JPS61233429A - スパツタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、磁気記録装置に用いられる７レキシプル薄膜
磁気記録媒体形成のためのスパッタ装置に関する。

（従来技術のその問題点） 磁気記録装置で用いられる磁気記録体として、従来から
記録媒体の長手方向に磁化する長手記録方式が用いられ
てい九が、近年さらに記録密度を向上させんと裏面に垂
直に磁化する垂直磁気記録方式が提案されている。

ここで用いられる磁気記録媒体はＣｏＣｒ　Ｋ代表され
る垂直磁気異方性を有する金属強磁性薄膜が開発されて
いる。ここで使用される媒体としては、Ａ！合金やガラ
ス等を基板とするバード磁気ディスクの他にポリエステ
ルのようなフレキシブル基体上に形成したフレキシブル
磁気ディスクがある。

中でも７レキシプル垂直磁気デイスクは、従来の塗膜媒
体の記録密度の１桁以上の高密度が達成出来ることが示
され盛んに研究開発がなされている。

このフレキシブル垂直磁気ディスク媒体の生産には、量
産を目的として第４図に示されるような長尺のフレキシ
ブルフィルム２の送り出し、巻き取り機構６．７及び冷
却もしくは加熱のため回転するキャン４を有し、フィル
ム３を移動させターゲットからスパッタされた録録媒体
材料をフィルム上に形成する。さらにターゲット１２か
らのスバ。

夕原子の不要な部分への付着防止のため防着マスクｌを
用いる。このとき第５図のように媒体の防着マスクの開
口端とフィルムとの間に間［！１１１３が最小１ｆｆｉ
ｌ１１１程度あき、この間隙１３からスパッタ原子が回
り込みランダムな結晶配向の磁性膜が形成されその後開
口領域で新しい層が形成されても下地効果により十分高
い垂直配向を有し几媒体が得ることが出来なかった。

（発明の目的） 本発明は、このような従来の欠点を除去せしめて垂直結
晶配向性の良好な媒体が形成出来るスパッタ装置を提供
することにある。

（発明の構成） 本発明によればフレキシブルフィルムの送り出し、巻き
取り機構を有する薄膜媒体を連続形成するスパッタ装置
において媒体防着マスク開口端において該フィルムとマ
スク間の間隙が０．５価からＯｍｍである構造を有する
ことを特徴とするスノくツタ装置が得られる。

（構成の詳細な説明） 本発明ｔ′ｉ、上述の構成をとることにより従来技術の
問題点を解決し次。本発明において媒体防着マスクの開
口端においてフィルムとマスクとの間隙をなくする構造
をとることＫよってスパッタ原子の間隙へのまわり込み
をなくしフィルムがマスク開口部へ出た直後から垂直配
向性の高い磁性膜を形成出来る。

（実施例） 以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。

第１図は本発明の第１の実施例を示す側面図で装置の基
本系として送り出しボビン６からキャン４に沿って巻き
取りボビン７にフィルム３が巻かれる。その際、図の如
くロー２５を介して、マスク１のマスク開口端で間隙を
０．５ｍｍ以下又は該間隙を示しフィルムを送行出来る
構造とした。マスクのフィルム送行面及びマスク開口端
においてはフィルムとの接触によりフィルム上にキズ等
が発生させないようにテフロンなどの固体で潤滑効果を
有する樹脂１ｙｔは金属に同様の樹脂をコーティングし
たものを用いた。

第２図は本発明の第２の実施例を示す側面図で基本系は
実施例１と同じであるがマスク１の開口端に回転ローラ
１０を具備しフィルム間に間隙をゼロ又は０．５■以下
となるようにした構造を有するスパッタ装置である。

第３図は第３の実施例を示す側面図で、第１図の実施例
１とほぼ同様の構造を有するが、キャン１１をベルト状
の鏡面板を回転させフィルム３を走行させる構造を有し
、マスク開口端２は実施例１と同様に間隙０．５　ｍｍ
以下の構造を有する。

実施例及び従来の装置を用い薄膜媒体を作製した例を示
す。

本スパッタ装置で形成する薄膜媒体として垂直磁気記録
に用いられる代表的な媒体であるｃｏｅｒ薄Ｘターゲッ
トＶＣＪｆｉ２２　ａ　ｔ　％　Ｃｒ　（ｙ）　ＣｏＣ
ｒ合金を用い友。スパッタ圧力は１　ｘ　ＩＱ−３Ｔｏ
ｒｒでスパッタパワーは４Ｗ／７とした。フィルムには
、ポリエステル（ＰＥＴ）を用い、形成したＣｏＣｒ膜
の膜厚け０．４μｍとし友。

本実施例１．３においてはロー２５を、実施例２におい
てはローラ１０を調節してフィルムとの間隙を０．５　
ｗｎからＯＭとしてＣｏＣｒ膜を形成した。

一方、比較例として従来のマスク構造を有する＠４．５
図のスパッタ装置においてマスク端とフィルムとの間隙
が４ａｎ、１２ｍｍ、　　１ｍｍとしその他のスパッタ
条件を同様にしてスパッタした。

表に実施例及び比較例の装置で形成し７２−ＣｏＣｒ膜
の垂直結晶配向性を表わすＭ−Ｈループから求め之垂直
磁気異方性磁界Ｈｋを示した。

表 （発明の効果） 以上のように本発明の構造を有するスパッタ装置を用い
ることによって垂直異方性の高い良好な媒体が得られる
ことが明ら力）となう友。

【図面の簡単な説明】

第１．　２％３図は本発明の装置の概略図、第４゜５図
は従来装置の構造を示す図。 図中の番号は下記の通りである。 １・・・・・・マスク、　　２・・・・・・マスク開口
端、　３・・・・・・フィルム、　　４・・・・・・キ
ャン、　　５・・・・・・ローラ、６・・・・・・送り
出しボビン、　　７・・・・・・巻き取シボピン、１０
・・・・・・回転ローラ、　１１・・・・・・キャン、
　１２・・・・・・ターゲット、　　１３・・・・・・
間隙。 （ｈ′） 、、７′ ′／ｒ　１　図 第２図 ７１−４　図 琲気 オ　５　図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. フレキシブルフィルムの送り出し、巻き取り機構を有す
   る薄膜媒体を連続形成するスパッタ装置において媒体の
   防着マスク開口端において該フレキシブルフィルムとマ
   スク間の間隙が０．５ｍｍ以下（０ｍｍを含む。）であ
   る構造を有することを特徴とするスパッタ装置。