JPH0236513A - 積層セラミック電子部品の製造方法 - Google Patents
積層セラミック電子部品の製造方法Info
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- JPH0236513A JPH0236513A JP63187229A JP18722988A JPH0236513A JP H0236513 A JPH0236513 A JP H0236513A JP 63187229 A JP63187229 A JP 63187229A JP 18722988 A JP18722988 A JP 18722988A JP H0236513 A JPH0236513 A JP H0236513A
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Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、ビデオテープレコーダ、液晶テレビ、0ム機
器等の電気製品に広く用いられている積層セラミックコ
ンデンサ等の積層セラミック電子部品の製造方法に関す
るものであり、他にも、広く多層セラミック基板、積層
バリスタ、積層圧電素子等の積層セラミック電子部品を
製造する際においても、利用可能なものである。
器等の電気製品に広く用いられている積層セラミックコ
ンデンサ等の積層セラミック電子部品の製造方法に関す
るものであり、他にも、広く多層セラミック基板、積層
バリスタ、積層圧電素子等の積層セラミック電子部品を
製造する際においても、利用可能なものである。
従来の技術
近年、電子部品の分野においても、回路部品の高密度化
にともない、積層セラミック電子部品のますますの微小
化及び高性能化が望まれている。
にともない、積層セラミック電子部品のますますの微小
化及び高性能化が望まれている。
ここでは、積層セラミック電子部品として積層セラミッ
クコンデンサを例に採り説明する。
クコンデンサを例に採り説明する。
第3図は、積層セラミックコンデンサの一部を断面にて
示す図である。第3図において、1はセラミック誘電体
層、2は内部電極、3は外部電極である。前記内部電極
2は、2ケの外部電極3に交互に接続されている。
示す図である。第3図において、1はセラミック誘電体
層、2は内部電極、3は外部電極である。前記内部電極
2は、2ケの外部電極3に交互に接続されている。
このような積層セラミックコンデンサをさらに高容量化
するために、内部電極の高積層化が望まれている。しか
し、積層セラミックコンデンサを多層化した時に内部電
極における部分的な積層数の違いによる部分的な厚みム
ラあるいは段差が発生してしまう。この厚みムラによる
凹凸により、積層セラミックコンデンサとしての均一な
厚みの積層ができず、デラミネーション(層間剥離)や
クラック(割れ)等の間顕を発生してしまうといった問
題がある。
するために、内部電極の高積層化が望まれている。しか
し、積層セラミックコンデンサを多層化した時に内部電
極における部分的な積層数の違いによる部分的な厚みム
ラあるいは段差が発生してしまう。この厚みムラによる
凹凸により、積層セラミックコンデンサとしての均一な
厚みの積層ができず、デラミネーション(層間剥離)や
クラック(割れ)等の間顕を発生してしまうといった問
題がある。
第4図は、高積層化した時の積層セラミックコンデンサ
の断面図である。第4図に示すように積層セラミックコ
ンデンサの中心部(内部電極2の積層数が多い)の厚み
ムに比べ、周辺部(内部電極2の積層数が少ない)の厚
みBが小さいことが解る。
の断面図である。第4図に示すように積層セラミックコ
ンデンサの中心部(内部電極2の積層数が多い)の厚み
ムに比べ、周辺部(内部電極2の積層数が少ない)の厚
みBが小さいことが解る。
第5図は、積層数に対する中心部と周辺部とでの厚みの
差を説明する図である。ここで用いた積層セラミックコ
ンデンサの内部電極の厚みは4ミクロンである。第5図
より、積層数が多くなるほど中心部と周辺部とでの厚み
の差が広がることが解る。さらに、内部電極としてはパ
ラジウム、白金等の高価な材料が使われることが多く、
この場合、内部電極の厚みが内部電極の使用量となり、
積層セラミックコンデンサの値段を高くしてしまう。
差を説明する図である。ここで用いた積層セラミックコ
ンデンサの内部電極の厚みは4ミクロンである。第5図
より、積層数が多くなるほど中心部と周辺部とでの厚み
の差が広がることが解る。さらに、内部電極としてはパ
ラジウム、白金等の高価な材料が使われることが多く、
この場合、内部電極の厚みが内部電極の使用量となり、
積層セラミックコンデンサの値段を高くしてしまう。
このため従来よりコストの面からも電極を薄層化するこ
とが試みられているが、スクリーン印刷方法により電極
を薄く印刷形成することには限界があった。例えば、特
公昭60−29209号公報のように、電極インキをセ
ラミック生シート上ではなく、支持体の上に直接印刷す
ることが考えられる。この場合、電極インキの被印刷面
となる支持体にポリエステルフィルム等の表面の滑らか
なものを用いることで、表面に凹凸を有するセラミック
生シートに比較して、よシ均一で薄い電極の印刷が可能
になる。
とが試みられているが、スクリーン印刷方法により電極
を薄く印刷形成することには限界があった。例えば、特
公昭60−29209号公報のように、電極インキをセ
ラミック生シート上ではなく、支持体の上に直接印刷す
ることが考えられる。この場合、電極インキの被印刷面
となる支持体にポリエステルフィルム等の表面の滑らか
なものを用いることで、表面に凹凸を有するセラミック
生シートに比較して、よシ均一で薄い電極の印刷が可能
になる。
次に、第6図Cム) 、 13) 、 (C)を用いて
電極インキを直接支持体上に薄層になるように印刷した
場合を説明する。この第6図は、スクリーン印刷により
内部電極を印刷した様子を説゛明する図である。第6図
において、4は支持体、6は電極インキ、6は表面処理
された電極インキ膜、7はセラミックスのスラリーであ
る3第6図(A)はスクリーン印刷によって、支持体4
の表面に電極インキ6を印刷した様子を説明するもので
ある。第6図(ム)において、電極インキ5の表面は滑
らかではなくスクリーン印刷に用いたスクリーンの欄目
模様等が残ったシする。また例えば、電極インキのレベ
リング性がよくてスクリーンの編目模様が残らなくても
、7J1%インキ5中に含まれていた溶剤が飛ぶことで
表面に凹凸が生じる場合もある。第6図(B)は、電極
インキ5を乾燥させた後、表面処理して表面を滑らかに
した様子を説明するものである。ここで、電極インキ5
は境面処理された金属面等に押し当てたり、カレンダー
ローμをかけたりすることで、表面処理された電極イン
キ膜6となる。し小し、圧力をかけて電極インキ5を物
理的に薄くすることは、電極インキ6の表面を滑らかに
する程度の効果はあるが、薄層化には限度があシ、逆に
支持体自体を変形させてしまうことになる。第6図(C
)は、表面処理された電極インキ膜6をセラミックスの
スラリー7に埋め込んだ様子を説明するためのものであ
る。このようにすることで、電極をセラミックスのスラ
リー7に埋め込み、その凹凸をなくそうと努力していた
。しかし、実際には電極によって引き起こされる凹凸を
低下させることは難しかった。
電極インキを直接支持体上に薄層になるように印刷した
場合を説明する。この第6図は、スクリーン印刷により
内部電極を印刷した様子を説゛明する図である。第6図
において、4は支持体、6は電極インキ、6は表面処理
された電極インキ膜、7はセラミックスのスラリーであ
る3第6図(A)はスクリーン印刷によって、支持体4
の表面に電極インキ6を印刷した様子を説明するもので
ある。第6図(ム)において、電極インキ5の表面は滑
らかではなくスクリーン印刷に用いたスクリーンの欄目
模様等が残ったシする。また例えば、電極インキのレベ
リング性がよくてスクリーンの編目模様が残らなくても
、7J1%インキ5中に含まれていた溶剤が飛ぶことで
表面に凹凸が生じる場合もある。第6図(B)は、電極
インキ5を乾燥させた後、表面処理して表面を滑らかに
した様子を説明するものである。ここで、電極インキ5
は境面処理された金属面等に押し当てたり、カレンダー
ローμをかけたりすることで、表面処理された電極イン
キ膜6となる。し小し、圧力をかけて電極インキ5を物
理的に薄くすることは、電極インキ6の表面を滑らかに
する程度の効果はあるが、薄層化には限度があシ、逆に
支持体自体を変形させてしまうことになる。第6図(C
)は、表面処理された電極インキ膜6をセラミックスの
スラリー7に埋め込んだ様子を説明するためのものであ
る。このようにすることで、電極をセラミックスのスラ
リー7に埋め込み、その凹凸をなくそうと努力していた
。しかし、実際には電極によって引き起こされる凹凸を
低下させることは難しかった。
このため、従来より電極インキの印刷後の厚みを薄くす
るために、スクリーンを薄くしたり(例えば、320メ
ツシユを400メソシユ以上にしたり、メタルマスクや
大日本スクリーン株式会社等で開発されたエレクトロフ
ォーミング工法で製造された特殊なスクリーン版等を用
いる)、乳剤厚みを薄くする(例えば、1107zを5
μm以下にする)ことが考えられた。しかし、スクリー
ン厚例えばステンレス300メソシユ(f、11径2s
μm、スクリーン厚み64μm!l)のものを、ステン
レス400メツシユ(線径26μm、スクリーン厚み6
8°μm)のものにしても、スクリーン厚みがあまり低
下せず、電極インキの塗布された膜厚もあまり変わらな
い。さらに、スクリーンを薄くしようとして、400メ
ツシユ以上のメツシュ数の高いものを選ぶと、逆にスク
リーンのオープニング(開口部)が小さくなり、スクリ
ーン自体が高価になると共に、スクリーンが目詰まりを
起こしやすくなり実用的ではない。一方、乳剤の厚みf
s。
るために、スクリーンを薄くしたり(例えば、320メ
ツシユを400メソシユ以上にしたり、メタルマスクや
大日本スクリーン株式会社等で開発されたエレクトロフ
ォーミング工法で製造された特殊なスクリーン版等を用
いる)、乳剤厚みを薄くする(例えば、1107zを5
μm以下にする)ことが考えられた。しかし、スクリー
ン厚例えばステンレス300メソシユ(f、11径2s
μm、スクリーン厚み64μm!l)のものを、ステン
レス400メツシユ(線径26μm、スクリーン厚み6
8°μm)のものにしても、スクリーン厚みがあまり低
下せず、電極インキの塗布された膜厚もあまり変わらな
い。さらに、スクリーンを薄くしようとして、400メ
ツシユ以上のメツシュ数の高いものを選ぶと、逆にスク
リーンのオープニング(開口部)が小さくなり、スクリ
ーン自体が高価になると共に、スクリーンが目詰まりを
起こしやすくなり実用的ではない。一方、乳剤の厚みf
s。
7zmから6μm程度まで低下させても、スクリーン自
体の厚みに比較して乳剤自体が薄いため、あまシ効果的
ではなく、逆にスクリーン版の耐刷性を悪くしたシ、印
刷パターンの精度を悪くしてしまう。このようにスクリ
ーン印刷を行う限り、印刷された電極インキの厚みを薄
くすることに対して限度がある。そのために通常は電極
インキを溶剤等で希釈したりすることが行われていたが
、電極インキに溶剤を加えて単に希釈するだけでは、電
極インキの粘度が急激に低下してしまい、スクリーン印
刷における印刷性を悪化させてしまう。また、電極イン
キを製造する際に、電極インキ中に含まれる電極材料(
例えば、パラジウム、タングステン等の高沸点金属や、
銅、ニッケル等の電極材料)の1を減らしても、印刷後
の電極インキの厚みはほとんど変化しなく、逆に内部電
極の抵抗を上げてしまう問題点が発生する。例えば、電
極インキ中におけるパラジウム等の電極材料の含有量が
60%以下になると急激に電気抵抗が上がったり、さら
には導通がとれなくなってしまうという問題点があり、
どれもあまり効果的ではなかった。
体の厚みに比較して乳剤自体が薄いため、あまシ効果的
ではなく、逆にスクリーン版の耐刷性を悪くしたシ、印
刷パターンの精度を悪くしてしまう。このようにスクリ
ーン印刷を行う限り、印刷された電極インキの厚みを薄
くすることに対して限度がある。そのために通常は電極
インキを溶剤等で希釈したりすることが行われていたが
、電極インキに溶剤を加えて単に希釈するだけでは、電
極インキの粘度が急激に低下してしまい、スクリーン印
刷における印刷性を悪化させてしまう。また、電極イン
キを製造する際に、電極インキ中に含まれる電極材料(
例えば、パラジウム、タングステン等の高沸点金属や、
銅、ニッケル等の電極材料)の1を減らしても、印刷後
の電極インキの厚みはほとんど変化しなく、逆に内部電
極の抵抗を上げてしまう問題点が発生する。例えば、電
極インキ中におけるパラジウム等の電極材料の含有量が
60%以下になると急激に電気抵抗が上がったり、さら
には導通がとれなくなってしまうという問題点があり、
どれもあまり効果的ではなかった。
発明が解決しようとする課題
したがって、前記のようなスクリーン印刷方法によシ内
部電極を薄く形成することには限度があった。そのため
に、特に誘電体層及び内部電極の多層化を行う場合にお
いては、積層セラミックコンデンサの中心部と周辺部と
での、内部電極により発生する段差を増り除くことはで
きないという問題点を有していた。
部電極を薄く形成することには限度があった。そのため
に、特に誘電体層及び内部電極の多層化を行う場合にお
いては、積層セラミックコンデンサの中心部と周辺部と
での、内部電極により発生する段差を増り除くことはで
きないという問題点を有していた。
本発明は、このような課題に鑑み、電極インキによる内
部電極の薄膜化の方法として、従来性われていたような
電極インキを希釈する方法(ある程度の薄層印刷は可能
であるが印刷性や電気的特性を悪くする)等を用いなく
ても電極インキによる内部電極の薄層化を可能にし、積
層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際におい
ても、電極の厚みに起因する積層体表面に発生しやすい
凹凸を防止することができ、また電極インキ膜を薄くで
きることより電極インキの使用量を低減でき、製品コス
トを下げることを目的とするものである。さらに、本発
明では、支持体上に形成された状態の電極埋め込みセラ
ミック生シートを熱圧着によシ転写することによシ、従
来では取扱時に破損してしまうような薄い電極埋め込み
セラミック生シートを用いた場合においても、電極埋め
込みセラミック生シートが支持体と共に増り扱えるため
に、破損しにくく、かつ機械的にも精度良く積層するこ
とを目的とするものである。
部電極の薄膜化の方法として、従来性われていたような
電極インキを希釈する方法(ある程度の薄層印刷は可能
であるが印刷性や電気的特性を悪くする)等を用いなく
ても電極インキによる内部電極の薄層化を可能にし、積
層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際におい
ても、電極の厚みに起因する積層体表面に発生しやすい
凹凸を防止することができ、また電極インキ膜を薄くで
きることより電極インキの使用量を低減でき、製品コス
トを下げることを目的とするものである。さらに、本発
明では、支持体上に形成された状態の電極埋め込みセラ
ミック生シートを熱圧着によシ転写することによシ、従
来では取扱時に破損してしまうような薄い電極埋め込み
セラミック生シートを用いた場合においても、電極埋め
込みセラミック生シートが支持体と共に増り扱えるため
に、破損しにくく、かつ機械的にも精度良く積層するこ
とを目的とするものである。
課題を解決するための手段
この課題を解決するために本発明は、支持体上に剥離層
を印刷した後、前記支持体上の電極インキを前記剥離層
以外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥させた後、
その上にセラミックスのスラリーを塗布した後、乾燥さ
せ、前記支持体上に電極埋め込みセラミック生シートを
作り、次に前記゛1π極埋め込みセラミック生シートを
前記支持体より剥離することなく、池のセラミック生シ
ートもしくは他の電極の上に熱圧着させた後、前記支持
体及び前記剥離層を除去し、前記電極埋め込みセラミッ
ク生シートを前記能のセラミック生シートもしくは他の
電極上に転写するという構成を備えたものである。
を印刷した後、前記支持体上の電極インキを前記剥離層
以外の部分に所望する形状に付着させ、乾燥させた後、
その上にセラミックスのスラリーを塗布した後、乾燥さ
せ、前記支持体上に電極埋め込みセラミック生シートを
作り、次に前記゛1π極埋め込みセラミック生シートを
前記支持体より剥離することなく、池のセラミック生シ
ートもしくは他の電極の上に熱圧着させた後、前記支持
体及び前記剥離層を除去し、前記電極埋め込みセラミッ
ク生シートを前記能のセラミック生シートもしくは他の
電極上に転写するという構成を備えたものである。
作用
本発明は前記した構成によって、スクリーン印刷に比較
して電極インキ膜を薄くすることができ、この薄い電極
インキ膜をセラミック生シートに埋め込むことにより、
積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際にお
いても、電極の厚みに起因するところの積層体表面に発
生しゃすい凹凸の発生を防止でき、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げられることとなる。さらに、電極埋め込
みセラミック生シートは、支持体上に形成されたまま熱
圧着によシ転写されることにより、従来では取扱時に破
損してしまうような薄い電極埋め込みセラミック生シー
トを用いた場合においても、電極埋め込みセラミック生
シートが支持体と共に取り扱えるために、破損しにくく
、かつ機械的にも精度良く積層することができることと
なる。
して電極インキ膜を薄くすることができ、この薄い電極
インキ膜をセラミック生シートに埋め込むことにより、
積層数の高い積層セラミック電子部品を製造する際にお
いても、電極の厚みに起因するところの積層体表面に発
生しゃすい凹凸の発生を防止でき、また電極インキ膜を
薄くできることより電極インキの使用量を低減でき、製
品コストを下げられることとなる。さらに、電極埋め込
みセラミック生シートは、支持体上に形成されたまま熱
圧着によシ転写されることにより、従来では取扱時に破
損してしまうような薄い電極埋め込みセラミック生シー
トを用いた場合においても、電極埋め込みセラミック生
シートが支持体と共に取り扱えるために、破損しにくく
、かつ機械的にも精度良く積層することができることと
なる。
特に、本発明における電極インキの所望するパターンの
形成を、予め剥離層の印刷された支持体上に電極インキ
がベタ(つまりパターニングされずに)に塗布すること
によシ行うことにより、新たな効果が生まれる。つまり
、本発明では、電極インキが形成(あるいは付着)して
は困る部分(所望しない部分)の支持体上には、予め剥
離層が印刷されているために、その部分では電極インキ
が剥離される(あるいははじかれる)ことにより、電極
インキの付着を防止することができる。
形成を、予め剥離層の印刷された支持体上に電極インキ
がベタ(つまりパターニングされずに)に塗布すること
によシ行うことにより、新たな効果が生まれる。つまり
、本発明では、電極インキが形成(あるいは付着)して
は困る部分(所望しない部分)の支持体上には、予め剥
離層が印刷されているために、その部分では電極インキ
が剥離される(あるいははじかれる)ことにより、電極
インキの付着を防止することができる。
すなわち、本発明では、電極インキの所望する形状は、
印刷によってでなく塗布することで電極インキと剥離層
の間の界面化学的な作用によって、得られることになる
。このため、本発明では電極インキをベタに(つまシ所
望する形状のバターニングを行わすとも)支持体上に塗
布するだけでよいことになシ、通常の磁気テープ等の磁
性層やバックコート等を薄層、均一かつ高速に塗布する
ために広く用いられているグラビア塗布機やリバース塗
布機を使用することができる。こうして、本発明では、
従来のスクリーン印刷法に比較し、薄層にかつ高速に電
極インキの塗布が可能になる。
印刷によってでなく塗布することで電極インキと剥離層
の間の界面化学的な作用によって、得られることになる
。このため、本発明では電極インキをベタに(つまシ所
望する形状のバターニングを行わすとも)支持体上に塗
布するだけでよいことになシ、通常の磁気テープ等の磁
性層やバックコート等を薄層、均一かつ高速に塗布する
ために広く用いられているグラビア塗布機やリバース塗
布機を使用することができる。こうして、本発明では、
従来のスクリーン印刷法に比較し、薄層にかつ高速に電
極インキの塗布が可能になる。
また本発明では、グラビア塗布装置等を用いることがで
きるため、電極インキの組成においても樹脂の含有率を
従来のスクリーン印刷に用いられたものに比較して低減
することができ、この樹脂を減らした分だけ電極インキ
膜におけるパラジウム等の金属粒子の含有率を増加させ
ることができ、電気的な特性を改善できることとなる。
きるため、電極インキの組成においても樹脂の含有率を
従来のスクリーン印刷に用いられたものに比較して低減
することができ、この樹脂を減らした分だけ電極インキ
膜におけるパラジウム等の金属粒子の含有率を増加させ
ることができ、電気的な特性を改善できることとなる。
実施例
以下、本発明について実施例を挙げながら説明する。
まず、本発明の一実施例の積層セラミックコンデンサの
製造方法について、図面を参照しながら説明する。
製造方法について、図面を参照しながら説明する。
第1図(ム)、■) 、 (C)及び第2図(ム)、(
B)は1本発明の一実施例における積層セラミックコン
デンサの製造方法を説明するための図である。第1図に
おいて、1oは剥離層であり、必要に応じてシリコン樹
脂、フン素樹脂、ワックス、油あるいは水等を用いるこ
とができる。11は支持体、12は電極インキ、13は
セラミックスのスラリーである。
B)は1本発明の一実施例における積層セラミックコン
デンサの製造方法を説明するための図である。第1図に
おいて、1oは剥離層であり、必要に応じてシリコン樹
脂、フン素樹脂、ワックス、油あるいは水等を用いるこ
とができる。11は支持体、12は電極インキ、13は
セラミックスのスラリーである。
まず、第1図(ム)のように、ポリエステルフィルム等
の支持体11の上に、剥離層1oを印刷する。
の支持体11の上に、剥離層1oを印刷する。
この時、剥離層10の印刷方法としては、スクリーン印
刷、オフセット平版印刷、オフセット凸版印刷、フレキ
ン凸版、熱転写、インクジェット印刷等の印刷方法を用
いることができる。次に、この上に電極インキ12を塗
布すると、剥離層1゜の上には電極インキ12が付着し
ないため、第1図(B)のように剥離層10におおわれ
た以外の支持体11の表面K、電極インキ12が塗布さ
れることとなる。
刷、オフセット平版印刷、オフセット凸版印刷、フレキ
ン凸版、熱転写、インクジェット印刷等の印刷方法を用
いることができる。次に、この上に電極インキ12を塗
布すると、剥離層1゜の上には電極インキ12が付着し
ないため、第1図(B)のように剥離層10におおわれ
た以外の支持体11の表面K、電極インキ12が塗布さ
れることとなる。
ここで、電極インキ12の塗布には、グラビア塗布機、
リバース塗布機等を用いることができる。
リバース塗布機等を用いることができる。
次に、電極インキ12を乾燥させた後、第1図(C)の
ように、セラミックスのスラリー13を剥離層10、電
極インキ膜12&が設けられた支持体11の全面に塗布
する。ここで、セラミックスのスラリー13は、塗布膜
厚、スラリー中の樹脂量、スラリーの粘度、スラリーに
含まれる溶剤の種類等を調整することで、剥離層10の
上にも塗布することができる。次に、セラミックスのス
ラリー13を乾燥させ、電極埋め込みセラミック生シー
ト14を作製する。
ように、セラミックスのスラリー13を剥離層10、電
極インキ膜12&が設けられた支持体11の全面に塗布
する。ここで、セラミックスのスラリー13は、塗布膜
厚、スラリー中の樹脂量、スラリーの粘度、スラリーに
含まれる溶剤の種類等を調整することで、剥離層10の
上にも塗布することができる。次に、セラミックスのス
ラリー13を乾燥させ、電極埋め込みセラミック生シー
ト14を作製する。
次に、第2図(ム)、(B)を用いて、前記電極埋め込
みセラミック生シート14を用いた積層セラミックコン
デンサの製造方法について説明する。第2図において、
16はセラミック生積層体であり、予めセラミック生シ
ートが積層されている。16はプレス装置である。まず
、第2図(A)のように、セラミック生積層体15とプ
レス装置16の間に電極埋め込みセラミック生シート1
4をはさむ。
みセラミック生シート14を用いた積層セラミックコン
デンサの製造方法について説明する。第2図において、
16はセラミック生積層体であり、予めセラミック生シ
ートが積層されている。16はプレス装置である。まず
、第2図(A)のように、セラミック生積層体15とプ
レス装置16の間に電極埋め込みセラミック生シート1
4をはさむ。
次に、プレス装置16によって、電極埋め込みセラミッ
ク生シート14を支持体11ごとセラミック生積層体1
5に押し当てる。この時、熱をかけながら押し当てても
よい。次に、第2図(B)のように、支持体11及び剥
離層1oをセラミック生積層体15から剥離することに
より、セラミック生積層体16の表面に電極埋め込みセ
ラミック生シート14゛が転写されることになる。この
時、セラミック生積層体16の上に電極を予め設けてお
き。
ク生シート14を支持体11ごとセラミック生積層体1
5に押し当てる。この時、熱をかけながら押し当てても
よい。次に、第2図(B)のように、支持体11及び剥
離層1oをセラミック生積層体15から剥離することに
より、セラミック生積層体16の表面に電極埋め込みセ
ラミック生シート14゛が転写されることになる。この
時、セラミック生積層体16の上に電極を予め設けてお
き。
その上に転写させるようにしても良い。
次に、さらに詳しく説明する。
まず、本発明の支持体として、75ミクロンの厚ミのポ
リエステルフィルムを用いた。次に、この支持体の上に
、剥離層としてシリコン樹脂(信越化学工業株式会社製
のシリコン剥離材)をスクリーン印刷方法で印刷した後
、熱処理し、シリコン樹脂をキュアーした。次に、この
上にバーコータを用いた塗布装置を用いて、電極インキ
を塗布した。この電極インキとしては、パラジウム粉末
を用いた電極インキを使用した。これは、粒径0.3ミ
クロンのパラジウム粉末60.0重電部、樹脂としての
エチルセルロース1.0重量部、分散剤Q、1重量部に
対して、1ポイズ以下の粘度になるように溶剤を加え、
ボールミμを用いて充分分散させ、最後にメンブレンフ
ィルタ(5ミクロンを使用)を用いて加圧ろ過し、電極
インキとした。
リエステルフィルムを用いた。次に、この支持体の上に
、剥離層としてシリコン樹脂(信越化学工業株式会社製
のシリコン剥離材)をスクリーン印刷方法で印刷した後
、熱処理し、シリコン樹脂をキュアーした。次に、この
上にバーコータを用いた塗布装置を用いて、電極インキ
を塗布した。この電極インキとしては、パラジウム粉末
を用いた電極インキを使用した。これは、粒径0.3ミ
クロンのパラジウム粉末60.0重電部、樹脂としての
エチルセルロース1.0重量部、分散剤Q、1重量部に
対して、1ポイズ以下の粘度になるように溶剤を加え、
ボールミμを用いて充分分散させ、最後にメンブレンフ
ィルタ(5ミクロンを使用)を用いて加圧ろ過し、電極
インキとした。
ここで、電極インキの溶剤、電極インキの塗布厚み、塗
布装置の塗布条件を最適化することで、シリコン樹脂の
以外の部分に電極インキを塗布することができた。また
、乾燥後の電極インキをカレンダ処理した後の厚みを測
定すると、3ミクロンであった。以下、これを発明電極
と呼ぶ。
布装置の塗布条件を最適化することで、シリコン樹脂の
以外の部分に電極インキを塗布することができた。また
、乾燥後の電極インキをカレンダ処理した後の厚みを測
定すると、3ミクロンであった。以下、これを発明電極
と呼ぶ。
比較のために、従来法のスクリーン印刷による電極印刷
は以下のようにして行った。従来法としてのスクリーン
印刷用の電極インキとして、パラジウム粉末を用いた電
極インキを作成した。これは、粒径0,3ミクロンのパ
ラジウム粉末50.0重量部、樹脂としてのエチpセμ
ロースs、o重11゜分散剤Q、1重量部に対して、適
当な粘度になるように溶剤としてブチルカルピトーpを
加えながら、3本ロールミμを用いて、粘度が100ポ
イズになるまで分散させた。次に、支持体上に乳剤厚1
0ミクロン、400メツシユのステンレススクリーンを
用いたスクリーン印刷法により、印刷した。
は以下のようにして行った。従来法としてのスクリーン
印刷用の電極インキとして、パラジウム粉末を用いた電
極インキを作成した。これは、粒径0,3ミクロンのパ
ラジウム粉末50.0重量部、樹脂としてのエチpセμ
ロースs、o重11゜分散剤Q、1重量部に対して、適
当な粘度になるように溶剤としてブチルカルピトーpを
加えながら、3本ロールミμを用いて、粘度が100ポ
イズになるまで分散させた。次に、支持体上に乳剤厚1
0ミクロン、400メツシユのステンレススクリーンを
用いたスクリーン印刷法により、印刷した。
また、乾燥後の電極インキをカレンダ処理した後の厚み
を測定すると、約9ミクロンであった。以下、これを従
来重版と呼ぶ。
を測定すると、約9ミクロンであった。以下、これを従
来重版と呼ぶ。
次に、発明電極及び従来電極の上にセラミックスのスラ
リーを塗布した。まず、セラミックスのスラリー0作り
方について説明する。これはポリビニルブチラール樹脂
(積水化学株式会社製。
リーを塗布した。まず、セラミックスのスラリー0作り
方について説明する。これはポリビニルブチラール樹脂
(積水化学株式会社製。
BL−2ブチラール樹脂)6.0重量部を、フタル酸ジ
ブチ/L10.6重量部、エチ/L’ 7 /L”j
−/l/ 25.Q重量部、トルエン36.0重量部よ
りなる樹脂溶液中に、粒径1ミクロンのチタン酸バリウ
ム粉末31.0重量部と共に加え、よく攪はんした。次
に、これをポリエチレン製の瓶に入れ、ジルコニアビー
ズを加え、適当な分散状態になるまで混合分散した。次
に、これを仮ろ過した後、10ミクロンのメンブレンフ
ィルタを用いて加圧ろ過して、セラミックスのスラリー
とした。
ブチ/L10.6重量部、エチ/L’ 7 /L”j
−/l/ 25.Q重量部、トルエン36.0重量部よ
りなる樹脂溶液中に、粒径1ミクロンのチタン酸バリウ
ム粉末31.0重量部と共に加え、よく攪はんした。次
に、これをポリエチレン製の瓶に入れ、ジルコニアビー
ズを加え、適当な分散状態になるまで混合分散した。次
に、これを仮ろ過した後、10ミクロンのメンブレンフ
ィルタを用いて加圧ろ過して、セラミックスのスラリー
とした。
次に、このセラミックスのスラリーをバーコータを用い
た塗布装置により、発明電極及び従来電極の上に塗布し
た。次に、これを乾燥させ電極埋め込みセラミック生シ
ートとし、マイクロメータで膜厚を測定したところ、セ
ラミックスのスラリーが乾燥してできたセラミック生シ
ート単体の膜厚は18ミクロンであった。
た塗布装置により、発明電極及び従来電極の上に塗布し
た。次に、これを乾燥させ電極埋め込みセラミック生シ
ートとし、マイクロメータで膜厚を測定したところ、セ
ラミックスのスラリーが乾燥してできたセラミック生シ
ート単体の膜厚は18ミクロンであった。
次に、この電極埋め込みセラミック生シートを用いた積
層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
層セラミックコンデンサの製造方法について説明する。
まず、厚み200ミクロンの電極の形成されていないセ
ラミック生積層体の上に第2図のように電極埋め込みセ
ラミック生シートをつぎつぎ転写積層した。また、積層
時に一定のピッチだけずらせた状態で、次の電極埋め込
みセラミック生シートを転写することで、内部電極が交
互にずれるようにした。
ラミック生積層体の上に第2図のように電極埋め込みセ
ラミック生シートをつぎつぎ転写積層した。また、積層
時に一定のピッチだけずらせた状態で、次の電極埋め込
みセラミック生シートを転写することで、内部電極が交
互にずれるようにした。
以下、これを繰シ返し内部電極が第3図のように交互に
ずれるようにし、内部電極を10層になるようにした。
ずれるようにし、内部電極を10層になるようにした。
そして、最後に焼成時のノリや機械的強度を上げるため
に、厚み200ミクロンの電極が形成されていないセラ
ミック生シートを転写した。このようにして得た積層体
をチップ状に切断した後、1300Cで1時間焼成した
。
に、厚み200ミクロンの電極が形成されていないセラ
ミック生シートを転写した。このようにして得た積層体
をチップ状に切断した後、1300Cで1時間焼成した
。
次に、外部電極を通常の方法を用いて形成し、電極の薄
層化の効果を調べた。この電極の薄層化の効果について
は、その結果を下記の第1表に示す。第1表において、
支持体上は電極そのものの乾燥後の厚み、埋め込み後は
セラミックスのスラリーを表面に塗布した後の乾燥後の
凹凸、積層後は10層積層した後の生積層体の凹凸であ
る。
層化の効果を調べた。この電極の薄層化の効果について
は、その結果を下記の第1表に示す。第1表において、
支持体上は電極そのものの乾燥後の厚み、埋め込み後は
セラミックスのスラリーを表面に塗布した後の乾燥後の
凹凸、積層後は10層積層した後の生積層体の凹凸であ
る。
(以下余白)
〈第1表〉
以上のように、本発明による製造方法を用いれば、電瞳
埋め込みシートの表面の凹凸及び積層体の表面の凹凸が
、従来電極に比較して大きく改善されていることが解る
。ここで、焼成後の積層セラミックコンデンサを観察し
たが、本発明の製造方法によるものが、デラミネーショ
ン(層間剥離)等の発生率が低かった。これは電極が薄
くなったためと推測された。また、焼成後の積層セラミ
ックコンデンサの断面を走査形電子顕微鏡で観察したが
、本発明による製造方法の方の内部電極の方が従来のも
のに比較して明らかに薄かった。
埋め込みシートの表面の凹凸及び積層体の表面の凹凸が
、従来電極に比較して大きく改善されていることが解る
。ここで、焼成後の積層セラミックコンデンサを観察し
たが、本発明の製造方法によるものが、デラミネーショ
ン(層間剥離)等の発生率が低かった。これは電極が薄
くなったためと推測された。また、焼成後の積層セラミ
ックコンデンサの断面を走査形電子顕微鏡で観察したが
、本発明による製造方法の方の内部電極の方が従来のも
のに比較して明らかに薄かった。
これについて、以下第2表、第3表、第4表を用いて説
明する。第2表は、発明電極及び従来電極の各成分構成
を重量部で、第3表は重量%で、第4表は体積%で、そ
れぞれ表したものである。
明する。第2表は、発明電極及び従来電極の各成分構成
を重量部で、第3表は重量%で、第4表は体積%で、そ
れぞれ表したものである。
なお、第4表では樹脂及び分散剤の比重は1、パラジウ
ムの比重は12とした。
ムの比重は12とした。
く第2表〉
く第4表〉
く第3表〉
第4表より、発明電極の方が従来電極のものよりパラジ
ウムの体積%が2倍近くに増加していることが解る。つ
まシ、発明電極の方が従来電極よシ約2倍の密度で、パ
ラジウム濃度が高いことになる。このため、より薄くパ
ラジウム密度の高い電極が得られたと考えられる。なお
、従来電極において、これ以上樹脂量を減らすと、電極
インキの粘度が急激に低下するため、スクリーン印刷で
は印刷できなくなった。一方、発明電極においては、電
極インキの粘度が低下してもバーコータによる塗布性に
問題はなかった。このため樹脂量をさらに0.5重量%
程度に減らすこともできた。
ウムの体積%が2倍近くに増加していることが解る。つ
まシ、発明電極の方が従来電極よシ約2倍の密度で、パ
ラジウム濃度が高いことになる。このため、より薄くパ
ラジウム密度の高い電極が得られたと考えられる。なお
、従来電極において、これ以上樹脂量を減らすと、電極
インキの粘度が急激に低下するため、スクリーン印刷で
は印刷できなくなった。一方、発明電極においては、電
極インキの粘度が低下してもバーコータによる塗布性に
問題はなかった。このため樹脂量をさらに0.5重量%
程度に減らすこともできた。
なおここで、本発明に用いた電極埋め込みセラミック生
シートのセラミック生シート部は、それ自体に含むポリ
ビニ)vブチラール樹脂の性質により熱による転写性を
有する。また、この熱による転写性は、セラミック生シ
ート中に含まれているポリビニルブチラール樹脂(以下
、PVB樹脂と呼ぶ)が少ないほど、転写性が悪くなり
、逆に含まれているPVB樹脂の量が多いほど、転写性
が良くなる。ここで用いたセラミック生シート中に含ま
れるPVB樹脂は、セラミック粉末100グラムに対し
、20グラム程度含まれているものが転写性が良かった
。しかし、ここで転写に必要なPVB樹脂量は、スラリ
ー原料のセラミック粉末の粒径によっても、PVB樹脂
の重合度、種類等によっても、あるいは転写時の温度に
よっても、転写に必要な樹脂量は変化すると考えられる
。そして、樹脂量が不足すると、転写温度を上げる必要
がある。
シートのセラミック生シート部は、それ自体に含むポリ
ビニ)vブチラール樹脂の性質により熱による転写性を
有する。また、この熱による転写性は、セラミック生シ
ート中に含まれているポリビニルブチラール樹脂(以下
、PVB樹脂と呼ぶ)が少ないほど、転写性が悪くなり
、逆に含まれているPVB樹脂の量が多いほど、転写性
が良くなる。ここで用いたセラミック生シート中に含ま
れるPVB樹脂は、セラミック粉末100グラムに対し
、20グラム程度含まれているものが転写性が良かった
。しかし、ここで転写に必要なPVB樹脂量は、スラリ
ー原料のセラミック粉末の粒径によっても、PVB樹脂
の重合度、種類等によっても、あるいは転写時の温度に
よっても、転写に必要な樹脂量は変化すると考えられる
。そして、樹脂量が不足すると、転写温度を上げる必要
がある。
次に、実験に用いだ粒径のチタン酸バリウム粉末につい
て、セラミック生シート中に含まれる樹脂ユと、このセ
ラミック生シートの転写性について実験しだ結果を下記
の第6表に示す。ここで、セラミック生シートは前述の
ようにチタン酸バリウム粉末、可塑剤としてのフタμ酸
ジプチμ、及びPVB樹脂よりできておシ、ここに含ま
れるPVB樹脂の重量パーセントを変化させた場合の転
写性を調べた。ここで、セラミック生シート中に加えた
フタμ酸ジプチルの量は、PVB樹脂の1oM量%と固
定した。また、セラミック生シートの転写性については
、第2図のようにセラミック生積層体の上に、電極埋め
込みセラミック生シートを転写することで実験した。ま
た、転写は支持体側から、転写圧力16キログラム毎平
方センチメートルの圧力で、温度180℃に加熱した黙
諾を押し当てることで行った。また、PVB樹脂雀は、
セラミック生シート中の重量%で表した。
て、セラミック生シート中に含まれる樹脂ユと、このセ
ラミック生シートの転写性について実験しだ結果を下記
の第6表に示す。ここで、セラミック生シートは前述の
ようにチタン酸バリウム粉末、可塑剤としてのフタμ酸
ジプチμ、及びPVB樹脂よりできておシ、ここに含ま
れるPVB樹脂の重量パーセントを変化させた場合の転
写性を調べた。ここで、セラミック生シート中に加えた
フタμ酸ジプチルの量は、PVB樹脂の1oM量%と固
定した。また、セラミック生シートの転写性については
、第2図のようにセラミック生積層体の上に、電極埋め
込みセラミック生シートを転写することで実験した。ま
た、転写は支持体側から、転写圧力16キログラム毎平
方センチメートルの圧力で、温度180℃に加熱した黙
諾を押し当てることで行った。また、PVB樹脂雀は、
セラミック生シート中の重量%で表した。
(以 下金 白)
く第5表〉
く第6表〉
次に、前記第5表のセラミック生シートを用い、セラミ
ック生シートの中に含まれるPVB樹脂量とデラミネー
ションの発生率との関係を調べた結果を第6表に示す。
ック生シートの中に含まれるPVB樹脂量とデラミネー
ションの発生率との関係を調べた結果を第6表に示す。
この第6表より、PVB樹脂量は10重量%以上〜40
重量%以下のものがデラミネーションを起こしにくいこ
とが解る。以上より、PVB樹脂πはセラミック生シー
トの10〜40重量%、特に15重量%前後のものが転
写性も良く、デラミネーシロンの発生も少ないことが解
る。
重量%以下のものがデラミネーションを起こしにくいこ
とが解る。以上より、PVB樹脂πはセラミック生シー
トの10〜40重量%、特に15重量%前後のものが転
写性も良く、デラミネーシロンの発生も少ないことが解
る。
ここで、PVB樹脂のような転写性を有する樹脂として
は、他にもアクIJA/樹脂、ビニμ樹脂、セルロース
誘導体樹脂等の熱可塑性樹脂がある。
は、他にもアクIJA/樹脂、ビニμ樹脂、セルロース
誘導体樹脂等の熱可塑性樹脂がある。
また、熱可塑性樹脂以外に、硬化型樹脂、重合型樹脂で
あっても、その硬化条件、重合条件を適当にし、例えば
ゴム状にすることで、表面に粘着性を持たせることによ
って一種の熱可塑性樹脂として用いることができる。
あっても、その硬化条件、重合条件を適当にし、例えば
ゴム状にすることで、表面に粘着性を持たせることによ
って一種の熱可塑性樹脂として用いることができる。
なお、本発明において、転写時には熱、光、電子線、マ
イクロウェーブ、X線等を使用して転写を行っても良い
。また、PVB樹脂の種類、可塑剤の種類や添加量を変
えることによシ、室温での転写も可能である。
イクロウェーブ、X線等を使用して転写を行っても良い
。また、PVB樹脂の種類、可塑剤の種類や添加量を変
えることによシ、室温での転写も可能である。
さらに、本発明の電極インキ及びセラミックスのスラリ
ーは、グラビア塗布機もしくはリバース塗布機を用いて
塗布できることは言うまでもない。
ーは、グラビア塗布機もしくはリバース塗布機を用いて
塗布できることは言うまでもない。
実際に、磁気テープの生産用に使用されている塗布機(
膜厚1〜4ミクロン程度用のもの)を数メートル毎分の
塗布スピードで用いて、電極インキ及びセラミックスの
スラリーの塗布を行ったが、問題はなかった。この場合
、電極インキ及びセラミックスのスラリーの膜厚の均一
性も磁気テープなみに良くすることもでき、さらに高速
度で塗布することができる。
膜厚1〜4ミクロン程度用のもの)を数メートル毎分の
塗布スピードで用いて、電極インキ及びセラミックスの
スラリーの塗布を行ったが、問題はなかった。この場合
、電極インキ及びセラミックスのスラリーの膜厚の均一
性も磁気テープなみに良くすることもでき、さらに高速
度で塗布することができる。
また、剥離層としては、シリコン樹脂やフン素樹脂のよ
うに、剥離性あるいは濡れ性の悪いものが良い。さらに
剥離層には電極インキに対して非濡れ性の良いものであ
ればよく、樹脂に限らず、ワックス、油や水の薄層を用
いることができる。
うに、剥離性あるいは濡れ性の悪いものが良い。さらに
剥離層には電極インキに対して非濡れ性の良いものであ
ればよく、樹脂に限らず、ワックス、油や水の薄層を用
いることができる。
また、電極インキの溶剤は、有機溶剤だけでなく水等の
表面張力の高いものも使える。さらに、必要に応じてア
μコール等を加えることで、電極インキの濡れ性を変化
できる。また、支持体表面を′:FL極インキに濡れや
すくするための化学的な例としてプライマー処理、物理
的な例としてコロナ放電等をすることも効果的である。
表面張力の高いものも使える。さらに、必要に応じてア
μコール等を加えることで、電極インキの濡れ性を変化
できる。また、支持体表面を′:FL極インキに濡れや
すくするための化学的な例としてプライマー処理、物理
的な例としてコロナ放電等をすることも効果的である。
また、剥離層の上が電極インキによって濡れた状態にな
った場合も、エアードクタ等を用いて空気を吹き付けた
り、垂直に塗布する等の手段を用いることで、安定して
はじかせることができる。また、剥離層は支持体上にリ
フトオフの手法を用いて印刷形成しても良い。
った場合も、エアードクタ等を用いて空気を吹き付けた
り、垂直に塗布する等の手段を用いることで、安定して
はじかせることができる。また、剥離層は支持体上にリ
フトオフの手法を用いて印刷形成しても良い。
また一方、本発明におけるセラミックスのスラリーは、
電極インキに比較して、樹脂量も多く、塗布膜厚も電極
インキに比べ厚くすることで、前述のようにシリコン樹
脂等の剥離層の上でも塗布することができる。
電極インキに比較して、樹脂量も多く、塗布膜厚も電極
インキに比べ厚くすることで、前述のようにシリコン樹
脂等の剥離層の上でも塗布することができる。
さらに、本発明方法は、前記実施例で述べた積層セラミ
ックコンデンサに適用する以外に、多層セラミック基板
、積層バリスタ等のその也の積層セラミック電子部品に
おいても適用できるものである。
ックコンデンサに適用する以外に、多層セラミック基板
、積層バリスタ等のその也の積層セラミック電子部品に
おいても適用できるものである。
発明の効果
以上のように本発明は、支持体上の所望しない部分に剥
離層を印刷した後、電極インキを前記剥離層以外の部分
に所望する形状に付着させ、乾燥後、表面にセラミック
スのスラリーを塗布、乾燥して、前記支持体上に電極埋
め込みセラミック生シートを作シ、次に前記電極埋め込
みセラミック生シートを前記支持体よシ剥離することな
く、池のセラミック生シートもしくは他の電極の上に熱
圧着させた後、前記支持体及び前記シリコン樹脂を剥離
し、前記電極埋め込みセラミック生シートを前記数のセ
ラミック生シートもしくは他の電極上に転写することを
特徴とすることにより、電極インキはグラビア塗布機等
を用いて薄層に塗布できるために、スクリーン印刷に比
較して電極を薄くすることができ、またセラミ1.り生
シートを支持体と共に取扱うために取扱時に破損するこ
となく、電極を埋め込むことにより内部電極による凹凸
の発生を低減しながら、歩留シ良く積層セラミックコン
デンサ等の積層セラミック電子部品を製造することがで
きる。
離層を印刷した後、電極インキを前記剥離層以外の部分
に所望する形状に付着させ、乾燥後、表面にセラミック
スのスラリーを塗布、乾燥して、前記支持体上に電極埋
め込みセラミック生シートを作シ、次に前記電極埋め込
みセラミック生シートを前記支持体よシ剥離することな
く、池のセラミック生シートもしくは他の電極の上に熱
圧着させた後、前記支持体及び前記シリコン樹脂を剥離
し、前記電極埋め込みセラミック生シートを前記数のセ
ラミック生シートもしくは他の電極上に転写することを
特徴とすることにより、電極インキはグラビア塗布機等
を用いて薄層に塗布できるために、スクリーン印刷に比
較して電極を薄くすることができ、またセラミ1.り生
シートを支持体と共に取扱うために取扱時に破損するこ
となく、電極を埋め込むことにより内部電極による凹凸
の発生を低減しながら、歩留シ良く積層セラミックコン
デンサ等の積層セラミック電子部品を製造することがで
きる。
第1図(ム) 、 (B)、 (CD及び第2図(ム)
、■)は本発明の一実施例における積層セラミックコン
デンサの製造方法を説明するための図、第3図は積層セ
ラミックコンデンサの一部を断面にて示す図、第4図は
従来例における多積層化した時の積層セラミックコンデ
ンサの断面図、第5図は同じく積層数に対する中心部と
周辺部とでの厚みの差を説明する図、第6図(A) 、
(B) 、 ((mは同じくスクリーン印刷により内
部電極を印刷した様子を説明する図である。 10・・・・・・剥離層、11・・・・・・支持体、1
2・・・・・・電極インキ、122L・・・・・・電極
インキ膜、13・・・・・・セラミックスのスラリー、
14・・・・・・電極埋め込みセラミック生シート、1
5・・・・・・セラミック生積層体、16・・・・・・
プレス装置。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第1
図 ICl−剥離層 11−−支持体 12a −t ii イ −J ’F
@第3図 第4図 10 ・=− I+ 12a−・ 賛1層 支持体 電極インキ 電極インキ膿 セラミックスのスラリー tfI理の込))1!ラミヅク生シート第 図 稽 層 政 (層〕 第 図
、■)は本発明の一実施例における積層セラミックコン
デンサの製造方法を説明するための図、第3図は積層セ
ラミックコンデンサの一部を断面にて示す図、第4図は
従来例における多積層化した時の積層セラミックコンデ
ンサの断面図、第5図は同じく積層数に対する中心部と
周辺部とでの厚みの差を説明する図、第6図(A) 、
(B) 、 ((mは同じくスクリーン印刷により内
部電極を印刷した様子を説明する図である。 10・・・・・・剥離層、11・・・・・・支持体、1
2・・・・・・電極インキ、122L・・・・・・電極
インキ膜、13・・・・・・セラミックスのスラリー、
14・・・・・・電極埋め込みセラミック生シート、1
5・・・・・・セラミック生積層体、16・・・・・・
プレス装置。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名第1
図 ICl−剥離層 11−−支持体 12a −t ii イ −J ’F
@第3図 第4図 10 ・=− I+ 12a−・ 賛1層 支持体 電極インキ 電極インキ膿 セラミックスのスラリー tfI理の込))1!ラミヅク生シート第 図 稽 層 政 (層〕 第 図
Claims (2)
- (1)支持体上に剥離層を印刷した後、電極インキを前
記支持体上の前記剥離層以外の部分に所望する形状に付
着させ、乾燥させた後、その上にセラミックスのスラリ
ーを塗布した後、乾燥させ、前記支持体上に電極埋め込
みセラミック生シートを作り、次に前記電極埋め込みセ
ラミック生シートを前記支持体より剥離することなく、
他のセラミック生シートもしくは他の電極の上に熱圧着
させた後、前記支持体及び前記剥離層を除去し、前記電
極埋め込みセラミック生シートを前記他のセラミック生
シートもしくは他の電極上に転写することを特徴とする
積層セラミック電子部品の製造方法。 - (2)セラミックスのスラリーは乾燥後に熱可塑性樹脂
が10重量%以上40重量%以下になるように配合した
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の積層セラ
ミック電子部品の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63187229A JPH0236513A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63187229A JPH0236513A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0236513A true JPH0236513A (ja) | 1990-02-06 |
Family
ID=16202322
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63187229A Pending JPH0236513A (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 積層セラミック電子部品の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0236513A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7338854B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-03-04 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor |
-
1988
- 1988-07-27 JP JP63187229A patent/JPH0236513A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7338854B2 (en) | 2003-12-05 | 2008-03-04 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Method for manufacturing multilayer ceramic capacitor |
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