JPH02500891A - 穴あけ装置および方法 - Google Patents

穴あけ装置および方法

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JPH02500891A JP63507517A JP50751788A JPH02500891A JP H02500891 A JPH02500891 A JP H02500891A JP 63507517 A JP63507517 A JP 63507517A JP 50751788 A JP50751788 A JP 50751788A JP H02500891 A JPH02500891 A JP H02500891A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複合材料、特にプリント配線板に穴あけを行う装置および方法に関する 。
プリント配線板は電子装置の回路構成要素、たとえば、集積回路を取り付け、接 続する手段となる。このようなプリント配線板は銅被覆した絶縁基板を包含し、 この銅被覆を選択的にエツチングして所望の回路経路を作る。プリント配線板の 基板を作る材料はプリント配線板に接続した回路の適正な機能に悪影響を与える おそれのある熱、電気の伝導を避けるために熱容量が低いことが好ましい、した がって、プリント配線板基板は注意深く選んだ材料、たとえば、ガラス繊維補強 ポリマーで作るのが望ましい、プリント配線板上て適正な電気接続を行うために 、プリント配線板は基板材料の表面に設けた銅の層からなるtilt体として作 る0次いて、銅被覆面にエツチングを施し、銅電気コネルタの所望のパターンを 歿す、プリント配線板はり−ト線の突出した回路構成要素のための取り付は板と しても用いられるのて、普通は、プリント配線板に穴をあけて回路構成要素のり 一ト線を受け入れる必要かある。
プリント配線板に穴をあける公知の方法ては、N/C制御のボール盤、たとえば 、ADVANCED C0NTR0LS TRUDRIL MODEL 95あ るいはExcellon Model Mark IVを利用■■ 機械的なドリルを使用する。この種のトリルはタングステン・カーバイトで作っ たドリルビットを使用している。ドリルビットの破損を防ぎ、あけた穴の一貫性 を雌持し、さらに、穴付近のプリント配線板部分に余分な損傷を与えるのを防ぐ ために、チップロート(送り速度)は約0.5ミル/回転より低く保ち、トリル ビットあたりのヒツト回数を約500回に保たなければならない、タングステン ・カーバイド製のトリルビットは普通は一木あたり4〜12ドルてあり、250 0個の穴を有する超高密度マイクロモジュールの機械的穴あけのためには全トリ ルビット・コストは約60ドルにもなるから、機械的な穴あけは高価なものとな ることがわかった。さらに、ケブラ補強ポリマーや均質融合石英基板のような成 る種の基板に穴あけするには機械的穴あけは不適であることもわかった。
機械的穴あけほど広く使用されているわけではないが、別の公知の方法としては 、ネオジムYAG(イツトリウム・アルミニウム・ガーネット)レーザまたは二 酸化炭素レーザ(共に通常はパルス状モードで使用される)のような単一レーザ を使用する、この単一レーザ穴あけ方法は銅がまったくないかあるいは薄い銅厚 さ、たとえば、0.0007ミル以下となっている約lO〜20ミルの薄い積層 厚さを有するプリント配線板にとりて満足できることがわかった。しかしながら 、この単一レーザ穴あけ方法特に銅厚さが0.0007ミルを超える銅/ポリマ ー複合体に穿孔する能力が限られる。もワと大きい厚さのものに穴をあけるため には、単一レーザの出力を高めなければならないことがわかった。しかしながら 、出力を高めると、レーザ穿孔穴のまわりの部分に悪影響を与えて剥離を生じさ せる。したがって、プリント配線板に穴をあけるための改良された安価な方法が 必要である。
久里例患ス 本発明は2つ以上のレーザを使用することによって基板、たとえば、プリント配 線板に穴をあける改良された方法および装置を提供する。ここで用いている「プ リント配線板」なる用語はエポキシガラス、ポリイミド、セラミックのような種 々の材料から作った相互接続基板を含んでいる。
一般に、レーザ光線が基板の表面に入射すると、基板は入射光線を吸収したり、 反射したりする。吸収率は基板を作った材料の性質や入射光線の波長によって異 なる。
効率良く穴あけを行うためには、基板が入射光線をほとんどすべて吸収し、最短 時間で気化するのが望ましい、*<て高エネルギのパルスの方がより低いエネル ギ・レベルの長いパルスより好ましい、これは短い高エネルギ・パルスがプリン ト配線板をより急速に気化させると共に、穿孔穴まわりの部分に与える損傷が少 ないからである。
したがって、穴あけしている材料の吸収特性とレーザ光線波長との正しく適合す ることが最も望ましい。
プリント配線板で用いられる種々の材料は任意所与の波長の電磁放射線を種々の 程度に吸収する。たとえば、ポリマー・マトリックスは10.61Lmの波長を 有する単一二酸化炭素レーザな容易に吸収するが、一方、ポリマーの表面にある 銅はこの波長の放射線をほとんど反射してしまう、したがって、二酸化炭素レー ザはポリマーおよびガラス材料を効率良く気化させ、除去することはできるが、 銅層はほんの少し加熱するだけである。一方、もっと短い波長、たとえば、0. 691Lmを有するルビーレーザのような固体レーザは銅によってより容易に吸 収され、銅を貫いて穴をあけるのに一層適している。
穴あけしようとしている複合材料すなわち積層材料の特性に照らして、特に、そ こに含まれる種々の材料が放射線の波長に依存して種々の率で入射放射線を吸収 するという事実に照らして1本発明によれば、少なくとも21i類の波長を有す る放射線を穴あけ位置に送る。したがって1本発明は複合材料または積層材料に 穴をあける装置tおよび方法であって、Mlの電磁波路に沿って第1の電磁波を 発生する手段と、第2の電磁波路に沿って第2の電磁波を発生する手段とを包含 し、第2の電磁波が第1%i磁波の波長と異なる波長を有する装置および方法を 提供する。これらの波長は材料の成分の気化作用を最大にするように選定する0 本装置は、さらに、第1t磁波および第2電磁波を共通の電磁波路に沿って方向 付け、穴あけしようとしている材料上に電磁波を合焦させることができると好ま しい。
プリント配線板に穴をあけるためには、ルビーレーザ、二酸化炭素レーザのよう な2種類のレーザな利用するのが望ましいことがわかった0本発明ては、異なワ た波長を有する2つ以上の電磁波の方向付けが多層基板または複合基板に穴をあ ける効率の良い装置を提供しながらも2つの独立したレーザ装置の間で複合材料 を移動させることなくいくつかの作業モードを行い得るので有利である。1つの 加工装置で基板に穴をあけることによって、一方のレーザ装置から他方のレーザ 装置に部品を動かすことから生じる整列エラーが効果的に排除される。さらに、 本発明の穴あけ装置の保守コストは機械的な穴あけ装置よりも低い。
図面の簡単な説明 ただ1つの図は本発明の一具体例の概略図である。
詳細な説明 本発明は異なった波長を有する少なくとも2種類の電磁波を利用してプリント配 線板のような複合材料または多層材料に穴をあける装置および方法てあって、そ れぞれの電磁波が複合材料または多層材料を&I成している材料のうち少なくと も1つの材料によって容易に吸収され、2種類のビームを共通の軸線に沿って方 向付け、穴あけしようとしている材料に入射させる装置3よび方法を提供する。
好ましくは、これら組み合わせビームは複合材料に到達する前に合焦レンズのよ うな合焦機構を通るように送られる。
本発明の電磁波は、好ましくは、ルビーレーザ、エキシマ−(eximer)、 二厳化炭素レーザ、ネオジムYAGレーザのようなレーザで発生させられる。当 業者には明らかなように、穴あけしようとしている材料に応じて種々のレーザを 使用することが望ましい、一般には、ルビーレーザとエキシマ−レーザが金属材 料に穴をあけるのに適した波長を持つが、重合材料に穴をあけるには二酸化炭素 レーザやネオジムYAGレーザがもっと好ましい0本発明の装置は複合材料に小 さい穴、たとえば、1〜8ミルの直径の穴をあける手段となる。特に1本発明は 銅被覆、ガラス繊維補強エポキシまたは銅被覆、ガラス繊維補強ポリイミドのよ うな複合材料または多層材料に小さな穴、たとえば、1〜6ミルの直径の穴を効 率良くあけることのできる装置を提供する。明らかなように2本方法は特に小さ な穴をあけるのに有利ではあるが、大きな穴をあけるにも同様に応用できる。
図を参照して、ルビーレーザのような第1の電磁放射線源lOが第1の軸線11 に沿って第1の電磁波ビームを放射し、二酸化炭素レーザのような第2の電磁放 射線源20が第2の軸線21に沿って第2の電磁波ビームを放射する。
本発明の複数の電磁波ビーム11.21は、好ましくは、図示のビーム組合わせ 用ミラー30によって共通の電磁波経路に沿って方向付けられる。ビーム組合わ せ用ミラー30は、好ましくは1片面を反射性被覆で覆われており、第4.第2 の電磁波が約45度の角度でこのミラーに入射したときには第1電磁波11を反 射し、第2電磁波21を通過させるようになっている。ビーム組合わせ用ミラー 30は共通軸線に沿って多重、たとえば、二重ビーム伝播を行うように各光路に 対して位置決めされる。
図示のように、ビーム11.21は直角であり、ミラー30がこれらのビームに 対して約45度て位置すると好ましい。
上述したように1組合わせビームは1次に、合焦レンズのような合焦機構40に よって穴あけ部位50に合焦させると好ましい、ルビーレーザと二酸化炭素レー ザな使用する場合には、亜鉛・セレニド(ZeSe)レンズが適していることが わかった。
合焦レンズの焦点距離は使用する装置に対して所望の穴径を与えるように選ばな ければならないことは了解されたい、一般には、1%インチ〜5インチの焦点距 離を有するレンズが適していることがわかった。また、レンズを作る材料が使用 するレーザに対して透明でなければならないことも了解されたい。
多層材料または複合材料に穴をあける場合、電磁波ビームは任意の組合わせであ るいは同時に普通の制御器15を使用して順次に変調のオン、オフを行ってもよ い、電磁波ビームをパルス状のモードでルビーレーザとCO□レーザによって供 給する場合には、ルビーレーザからは1〜4パルス/秒、C02レーザからはl OO〜1000パルス/秒て電磁波ビームを送ると望ましいことがわかった。パ ルスは均等に間隔を置かれ、パルスの持続時間がパルス間の時間間隔に等しいよ うに供給されると好ましい、あるいは、電磁波ビームの制御を穴をあけようとし ている材料の動きに同調させて多数の穴を迅速にあけるようにすると好ましい、 プリント配線板は標準のX−Yテーブルのような普通の手段によって位置決めし てもよい。
ここで1本発明によれば、ルビーレーザ、二酸化炭素レーザのような2種類のレ ーザな同じビーム経路に沿って方向付け、同時にあるいは順次に銅被覆ガラス繊 維補強ポリマーに入射させた場合には、複合体の各材料が効率良く除去される。
ルビーレーザが銅に最初により効果的に作用して銅の除去を行うと同時に、二酸 化炭素レーザはほとんど反射される0組合わせたレーザビームがひとたび銅を貫 通し、ポリマー・ガラス・マトリックスが露出したならば、二酸化炭素レーザビ ームが効果的に働いて。
ガラス繊維補強ポリマーを効率良く除去する。
衷施例 本発明の装置を、マサチュセッツ州つォルサム市のAdvanced La5e r 5ysLelIsから得られるルビーレーザMode1604を第4電磁波 ビーム源として用いて組み立てた、このルビーレーザは約0.69Bmの波長を 有する電磁波ビームを放射し、これは銅によって容易に吸収される。ルビーレー ザは約300マイクロ秒のパルス長をもって2パルスを与えるようにセットし、 エネルギ設定値は1500ボルトてあった。これは普通は1〜3ジユールの出力 を与える。第2電磁波ビーム源はマサチュセッツ州スターブリッジ市のCohe rent Generalから得られる二酸化炭素レーザ(Mode1M46) であった、これは約110−6Bの波長を有する放射線を放射し、ポリマー・マ トリックスによって適当に吸収される。Co、レーザは500Hzの周波数にセ ットし、250マイクロ秒て放射線を放射し、125パルスの放射を行うように プログラムした。ここで使用したco、レーザビームはピーク出力が約700ワ ツトてあり、パルス長が約100マイクロ秒でありだ、ルビーレーザビームと二 酸化炭素レーザビームはビーム組合わせ用ミラーて組合わせた。このミラーは亜 鉛・セレニドてあり、図示したものに類似した要領て被覆した。ビーム組合わせ 用ミラーはヴアーモント州タウンシェンド市ルート35、ボックス25、HRC 33のJanos Technology、1nC,によって提供されたもので あり、次のような仕様を有する。
直径 = 2インチ: 10.6ミクロンて%波長に対して平坦:表面の品質 : 40/20; 平行度 : 厚み中心で30アークセカンド;表面l : 入射角45度で0. 69ミクロンの最大反射率(少なくとも90%)を与える; 表面2 : 入射角45度で1000ミクロンの最大前反射率(少なくとも80 %)を与える 組合わせビームは次に亜鉛・セレニド(ZnSe)で作られ、2局インチの焦点 距離を宥する最終合焦レンズによって合焦された。このようにして、ルビーレー ザからの第1パルスは頂部銅被覆を気化させて穴を穿ち1次にC02レーザて絶 縁材を気化させた9次いで、第2のルビー・パルスが銅被覆の底層を気化させた 0本装置は両側面に約1.4ミルの銅被覆を有し、約8ミルの絶縁材厚さを有す る両面プリント配線板を貫いて毎分50〜60個の割合で5ミルの直径を有する 穴をあけた。
上述したように、種々のレーザ放射線が本発明の実施にあたって有利に利用され る、たとえば、0.69弘mの波長を有するルビーレーザと0.193〜3.3 51ミクロンの波長を有するエキシマ−レーザか金属、たとえば、銅層な貫いて 穴をあけるのに適している。10.5pmの波長を有する二酸化炭素レーザはポ リマー材料に穴をあけるのに適している。また、YAGレーザを使用することも てきる。入射電磁波ビームの持続時間を適正に制御すると共に適切な電磁放射線 源を選ぶことにより、穿孔部位に隣接した部分に悪影響を与えることなく効率良 く穴をあけることがてきる。
本発明は、特に、プリント配線板の製造に使用されるガラスミm補強ポリマー材 料、たとえば、FR4のような複合材料に穴をあけるのに適している。−居詳し く言えば、本発明は、特に、ガラス繊維補強エポキシ、または銅被覆・ガラス繊 維補強ポリイミドのような銅被覆多層複合材料に穴をあけるのに適している0本 発明は、また、石英補強ポリマーまたはケブラ(DuPont Corp、のK evlarT′)補強ポリマーおよび均質融合石英基板に穴をあけるのにも適し ている63つ以上の電磁波源を本発明の範囲内て利用し得ることは了解されたい 。
国際調査報告 +−−*ma*−1b、N@、 PC+r/US 81!103003国際調査 報告 US 8803003 SA 24276

Claims (51)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.異なった放射線を吸収する第1,第2の材料で作った複合材料または多層材 料に穴をあける装置であって、 第1の電磁波路に沿って第1の電磁波を発生する手段と、第2の電磁波路に沿っ て第2の電磁波を発生する手段とを包含し、前記第2電磁波の波長が前記第1電 磁波の波長と異なっており、前記第1、第2の電磁波がそれぞれ前記第1、第2 の材料の気化を最大限に行うように選定してあり、さらに、 前記複合材料に対して共通の電磁波路に沿って前記第1、第2の電磁波を方向付 ける手段 を包含することを特徴とする装置。
  2. 2.請求項1記載の装置において、さらに、前記方向付けられた第1、第2の電 磁波を前記複合材料に合焦させる手段を包含することを特徴とする装置。
  3. 3.請求項1記載の装置において、前記第1電磁波発生手段がレーザであること を特徴とすろ装置。
  4. 4.請求項1記載の装置において、前記第1電磁波発生手段がルビーレーザであ ることを特徴とする装置。
  5. 5.請求項1記載の装置において、前記第1電磁波発生手段がエキシマーレーザ であることを特徴とする装置。
  6. 6.請求項3記載の装置において、前記第2電磁波発生手段がレーザであること を特徴とする装置。
  7. 7.請求項6記載の装置において、前記第2電磁波発生手段がCO2レーザであ ることを特徴とする装置。
  8. 8.請求項6記載の装置において、前記第2電磁波発生手段がYAGレーザであ ることを特徴とする装置。
  9. 9.請求項6記載の装置において、前記方向付け手段が前記電磁波の1つを反射 し、他の電磁波を透過させることを特徴とする装置。
  10. 10.請求項1記載の装置において、前記方向付け手段が前記電磁波を反射し、 他方の電磁波を透過させることを特徴とする装置。
  11. 11.請求項6記載の装置において.前記方向付け手段がビーム組合わせ用ミラ ーであることを特徴とする装置。
  12. 12.請求項2記載の装置において、前記合焦手段がレンズであることを特徴と する装置。
  13. 13.請求項12記載の装置において、前記レンズがZnSeレンズであること を特徴とする装置。
  14. 14.請求項1記載の装置において、前記複合材料がプリント配線板であること を特徴とする装置。
  15. 15.請求項14記載の装置において、前記複合材料が鋼で被覆したガラス繊維 補強ポリマーの基板を有するプリント配線板であることを特徴とする装置。
  16. 16.請求項1記載の装置において.前記複合材料が鋼で被覆したガラス繊維補 強エポキシの基板を有するプリント配線板であることを特徴とする装置。
  17. 17.請求項1記載の装置において、前記複合有料が銅で被覆したガラス繊維補 強ポリイミドの基板を有するプリント配線板であることを特徴とする装置。
  18. 18.請求項1記載の装置において、前記第1、第2の電磁波を同時に発生する ようになっていることを特徴とする装置。
  19. 19.請求項1記載の装置において、前記第1、第2の電磁波を順次に発生する ようになっていることを特徴とする装置。
  20. 20.請求項19記載の装置において、前記第1電磁はがルビーレーザビームで あり、前記第2電磁波が二酸化炭素レーザビームであることを特徴とする装置。
  21. 21.請求項20記載の装置において、前記方向付け手段がビーム組合わせ用ミ ラーであることを特徴とする装置。
  22. 22.請求項21記載の装置において、前記ビーム組合わせ用ミラーが前記ルビ ーレーザビームをほぼ反射し、前記二酸化炭素レーザビームをほぼ透過させるこ とを特徴とする装置。
  23. 23.異なった率で1波長の入射放射線を吸収する少なくとも第1、第2の材料 からなるプリント配線板に穴をあける装置であって、第1のレーザビームを発生 する手段と、前記第1レーザビームの波長と異なる波長を有する第2のレーザビ ームを発生する手段と を包含し、前記第1、第2の波長がそれぞれ前記第1、第2の材料の気化を最大 限に行うように選定してあり、さらに、 共通のレーザビーム路に沿って前記第1、第2のレーザビームを方向付ける手段 を包含することを特徴とする装置。
  24. 24.請求項23記載の装置において、さらに、前記プリント配線板に前記組合 わせたビームを合焦させる手段を包含することを特徴とする装置。
  25. 25.請求項24記載の装置において、前記合焦手段がレンズであることを特徴 とする装置。
  26. 26.請求項25記載の装置において、前記レンズが亜鉛・セレン・レンズであ ることを特徴とする装置。
  27. 27.請求項第23記載の装置において、前記方向付け手段がビーム組合わせ用 ミラーであることを特徴とする装置。
  28. 28.請求項27記載の装置において、さらに、前記第1、第2の電磁波発生手 段を制御する手段を包含することを特徴とする装置。
  29. 29.第1の材料と第2の材料からなる基板に穴をあける方法であって、第1の 電磁波路に沿って第1の電磁波を発生する段階と、第2の電磁波路に沿って第2 の電磁波を発生する段階とを包含し、前記第2電磁波の波長が前記第1電磁波の 波長と異なっており、前記第1、第2の電磁波がそれそれ前記第1、第2の材料 の気化を最大限に行うように選定してあり、さらに、 前記複合材料に対して共通の電磁波路に沿って前記第1、第2の電磁波を方向付 ける段階 を包含することを特徴とする方法。
  30. 30.請求項29記載の方法において、さらに、前記基板に前記方向付けられた 電磁波を合焦する段階を包含することを特徴とする方法。
  31. 31.請求項28記載の基板に穴をあける方法において、前記第1電磁波が第1 レーザによって発生させられることを特徴とする方法。
  32. 32.請求項31記載の基板に穴をあける方法において、前記第1レーザがルビ ーレーザであることを特徴とする方法。
  33. 33.請求項31記載の基板に穴をあける方法において.前記第1レーザがエキ シマーレーザであることを特徴とする方法。
  34. 34.請求項31記載の基板に穴をあける方法において、前記第2電磁波が第2 レーザによって発生させられることを特徴とする方法。
  35. 35.請求項34記載の基板に穴をあける方法において、前記第2レーザがCO 2レーザであることを特徴とする方法。
  36. 36.請求項35記載の基板に穴をあける方法において、前記第2レーザがYA Gレーザであることを特徴とする方法。
  37. 37.請求項30記載の基板に穴をあける方法において、前記第1、第2の電磁 はがビーム組合わせ用ミラーによって方向付けられることを特徴とする方法。
  38. 38.請求項37記載の基板に穴をあける方法において、前記方向付けられた電 磁はがレンズによって合焦させられることを特徴とする方法。
  39. 39.請求項38記載の基板に穴をあける方法において、前記レンズがZnSe レンズであることを特徴とする方法。
  40. 40.請求項38記載の基板に穴をあける方法において、さらに、前記第1、第 2の電磁波の発生を制御する手段を包含することを特徴とする方法。
  41. 41.請求項40記載の基板に穴をあける方法において、前記第1、第2の電磁 波が同時に発生させられることを特徴とする方法。
  42. 42.請求項40記載の基板に穴をあける方法において、前記第1、第2の電磁 波が順次に発生させられることを特徴とする方法。
  43. 43.請求項40記載の基板に穴をあける方法において、前記基板がプリント配 線板であることを特徴とする方法。
  44. 44.第1、第2の材料からなるプリント配線板に穴をあける方法であって、第 1のレーザビームを発生する段階と、前記第1レーザビームの波長と異なる波長 を有する第2のレーザビームを発生する段階と を包含し、前記第1、第2のレーザビームの波長がそれぞれ前記第1、第2の材 料の気化を最大限に行うように選定してあり、さらに、共通のレーザビーム路に 沿って前記第1、第2のレーザビームを方向付ける段階 を包含することを特徴とする方法。
  45. 45.請求項43記載のプリント配線板に穴をあける方法において、さらに、前 記プリント配線板に前記方向付けられたビームを合焦させる段階を包含すること を特徴とする方法。
  46. 46.請求項44記載のプリント配線板に穴をあける方法において、前記方向付 けられたビームがレンズによって合焦させられることを特徴とする方法。
  47. 47.請求項45記載のプリント配線板に穴をあける方法において、前記レンズ が亜鉛・セレン・レンズであることを特徴とする方法。
  48. 48.請求項43記載のプリント配線板に穴をあける方法において、前記レーザ ビームがビーム組合わせ用ミラーによって方向付けられることを特徴とする方法 。
  49. 49.請求項44記載のプリント配線板に穴をあける方法において、前記プリン ト配線板が銅被覆したガラス繊維補強ポリマーであることを特徴とする方法。
  50. 50.請求項44記載のプリント配線板に穴をあける方法において、前記プリン ト記線板がケブラ補強ポリマーであることを特徴とする方法。
  51. 51.請求項44記載のプリント配線板に穴をあける方法において、さらに、前 記第1、第2のレーザビームの発生を制御する段階を包含することを特徴とする 方法。
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