した後の生積層体の凹凸であ
る。
層化の効果を調べた。この電極の薄層化の効果について
は、その結果を下記の第1表に示す。第1表において、
支持体上は電極そのものの乾燥後の厚み、埋め込み後は
セラミックスのスラリーを表面に塗布した後の乾燥後の
凹凸、積層後は10層積層した後の生積層体の凹凸であ
る。
〈第1表〉
以上のように、本発明による製造方法を用いれば、電極
埋め込みシートの表面の凹凸及び積層体の表面の凹凸が
、従来電極に比較して大きく改善されていることが解る
。ここで、焼成後の積層セラミックコンデンサを観察し
たが、本発明の製造方法によるものが、デラミネーショ
ン(層間剥離)等の発生率が低かった。これは電極が薄
くなったためと推測された。また、焼成後の積層セラミ
ックコンデンサの断面を走査形電子顕微鏡で観察したが
、本発明による製造方法の方の内部電極の方が従来のも
のに比較して明らかに薄かった。
埋め込みシートの表面の凹凸及び積層体の表面の凹凸が
、従来電極に比較して大きく改善されていることが解る
。ここで、焼成後の積層セラミックコンデンサを観察し
たが、本発明の製造方法によるものが、デラミネーショ
ン(層間剥離)等の発生率が低かった。これは電極が薄
くなったためと推測された。また、焼成後の積層セラミ
ックコンデンサの断面を走査形電子顕微鏡で観察したが
、本発明による製造方法の方の内部電極の方が従来のも
のに比較して明らかに薄かった。
これについて、以下第2表、第3表、第4表を用いて説
明する。第2表は、本発明電極及び従来電極の各成分構
成を重量部で、第3表は重量%で、第4表は体積%で、
それぞれ表したものである。
明する。第2表は、本発明電極及び従来電極の各成分構
成を重量部で、第3表は重量%で、第4表は体積%で、
それぞれ表したものである。
なお、第4表では樹脂及び分散剤の比重ば1、パラジウ
ムの比重は12とした。
ムの比重は12とした。
〈第2表〉
く第3表〉
く第4表〉
第4表より、本発明電極の方が従来電極のものよりパラ
ジウムの体積%が2倍近くに増加していることが解る。
ジウムの体積%が2倍近くに増加していることが解る。
つまり、本発明電極の方が従来電断より約2倍の密度で
、パラジウム濃度が高いことになる。このため、より薄
くパラジウム密度の高い電極が得られたと考えられる。
、パラジウム濃度が高いことになる。このため、より薄
くパラジウム密度の高い電極が得られたと考えられる。
なお、従来電極において、これ以上樹脂量を減らすと、
電極インキの粘度が急激に低下するため、スクリーン印
刷では印刷できなくなった。一方、本発明電極において
は、電極インキの粘度が低下してもパーコータによる塗
布性に問題はなかった。このため、樹脂量をさらに0.
5重量%程度に減らすこともできた。
電極インキの粘度が急激に低下するため、スクリーン印
刷では印刷できなくなった。一方、本発明電極において
は、電極インキの粘度が低下してもパーコータによる塗
布性に問題はなかった。このため、樹脂量をさらに0.
5重量%程度に減らすこともできた。
なおここで、本発明に用いた電極埋め込みセラミック生
シートのセラミック生シート部ハ、−すれ自f4=に含
むポリビニルブチラール樹脂の性質により熱による転写
性を有する。また、この熱による転写性は、セラミック
生シート中に含まれているポリビニルブチラール樹脂(
以下、PVB樹脂と呼ぶ)が少ないほど、転写性が悪く
なり、逆に含まれているPVB樹脂の量が多いほど、転
写性が良くなる。ここで用いたセラミック生シート中に
含まれるPVB樹脂は5.セラミック粉末100グラム
に対し、20グラム程度含まれているものが転写性が良
かった。しかし、ここで転写に必要なPVB樹脂全は、
スラリー原料のセラミック粉末の粒径によっても、PV
B樹脂の重合度、種類等によっても、あるいは転写時の
温度によっても、転写に必要な樹脂量は変化すると考え
られる。そして、樹脂量が不足すると、転写温度を上げ
る必要がある。
シートのセラミック生シート部ハ、−すれ自f4=に含
むポリビニルブチラール樹脂の性質により熱による転写
性を有する。また、この熱による転写性は、セラミック
生シート中に含まれているポリビニルブチラール樹脂(
以下、PVB樹脂と呼ぶ)が少ないほど、転写性が悪く
なり、逆に含まれているPVB樹脂の量が多いほど、転
写性が良くなる。ここで用いたセラミック生シート中に
含まれるPVB樹脂は5.セラミック粉末100グラム
に対し、20グラム程度含まれているものが転写性が良
かった。しかし、ここで転写に必要なPVB樹脂全は、
スラリー原料のセラミック粉末の粒径によっても、PV
B樹脂の重合度、種類等によっても、あるいは転写時の
温度によっても、転写に必要な樹脂量は変化すると考え
られる。そして、樹脂量が不足すると、転写温度を上げ
る必要がある。
次に、実験に用いた粒径のチタン酸バリウム粉末につい
て、セラミック生シート中に含まれる樹脂量と、このセ
ラミック生シートの転写性について′A検した結果を下
記の第5表に示す。ここで、セラミック生シートは前述
のようにチタン酸バリウム粉末、可塑剤としてのフタl
し酸ジブチ/L/、及びPVB樹脂よりできており、こ
こに含まれるPVB樹脂の重量パーセントを変化させた
場合の転写性を調べた。ここで、セラミック生シート中
に加えたフタル酸ジブチルの量は、PVB樹脂の10重
量形と固定した。また、セラミック生シートの転写性に
ついては、第2図のようにセラミ、。
て、セラミック生シート中に含まれる樹脂量と、このセ
ラミック生シートの転写性について′A検した結果を下
記の第5表に示す。ここで、セラミック生シートは前述
のようにチタン酸バリウム粉末、可塑剤としてのフタl
し酸ジブチ/L/、及びPVB樹脂よりできており、こ
こに含まれるPVB樹脂の重量パーセントを変化させた
場合の転写性を調べた。ここで、セラミック生シート中
に加えたフタル酸ジブチルの量は、PVB樹脂の10重
量形と固定した。また、セラミック生シートの転写性に
ついては、第2図のようにセラミ、。
り生積層体の上に、電極埋め込みセラミック生シートを
転写することで実験した。また、転写は支持体側から、
転写圧力15キログラム毎平方センチメートルの圧力で
、温度180℃に加熱した熱形を押し当てることで行っ
た。また、PVB樹脂量は、セラミック生シート中の重
量%で表した。
転写することで実験した。また、転写は支持体側から、
転写圧力15キログラム毎平方センチメートルの圧力で
、温度180℃に加熱した熱形を押し当てることで行っ
た。また、PVB樹脂量は、セラミック生シート中の重
量%で表した。
(以下余 白)
く第5表〉
次に、前記第5表のセラミック生シートを用い、セラミ
ック生シートの中に含まれるPVB樹脂量とデラミネー
/ヨンの発生率との関係を調べた結果を第6表に示す。
ック生シートの中に含まれるPVB樹脂量とデラミネー
/ヨンの発生率との関係を調べた結果を第6表に示す。
く第6表〉
この第6表より、PVB樹脂量は10重量%以上〜40
重量%以下のものがデラミネーションを起こしにくいこ
とが解る。以上より、PVB樹脂量はセラミック生シー
トの10重量%〜40重量%、特に15重量%前後のも
のが転写性も良く、デラミネーションの発生も少ないこ
とが解る。
重量%以下のものがデラミネーションを起こしにくいこ
とが解る。以上より、PVB樹脂量はセラミック生シー
トの10重量%〜40重量%、特に15重量%前後のも
のが転写性も良く、デラミネーションの発生も少ないこ
とが解る。
ここで、PVB樹脂のような転写性を有する樹脂として
は、他にもアクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース誘導
体樹脂等の熱可塑性樹脂がある。
は、他にもアクリル樹脂、ビニル樹脂、セルロース誘導
体樹脂等の熱可塑性樹脂がある。
また、熱可塑性樹脂以外に、硬化型樹脂1重合型樹脂で
あっても、その硬化条件、重合条件を適当にし、例えば
ゴム状にすることで、表面に粘着性を持たせることによ
って一種の熱可塑性樹脂として用いることができる。
あっても、その硬化条件、重合条件を適当にし、例えば
ゴム状にすることで、表面に粘着性を持たせることによ
って一種の熱可塑性樹脂として用いることができる。
なお、本発明において、転写時には熱、光、電子線、マ
イクロウェーブ、xL%等を使用して転写を行っても良
い。また、PVB樹脂の種類、可塑剤の種類や添加量を
変えることにより室温での転写も可能である。
イクロウェーブ、xL%等を使用して転写を行っても良
い。また、PVB樹脂の種類、可塑剤の種類や添加量を
変えることにより室温での転写も可能である。
さらに、本発明の電極インキ及びセラミックスのスラリ
ーは、グラビア塗布機もしくはリバース塗布機を用いて
塗布できることは言うまでもない。
ーは、グラビア塗布機もしくはリバース塗布機を用いて
塗布できることは言うまでもない。
実際に、磁気テープの生産用に使用されている塗布機(
膜厚1〜4ミクロン程度用のもの)を故メートル毎分の
塗布スピードで用いて、電極インキ1’セラミツクスの
スラリーの塗布を行ったが、問題はなかった。この場合
、電極インキ及びセラミックスのスラリーの膜厚の均一
性も磁気テープなみに良くすることもでき、さらに高速
度で塗布することができる。
膜厚1〜4ミクロン程度用のもの)を故メートル毎分の
塗布スピードで用いて、電極インキ1’セラミツクスの
スラリーの塗布を行ったが、問題はなかった。この場合
、電極インキ及びセラミックスのスラリーの膜厚の均一
性も磁気テープなみに良くすることもでき、さらに高速
度で塗布することができる。
また、フッ素樹脂の、支持体に対しての接着性の改善の
ために、各種添加物やプライマー処理等を行っても良い
。またフッ素樹脂としてはFEP樹脂(4フッ化エチレ
ン−〇フッ化プロピレン共重合樹脂)の0.2〜0.3
μm程度のディスバージョン以外に、フッ素ゴム等を用
いても良い。またシIJ−yン樹脂、ワックス等の剥離
性の高いものを混ぜて用いても効果的である。また、電
極インキの溶剤は、有機溶剤だけでなく水等の表面張力
の高いものも使える。さらに、必要に応じてアルコール
等を加えることで電極インキの濡れ性を変化できる。ま
た、支持体表面を電極インキに濡れやすくするための化
学的な例としてプライマー処理。
ために、各種添加物やプライマー処理等を行っても良い
。またフッ素樹脂としてはFEP樹脂(4フッ化エチレ
ン−〇フッ化プロピレン共重合樹脂)の0.2〜0.3
μm程度のディスバージョン以外に、フッ素ゴム等を用
いても良い。またシIJ−yン樹脂、ワックス等の剥離
性の高いものを混ぜて用いても効果的である。また、電
極インキの溶剤は、有機溶剤だけでなく水等の表面張力
の高いものも使える。さらに、必要に応じてアルコール
等を加えることで電極インキの濡れ性を変化できる。ま
た、支持体表面を電極インキに濡れやすくするための化
学的な例としてプライマー処理。
物理的な例としコロナ放電等をすることも効果的である
。また、フッ素樹脂の上が電極インキによって濡れた状
態になった場合も、エアードクタ等を用いて空気を吹き
付けたわ、垂直に塗布する等の手段を用いることで、安
定してはじかせることができる。また、フッ素樹脂は支
持体上にスプレーを用いたり、リフトオフの手法を用い
て印刷形成しても良い。
。また、フッ素樹脂の上が電極インキによって濡れた状
態になった場合も、エアードクタ等を用いて空気を吹き
付けたわ、垂直に塗布する等の手段を用いることで、安
定してはじかせることができる。また、フッ素樹脂は支
持体上にスプレーを用いたり、リフトオフの手法を用い
て印刷形成しても良い。
また一方、本発明におけるセラミックスのスラリーは、
電極インキに比較して、樹脂層も多く、塗布膜厚も電極
インキに比べ厚くすることで、前述のようにフッ素樹脂
の上でも塗布することができる。
電極インキに比較して、樹脂層も多く、塗布膜厚も電極
インキに比べ厚くすることで、前述のようにフッ素樹脂
の上でも塗布することができる。
さらに、本発明方法は、前記実施例で述べた積層セラミ
ックコンデンサに適用する以外に、多重セラミック基板
、積層バリスタ等のその曲の積層セラミック電子部品に
おいても適用できるものである。
ックコンデンサに適用する以外に、多重セラミック基板
、積層バリスタ等のその曲の積層セラミック電子部品に
おいても適用できるものである。
発明の効果
以上のように本発明は、支持体上の所望しない部分にフ
ッ素樹脂を印刷した後、電極インキを前記フッ素樹脂以
外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥後、表面にセ
ラミックスのスラリーヲ塗布、乾燥して、前記支持体上
に電極埋め込みセラミック生シートを作り、次に前記電
極埋め込みセラミック生シートを前記支持体より剥離す
ることなく、他のセラミック生シートもしくは他の電極
の上に熱圧着させた後、前記支持体及び前記フッ素樹脂
を剥離し、前記電甑埋め込みセラミック生シートを前記
他のセラミック生シートもしくは他の電極上に転写する
ことを特徴とすることにより、電極インキをグラビア塗
布機等を用いて薄層に塗布できるために、スクリーン印
刷に比較して、電極を薄くすることができ、またセラミ
ック生シートを支持体と共に取扱うために増扱時に破損
することなく、電極を埋め込むことにより内部電極によ
る凹凸の発生を低減しながら、歩留り良く積層セラミッ
クコンデンサ等の積層セラミック電子部品を製造するこ
とができる。
ッ素樹脂を印刷した後、電極インキを前記フッ素樹脂以
外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥後、表面にセ
ラミックスのスラリーヲ塗布、乾燥して、前記支持体上
に電極埋め込みセラミック生シートを作り、次に前記電
極埋め込みセラミック生シートを前記支持体より剥離す
ることなく、他のセラミック生シートもしくは他の電極
の上に熱圧着させた後、前記支持体及び前記フッ素樹脂
を剥離し、前記電甑埋め込みセラミック生シートを前記
他のセラミック生シートもしくは他の電極上に転写する
ことを特徴とすることにより、電極インキをグラビア塗
布機等を用いて薄層に塗布できるために、スクリーン印
刷に比較して、電極を薄くすることができ、またセラミ
ック生シートを支持体と共に取扱うために増扱時に破損
することなく、電極を埋め込むことにより内部電極によ
る凹凸の発生を低減しながら、歩留り良く積層セラミッ
クコンデンサ等の積層セラミック電子部品を製造するこ
とができる。
第1図rA) 、 fB) 、 (C)は本発明を説明
するための電極埋め込みセラミック生シートの製造方法
の一実施例を工程順に示す図、第2図(A) 、 (B
)は本発明の一実施例における積層セラミックコンデン
サの製造方法を説明するための図、第3図は積層セラミ
ックコンデンサの一部を断面にて示す図、第4図は従来
例における多積層化した時の積層セラミックコンデンサ
の断面図、第5図は同じく積層故に極を印刷した様子を
説明する図である。
するための電極埋め込みセラミック生シートの製造方法
の一実施例を工程順に示す図、第2図(A) 、 (B
)は本発明の一実施例における積層セラミックコンデン
サの製造方法を説明するための図、第3図は積層セラミ
ックコンデンサの一部を断面にて示す図、第4図は従来
例における多積層化した時の積層セラミックコンデンサ
の断面図、第5図は同じく積層故に極を印刷した様子を
説明する図である。
10・・・・・・フッ素樹脂、11・・・・・・支持体
、12・・・・・・電極インキ、12&・・・・・・電
極インキ膜、13・・・・・・セラミックスのスラリー
、132L・・・・・・生シート、14・・・・・・電
極埋め込みセラミック生シート、15・・・・・セラミ
ック生積層体、16・・・・・・プレス装置。
、12・・・・・・電極インキ、12&・・・・・・電
極インキ膜、13・・・・・・セラミックスのスラリー
、132L・・・・・・生シート、14・・・・・・電
極埋め込みセラミック生シート、15・・・・・セラミ
ック生積層体、16・・・・・・プレス装置。
代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名II
・− 12、・・− 1あ フ ッ 素 上目′ 脂 支碑体 電極インキ f極イソキ噴 t″つミックスのスラリー 生ソート +4− !i陽7めI、!lH 第 図 第 図 第 図 矛11 散 〔41〕
・− 12、・・− 1あ フ ッ 素 上目′ 脂 支碑体 電極インキ f極イソキ噴 t″つミックスのスラリー 生ソート +4− !i陽7めI、!lH 第 図 第 図 第 図 矛11 散 〔41〕
Claims (2)
- (1)支持体上にフッ素樹脂を印刷した後、電極インキ
を前記支持体上の前記フッ素樹脂以外の部分に所望する
形状に付着させ、乾燥させた後、その上にセラミックス
のスラリーを塗布した後、乾燥させ、前記支持体上に電
極埋め込みセラミック生シートを作り、次に前記電極埋
め込みセラミック生シートを前記支持体より剥離するこ
となく、他のセラミック生シートもしくは他の電極の上
に熱圧着させた後、前記支持体及び前記フッ素樹脂を除
去し、前記電極埋め込みセラミック生シートを前記他の
セラミック生シートもしくは他の電極上に転写すること
を特徴とする積層セラミック電子部品の製造方法。 - (2)セラミックスのスラリーは乾燥後に熱可塑性樹脂
が10重量%以上40重量%以下になるように配合した
ことを特徴とする請求項1記載の積層セラミック電子部
品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63210241A JPH0258397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63210241A JPH0258397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0258397A true JPH0258397A (ja) | 1990-02-27 |
Family
ID=16586122
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63210241A Pending JPH0258397A (ja) | 1988-08-24 | 1988-08-24 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0258397A (ja) |
-
1988
- 1988-08-24 JP JP63210241A patent/JPH0258397A/ja active Pending
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