JPH0253843B2 - - Google Patents
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- JPH0253843B2 JPH0253843B2 JP3941884A JP3941884A JPH0253843B2 JP H0253843 B2 JPH0253843 B2 JP H0253843B2 JP 3941884 A JP3941884 A JP 3941884A JP 3941884 A JP3941884 A JP 3941884A JP H0253843 B2 JPH0253843 B2 JP H0253843B2
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- protective layer
- ferromagnetic metal
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- Expired
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- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 36
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 18
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 17
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 17
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 11
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 9
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 claims description 6
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 claims description 6
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 claims description 6
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体に関するものである。
磁気テープや磁気デイスク等の磁気記録媒体の
一種に、高分子フイルム等の基体に強磁性金属を
真空蒸着法やイオンプレーテイング法等により付
着して強磁性金属薄膜とした薄膜型のものがあ
る。この薄膜型の磁気記録媒体には強磁性薄膜の
腐食を防止する等のために通常は保護膜が設けら
れているが、従来の保護膜は、機械的強度が比較
的低く、磁気ヘツド等により擦られて容易に損傷
したり破断したりする等の欠点があつた。
一種に、高分子フイルム等の基体に強磁性金属を
真空蒸着法やイオンプレーテイング法等により付
着して強磁性金属薄膜とした薄膜型のものがあ
る。この薄膜型の磁気記録媒体には強磁性薄膜の
腐食を防止する等のために通常は保護膜が設けら
れているが、従来の保護膜は、機械的強度が比較
的低く、磁気ヘツド等により擦られて容易に損傷
したり破断したりする等の欠点があつた。
本発明は、以上の欠点を改良し、機械的強度の
高い保護膜を有する磁気記録媒体の提供を目的と
するものである。
高い保護膜を有する磁気記録媒体の提供を目的と
するものである。
本発明は、上記の目的を達成するために、基体
に強磁性金属薄膜及び保護膜が形成された磁気記
録媒体において、少なくとも一部がアモルフアス
状態になつている第１保護膜と、この第１保護膜
に積層されている結晶状態の第２保護膜とを有す
ることを特徴とする磁気記録媒体を提供するもの
である。
に強磁性金属薄膜及び保護膜が形成された磁気記
録媒体において、少なくとも一部がアモルフアス
状態になつている第１保護膜と、この第１保護膜
に積層されている結晶状態の第２保護膜とを有す
ることを特徴とする磁気記録媒体を提供するもの
である。
また、本発明は上記の目的を達成するために、
基体に強磁性金属薄膜及び保護膜が順次形成され
た磁気記録媒体の製造方法において、強磁性金属
薄膜形成後、この強磁性金属薄膜表面に高級脂肪
酸類を付着し急冷して第１保護層を形成する工程
と、この工程後に前記第１保護層表面に高級脂肪
酸類を付着し徐冷して第２保護層を形成する工程
とを施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
基体に強磁性金属薄膜及び保護膜が順次形成され
た磁気記録媒体の製造方法において、強磁性金属
薄膜形成後、この強磁性金属薄膜表面に高級脂肪
酸類を付着し急冷して第１保護層を形成する工程
と、この工程後に前記第１保護層表面に高級脂肪
酸類を付着し徐冷して第２保護層を形成する工程
とを施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法を提供するものである。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。
第１図において、１はポリエステルやポリプロ
ピレン等の高分子フイルムからなる基体である。
２は、この基体１に積層された強磁性金属薄膜で
あり、コバルトやクロム、ニツケル等の強磁性金
属を真空蒸着法やイオンプレーテイング法、スパ
ツタリング法等により基体１に付着して形成され
る。３は、強磁性金属薄膜２に直接積層された第
１保護層であり、高級脂肪酸等の物質を塗布し形
成されており、全金がアモルフアス化しているか
あるいはアモルフアス状態と３次元結晶状態との
混成になつている。４は、第２保護層であり、高
級脂肪酸等の物質を塗布したりあるいは蒸着等し
たりして形成されており、２次結晶化（単分子膜
が累積している状態）あるいは３次元結晶化して
いる。
ピレン等の高分子フイルムからなる基体である。
２は、この基体１に積層された強磁性金属薄膜で
あり、コバルトやクロム、ニツケル等の強磁性金
属を真空蒸着法やイオンプレーテイング法、スパ
ツタリング法等により基体１に付着して形成され
る。３は、強磁性金属薄膜２に直接積層された第
１保護層であり、高級脂肪酸等の物質を塗布し形
成されており、全金がアモルフアス化しているか
あるいはアモルフアス状態と３次元結晶状態との
混成になつている。４は、第２保護層であり、高
級脂肪酸等の物質を塗布したりあるいは蒸着等し
たりして形成されており、２次結晶化（単分子膜
が累積している状態）あるいは３次元結晶化して
いる。
このような磁気記録媒体５を製造するには、基
体１に真空蒸着法等により強磁性金属薄膜を形成
した後、例えば、第２図に示す通りの装置を用い
て第１保護層３及び第２保護層４を形成する。す
なわち、強磁性金属薄膜形成後の基体１を供給ロ
ーラ６から送り出し、大径の第１キヤン７の周側
面に走行させ、その途中で第１槽８に収納された
ベヘン酸等の高温の溶液あるいは溶融液中にその
表面を浸して液を塗布し、塗布した後、クーラー
９等により急冷してその一部あるいは全部をアモ
ルフアス化し第１保護層を形成する。次に、この
第１保護層３形成後の基体１をガイドローラ１０
を介して大径の第２キヤン１１の周側面に走行さ
せ、第２槽１２中のパルミチン酸等の高温の溶液
あるいは溶融液中に浸して液を塗布し、その後、
低温のヒーター１３等により表面を徐々に冷却し
て２次元結晶化あるいは３次元結晶化し第２保護
層４を形成する。第２保護層４形成後の基体１は
巻取ローラ１４により巻き取る。
体１に真空蒸着法等により強磁性金属薄膜を形成
した後、例えば、第２図に示す通りの装置を用い
て第１保護層３及び第２保護層４を形成する。す
なわち、強磁性金属薄膜形成後の基体１を供給ロ
ーラ６から送り出し、大径の第１キヤン７の周側
面に走行させ、その途中で第１槽８に収納された
ベヘン酸等の高温の溶液あるいは溶融液中にその
表面を浸して液を塗布し、塗布した後、クーラー
９等により急冷してその一部あるいは全部をアモ
ルフアス化し第１保護層を形成する。次に、この
第１保護層３形成後の基体１をガイドローラ１０
を介して大径の第２キヤン１１の周側面に走行さ
せ、第２槽１２中のパルミチン酸等の高温の溶液
あるいは溶融液中に浸して液を塗布し、その後、
低温のヒーター１３等により表面を徐々に冷却し
て２次元結晶化あるいは３次元結晶化し第２保護
層４を形成する。第２保護層４形成後の基体１は
巻取ローラ１４により巻き取る。
すなわち、本発明によれば、第１保護層は少な
くともその一部がアモルフアス化しているために
硬くなり、たとえ第２保護層が磁気ヘツド等によ
り損傷し破断したとしても第１保護層は破断する
ことなく、強磁性金属薄膜は腐食等から十分に保
護される。また、２次元結晶化あるいは３次元結
晶化された第２保護層が表面に設けられているた
めに滑性が損われることもない。
くともその一部がアモルフアス化しているために
硬くなり、たとえ第２保護層が磁気ヘツド等によ
り損傷し破断したとしても第１保護層は破断する
ことなく、強磁性金属薄膜は腐食等から十分に保
護される。また、２次元結晶化あるいは３次元結
晶化された第２保護層が表面に設けられているた
めに滑性が損われることもない。
なお、第１保護層及び第２保護層を蒸着により
形成する場合には、例えば第３図に示す通り、第
１保護層の形成室１５と第２保護層の形成室１６
とを別々の雰囲気に制御できるように、２室式の
装置を用いるようにしてもよい。このような２室
式の装置を用いて各保護層を形成する場合の一例
を掲げると、第１保護層形成室１５では、真空度
が10-6Torr台、第１キヤン１７の温度が０℃の
条件下でモンタン酸を蒸着させ第１キヤン１７で
急冷させ第１保護層を形成し、次に第２保護層形
成室１６では、真空度10-4Torr台、第２キヤン
１８の温度が50℃の条件下でステアリン酸エステ
ルを蒸着させ第２キヤン１８により徐冷して第２
保護層を形成する。
形成する場合には、例えば第３図に示す通り、第
１保護層の形成室１５と第２保護層の形成室１６
とを別々の雰囲気に制御できるように、２室式の
装置を用いるようにしてもよい。このような２室
式の装置を用いて各保護層を形成する場合の一例
を掲げると、第１保護層形成室１５では、真空度
が10-6Torr台、第１キヤン１７の温度が０℃の
条件下でモンタン酸を蒸着させ第１キヤン１７で
急冷させ第１保護層を形成し、次に第２保護層形
成室１６では、真空度10-4Torr台、第２キヤン
１８の温度が50℃の条件下でステアリン酸エステ
ルを蒸着させ第２キヤン１８により徐冷して第２
保護層を形成する。
以上の通り、本発明によれば、滑性を損うこと
なく硬度等の機械的強度の高い保護層を有する磁
気記録媒体が得られる。
なく硬度等の機械的強度の高い保護層を有する磁
気記録媒体が得られる。
第１図は本発明の実施例の断面図、第２図及び
第３図は本発明の実施に用いる装置の各々正面図
及び正面断面図を示す。 １……基体、２……強磁性金属薄膜、３……第
１保護層、４……第２保護層。
第３図は本発明の実施に用いる装置の各々正面図
及び正面断面図を示す。 １……基体、２……強磁性金属薄膜、３……第
１保護層、４……第２保護層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基体に強磁性金属薄膜及び保護層が形成され
た磁気記録媒体において、少なくとも一部がアモ
ルフアス状態になつている第１保護層と、この第
１保護層に積層されている結晶状態の第２保護層
とを有することを特徴とする磁気記録媒体。 ２ 第１保護層が３次元結晶部分とアモルフアス
部分とからなる特許請求の範囲第１項記載の磁気
記録媒体。 ３ 基体に強磁性金属薄膜及び保護膜が順次形成
された磁気記録媒体の製造方法において、強磁性
金属薄膜形成後、この強磁性金属薄膜表面に高級
脂肪酸類を付着して急冷して第１保護層を形成す
る工程と、この工程後に前記第１保護層表面に高
級脂肪酸類を付着し徐冷して第２保護層を形成す
る工程とを施すことを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3941884A JPS60182513A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3941884A JPS60182513A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182513A JPS60182513A (ja) | 1985-09-18 |
| JPH0253843B2 true JPH0253843B2 (ja) | 1990-11-20 |
Family
ID=12552433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3941884A Granted JPS60182513A (ja) | 1984-03-01 | 1984-03-01 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60182513A (ja) |
-
1984
- 1984-03-01 JP JP3941884A patent/JPS60182513A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60182513A (ja) | 1985-09-18 |
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