JPH025313A - 透明電極板の製造方法 - Google Patents
透明電極板の製造方法Info
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- JPH025313A JPH025313A JP14359488A JP14359488A JPH025313A JP H025313 A JPH025313 A JP H025313A JP 14359488 A JP14359488 A JP 14359488A JP 14359488 A JP14359488 A JP 14359488A JP H025313 A JPH025313 A JP H025313A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Manufacture Of Switches (AREA)
- Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、タッチパネルや透明キーボード、 L(:D
(液晶表示板)などに用いられるITO(インジウム
・スズ酸化物)製等の導電性薄膜パターンを用いた透明
電極板の製造方法に関する。
(液晶表示板)などに用いられるITO(インジウム
・スズ酸化物)製等の導電性薄膜パターンを用いた透明
電極板の製造方法に関する。
〈従来例右よび問題点〉
一般に、この種の透明電極板の製造は、第1図に示すよ
うに、タッチ部パターン形成工程、リード線部パターン
形成工程およびドツトスペーサ部パターン形成工程の三
大工程を経て製造した二枚一対の基板(2o)、(3o
)を、第5.6図に示すように若干離間した状悪で対面
重合させて組立てることによりタッチパネル型の透明電
極板(1)とするものである。図中、(40) (41
)はり−](線部、(401)(410)はリード線端
部、(50)はスペーサ川のドツト、(6)は周縁スペ
ーサである。
うに、タッチ部パターン形成工程、リード線部パターン
形成工程およびドツトスペーサ部パターン形成工程の三
大工程を経て製造した二枚一対の基板(2o)、(3o
)を、第5.6図に示すように若干離間した状悪で対面
重合させて組立てることによりタッチパネル型の透明電
極板(1)とするものである。図中、(40) (41
)はり−](線部、(401)(410)はリード線端
部、(50)はスペーサ川のドツト、(6)は周縁スペ
ーサである。
而して上記タッチ部電極(201)、(301)は、導
電性薄膜により所望のパターンに形成するのであるが、
従来の方法としては、tめ幅広長尺な基板フィルムの全
面に蒸着またはスパッタリング等によりITO等の導電
物質の透明薄膜層を形成した汎用の導電性薄膜基材を用
意し、これに印刷又はフォトレジスト塗布後、乾燥工程
又はマスキング露光・現像工程、エツチング工程、剥離
・洗浄工程を施して所望のタッチ部パターンを形成する
ものである。
電性薄膜により所望のパターンに形成するのであるが、
従来の方法としては、tめ幅広長尺な基板フィルムの全
面に蒸着またはスパッタリング等によりITO等の導電
物質の透明薄膜層を形成した汎用の導電性薄膜基材を用
意し、これに印刷又はフォトレジスト塗布後、乾燥工程
又はマスキング露光・現像工程、エツチング工程、剥離
・洗浄工程を施して所望のタッチ部パターンを形成する
ものである。
しかるに上記公知の素材および印刷・フオトエッヂング
f段によると、次のような欠点がある。
f段によると、次のような欠点がある。
■ 基板フィルム面に塗布されているITO等の導電性
物質を、パターンに必要な部分を残して他の部分をエツ
チングにより溶解除去するものであり、また印刷インク
やフォトレジストを¥す離除去するものであるため、製
造−上程中に除去される有害金属物質や除去用の溶液や
溶剤が廃棄されて、深刻な公害を生じるものである。
物質を、パターンに必要な部分を残して他の部分をエツ
チングにより溶解除去するものであり、また印刷インク
やフォトレジストを¥す離除去するものであるため、製
造−上程中に除去される有害金属物質や除去用の溶液や
溶剤が廃棄されて、深刻な公害を生じるものである。
■ 最終タッチパターンを得るまでの工程数が多いため
生産効率が悪い上、各種処理液等をも必要とするのでコ
スト高となる。
生産効率が悪い上、各種処理液等をも必要とするのでコ
スト高となる。
■ 汎用の導電性薄膜基材を使用するので、印刷に始ま
って最終の剥離上程に至るまでに、各工程で相当の熱が
作用し、基材の伸縮が生じて次工程のリード線パターン
形成時における位置合せが困難になる場合が多い。
って最終の剥離上程に至るまでに、各工程で相当の熱が
作用し、基材の伸縮が生じて次工程のリード線パターン
形成時における位置合せが困難になる場合が多い。
く問題点を解決するための°ト段〉
本発明は、−上記の欠点を除去するために提案されたも
のであり、 その目的は2事市fに何等の導電性物質をも積層してい
ない透明な基板材料を用い、該基板面のうちパターンが
形成されるべき必要部分にのみ導電性物質を基板面に付
与することにより、製造工程中に公害の原因となる有害
な金属物質や処理液が流出廃棄されることのない透明′
I′?極板の製造方法を提供することにある。
のであり、 その目的は2事市fに何等の導電性物質をも積層してい
ない透明な基板材料を用い、該基板面のうちパターンが
形成されるべき必要部分にのみ導電性物質を基板面に付
与することにより、製造工程中に公害の原因となる有害
な金属物質や処理液が流出廃棄されることのない透明′
I′?極板の製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、工程数が少なく、安価で大量生産
に適する透明電極板の製造方法を提供することにある。
に適する透明電極板の製造方法を提供することにある。
本発明の更に他の目的は、タッチ部形成−上程中のUV
印刷から剥離工程に至る丼工程な省略して、これらの−
上程における熱作用を排除することにより、基板の伸縮
変形を生じることがなく、粒度の高い加工を容易に行な
うことのできる透明電極板の製造方法を提供することに
ある。
印刷から剥離工程に至る丼工程な省略して、これらの−
上程における熱作用を排除することにより、基板の伸縮
変形を生じることがなく、粒度の高い加工を容易に行な
うことのできる透明電極板の製造方法を提供することに
ある。
而して、上記の本発明の目的は、「導電性情1漠を用い
たタッチ部とリード線部とをパターン形成することによ
り透明電極板を製造する方法において、非導電性の基板
−ヒに導電性薄膜のタッチ部をマスク法により所望のパ
ターン通りに着1漠形成する工程と、次いでに記タッチ
部に接続するリード線部パターンを印刷形成する工程と
、からなる透明電極板の製造方法。」によって達成され
る。
たタッチ部とリード線部とをパターン形成することによ
り透明電極板を製造する方法において、非導電性の基板
−ヒに導電性薄膜のタッチ部をマスク法により所望のパ
ターン通りに着1漠形成する工程と、次いでに記タッチ
部に接続するリード線部パターンを印刷形成する工程と
、からなる透明電極板の製造方法。」によって達成され
る。
〈実施例〉
次に、本発明を第2〜6図面に示された実施例に従って
、更に詳しく説明することとする。
、更に詳しく説明することとする。
第2図、第3a〜3d図、第4a〜4d図には製造工程
の一例が示されている。
の一例が示されている。
第11程としてタッチ部パターンの形成工程がなされる
。すなわち、非導電性の基板(+o) (+ t) 、
1:に導電性薄膜からなるタッチ部をマスク法により所
望のパターン通りに着膜形成するものであり、その具体
的な工程としてド基板(10)については第2図および
3a〜3b図により、また」二基板(11)については
第2図および第4a〜4b図に示されている。
。すなわち、非導電性の基板(+o) (+ t) 、
1:に導電性薄膜からなるタッチ部をマスク法により所
望のパターン通りに着膜形成するものであり、その具体
的な工程としてド基板(10)については第2図および
3a〜3b図により、また」二基板(11)については
第2図および第4a〜4b図に示されている。
(10) (II)は非導電性の合成樹脂製の透明フィ
ルムからなる2枚の基板であり、各基板の両面には何等
の導電層をも形成していないものとし、それぞれ市販の
幅広・長尺な基板材料を裁断して用意するものとする。
ルムからなる2枚の基板であり、各基板の両面には何等
の導電層をも形成していないものとし、それぞれ市販の
幅広・長尺な基板材料を裁断して用意するものとする。
(21)(22)は例えばステンレス板製のマスクであ
り、所望のパターンに孔あけ加工されたパターン孔(2
1a) 、 (22a)が設けられている。このマスク
(21) (22)を基板(10) (11)に対し、
基板面とマスク面とが隙間を生じることなくしっかりと
面前した状態で密着固定してマスキングした後、公知の
蒸着法又はスパッタリング法によりI「0を着11iさ
せたところ、第3C図及び第4c図に示すようなパター
ン孔(21a) 、 (22a)の形状通りの薄膜導電
層からなる良好なタッチ部パターン(2:l)(:13
)が形成された。
り、所望のパターンに孔あけ加工されたパターン孔(2
1a) 、 (22a)が設けられている。このマスク
(21) (22)を基板(10) (11)に対し、
基板面とマスク面とが隙間を生じることなくしっかりと
面前した状態で密着固定してマスキングした後、公知の
蒸着法又はスパッタリング法によりI「0を着11iさ
せたところ、第3C図及び第4c図に示すようなパター
ン孔(21a) 、 (22a)の形状通りの薄膜導電
層からなる良好なタッチ部パターン(2:l)(:13
)が形成された。
次いで、第2工程として第3d図に示すように、任意設
計のパターンに従い銀印刷およびカーボン印刷を用いて
、リード線部(41)(42)を基板」−に形成する。
計のパターンに従い銀印刷およびカーボン印刷を用いて
、リード線部(41)(42)を基板」−に形成する。
このとき、該リード線部の端部(41a) (42a)
をタッチ部パターン(:ll) (:l:l)の一端縁
に接続するように位置な合せる必要があるが、旧記タッ
ヂ部パターン(21) (3:1)(7)形成工程では
基板(10) (I 1)に対して蒸着又はスパッタ工
程の熱以外の熱を受けないので、該基板(Io) (1
1)は伸縮変形等を生じておらず、第2工程のリード線
パターン部の形成工程に当って、位置合せの作業に支障
を来すことがない。
をタッチ部パターン(:ll) (:l:l)の一端縁
に接続するように位置な合せる必要があるが、旧記タッ
ヂ部パターン(21) (3:1)(7)形成工程では
基板(10) (I 1)に対して蒸着又はスパッタ工
程の熱以外の熱を受けないので、該基板(Io) (1
1)は伸縮変形等を生じておらず、第2工程のリード線
パターン部の形成工程に当って、位置合せの作業に支障
を来すことがない。
酊して、上基板(11)の加工はこの第2工程で終rし
、下基板(10)についてのみ、次の第31稈たるドツ
ト部パターン形成f、程が行なわれる。これは、第1工
程で形成された一1二Fの基板(l +) (+03を
而合せしたときにタッチ部(2:]) (:II)を常
態において適宜の間隔で離間させておくためのドツト(
5)を、一方のタッチ部(23)の面上にのみ小突起状
に形成するものであり、通常はシリコン材をパターン印
刷して形成する。
、下基板(10)についてのみ、次の第31稈たるドツ
ト部パターン形成f、程が行なわれる。これは、第1工
程で形成された一1二Fの基板(l +) (+03を
而合せしたときにタッチ部(2:]) (:II)を常
態において適宜の間隔で離間させておくためのドツト(
5)を、一方のタッチ部(23)の面上にのみ小突起状
に形成するものであり、通常はシリコン材をパターン印
刷して形成する。
この後、第5.6図に示すと同様に、基板(10) (
II)の導電層タッチ部(23)と(33)とを若丁離
間した状態で対面重合して固定する組立工程を経て透明
電極板(1)が完成する。
II)の導電層タッチ部(23)と(33)とを若丁離
間した状態で対面重合して固定する組立工程を経て透明
電極板(1)が完成する。
〈効 果〉
本発明によれば、公害を発生することなく、少ない工程
数でタッチ部パターンを形成したフィルム(板)が得ら
れる。しかも、タッチ部形成工程において、蒸着又はス
パッタ工程の熱以外の熱を受けないので、基板の伸縮変
形も殆どなく、その後のリート線部のパターン形成時に
おける位置合せも容易となり、簡単・高能率な作業によ
る透明電極板を大はかつ安価に製造することができる。
数でタッチ部パターンを形成したフィルム(板)が得ら
れる。しかも、タッチ部形成工程において、蒸着又はス
パッタ工程の熱以外の熱を受けないので、基板の伸縮変
形も殆どなく、その後のリート線部のパターン形成時に
おける位置合せも容易となり、簡単・高能率な作業によ
る透明電極板を大はかつ安価に製造することができる。
第1図は公知の透明電極板の製造工程を示すフローチャ
ート、第2図は本発明に係る製造工程の一実施例を示す
フローチャート、第3a〜3d図および第4a〜4d図
は下fl11基板および上側基板の加重状悪例を示す平
面図、第5図は組立後の透明電極板の平面図、第6図は
第5図におけるVl−Vl線断面図、である。 (1)・・・・・・・・・・・・ 透明電極板、(1
0) (11) −−−−−−透明基板、(21)(2
2)−・・・・・ マスク、(21a) (22a)
−−−パターン孔。 特許 出 願人 株 式 %式% 第40 因 22゜ 第 図 第6図 ’!Oz 201 20 64==≧霞コ==16 飄/ ・ ・ 〆 肪 41301・50301
ート、第2図は本発明に係る製造工程の一実施例を示す
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面図、第5図は組立後の透明電極板の平面図、第6図は
第5図におけるVl−Vl線断面図、である。 (1)・・・・・・・・・・・・ 透明電極板、(1
0) (11) −−−−−−透明基板、(21)(2
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−−−パターン孔。 特許 出 願人 株 式 %式% 第40 因 22゜ 第 図 第6図 ’!Oz 201 20 64==≧霞コ==16 飄/ ・ ・ 〆 肪 41301・50301
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電性薄膜を用いたタッチ部とリード線部とをパタ
ーン形成することにより透明電 極板を製造する方法において、 非導電性の基板上に導電性薄膜のタッチ 部をマスク法により所望のパターン通りに 着膜形成する工程と、 次いで上記タッチ部に接続するリード線 部パターンを印刷形成する工程と、 からなる透明電極板の製造方法。 2、基板が、合成樹脂製の透明フィルムである前記特許
請求の範囲第1項記載の透明電 極板の製造方法。 3、基板が、透明なガラス板である前記特許請求の範囲
第1項記載の透明電極板の製造 方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14359488A JPH025313A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 透明電極板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14359488A JPH025313A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 透明電極板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH025313A true JPH025313A (ja) | 1990-01-10 |
Family
ID=15342357
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14359488A Pending JPH025313A (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | 透明電極板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH025313A (ja) |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP14359488A patent/JPH025313A/ja active Pending
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